JP2012053329A - 反射防止膜、レンズ、光学系、対物レンズ、及び光学機器 - Google Patents
反射防止膜、レンズ、光学系、対物レンズ、及び光学機器 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】透明な基板上に、空気側から基板側へ順に第1層、第2層、第3層、第4層、第5層、第6層、と、6層以上の薄膜を形成した構成を備え、空気側から奇数番目の薄膜が低屈折率膜であり、偶数番目の薄膜が低屈折率膜又は低屈折率膜より屈折率の大きな中間屈折率膜であって、中心波長λ0での中間屈折率膜と低屈折率膜の屈折率を各々NM、NLとしたとき、これらが所定の式を満足し、さらに、紫外域の波長λ1と、可視域の波長λ2と、が所定の式を満足する。
【選択図】図1
Description
また、従来提案されている2波長反射防止膜は、エキシマレーザー波長248nmと波長600nm〜700nmを1.5%以下で反射防止するように設計されている。
λ0=500nm ・・・(1)
1.45≦NM≦1.8 ・・・(2)
NL<1.45 ・・・(3)
紫外域の波長λ1と、可視域の波長λ2と、で反射防止を行っており、
次式(4)、(5)、(6)、(7)、(8)、(9)を同時に満足することを特徴とする。
λ1=355nm ・・・(4)
400nm≦λ2≦700nm ・・・(5)
R1≦1.0% ・・・(6)
R2≦1.5% ・・・(7)
K1≦1.0% ・・・(8)
K2≦1.0% ・・・(9)
ここで、
R1は、波長λ1での反射率、
R2は、波長λ2での反射率、
K1は、波長λ1での膜吸収率、
K2は、波長λ2での膜吸収率、
膜吸収率は、100−(100−(基板の反射率+基板の透過率))−(反射防止膜を施した基板の反射率+反射防止膜を施した基板の透過率)、
である。
0.229×λ0≦d1≦0.234×λ0 ・・・(10)
0.260×λ0≦d2≦0.268×λ0 ・・・(11)
0.045×λ0≦d3≦0.077×λ0 ・・・(12)
0.074×λ0≦d4≦0.118×λ0 ・・・(13)
0.211×λ0≦d5≦0.277×λ0 ・・・(14)
0.035×λ0≦d6≦0.150×λ0 ・・・(15)
0.039×λ0≦d7≦0.207×λ0 ・・・(16)
ここで、
d1は第1層の光学膜厚、
d2は第2層の光学膜厚、
d3は第3層の光学膜厚、
d4は第4層の光学膜厚、
d5は第5層の光学膜厚、
d6は第6層の光学膜厚、
d7は第7層の光学膜厚、
光学膜厚は屈折率×幾何学的厚さ、
である。
0.233×λ0≦d1≦0.234×λ0 ・・・(17)
0.269×λ0≦d2≦0.289×λ0 ・・・(18)
0.072×λ0≦d3≦0.073×λ0 ・・・(19)
0.106×λ0≦d4≦0.127×λ0 ・・・(20)
0.146×λ0≦d5≦0.211×λ0 ・・・(21)
0.253×λ0≦d6≦0.278×λ0 ・・・(22)
ここで、
d1は第1層の光学膜厚、
d2は第2層の光学膜厚、
d3は第3層の光学膜厚、
d4は第4層の光学膜厚、
d5は第5層の光学膜厚、
d6は第6層の光学膜厚、
d7は第7層の光学膜厚、
光学膜厚は屈折率×幾何学的厚さ、
である。
まず、実施形態の説明に先立って、本発明による作用・効果について説明する。
本発明に係る反射防止膜は、透明な基板上に、空気側から基板側へ順に第1層、第2層、第3層、第4層、第5層、第6層、と、6層以上の薄膜を形成した構成を備え、空気側から奇数番目の薄膜が低屈折率膜であり、偶数番目の薄膜が低屈折率膜又は低屈折率膜より屈折率の大きな中間屈折率膜であって、中心波長λ0での中間屈折率膜と低屈折率膜の屈折率を各々NM、NLとしたとき、次式(1)、(2)、(3)を同時に満足する反射防止膜であって、
λ0=500nm ・・・(1)
1.45≦NM≦1.8 ・・・(2)
NL<1.45 ・・・(3)
紫外域の波長λ1と、可視域の波長λ2と、で反射防止を行っており、
次式(4)、(5)、(6)、(7)、(8)、(9)を同時に満足することを特徴とする。
λ1=355nm ・・・(4)
400nm≦λ2≦700nm ・・・(5)
R1≦1.0% ・・・(6)
R2≦1.5% ・・・(7)
K1≦1.0% ・・・(8)
K2≦1.0% ・・・(9)
ここで、
R1は、波長λ1での反射率、
R2は、波長λ2での反射率、
K1は、波長λ1での膜吸収率、
K2は、波長λ2での膜吸収率、
膜吸収率は、100−(100−(基板の反射率+基板の透過率))−(反射防止膜を施した基板の反射率+反射防止膜を施した基板の透過率)、
である。
なお、上式(6)、(7)は、基板の反射率、及び、反射防止膜を施した基板の反射率について適用する。
0.229×λ0≦d1≦0.234×λ0 ・・・(10)
0.260×λ0≦d2≦0.268×λ0 ・・・(11)
0.045×λ0≦d3≦0.077×λ0 ・・・(12)
0.074×λ0≦d4≦0.118×λ0 ・・・(13)
0.211×λ0≦d5≦0.277×λ0 ・・・(14)
0.035×λ0≦d6≦0.150×λ0 ・・・(15)
0.039×λ0≦d7≦0.207×λ0 ・・・(16)
ここで、
d1は第1層の光学膜厚、
d2は第2層の光学膜厚、
d3は第3層の光学膜厚、
d4は第4層の光学膜厚、
d5は第5層の光学膜厚、
d6は第6層の光学膜厚、
d7は第7層の光学膜厚、
光学膜厚は屈折率×幾何学的厚さ、
である。
0.233×λ0≦d1≦0.234×λ0 ・・・(17)
0.269×λ0≦d2≦0.289×λ0 ・・・(18)
0.072×λ0≦d3≦0.073×λ0 ・・・(19)
0.106×λ0≦d4≦0.127×λ0 ・・・(20)
0.146×λ0≦d5≦0.211×λ0 ・・・(21)
0.253×λ0≦d6≦0.278×λ0 ・・・(22)
ここで、
d1は第1層の光学膜厚、
d2は第2層の光学膜厚、
d3は第3層の光学膜厚、
d4は第4層の光学膜厚、
d5は第5層の光学膜厚、
d6は第6層の光学膜厚、
d7は第7層の光学膜厚、
光学膜厚は屈折率×幾何学的厚さ、
である。
表1に示す、実施例1〜9の反射防止膜は、屈折率1.5〜1.85の基材の上に、設計波長λ0を500nmとして、低屈折率材料であるMgF2からなる第1、3、5、7層と、中間屈折率材料であるAl2O3からなる第2、4、6層と、を積層した7層構成になっている。この反射防止膜は、中間屈折率材料からなる層をM、低屈折率材料からなる層をLとすると、空気側(基板から遠い側)からLMLMLMLという7層構成である。また、中間屈折率材料であるAl2O3からなる層の屈折率NMは1.61であって、1.45≦NM≦1.8を満たし、低屈折率材料であるMgF2からなる層の屈折率NLは1.38であって、NL<1.45を満たす。
表2に示す、実施例10〜12の反射防止膜は、屈折率1.5未満の基材の上に、設計波長λ0を500nmとして、低屈折率材料であるMgF2からなる第1、3、5、7層と、中間屈折率材料Al2O3からなる第2、4層と、中間屈折率材料であるSiO2からなる第6層と、を積層した7層構成になっている。この反射防止膜は、中間屈折率材料からなる層をM、低屈折率材料からなる層をLとすると、空気側(基板から遠い側)からLMLMLMLという7層構成である。また、中間屈折率材料であるAl2O3からなる層の屈折率NMは1.61であり、SiO2からなる層の屈折率NMは1.46であり、いずれも1.45≦NM≦1.8を満たす。さらに、低屈折率材料であるMgF2からなる層の屈折率NLは1.38であって、NL<1.45を満たす。
表3に示す、実施例13、14の反射防止膜は、屈折率1.85以上の基材の上に、設計波長λ0を500nmとして、低屈折率材料であるMgF2からなる第1、3、5層と、中間屈折率材料であるAl2O3からなる第2、4、6層と、を積層した6層構成になっている。この反射防止膜は、中間屈折率材料からなる層をM、低屈折率材料からなる層をLとすると、空気側(基板から遠い側)からLMLMLMという6層構成である。また、中間屈折率材料であるAl2O3からなる層の屈折率NMは1.61であって、1.45≦NM≦1.8を満たす。さらに、低屈折率材料であるMgF2からなる層の屈折率NLは1.38であって、NL<1.45を満たす。
以下、反射防止膜を施した光学系を有する光学装置としてのリペア装置について、図8を参照しつつ説明する。
図8は、第4実施形態に係るリペア装置(以下、レーザーリペア)の構成を示す図である。このリペア装置は、液晶ディスプレイのガラス基板、半導体ウエハ、プリント基板などに生じる欠陥部にレーザー光を照射して除去する装置である。
しかし、これでは観察用レンズで観察して加工場所を決定し、加工用レンズに切り替えて加工することになり、時間的に2倍の工数がかかってしまう。また、観察用レンズと加工用レンズの位置合わせなども必要となりメカ的にもソフト的にも工程が増えてしまっている。
反射防止膜を施した光学系を有する対物レンズ(対物レンズ系22)を備えた光学機器としての顕微鏡について、図9を参照して説明する。
図9は、第5実施形態に係る顕微鏡(紫外線顕微鏡)の構成を示す図である。この顕微鏡では、被検体の可視域から紫外域に至る観察と、被検体の紫外画像と可視カラー画像とを重畳させた表示と、被検体の紫外像のみの観察と、が可能である。
なお、チューナブルレーザー等の紫外から可視光まで透過するシステムにおいても、光源装置内の光学素子に上述の反射防止膜を形成することにより、全波長において十分な透過率を有し、且つ十分な耐久性を持たせることが可能となる。
102 可変絞り
103、107 レンズ
104、105、108 ハーフミラー
106 対物レンズ
109 観察光源
110 レンズ
111 被加工物
112 移動台
121 移動駆動制御部
122 CCD
123 TVモニター
124 画像処理部
125 駆動制御部
218 光源
220 照明レンズ系
220a、220b コレクタレンズ
222 対物レンズ系
224 結像レンズ系
226 ハーフミラー
228 被検体
230a ダイクロイックミラー
231、240、242 反射ミラー
234a、234b テレビカメラ
236a、236b 画像処理装置
238a、238b ディスプレイ
244a、244b 拡大レンズ系
246 コントローラ
248a、248b ビデオプリンタ
250、252a、252b シャッタ
254 機械的ステージ
Claims (10)
- 透明な基板上に、空気側から前記基板側へ順に第1層、第2層、第3層、第4層、第5層、第6層、と、6層以上の薄膜を形成した構成を備え、前記空気側から奇数番目の薄膜が低屈折率膜であり、偶数番目の薄膜が低屈折率膜又は前記低屈折率膜より屈折率の大きな中間屈折率膜であって、中心波長λ0での前記中間屈折率膜と前記低屈折率膜の屈折率を各々NM、NLとしたとき、次式(1)、(2)、(3)を同時に満足する反射防止膜であって、
λ0=500nm ・・・(1)
1.45≦NM≦1.8 ・・・(2)
NL<1.45 ・・・(3)
紫外域の波長λ1と、可視域の波長λ2と、で反射防止を行っており、
次式(4)、(5)、(6)、(7)、(8)、(9)を同時に満足することを特徴とする反射防止膜。
λ1=355nm ・・・(4)
400nm≦λ2≦700nm ・・・(5)
R1≦1.0% ・・・(6)
R2≦1.5% ・・・(7)
K1≦1.0% ・・・(8)
K2≦1.0% ・・・(9)
ここで、
R1は、波長λ1での反射率、
R2は、波長λ2での反射率、
K1は、波長λ1での膜吸収率、
K2は、波長λ2での膜吸収率、
前記膜吸収率は、100−(100−(前記基板の反射率+前記基板の透過率))−(前記反射防止膜を施した前記基板の反射率+前記反射防止膜を施した前記基板の透過率)、
である。 - 前記基板の屈折率が1.85未満であることを特徴とする請求項1に記載の反射防止膜。
- 前記基板の屈折率が1.85以上であることを特徴とする請求項1に記載の反射防止膜。
- 次式(10)、(11)、(12)、(13)、(14)、(15)、(16)を同時に満足することを特徴とする請求項2に記載の反射防止膜。
0.229×λ0≦d1≦0.234×λ0 ・・・(10)
0.260×λ0≦d2≦0.268×λ0 ・・・(11)
0.045×λ0≦d3≦0.077×λ0 ・・・(12)
0.074×λ0≦d4≦0.118×λ0 ・・・(13)
0.211×λ0≦d5≦0.277×λ0 ・・・(14)
0.035×λ0≦d6≦0.150×λ0 ・・・(15)
0.039×λ0≦d7≦0.207×λ0 ・・・(16)
ここで、
d1は前記第1層の光学膜厚、
d2は前記第2層の光学膜厚、
d3は前記第3層の光学膜厚、
d4は前記第4層の光学膜厚、
d5は前記第5層の光学膜厚、
d6は前記第6層の光学膜厚、
d7は前記第7層の光学膜厚、
前記光学膜厚は屈折率×幾何学的厚さ、
である。 - 次式(17)、(18)、(19)、(20)、(21)、(22)を同時に満足することを特徴とする請求項3に記載の反射防止膜。
0.233×λ0≦d1≦0.234×λ0 ・・・(17)
0.269×λ0≦d2≦0.289×λ0 ・・・(18)
0.072×λ0≦d3≦0.073×λ0 ・・・(19)
0.106×λ0≦d4≦0.127×λ0 ・・・(20)
0.146×λ0≦d5≦0.211×λ0 ・・・(21)
0.253×λ0≦d6≦0.278×λ0 ・・・(22)
ここで、
d1は前記第1層の光学膜厚、
d2は前記第2層の光学膜厚、
d3は前記第3層の光学膜厚、
d4は前記第4層の光学膜厚、
d5は前記第5層の光学膜厚、
d6は前記第6層の光学膜厚、
d7は前記第7層の光学膜厚、
前記光学膜厚は屈折率×幾何学的厚さ、
である。 - 前記中間屈折率層の材料がAl2O3、SiO2、LaF3、NdF3、YF3、CeF3、又は、これらの化合物を含む混合物であり、
前記低屈折率層の材料がMgF2、BaF2、LiF、AlF3、NaF、CaF2、又は、これらの化合物を含む混合物であることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の反射防止膜。 - 請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の反射防止膜を施したことを特徴とするレンズ。
- 請求項7に記載のレンズを有することを特徴とする光学系。
- 請求項8に記載の光学系を有することを特徴とする対物レンズ。
- 請求項8に記載の光学系を有し、前記光学系を用いて、観察し、かつ、レーザーを集光することを特徴とする光学機器。
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