CN113272126B - 多层光学膜和包括该多层光学膜的制品 - Google Patents
多层光学膜和包括该多层光学膜的制品 Download PDFInfo
- Publication number
- CN113272126B CN113272126B CN201980065898.1A CN201980065898A CN113272126B CN 113272126 B CN113272126 B CN 113272126B CN 201980065898 A CN201980065898 A CN 201980065898A CN 113272126 B CN113272126 B CN 113272126B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- light
- optical
- blue light
- wavelength
- alternating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000012788 optical film Substances 0.000 title claims abstract description 109
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 215
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 81
- -1 polyethylene copolymer Polymers 0.000 claims description 57
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 claims description 46
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 claims description 42
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 claims description 42
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 28
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 28
- BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 1,1-Difluoroethene Chemical compound FC(F)=C BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N hafnium(iv) oxide Chemical compound O=[Hf]=O CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N hexafluoropropylene Chemical group FC(F)=C(F)C(F)(F)F HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 9
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 7
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 claims description 7
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229920011301 perfluoro alkoxyl alkane Polymers 0.000 claims description 6
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 6
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 claims description 5
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 claims description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 251
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 45
- 239000000463 material Substances 0.000 description 42
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 41
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 34
- 238000000034 method Methods 0.000 description 24
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 23
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 22
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 22
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 18
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 18
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 18
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 17
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 15
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 15
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 15
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 15
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 14
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000013461 design Methods 0.000 description 14
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 14
- 235000013305 food Nutrition 0.000 description 13
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 13
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 13
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 12
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 12
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 12
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 12
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 12
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 12
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 11
- 244000005700 microbiome Species 0.000 description 11
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 11
- 230000008569 process Effects 0.000 description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 206010052428 Wound Diseases 0.000 description 10
- 208000027418 Wounds and injury Diseases 0.000 description 10
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 10
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 10
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 10
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 10
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 10
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 9
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 9
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 9
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 9
- 238000000985 reflectance spectrum Methods 0.000 description 9
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 9
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 8
- 230000000845 anti-microbial effect Effects 0.000 description 8
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 8
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 8
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 8
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 8
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 8
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 8
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 8
- 229910006252 ZrON Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000004599 antimicrobial Substances 0.000 description 7
- 229920000840 ethylene tetrafluoroethylene copolymer Polymers 0.000 description 7
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 7
- 230000002335 preservative effect Effects 0.000 description 7
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 7
- IRPGOXJVTQTAAN-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,3-pentafluoropropanal Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C=O IRPGOXJVTQTAAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K Aluminum fluoride Inorganic materials F[Al](F)F KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 6
- 241000282412 Homo Species 0.000 description 6
- 241001465754 Metazoa Species 0.000 description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 6
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 6
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 6
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 description 6
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004812 Fluorinated ethylene propylene Substances 0.000 description 5
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 5
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 5
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 5
- 150000002148 esters Chemical group 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 5
- 229920009441 perflouroethylene propylene Polymers 0.000 description 5
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 5
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 238000012876 topography Methods 0.000 description 5
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920003314 Elvaloy® Polymers 0.000 description 4
- 239000004813 Perfluoroalkoxy alkane Substances 0.000 description 4
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 4
- 229920010524 Syndiotactic polystyrene Polymers 0.000 description 4
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- 235000013361 beverage Nutrition 0.000 description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 4
- 238000000313 electron-beam-induced deposition Methods 0.000 description 4
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 4
- 208000015181 infectious disease Diseases 0.000 description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 4
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 4
- 244000052769 pathogen Species 0.000 description 4
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 4
- 229920005644 polyethylene terephthalate glycol copolymer Polymers 0.000 description 4
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 4
- 238000004321 preservation Methods 0.000 description 4
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 4
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 4
- VAZJLPXFVQHDFB-UHFFFAOYSA-N 1-(diaminomethylidene)-2-hexylguanidine Polymers CCCCCCN=C(N)N=C(N)N VAZJLPXFVQHDFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 3
- 229920001634 Copolyester Polymers 0.000 description 3
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004594 Masterbatch (MB) Substances 0.000 description 3
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 3
- 229920002118 antimicrobial polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000004630 atomic force microscopy Methods 0.000 description 3
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 3
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003100 immobilizing effect Effects 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 3
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 3
- 229920005573 silicon-containing polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 3
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 3
- XVTDINVUVOXJIY-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropanoyl hexanoate Chemical compound CCCCCC(=O)OC(=O)C(C)O XVTDINVUVOXJIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000004713 Cyclic olefin copolymer Substances 0.000 description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 2
- 229920002413 Polyhexanide Polymers 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N Sucrose Chemical compound O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@@]1(CO)O[C@@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N 0.000 description 2
- 229930006000 Sucrose Natural products 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KZENBFUSKMWCJF-UHFFFAOYSA-N [5-[5-[5-(hydroxymethyl)-2-thiophenyl]-2-furanyl]-2-thiophenyl]methanol Chemical compound S1C(CO)=CC=C1C1=CC=C(C=2SC(CO)=CC=2)O1 KZENBFUSKMWCJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011481 absorbance measurement Methods 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005599 alkyl carboxylate group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical group 0.000 description 2
- YZXBAPSDXZZRGB-DOFZRALJSA-N arachidonic acid Chemical compound CCCCC\C=C/C\C=C/C\C=C/C\C=C/CCCC(O)=O YZXBAPSDXZZRGB-DOFZRALJSA-N 0.000 description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 230000010065 bacterial adhesion Effects 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- OCWYEMOEOGEQAN-UHFFFAOYSA-N bumetrizole Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O OCWYEMOEOGEQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 2
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 2
- YMKDRGPMQRFJGP-UHFFFAOYSA-M cetylpyridinium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+]1=CC=CC=C1 YMKDRGPMQRFJGP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 238000010411 cooking Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- AEJIMXVJZFYIHN-UHFFFAOYSA-N copper;dihydrate Chemical compound O.O.[Cu] AEJIMXVJZFYIHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- QHSJIZLJUFMIFP-UHFFFAOYSA-N ethene;1,1,2,2-tetrafluoroethene Chemical group C=C.FC(F)=C(F)F QHSJIZLJUFMIFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 2
- 150000002195 fatty ethers Chemical class 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 2
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- PGFXOWRDDHCDTE-UHFFFAOYSA-N hexafluoropropylene oxide Chemical compound FC(F)(F)C1(F)OC1(F)F PGFXOWRDDHCDTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004356 hydroxy functional group Chemical group O* 0.000 description 2
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 2
- 206010022000 influenza Diseases 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 2
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 2
- 150000002632 lipids Chemical class 0.000 description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 235000021281 monounsaturated fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 description 2
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960001774 octenidine Drugs 0.000 description 2
- SMGTYJPMKXNQFY-UHFFFAOYSA-N octenidine dihydrochloride Chemical compound Cl.Cl.C1=CC(=NCCCCCCCC)C=CN1CCCCCCCCCCN1C=CC(=NCCCCCCCC)C=C1 SMGTYJPMKXNQFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 description 2
- 230000001717 pathogenic effect Effects 0.000 description 2
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920001483 poly(ethyl methacrylate) polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 2
- 235000020777 polyunsaturated fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 2
- 230000009993 protective function Effects 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N silver oxide Chemical compound [O-2].[Ag+].[Ag+] NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005720 sucrose Substances 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001356 surgical procedure Methods 0.000 description 2
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 2
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- OYHQOLUKZRVURQ-NTGFUMLPSA-N (9Z,12Z)-9,10,12,13-tetratritiooctadeca-9,12-dienoic acid Chemical compound C(CCCCCCC\C(=C(/C\C(=C(/CCCCC)\[3H])\[3H])\[3H])\[3H])(=O)O OYHQOLUKZRVURQ-NTGFUMLPSA-N 0.000 description 1
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N (E)-8-Octadecenoic acid Natural products CCCCCCCCCC=CCCCCCCC(O)=O WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC(C(O)=O)CC1 PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYSCBCSGKXNZRH-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene-2-carboxamide Chemical compound C1=CC=C2SC(C(=O)N)=CC2=C1 GYSCBCSGKXNZRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDYFAPRLDWYIBU-UHFFFAOYSA-N 1-silylprop-2-en-1-one Chemical class [SiH3]C(=O)C=C HDYFAPRLDWYIBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRPZMMHWLSIFAZ-UHFFFAOYSA-N 10-undecenoic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC=C FRPZMMHWLSIFAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NEAHJFGPHPHWND-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylpropan-2-yl)-6-[5-(trifluoromethyl)benzotriazol-2-yl]-4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenol Chemical compound C=1C(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC(N2N=C3C=C(C=CC3=N2)C(F)(F)F)=C(O)C=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 NEAHJFGPHPHWND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LEVFXWNQQSSNAC-UHFFFAOYSA-N 2-(4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl)-5-hexoxyphenol Chemical compound OC1=CC(OCCCCCC)=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 LEVFXWNQQSSNAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMWRRFHBXARRRT-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4,6-bis(2-methylbutan-2-yl)phenol Chemical compound CCC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)CC)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O ZMWRRFHBXARRRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLFNXLXEGXRUOI-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4,6-bis(2-phenylpropan-2-yl)phenol Chemical compound C=1C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C(O)C(C(C)(C)C=2C=CC=CC=2)=CC=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 OLFNXLXEGXRUOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAXFZZHBFXRZMT-UHFFFAOYSA-N 2-[3-(2-hydroxyethoxy)phenoxy]ethanol Chemical compound OCCOC1=CC=CC(OCCO)=C1 IAXFZZHBFXRZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBUFTVMOMCQOFV-UHFFFAOYSA-N 2-[4,6-bis(4-phenylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-5-(2-ethylhexoxy)phenol Chemical compound OC1=CC(OCC(CC)CCCC)=CC=C1C1=NC(C=2C=CC(=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=NC(C=2C=CC(=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=N1 ZBUFTVMOMCQOFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFAFJMHHSBNAFV-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropanoyl dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OC(=O)C(C)O JFAFJMHHSBNAFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPGBFKDHRXJSIK-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylbenzene-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound CC(C)(C)C1=C(C(O)=O)C=CC=C1C(O)=O QPGBFKDHRXJSIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 20:1omega9c fatty acid Natural products CCCCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AIBRSVLEQRWAEG-UHFFFAOYSA-N 3,9-bis(2,4-ditert-butylphenoxy)-2,4,8,10-tetraoxa-3,9-diphosphaspiro[5.5]undecane Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1OP1OCC2(COP(OC=3C(=CC(=CC=3)C(C)(C)C)C(C)(C)C)OC2)CO1 AIBRSVLEQRWAEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXVONLUNISGICL-UHFFFAOYSA-N 4,6-dinitro-o-cresol Chemical compound CC1=CC([N+]([O-])=O)=CC([N+]([O-])=O)=C1O ZXVONLUNISGICL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NEQFBGHQPUXOFH-UHFFFAOYSA-N 4-(4-carboxyphenyl)benzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 NEQFBGHQPUXOFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWQSAIIDOMEEOD-UHFFFAOYSA-N 5,5-Dimethyl-4-(3-oxobutyl)dihydro-2(3H)-furanone Chemical compound CC(=O)CCC1CC(=O)OC1(C)C AWQSAIIDOMEEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWSMKYBKUPAEJQ-UHFFFAOYSA-N 5-Chloro-2-(3,5-di-tert-butyl-2-hydroxyphenyl)-2H-benzotriazole Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O UWSMKYBKUPAEJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 9-Heptadecensaeure Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940123208 Biguanide Drugs 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- 241000589562 Brucella Species 0.000 description 1
- 229920003313 Bynel® Polymers 0.000 description 1
- 241000589876 Campylobacter Species 0.000 description 1
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000193163 Clostridioides difficile Species 0.000 description 1
- 208000035473 Communicable disease Diseases 0.000 description 1
- RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-M D-gluconate Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-M 0.000 description 1
- GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N Decanoic acid Natural products CCCCCCCCCC(O)=O GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUPBZQFQVRMKDG-UHFFFAOYSA-M Didecyldimethylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCCCC RUPBZQFQVRMKDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000305071 Enterobacterales Species 0.000 description 1
- 241000588724 Escherichia coli Species 0.000 description 1
- 101100440919 Escherichia phage 186 CP80 gene Proteins 0.000 description 1
- KIWBPDUYBMNFTB-UHFFFAOYSA-N Ethyl hydrogen sulfate Chemical compound CCOS(O)(=O)=O KIWBPDUYBMNFTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006358 Fluon Polymers 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000233866 Fungi Species 0.000 description 1
- 206010064091 Iatrogenic infection Diseases 0.000 description 1
- 241000588748 Klebsiella Species 0.000 description 1
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-M Lactate Chemical compound CC(O)C([O-])=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000005639 Lauric acid Substances 0.000 description 1
- 241000589248 Legionella Species 0.000 description 1
- 208000007764 Legionnaires' Disease Diseases 0.000 description 1
- RUZXLFSNOFXFCF-UHFFFAOYSA-N OC1=C(C=CC=C1C(C)C)C1=C(C=C(C=C1)C(C)(C)CC(C)(C)C)N1N=C2C(=N1)C=CC=C2 Chemical compound OC1=C(C=CC=C1C(C)C)C1=C(C=C(C=C1)C(C)(C)CC(C)(C)C)N1N=C2C(=N1)C=CC=C2 RUZXLFSNOFXFCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005642 Oleic acid Substances 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N Oleic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010035664 Pneumonia Diseases 0.000 description 1
- 229920002319 Poly(methyl acrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZSILVJLXKHGNPL-UHFFFAOYSA-L S(=S)(=O)([O-])[O-].[Ag+2] Chemical compound S(=S)(=O)([O-])[O-].[Ag+2] ZSILVJLXKHGNPL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 101100022454 Schizosaccharomyces pombe (strain 972 / ATCC 24843) mbo1 gene Proteins 0.000 description 1
- 108010082714 Silver Proteins Proteins 0.000 description 1
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 206010041925 Staphylococcal infections Diseases 0.000 description 1
- 229920006355 Tefzel Polymers 0.000 description 1
- 241000120020 Tela Species 0.000 description 1
- 229920006172 Tetrafluoroethylene propylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004433 Thermoplastic polyurethane Substances 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006750 UV protection Effects 0.000 description 1
- 241000700605 Viruses Species 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGYHLZZASRKEJE-UHFFFAOYSA-N [3-[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxy]-2,2-bis[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxymethyl]propyl] 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CCC(=O)OCC(COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)(COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 BGYHLZZASRKEJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1CCC(CO)CC1 YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWVAOONFBYYRHY-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)phenyl]methanol Chemical compound OCC1=CC=C(CO)C=C1 BWVAOONFBYYRHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 1
- 229940022663 acetate Drugs 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001343 alkyl silanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000013566 allergen Substances 0.000 description 1
- OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N alpha-ethylcaproic acid Natural products CCCCC(CC)C(O)=O OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTOSIQBPPRVQHS-PDBXOOCHSA-N alpha-linolenic acid Chemical compound CC\C=C/C\C=C/C\C=C/CCCCCCCC(O)=O DTOSIQBPPRVQHS-PDBXOOCHSA-N 0.000 description 1
- 235000020661 alpha-linolenic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O ammonium group Chemical group [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 229940051881 anilide analgesics and antipyretics Drugs 0.000 description 1
- 150000003931 anilides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003242 anti bacterial agent Substances 0.000 description 1
- 229940088710 antibiotic agent Drugs 0.000 description 1
- 229940114079 arachidonic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000021342 arachidonic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 230000001580 bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 235000013405 beer Nutrition 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- XMEXYUIRYSLNKT-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3-dicarboxylic acid;sodium Chemical compound [Na].OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 XMEXYUIRYSLNKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UREZNYTWGJKWBI-UHFFFAOYSA-M benzethonium chloride Chemical compound [Cl-].C1=CC(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC=C1OCCOCC[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 UREZNYTWGJKWBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229960001950 benzethonium chloride Drugs 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 1
- IHWUGQBRUYYZNM-UHFFFAOYSA-N bicyclo[2.2.1]hept-2-ene-3,4-dicarboxylic acid Chemical compound C1CC2(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC1C2 IHWUGQBRUYYZNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZZPVFWYFOZMQS-UHFFFAOYSA-N bicyclo[2.2.1]heptane-3,4-diol Chemical compound C1CC2(O)C(O)CC1C2 WZZPVFWYFOZMQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004283 biguanides Chemical class 0.000 description 1
- 230000035587 bioadhesion Effects 0.000 description 1
- 230000003115 biocidal effect Effects 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHAVLLBUVKBTBG-UHFFFAOYSA-N caproleic acid Natural products OC(=O)CCCCCCCC=C KHAVLLBUVKBTBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical group 0.000 description 1
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229960004830 cetylpyridinium Drugs 0.000 description 1
- 229960001927 cetylpyridinium chloride Drugs 0.000 description 1
- 238000012668 chain scission Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 1
- 239000006071 cream Substances 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 235000021438 curry Nutrition 0.000 description 1
- NLUNLVTVUDIHFE-UHFFFAOYSA-N cyclooctylcyclooctane Chemical compound C1CCCCCCC1C1CCCCCCC1 NLUNLVTVUDIHFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCXCDVTWABNWLW-UHFFFAOYSA-M decyl-dimethyl-octylazanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCC SCXCDVTWABNWLW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 1
- 239000000412 dendrimer Substances 0.000 description 1
- 229920000736 dendritic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000003479 dental cement Substances 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000000249 desinfective effect Effects 0.000 description 1
- 230000001066 destructive effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N dicyandiamide Chemical group NC(N)=NC#N QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 150000005690 diesters Chemical class 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 1
- 238000001227 electron beam curing Methods 0.000 description 1
- 238000004049 embossing Methods 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- HQQADJVZYDDRJT-UHFFFAOYSA-N ethene;prop-1-ene Chemical group C=C.CC=C HQQADJVZYDDRJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004494 ethyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 229920006129 ethylene fluorinated ethylene propylene Polymers 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- FPVGTPBMTFTMRT-NSKUCRDLSA-L fast yellow Chemical compound [Na+].[Na+].C1=C(S([O-])(=O)=O)C(N)=CC=C1\N=N\C1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 FPVGTPBMTFTMRT-NSKUCRDLSA-L 0.000 description 1
- 235000019233 fast yellow AB Nutrition 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000006081 fluorescent whitening agent Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229920001973 fluoroelastomer Polymers 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 229940050410 gluconate Drugs 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 230000036541 health Effects 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003906 humectant Substances 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N isooleic acid Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCCC(O)=O QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940001447 lactate Drugs 0.000 description 1
- 125000000400 lauroyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920000092 linear low density polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004707 linear low-density polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229960004488 linolenic acid Drugs 0.000 description 1
- KQQKGWQCNNTQJW-UHFFFAOYSA-N linolenic acid Natural products CC=CCCC=CCC=CCCCCCCCC(O)=O KQQKGWQCNNTQJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 230000005541 medical transmission Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 208000015688 methicillin-resistant staphylococcus aureus infectious disease Diseases 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- JZMJDSHXVKJFKW-UHFFFAOYSA-M methyl sulfate(1-) Chemical compound COS([O-])(=O)=O JZMJDSHXVKJFKW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004005 microsphere Substances 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000035772 mutation Effects 0.000 description 1
- ORECYURYFJYPKY-UHFFFAOYSA-N n,n'-bis(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)hexane-1,6-diamine;2,4,6-trichloro-1,3,5-triazine;2,4,4-trimethylpentan-2-amine Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)N.ClC1=NC(Cl)=NC(Cl)=N1.C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1NCCCCCCNC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 ORECYURYFJYPKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXOHFPCZGPKIRD-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,6-dicarboxylic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C=CC2=CC(C(=O)O)=CC=C21 RXOHFPCZGPKIRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEIJHBUUFURJLI-UHFFFAOYSA-N octane-1,8-diol Chemical compound OCCCCCCCCO OEIJHBUUFURJLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- 229960002969 oleic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000021313 oleic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010525 oxidative degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000005702 oxyalkylene group Chemical group 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003348 petrochemical agent Substances 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 238000007539 photo-oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012994 photoredox catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000015843 photosynthesis, light reaction Effects 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000307 polymer substrate Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000007348 radical reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-M salicylate Chemical compound OC1=CC=CC=C1C([O-])=O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229960001860 salicylate Drugs 0.000 description 1
- 238000004626 scanning electron microscopy Methods 0.000 description 1
- 238000012216 screening Methods 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003378 silver Chemical class 0.000 description 1
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001923 silver oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- FJOLTQXXWSRAIX-UHFFFAOYSA-K silver phosphate Chemical compound [Ag+].[Ag+].[Ag+].[O-]P([O-])([O-])=O FJOLTQXXWSRAIX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229940019931 silver phosphate Drugs 0.000 description 1
- 229910000161 silver phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960003600 silver sulfadiazine Drugs 0.000 description 1
- YPNVIBVEFVRZPJ-UHFFFAOYSA-L silver sulfate Chemical compound [Ag+].[Ag+].[O-]S([O-])(=O)=O YPNVIBVEFVRZPJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000367 silver sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- UEJSSZHHYBHCEL-UHFFFAOYSA-N silver(1+) sulfadiazinate Chemical compound [Ag+].C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)[N-]C1=NC=CC=N1 UEJSSZHHYBHCEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APSBXTVYXVQYAB-UHFFFAOYSA-M sodium docusate Chemical group [Na+].CCCCC(CC)COC(=O)CC(S([O-])(=O)=O)C(=O)OCC(CC)CCCC APSBXTVYXVQYAB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- AMJZVHHOVFFTOM-UHFFFAOYSA-M sodium;2-(2-hexanoyloxypropanoyloxy)propanoate Chemical compound [Na+].CCCCCC(=O)OC(C)C(=O)OC(C)C([O-])=O AMJZVHHOVFFTOM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000001302 tertiary amino group Chemical class 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 1
- 230000000699 topical effect Effects 0.000 description 1
- 238000005809 transesterification reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004627 transmission electron microscopy Methods 0.000 description 1
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 description 1
- 201000008827 tuberculosis Diseases 0.000 description 1
- 229940124543 ultraviolet light absorber Drugs 0.000 description 1
- 229960002703 undecylenic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000021122 unsaturated fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
- 150000003751 zinc Chemical class 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/208—Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/32—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyolefins
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
- B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/28—Nitrogen-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L23/00—Compositions of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L23/02—Compositions of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Compositions of derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
- C08L23/04—Homopolymers or copolymers of ethene
- C08L23/08—Copolymers of ethene
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L27/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L27/02—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Compositions of derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
- C08L27/12—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Compositions of derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment containing fluorine atoms
- C08L27/18—Homopolymers or copolymers or tetrafluoroethene
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
- G02B1/115—Multilayers
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
- G02B19/0033—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use
- G02B19/0095—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with ultraviolet radiation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/28—Interference filters
- G02B5/283—Interference filters designed for the ultraviolet
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/28—Interference filters
- G02B5/285—Interference filters comprising deposited thin solid films
- G02B5/287—Interference filters comprising deposited thin solid films comprising at least one layer of organic material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L2201/00—Properties
- C08L2201/10—Transparent films; Clear coatings; Transparent materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L2203/00—Applications
- C08L2203/20—Applications use in electrical or conductive gadgets
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
Abstract
本发明公开了包括至少多个交替的第一光学层和第二光学层的多层光学膜。多层光学膜的实施方案可用于例如UV‑C屏蔽罩、UV‑C光准直仪和UV‑C光集中器应用中。
Description
背景技术
紫外(UV)光和蓝光可用于例如引发在涂料、粘合剂和聚合物材料中使用的自由基反应化学物质。紫外光也可用于例如消毒表面、过滤器、绷带、薄膜、制品、空气和液体(例如，水)。可应用UV-C(即，在100至280范围内的波长)消毒的示例包括医疗机构和供应品、飞机洗手间、病房和外科设备、学校、空气和水纯化以及消费者应用(例如，牙刷和移动电话消毒)。随着病原体突变并发展出抗生素抗性，预防感染和疾病传播(尤其是针对高危环境和人群)已变得越来越重要。全球人类旅行的可能性和速度加大了快速发展的流行病/大流行病的风险。空气和水消毒对人类健康和预防感染性疾病至关重要。UV-C消毒的有益效果包括无接触应用，并且对非基因特异性靶标处细胞的机械破坏不大可能通过病原体突变克服来产生抗性。使用紫外光消毒过的除金属、陶瓷或玻璃表面之外的表面将需要保护以免受紫外光照射。可施加UV-C照射以有效地灭活或杀灭原核和真核微生物等，包括细菌、病毒、真菌和霉菌。对一种或多种抗生素具有发展抗性的细菌菌株也易受UV-C光的影响。值得关注的病原体的一些示例包括医源性感染(例如，艰难梭菌、大肠杆菌、MRSA、克雷伯氏菌、流行性感冒、分枝杆菌和肠细菌)、水源性和土壤源性感染(例如，巨化症、军团杆菌和弯曲杆菌)以及空气源性感染(例如，流行性感冒、肺炎和肺结核)。
然而，紫外光和高强度蓝光也可对人和动物有不同程度的危害。例如，牙科固化光输出400nm至500nm波长的光可对眼睛造成长期损伤。需要紫外光和蓝光管理设计，这种设计更有效地将紫外光和蓝光引导至需要紫外光和蓝光的位置，同时保护人、动物和制品免受由紫外光和蓝光引起的损害。对于使用者(例如，牙科专业人员)而言，最大量的可见光透射穿过蓝光屏蔽罩、准直仪或集中器也是有益的。
发明内容
在一个方面，本公开描述了一种多层光学膜，该多层光学膜包括至少多个交替的第一光学层和第二光学层，在至少100nm至280nm(在一些实施方案中，至少180nm至280nm，甚至至少200nm至280nm)的波长范围内的至少30nm的波长反射带宽上，该第一光学层和该第二光学层在0°、30°、45°、60°或75°光入射角度中的至少一者下共同反射至少30％(在一些实施方案中，至少40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至至少90％)的入射紫外光(即，具有在100nm至小于400nm范围内的波长的任何光)。多层光学膜的实施方案可用于例如UV-C屏蔽罩(用于保护聚合物、油漆、木材、制品以及人、动物和图形(例如，图形膜)免受UV-C降解)、UV-C光准直仪和UV-C光集中器应用中。光准直仪可被设计成准直来自点光源的光，并且可使用抛物线(椭圆)反射光学元件进行准直。主要要求是光源位于光学元件的焦点附近，并且与光学元件的尺寸相比，光源相对较小。光集中器可利用由椭圆的一部分产生的旋转曲面来设计，其中光源位于椭圆的一个焦点处，并且目标位于椭圆的另一个焦点处。一个焦点处的光源朝向椭圆的最近顶点照射。用于生成旋转曲面的椭圆的截面是由光源处的正焦弦和距光源最近的顶点所限定的截面。正焦弦必须大于光源，使得集中器可收集来自光源的大部分光。如果光源和目标为点，则来自光源的所有光将在目标处收集。
在另一方面，本公开描述了第一紫外线屏蔽罩，该第一紫外线屏蔽罩包括含氟聚合物膜和多层光学膜，该多层光学膜包括至少多个交替的第一光学层和第二光学层，该第一光学层和该第二光学层包含至少一种无机材料，在至少320nm至小于400nm(UV-A)的波长范围内的至少30nm的波长反射带宽上，该第一光学层和该第二光学层在0°、30°、45°、60°或75°光入射角度中的至少一者下共同反射至少30％(在一些实施方案中，至少40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至至少90％)的入射紫外光。此类紫外线屏蔽罩可用于例如保护聚合物、油漆、木材、制品以及人、动物和图形(例如，图形膜)免受UV-A降解。
在另一方面，本公开描述了第二紫外线屏蔽罩，该第二紫外线屏蔽罩包括含氟聚合物膜和多层光学膜，该多层光学膜包括至少多个交替的第一光学层和第二光学层，该第一光学层和该第二光学层包含至少一种无机材料，在至少280nm至小于320nm(UV-B)的波长范围内的至少30nm的波长反射带宽上，该第一光学层和该第二光学层在0°、30°、45°、60°或75°光入射角度中的至少一者下共同反射至少30％(在一些实施方案中，至少40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至至少90％)的入射紫外光。此类紫外线屏蔽罩可用于例如保护聚合物、油漆、木材、制品、人、动物和图形(例如，图形膜)免受UV-B降解。
在另一方面，本公开描述了第三紫外线屏蔽罩，该第三紫外线屏蔽罩包括含氟聚合物膜和多层光学膜，该多层光学膜包括至少多个交替的第一光学层和第二光学层，该第一光学层和该第二光学层包含至少一种无机材料，在至少100nm至小于280nm(UV-C)(在一些实施方案中，180nm至280nm，或甚至至少200nm至280nm)的波长范围内的至少30nm的波长反射带宽上，该第一光学层和该第二光学层在0°、30°、45°、60°或75°光入射角度中的至少一者下共同反射至少30％(在一些实施方案中，至少40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至至少90％)的入射紫外光。此类紫外线屏蔽罩可用于例如保护聚合物、油漆、木材、制品、图形(例如，图形膜)、人和动物免受UV-C降解。
如本文所用，“图形膜”是吸收至少一些可见光或红外光范围并且反射可见光范围内的至少一些波长的光的任何膜，其中反射光包含一些图形内容。图形内容可包括图案、图像或其他视觉标记。图形膜可为印刷膜，或图形可通过除印刷之外的方式形成。例如，图形膜可为具有图案化布置方式的孔的打孔反射膜。图形膜也可通过压印形成。在一些实施方案中，图形膜是部分透射图形膜。示例性图形膜以商品名“DINOC”购自明尼苏达州圣保罗的3M公司(3M Company,St.Paul,MN)。
在一些实施方案中，本文所述的UV-C屏蔽罩可用于消毒装置(例如，腔室)中。UV-C消毒装置、机柜或封装件包括UV-C光源，该UV-C光源用UV-C光照射装置的内部和装置的内容物。UV-C消毒装置可为例如正方形、矩形、圆锥形、抛物线形、椭圆形、球形或形状的组合，并且对于施加到内表面的UV-C反射器更有效。内表面上的UV反射往往在UV-C光被其预期用途的微生物吸收之前使UV-C光的吸收最小化。UV-C反射内表面可以是例如对可见光不透明的(例如，铝、多孔聚四氟乙烯(PTFE)或多孔硫酸钡)或对可见光透明的UV-C屏蔽罩，如本文所述。UV-C屏蔽罩还可为例如用于观察UV-C消毒装置中的内容物的窗口，其中UV-C消毒装置的内壁的其余部分覆盖有不透明的UV-C反射器(例如，铝或多孔PTFE)。UV-C消毒装置可用于例如对医疗器械、卫生制品、空气、液体(例如，水或饮料)、过滤介质、食品制备装置和多孔薄膜消毒。
在另一方面，本公开描述了蓝光屏蔽罩，该蓝光屏蔽罩包括含氟聚合物膜和多层光学膜，该多层光学膜包括至少多个交替的第一光学层和第二光学层，该第一光学层和该第二光学层包含至少一种无机材料，在至少400nm至500nm的波长范围内的至少30nm的波长反射带宽上，该第一光学层和该第二光学层在0°、30°、45°、60°或75°光入射角度中的至少一者下共同反射至少30％(在一些实施方案中，至少40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至至少90％)的入射蓝光。这种蓝光屏蔽罩可用于例如牙科粘合剂的固化，同时保护牙科医生免受蓝光的影响。
在一些实施方案中，本文所述的蓝光屏蔽罩可用于消毒装置(例如，腔室)中。蓝光屏蔽罩消毒装置、机柜或封装件包括蓝光光源，该蓝光光源用蓝光照射装置的内部和装置的内容物。蓝光消毒装置可为例如正方形、矩形、圆锥形、抛物线形、椭圆形、球形或形状的组合，并且对于应用于内表面的蓝光反射器更有效。内表面上的蓝光反射往往在蓝光被其预期用途的微生物吸收之前使蓝光的吸收最小化。蓝光反射内表面可以是例如对可见光不透明的(例如，铝、多孔聚四氟乙烯(PTFE)或多孔硫酸钡)或对可见光透明的蓝光屏蔽罩，如本文所述。蓝光屏蔽罩还可为例如用于观察蓝光消毒装置中的内容物的窗口，其中蓝光消毒装置的内壁的其余部分覆盖有不透明的蓝光反射器(例如，铝或多孔PTFE)。蓝光消毒装置可用于例如对医疗器械、卫生制品、空气、液体(例如，水或饮料)、过滤介质、食品制备装置和多孔薄膜消毒。
在另一方面，本公开描述了蓝光准直仪，该蓝光准直仪包括含氟聚合物膜和多层光学膜，该多层光学膜包括至少多个交替的第一光学层和第二光学层，该第一光学层和该第二光学层包含至少一种无机材料，在至少400nm至500nm的波长范围内的至少30nm的波长反射带宽上，该第一光学层和该第二光学层在0°、30°、45°、60°或75°光入射角度中的至少一者下共同反射至少30％的入射蓝光，其中在至少500nm至750nm的波长范围内的30nm的波长反射带宽上，通过至少多个交替的第一光学层和第二光学层的入射可见光透射率大于30％。
在另一方面，本公开描述了蓝光集中器，该蓝光集中器包括含氟聚合物膜和多层光学膜，该多层光学膜包括至少多个交替的第一光学层和第二光学层，该第一光学层和该第二光学层包含至少一种无机材料，在至少400nm至500nm的波长范围内的至少30nm的波长反射带宽上，该第一光学层和该第二光学层在0°、30°、45°、60°或75°光入射角度中的至少一者下共同反射至少30％的入射蓝光，其中在至少500nm至750nm的波长范围内的30nm的波长反射带宽上，通过至少多个交替的第一光学层和第二光学层的入射可见光透射率大于30％。
在另一方面，本公开描述了一种蓝光固化装置，该蓝光固化装置包括蓝光屏蔽罩，该蓝光屏蔽罩包括多层光学膜，该多层光学膜包括至少多个交替的第一光学层和第二光学层，在至少400nm至600nm(在一些实施方案中，至少400nm至550nm、400nm至500nm或甚至至少450nm至550nm)的波长范围内的至少30nm的波长反射带宽上，该第一光学层和该第二光学层在0°、30°、45°、60°或75°光入射角度中的至少一者下共同反射至少30％(在一些实施方案中，至少35％、40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至至少90％)的入射蓝光(即，具有在400nm至小于500nm范围内的波长的任何光)，其中在至少500nm至750nm(在一些实施方案中，至少500nm至700nm，或甚至至少550nm至700nm)的波长反射带宽中，通过至少多个交替的第一光学层和第二光学层的入射可见光(即，具有在550nm至小于750nm范围内的波长的任何光)透射率为至少30％(在一些实施方案中，至少35％、40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至至少90％)(在一些实施方案中，大于55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至大于90％)。
在另一方面，本公开描述了一种蓝光固化装置，该蓝光固化装置包括蓝光准直仪，该蓝光准直仪包括多层光学膜，该多层光学膜包括至少多个交替的第一光学层和第二光学层，在至少400nm至600nm(在一些实施方案中，至少400nm至550nm、400nm至500nm或甚至至少450nm至550nm)的波长范围内的至少30nm的波长反射带宽上，该第一光学层和该第二光学层在0°、30°、45°、60°或75°光入射角度中的至少一者下共同反射至少30％(在一些实施方案中，至少35％、40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至至少90％)的入射蓝光(即，具有在400nm至小于500nm范围内的波长的任何光)，其中在至少500nm至750nm(在一些实施方案中，至少500nm至700nm，或甚至至少550nm至700nm)的波长反射带宽中，通过至少多个交替的第一光学层和第二光学层的入射可见光(即，具有在550nm至小于750nm范围内的波长的任何光)透射率为至少30％(在一些实施方案中，至少35％、40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至至少90％)(在一些实施方案中，大于55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至大于90％)。
在另一方面，本公开描述了一种蓝光固化装置，该蓝光固化装置包括蓝光集中器，该蓝光集中器包括多层光学膜，该多层光学膜包括至少多个交替的第一光学层和第二光学层，在至少400nm至600nm(在一些实施方案中，400nm至550nm或甚至至少400nm至500nm)的波长范围内的至少30nm的波长反射带宽上，该第一光学层和该第二光学层在0°、30°、45°、60°或75°光入射角度中的至少一者下共同反射至少30％(在一些实施方案中，至少35％、40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至至少90％)的入射蓝光(即，具有在400nm至小于500nm范围内的波长的任何光)，其中在至少500nm至750nm(在一些实施方案中，至少500nm至700nm，或甚至至少550nm至700nm)的波长反射带宽中，通过至少多个交替的第一光学层和第二光学层的入射可见光(即，具有在550nm至小于750nm范围内的波长的任何光)透射率为至少30％(在一些实施方案中，至少为35％、40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至至少90％)(在一些实施方案中，大于55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至大于90％)。
附图说明
图1为本文所述示例性组件的示意性剖视图。
图2为用于本文所述示例性组件中的示例性多层光学膜的示意性剖视图。
图3为包括透明UV镜或透明蓝光镜的示例性遮光罩的示意性剖视图。
图4为本文所述的示例性含氟聚合物膜的所测量吸收光谱的曲线图。
图5为本文所述的示例性多层光学膜的模型化反射光谱的曲线图。
图6为本文所述的三种不同的示例性多层光学膜的模型化反射光谱的曲线图。
图7为示例性多层光学膜的模型化反射光谱的曲线图，示出了如本文所述的反射光谱随光入射角度变化的偏移。
图8为透射可见光同时准直紫外光或蓝光的示例性光准直仪设计的示意性剖视图。
图9为包括透明UV镜或透明蓝光镜的示例性光集中器设计的示意性剖视图。
图10为在牙科填充固化装置上的包括UV镜或蓝光镜的示例性透明遮光罩的示意图。
图11为在面罩上包括UV镜或蓝光镜的示例性透明遮光罩的示意图。
图12为在面罩上包括UV镜或蓝光镜的示例性透明遮光罩的示意图。
具体实施方式
一般来讲，本文所述的多层光学膜包括至少3个层(通常在总计3到2000个层或更多的范围内)。
本文所述的一些多层光学膜包括至少多个交替的第一光学层和第二光学层，在至少100nm至280nm(在一些实施方案中，至少180nm至280nm或甚至至少200nm至280nm)的波长范围内的至少30nm的波长反射带宽上，该第一光学层和该第二光学层在0°、30°、45°、60°或75°光入射角度中的至少一者下共同反射至少30％(在一些实施方案中，至少40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至至少90％)的入射紫外(UV)光(即，具有在100nm至小于400nm范围内的波长的任何光)。在一些实施方案中，多层光学膜在222nm、254nm、265nm或275nm中的至少一者处具有大于90％(在一些实施方案中，大于99％)的UV反射率。
在本文所述的多层光学膜的一些实施方案中，其中在至少400nm至750nm(在一些实施方案中，至少400nm至700nm、500nm至700nm或甚至至少550nm至700nm)的波长范围内，通过至少多个交替的第一光学层和第二光学层的入射可见光(即，具有在400nm至小于700nm范围内的波长的任何光)透射率大于30％(在一些实施方案中，大于40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至大于90％)。
在一些实施方案中，本文所述的多层光学膜具有10％至90％透射率范围内的UV透射带边缘，跨度小于20nm(在一些实施方案中，小于15nm或甚至小于10nm)。
本文所述的多层光学膜的实施方案可用于例如UV-C屏蔽罩、UV-C光准直仪和UV-C光集中器应用中。
在一些实施方案中，第一紫外线屏蔽罩包括含氟聚合物膜和多层光学膜，该多层光学膜包括至少多个交替的第一光学层和第二光学层，该第一光学层和该第二光学层包含至少一种无机材料，在至少320nm至小于400nm的波长范围内的至少30nm的波长反射带宽上，该第一光学层和该第二光学层在0°、30°、45°、60°或75°光入射角度中的至少一者下共同反射至少30％(在一些实施方案中，至少40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至至少90％)的入射紫外光。在一些实施方案中，本文所述的第一紫外线屏蔽罩在325nm、365nm或385nm中的至少一者处具有大于90％(在一些实施方案中，大于99％)的UV反射率。
在本文所述的第一紫外线屏蔽罩的一些实施方案中，其中在至少400nm至750nm(在一些实施方案中，至少400nm至700nm、500nm至700nm或甚至至少550nm至700nm)的波长范围内，通过至少多个交替的第一光学层和第二光学层的入射可见光(即，具有在400nm至小于700nm范围内的波长的任何光)透射率为至少30％(在一些实施方案中，至少40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至至少90％)。
在一些实施方案中，本文所述的第一紫外线屏蔽罩具有10％至90％透射率范围内的UV透射带边缘，跨度小于20nm(在一些实施方案中，小于15nm或甚至小于10nm)。
在一些实施方案中，第二紫外线屏蔽罩包括含氟聚合物膜和多层光学膜，该多层光学膜包括至少多个交替的第一光学层和第二光学层，该第一光学层和该第二光学层包含至少一种无机材料，在至少280nm至小于320nm的波长范围内的至少30nm的波长反射带宽上，该第一光学层和该第二光学层在0°、30°、45°、60°或75°光入射角度中的至少一者下共同反射至少30％(在一些实施方案中，至少40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至至少90％)的入射紫外光。
在一些实施方案中，本文所述的第二紫外线屏蔽罩在300nm处具有大于90％(在一些实施方案中，大于99％)的UV反射率。
在本文所述的第二紫外线屏蔽罩的一些实施方案中，其中在至少400nm至750nm(在一些实施方案中，至少400nm至700nm、500nm至700nm或甚至至少550nm至700nm)的波长范围内，通过至少多个交替的第一光学层和第二光学层的入射可见光(即，具有在400nm至小于700nm范围内的波长的任何光)透射率为至少30％(在一些实施方案中，至少40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至至少90％)(在一些实施方案中，大于55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至大于90％)。
在一些实施方案中，本文所述的第二紫外线屏蔽罩具有10％至90％透射率范围内的UV透射带边缘，跨度小于20nm(在一些实施方案中，小于15nm或甚至小于10nm)。
在一些实施方案中，第三紫外线屏蔽罩包括含氟聚合物膜和多层光学膜，该多层光学膜包括至少多个交替的第一光学层和第二光学层，该第一光学层和该第二光学层包含至少一种无机材料，在至少100nm至小于280nm(在一些实施方案中，至少180nm至280nm，或甚至至少200nm至280nm)的波长范围内的至少30nm的波长反射带宽上，该第一光学层和该第二光学层在0°、30°、45°、60°或75°光入射角度中的至少一者下共同反射至少30％(在一些实施方案中，至少40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至至少90％)的入射紫外光。
在一些实施方案中，本文所述的第三紫外线屏蔽罩在222nm、254nm、265nm或275nm中的至少一者处具有大于90％(在一些实施方案中，大于99％)的UV反射率。
在本文所述的第三紫外线屏蔽罩的一些实施方案中，其中在至少400nm至750nm(在一些实施方案中，至少400nm至700nm、500nm至700nm或甚至至少550nm至700nm)的波长范围内，通过至少多个交替的第一光学层和第二光学层的入射可见光(即，具有在400nm至小于700nm范围内的波长的任何光)透射率为至少30％(在一些实施方案中，至少40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至至少90％)。
在一些实施方案中，本文所述的第三紫外线屏蔽罩具有10％至90％透射率范围内的UV透射带边缘，跨度小于20nm(在一些实施方案中，小于15nm或甚至小于10nm)。
本文所述的示例性UV-C多层光学膜和UV-C屏蔽罩是柔性的。柔性UV-C多层光学膜和UV-C屏蔽罩可包在直径不大于1m(在一些实施方案中，不大于75cm、50cm、25cm、10cm、5cm或甚至不大于1cm)的杆上而没有可见的裂纹。
在一些实施方案中，蓝光屏蔽罩包括含氟聚合物膜和多层光学膜，该多层光学膜包括至少多个交替的第一光学层和第二光学层，该第一光学层和该第二光学层包含至少一种无机材料，在至少400nm至500nm的波长范围内的至少30nm的波长反射带宽上，该第一光学层和该第二光学层在0°、30°、45°、60°或75°光入射角度中的至少一者下共同反射至少30％(在一些实施方案中，至少40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至至少90％)的入射蓝光。
在一些实施方案中，本文所述的蓝光屏蔽罩对440nm至470nm范围内的波长具有大于90％(在一些实施方案中，大于99％)的蓝光反射率。
在本文所述的蓝光屏蔽罩的一些实施方案中，其中在至少500nm至750nm(在一些实施方案中，至少500nm至700nm或甚至至少550nm至700nm)的波长范围内，通过至少多个交替的第一光学层和第二光学层的入射可见光(即，具有在500nm至小于750nm范围内的波长的任何光)透射率为至少30％(在一些实施方案中，至少40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至至少90％)。
在一些实施方案中，本文所述的蓝光屏蔽罩具有10％至90％透射率范围内的光透射带边缘(由反射转变为透射)，跨度小于20nm(在一些实施方案中，小于15nm或甚至小于10nm)。
在本文所述的多层光学膜的一些实施方案中，至少第一光学层包含聚合物材料(例如，聚偏二氟乙烯(PVDF)、乙烯四氟乙烯(ETFE)中的至少一者)，并且其中第二光学层包含聚合物材料(例如，共聚物(THV)或包含衍生自四氟乙烯(TFE)、六氟丙烯(HFP)和偏二氟乙烯(VDF)的亚单元的聚乙烯共聚物、包含衍生自四氟乙烯(TFE)和六氟丙烯(HFP)或全氟烷氧基烷烃(PFA)的亚单元的共聚物(FEP)中的至少一者)。
在本文所述的多层光学膜的一些实施方案中，至少第一光学层包含无机材料(例如，二氧化钛、氧化锆、氧氮化锆、二氧化铪或氧化铝中的至少一者)，并且其中第二光学层包含无机材料(例如，二氧化硅、氟化铝或氟化镁中的至少一者)。示例性材料可购自例如俄亥俄州梅菲尔德高地的Materion公司(Materion Corporation,Mayfield Heights,OH)和比利时布鲁塞尔的Umicore公司(Umicore Corporation,Brussels,Belgium)。
用于制备反射蓝光的光学层(例如，第一光学层和第二光学层)的示例性材料包括聚合物(例如，聚酯、共聚酯和改性共聚酯)。在本文中，术语“聚合物”将理解为包括均聚物和共聚物，以及可通过例如共挤出法或通过包括酯交换反应在内的反应而在可混溶共混物中形成的聚合物或共聚物。术语“聚合物”和“共聚物”同时包括无规共聚物和嵌段共聚物。适用于根据本公开构造的一些示例性多层光学膜中的聚酯通常包括二羧酸酯亚单元和二醇亚单元，并且可通过羧酸酯单体分子与二醇单体分子的反应来生成。每个二羧酸酯单体分子具有两个或更多个羧酸官能团或酯官能团，并且每个二醇单体分子具有至少两个羟基官能团。二羧酸酯单体分子可能全部相同或可能存在两种或更多种不同类型的分子。这同样适用于二醇单体分子。术语“聚酯”还包括由二醇单体分子与碳酸的酯的反应衍生而得的聚碳酸酯。
适用于形成聚酯层的羧酸酯亚单元的二羧酸单体分子的示例包括：2,6-萘二羧酸及其异构体；对苯二甲酸；间苯二甲酸；邻苯二甲酸；壬二酸；己二酸；癸二酸；降冰片烯二羧酸；双环辛烷二羧酸；1,4-环己烷二羧酸及其异构体；叔丁基间苯二甲酸，偏苯三酸，间苯二甲酸磺酸钠；4,4'-联苯二羧酸及其异构体；以及这些酸的低级烷基酯，诸如甲酯或乙酯。术语“低级烷基”在本文中是指C1-C10的直链或支链烷基基团。
适用于形成聚酯层的二醇亚单元的二醇单体分子的示例包括：乙二醇；丙二醇；1,4-丁二醇及其异构体；1,6-己二醇；新戊二醇；聚乙二醇；二乙二醇；三环癸烷二醇；1,4-环己烷二甲醇及其异构体；降莰烷二醇；二环辛二醇；三羟甲基丙烷；季戊四醇；1,4-苯二甲醇及其异构体；双酚A；1,8-二羟基联苯及其异构体；以及1,3-双(2-羟基乙氧基)苯。
可用于反射层的另一个示例性双折射聚合物为聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)，其可通过例如对苯二甲酸二羧酸与乙二醇的反应来制备。其对550nm波长的偏振入射光的折射率在偏振平面平行于拉伸方向时从约1.57增加至高达约1.69。增加分子取向增加PET的双折射。通过将材料拉伸至更大的拉伸比并保持其他拉伸条件不变，可以增强分子取向。PET的共聚物(CoPET)，诸如美国专利6,744,561(Condo等人)和6,449,093(Hebrink等人)中描述的那些特别有用，因为其相对较低温度(通常低于250℃)加工的能力使其与对热较不稳定的第二聚合物的共挤出更相容，所述专利的公开内容以引用方式并入本文。适合用作双折射聚合物的其他半结晶聚酯包括聚对苯二甲酸丁二醇酯(PBT)和它们的共聚物，诸如美国专利6,449,093(Hebrink等人)和美国专利公布2006/0084780(Hebrink等人)中描述的那些，这些专利的公开内容以引用的方式并入本文。另一种可用的双折射聚合物为间规聚苯乙烯(sPS)。
第一光学层也可以是各向同性的高折射率层，其包含聚(甲基丙烯酸甲酯)、聚丙烯的共聚物、聚乙烯的共聚物、环烯烃共聚物、环烯烃嵌段共聚物、聚氨酯、聚苯乙烯、全同立构聚苯乙烯、无规聚苯乙烯、聚苯乙烯的共聚物(例如，苯乙烯和丙烯酸酯的共聚物)、聚碳酸酯、聚碳酸酯的共聚物、聚碳酸酯和共聚酯的可混溶共混物或聚(甲基丙烯酸甲酯)或聚(偏二氟乙烯)的可混溶共混物中的至少一者。
第二光学层还可包含诸如以下物质中的至少一者的氟化共聚物材料：氟化乙烯丙烯共聚物(FEP)；四氟乙烯、六氟丙烯和偏二氟乙烯的共聚物(THV)；四氟乙烯、六氟丙烯或乙烯的共聚物。四氟乙烯与至少两种或甚至至少三种另外的不同共聚单体的可熔融加工的共聚物是特别有用的。
上述四氟乙烯和其他单体的示例性可熔融加工的共聚物包括可以商品名“DYNEONTHV 220”、“DYNEON THV 230”、“DYNEON THV2030”、“DYNEON THV 500”、“DYNEON THV 610”和“DYNEON THV 815”购自明尼苏达州奥克代尔的丹尼昂有限责任公司(Dyneon LLC,Oakdale,MN)、以商品名“NEOFLON EFEP”购自日本大阪大金工业株式会社(DaikinIndustries,Ltd.,Osaka,Japan)、以商品名“AFLAS”购自日本东京的旭硝子玻璃有限公司(Asahi Glass Co.,Ltd.,Tokyo,Japan)的作为四氟乙烯、六氟丙烯和偏二氟乙烯的共聚物获得的那些；以及以商品名“DYNEON ET 6210A”和“DYNEON ET 6235”购自丹尼昂有限责任公司、以商品名“TEFZEL ETFE”购自特拉华州威尔明顿的杜邦公司(E.I.duPont deNemours and Co.,Wilmington,DE)、和以商品名“FLUON ETFE”得自旭硝子玻璃有限公司的乙烯和四氟乙烯的共聚物。
另外，第二聚合物可由聚酯、聚碳酸酯、含氟聚合物、聚丙烯酸酯和聚二甲基硅氧烷的均聚物和共聚物以及它们的共混物形成。
用于光学层，尤其是用于第二层中的其他示例性聚合物包括聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)的均聚物，诸如例如可以商品名“CP71”和“CP80”购自特拉华州威尔明顿的英力士亚克力公司(Ineos Acrylics,Inc.,Wilmington,DE)的那些；以及具有比PMMA更低的玻璃化转变温度的聚甲基丙烯酸乙酯(PEMA)。其他可用的聚合物包括PMMA的共聚物(CoPMMA)，例如由75重量％的甲基丙烯酸甲酯(MMA)单体和25重量％的丙烯酸乙酯(EA)单体制得的CoPMMA(例如，可以商品名“PERSPEX CP63”购自英力士亚克力公司或者可以商品名“ATOGLAS510”购自宾夕法尼亚州费城的阿科玛公司(Arkema,Philadelphia,PA))；由MMA共聚单体单元和甲基丙烯酸正丁酯(nBMA)共聚单体单元形成的CoPMMA；或PMMA与聚(偏二氟乙烯)(PVDF)的共混物。
用于光学层的附加合适的聚合物包括聚烯烃共聚物，诸如例如可以商品名“ENGAGE 8200”购自密歇根州米德兰的陶氏弹性体公司(Dow Elastomers,Midland,MI)的聚(乙烯-co-辛烯)(PE-PO)；也可例如以商品名“ELVALOY 1125”购自密歇根州米德兰的陶氏公司(Dow,Midland,MI)的聚乙烯丙烯酸甲酯；可例如以商品名“Z9470”购自德克萨斯州休斯顿的阿托菲纳石化公司(Atofina Petrochemicals,Inc.,Houston,TX)的聚(丙烯-co-乙烯)(PPPE)；以及无规立构聚丙烯(aPP)和全同立构聚丙烯(iPP)的共聚物。多层光学膜还可在第二层中包含官能化聚烯烃(例如，马来酸酐接枝线性低密度聚乙烯(LLDPE-g-MA)，诸如可例如以商品名“BYNEL 4105”购自杜邦公司的这种物质)。
用于生成多层光学膜的聚合物组合的选择取决于例如所需的将被反射的带宽。在第一光学层聚合物和第二光学层聚合物之间的折射率差值越大，产生的光学功率就越大，从而允许更大的反射带宽。或者，可采用附加层来提供更大的光学功率。双折射层和第二聚合物层的示例性组合可包括例如以下物质：PET/THV、PET/SPOX、PET/CoPMMA、CoPEN/PMMA、CoPEN/SPOX、sPS/SPOX、sPS/THV、CoPEN/THV、PET/PVDF/PMMA的共混物、PET/含氟聚合物、sPS/含氟弹性体和CoPEN/含氟聚合物。
用于制备反射紫外光的光学层(例如，第一光学层和第二光学层)的示例性材料组合包括PMMA(例如，第一光学层)/THV(例如，第二光学层)、PMMA(例如，第一光学层)/PVDF/PMMA的共混物(例如，第二光学层)、PC(聚碳酸酯)(例如，第一光学层)/PMMA(例如，第二光学层)、PC(聚碳酸酯)(例如，第一光学层)/PMMA/PVDF的共混物(例如，第二光学层)、共聚乙烯(例如，聚乙烯丙烯酸甲酯)(例如，第一光学层)/THV(例如，第二光学层)、PMMA/PVDF的共混物(例如，第一光学层)/PVDF/PMMA的共混物(例如，第二光学层)以及PET(例如，第一光学层)/CoPMMA(例如，第二光学层)。
用于制备吸收紫外光或蓝光的光学层的示例性材料包括COC、EVA、TPU、PC、PMMA、CoPMMA、硅氧烷聚合物、含氟聚合物、THV、PET、PVDF或PMMA与PVDF的共混物。
紫外线吸收层(例如，紫外线保护层)有助于通过吸收可能穿过紫外反射性光学层堆叠的紫外光(例如，任何紫外光)而保护可见/IR反射性光学层堆叠免于随时间推移受到紫外光所致的损坏/劣化。一般来讲，UV吸收层可包含任何能够在较长时间段内经受UV光的聚合物型组合物(即，聚合物加上添加剂)，包括压敏粘合剂组合物。
LED紫外光(尤其是280nm至400nm的紫外线辐射)可引起塑料的劣化，这进而引起颜色变化以及光学和机械性能变差。抑制光致氧化劣化对于其中强制要求长期耐久性的户外应用而言是重要的。聚对苯二甲酸乙二醇酯对紫外光的吸收(例如，从360nm左右开始)在低于320nm时显著增加，而在低于300nm时非常突出。聚萘二甲酸乙二醇酯强烈吸收310nm至370nm范围的紫外光，吸收尾部延伸至约410nm，并且吸收最大值出现在352nm和337nm处。链裂解发生于存在氧气的情况下，并且主要的光致氧化产物为一氧化碳、二氧化碳和羧酸。除了酯基团的直接光解外，还必须考虑氧化反应，其经由过氧化物自由基同样形成二氧化碳。
紫外线吸收层可通过反射紫外光、吸收紫外光、散射紫外光或其组合来保护多层光学膜。通常，紫外线吸收层可包含任何能够在反射、散射、或吸收紫外辐射的同时长时间经受紫外辐射的聚合物组合物。此类聚合物的示例包括PMMA、CoPMMA、有机硅热塑性塑料、含氟聚合物和它们的共聚物及其共混物。示例性紫外线吸收层包含PMMA/PVDF共混物。
多种任选添加剂可被掺入到光学层中以使其吸收紫外线。此类添加剂的示例包括紫外线吸收剂、受阻胺光稳定剂或抗氧化剂中的至少一者。
特别期望的紫外线吸收剂是红移紫外线吸收剂(RUVA)，其吸收在180nm至400nm的波长区域中至少70％(在一些实施方案中，至少80％或甚至大于90％)的紫外光。通常，期望RUVA应是高度可溶于聚合物的、高度吸收性的、光持久的并且在200℃至300℃的温度范围内是热稳定的以便于挤出加工形成保护层。如果其能与单体共聚以通过紫外线固化、γ射线固化、电子束固化或热固化过程形成保护涂层，则这样的RUVA也是高度适用的。
RUVA通常在长波UV区域中具有增大的光谱覆盖率，使其能够阻挡会造成聚酯泛黄的长波长紫外光。典型的紫外线保护层的厚度在13微米到380微米(0.5密耳到15密耳)范围内，RUVA含量为2重量％至10重量％。最有效的RUVA之一是苯并三唑化合物，5-三氟甲基-2-(2-羟基-3-α-枯基-5-叔辛基苯基)-2H-苯并三唑(以商品名“CGL-0139”由新泽西州弗洛勒姆帕克的巴斯夫公司(BASF,Florham Park,NJ)购得)。其他示例性的苯并三唑包括2-(2-羟基-3,5-二-α-异丙苯基苯基)-2H-苯并三唑、5-氯-2-(2-羟基-3-叔丁基-5-甲基苯基)-2H-苯并三唑、5-氯-2-(2-羟基-3,5-二-叔丁基苯基)-2H-苯并三唑、2-(2-羟基-3,5-二-叔戊基苯基)-2H-苯并三唑、2-(2-羟基-3-α-异丙苯基-5-叔辛基苯基)-2H-苯并三唑、2-(3-叔丁基-2-羟基-5-甲基苯基)-5-氯-2H-苯并三唑。其他示例性的RUVA包括2(-4,6-二苯基-1-3,5-三嗪-2-基)-5-己氧基-酚。其他示例性紫外线吸收剂包括可以商品名“TINUVIN1577”、“TINUVIN 900”、“TINUVIN 1600”和“TINUVIN 777”购自巴斯夫的那些。其他示例性紫外线吸收剂可例如在聚酯母料中以商品名“TA07-07 MB”购自南卡罗来纳州邓肯的苏卡诺聚合物公司(Sukano Polymers Corporation,Duncan,SC)。用于聚甲基丙烯酸甲酯的示例性紫外线吸收剂为例如可以商品名“TA11-10 MBO1”购自苏卡诺聚合物公司(SukanoPolymers Corporation)的母料。用于聚碳酸酯的示例性紫外线吸收剂是以商品名“TA28-09 MB01”购自苏卡诺聚合物公司的母料。另外，UV吸收剂可以与受阻胺光稳定剂(HALS)和抗氧化剂组合使用。示例性HALS包括可以商品名“CHIMASSORB 944”和“TINUVIN 123”购自巴斯夫的那些。示例性抗氧化剂包括以商品名“IRGANOX 1010”和“ULTRANOX626”获得的那些，其也购自巴斯夫。
在一些实施方案中，第一光学层为含氟聚合物，并且第二光学层为含氟聚合物。此类实施方案所需的材料的示例包括ETFE/THV、PMMA/THV、PVDF/FEP、ETFE/FEP、PVDF/PFA和ETFE/PFA。在一个示例性实施方案中，例如以商品名“DYNEON THV 220GRADE”或“DYNEONTHV 2030GRADE”或“DYNEON THV 815GRADE”购自明尼苏达州奥克代尔的丹尼昂有限责任公司的THV被用作第二光学层，PMMA作为反射320nm-400nm的多层UV镜的第一光学层。在另一个示例性实施方案中，采用例如以商品名“DYNEON THV 220GRADE”或“DYNEON THV2030GRADE”或“DYNEON THV 815GRADE”购自丹尼昂有限责任公司的THV作为第二光学层，以购自密歇根州米德兰的陶氏公司的“ELVALOY 1125”作为第一光学层。
其他添加剂可以被包括在紫外线吸收层(例如，紫外线保护层)中。非色素性微粒氧化锌和氧化钛也可用作紫外线吸收层中的阻挡或散射添加剂。例如，纳米级粒子可分散在聚合物或涂料底物中，以将UV辐射劣化降至最低。纳米级粒子对可见光是透明的，同时散射或吸收有害的UV辐射，从而减少对热塑性塑料的损害。美国专利5,504,134(Palmer等人)(该专利的公开内容以引用方式并入本文)描述了通过使用尺寸在约0.001微米至约0.2微米范围内(在一些实施方案中，在约0.01微米至约0.15微米范围内)的金属氧化物粒子来减弱因紫外线辐射引起的聚合物基底劣化。美国专利5,876,688(Laundon)(该专利的公开内容以引用方式并入本文)描述了制备微粉化氧化锌的方法，微粉化氧化锌足够小从而在作为UV阻挡剂和/或散射剂掺入进油漆、涂料、面漆、塑料制品、化妆品等中时是透明的，微粉化氧化锌非常适合在本发明中使用。这些可以减弱紫外线辐射的粒度在10nm至100nm范围内的细小粒子(例如，氧化锌和氧化钛)可以购自例如新泽西州南普伦菲尔德的科博产品公司(Kobo Products,Inc.,South Plainfield,NJ)。阻燃剂也可作为添加剂加入紫外线保护层中。
除了将紫外线吸收剂、HALS、纳米级粒子、阻燃剂、抗微生物剂、湿润剂和抗氧化剂添加到紫外线吸收层之外，还可以将紫外线吸收剂、HALS、纳米级粒子、阻燃剂和抗氧化剂添加到多层光学膜和任何可选的耐久表涂层。也可将发荧光分子和荧光增白剂添加到紫外线吸收层、多层光学层、任选硬质涂膜层或它们的组合。蓝光吸收染料或颜料可以商品名“PV FAST Yellow”购自例如北卡罗来纳州夏洛特的科莱恩特种化学品公司(ClariantSpecialty Chemicals,Charlotte,NC)，并且可被添加到表层或表涂层。在示例性实施方案中，可将抗微生物剂和润湿剂添加到表层并且它们将迁移到暴露于空气的表面。可能需要润湿剂来防止缩合起雾。
抗微生物剂优选地在200nm至300nm的UV-C区域具有很小的吸光度或不具有吸光度，并且可选自金属、金属氧化物、不含芳族基团的阳离子表面活性剂、阳离子抗微生物聚合物、抗微生物类脂、以及烷基羧酸和烷基羧酸酯羧酸。抗微生物剂也可通过暴露于紫外光而原位生成。银也已知是有效的防腐剂并已用于霜剂中以治疗伤口和其他局部感染。银的活性形式为离子Ag+。类似地，铜和锌具有抗微生物活性，并且据信离子为活性组分(Cu2+、Zn2+)。这些离子可由多种盐和络合物递送，包括银沸石、无机银盐(例如，硝酸银、氯化银、硫酸银、硫代硫酸银、磷酸银、烷基银、芳基银和芳烷基羧酸银(示例性羧酸根阴离子具有小于约8个碳原子(例如乙酸根、乳酸根、水杨酸根和葡糖酸根))、氧化银、胶态银、纳米晶银、银涂覆的微球、与各种聚合物络合的银以及从树枝状聚合物递送的银，如例如美国专利6,579,906(Cooper等人)和6,224,898(Balogh等人)中所述，这些专利的公开内容以引用方式并入本文；以及银抗微生物络合物(例如，磺胺嘧啶银)。银可任选地与伯胺、仲胺、叔胺和季胺、以及它们的聚合物形式和银蛋白复合物复合。类似地，可使用这些相同的铜或锌的盐和络合物(例如，氯化铜、氯化锌等)。可例如真空沉积的此类化合物可涂覆在装置的外表面上，如美国专利9,393,350(McGrath等人)所述，该专利的公开内容以引用方式并入本文。包含季铵或质子化伯胺基团、仲胺基团或叔胺基团的抗微生物聚合物也可用作防腐剂。就紫外线稳定性而言，阳离子抗微生物聚合物优选地为聚季铵。这些通常是具有季胺基团的聚合物，季胺基团具有至少一个至少有6个碳原子，优选地至少有8个碳原子的烷基或芳烷基链。聚合物可以是直链的、支链的、高支化的或树枝状体。示例性的抗微生物聚合物型季铵聚合物包括美国专利6,440,405(Cooper等人)、5,408,022(Imazato等人)和5,084,096(Stovicek)；PCT公布号WO/0210244，公布于2002年12月27日；以及消毒、杀菌和保藏，S.Block，第4版，1991年，第13章，Lea&Febiger出版社(Disinfection,Sterilization and Preservation,S.Block,4th ed.,1991,Chapter 13,Lea&Febiger)中描述的那些，这些文献的公开内容以引用方式并入本文。
特别优选的一类聚合物型质子化胺防腐剂化合物是聚双胍。此类化合物由下式表示：
X-R1-NH-C(NH)-NH-C(NH)-NH-R2-NHC(NH)-NH-C(NH)-NH-R3-X，其中R1、R2和R3为桥连基团，诸如聚亚甲基基团(在一些实施方案中，具有2至10个、4至8个或甚至6个亚甲基基团)。亚甲基基团可任选在可用的位置上被卤素、羟基或苯基取代。X为端基，通常是胺、胺盐或二氰胺基团。优选的此类化合物为聚六亚甲基双胍(PHMB)(例如，可以商品名“COSMOCILCQ”购自特拉华州威尔明顿的Avecia公司(Avecia,Wilmington,DE)。
也可使用抗微生物阳离子表面活性剂。此类化合物通常包含至少一个季铵基团，其中连接至季铵基团的是至少一个C6-C18直链或支链烷基链。合适的化合物包括消毒、杀 菌和保藏，S.Block，第4版，1991年，第13章，Lea&Febiger出版社(Disinfection, Sterilization and Preservation,S.Block,4th ed.,1991,Chapter 13,Lea&Febiger)中公开的那些。特别优选的此类化合物具有一个或两个C8-C18烷基或芳烷基链，并且可由下式表示：
R1R2NR3R4+X-，
其中R1和R2是可在可用的位置上被N、O或S取代的C1-C18直链或支化烷基、烷芳基链，前提条件是R1或R2中的至少一者是可在可用的位置上被N、O或S取代的C8-C18直链或支化烷基链。R3和R4是C1-C6烷基基团。R3和R4还可以形成环(例如，与季铵基团的氮形成吡啶环)。X为阴离子，优选卤离子，并且最优选Cl-或Br-。其他阴离子可包括甲基硫酸根、乙基硫酸根和磷酸根。优选的此类化合物包括单烷基三甲基铵盐、单烷基二甲基苄基铵盐、二烷基二甲基铵盐、氯化苄乙氧铵和奥替尼啶。
优选的季铵防腐剂的示例包括二甲基二烷基卤化铵，其中烷基的链长为C8-C18，其示例可以商品名“BARQUAT 4250”购自新泽西州艾伦代尔的龙沙公司(Lonza,Allendale,NJ)。混合链长(例如二辛基、二月桂基和双十八烷基的混合)可以是特别适用的。示例性化合物包括季铵盐(例如，可以商品名“BARDAC 2050”、“BARDAC 205M”和“BARDAC 2250”购自龙沙公司；卤化十六烷基吡啶(例如，氯化十六烷基吡啶(例如，可以商品名“CEPACOLCHLORIDE”购自密苏里州堪萨斯市的梅里尔实验室(Merrell Labs,Kansas City,MO)；以及奥替尼啶。
有利地，最外层包含合适水平的至少一种防腐剂以产生所需的结果。此类组合物优选地包含基于最外层的总重量计至少0.2重量％(在一些实施方案中，至少0.25重量％、0.3重量％、0.35重量％、0.4重量％、0.45重量％、0.5重量％、0.75重量％、1重量％、2重量％或甚至至少3重量％)的防腐剂总量。或者，可将防腐剂涂覆到最外层上。
与本文所述的那些一起使用的附加防腐剂包括过氧化物、C6-C14烷基羧酸和烷基酯羧酸、抗微生物天然油、以及它们的相容组合(参见例如美国专利公布2006/0051384A1(Scholz等人))，该专利的公开内容以引用方式并入本文；以及二苯醚、酚、卤代酚、双酚、间苯二酚及其衍生物、酰苯胺以及它们的组合(参见例如美国专利公布2006/0052452 A1(Scholz))，该专利的公开内容以引用方式并入本文。
在一些实施方案中，外层表现出降低或防止细菌粘附的表面结构(例如，工程化结构)。示例性工程化结构在以下专利中有所描述：美国专利公布2013/0211310(Bommarito等人)和2018/0171157(Magin等人)中有所描述，这些专利的公开内容以引用方式并入本文。表面形貌可与制品的外部表面一体，或者可固定至制品的外部表面。工程化表面具有包括至少一种图案或构造的形貌，其通常可由多个单位单元限定。每个单位单元包括从该表面突出或伸入该表面中的至少一个工程化结构。工程化结构可为微结构或纳米结构。每个工程化结构可具有从其突出的另外的定向纳米特征结构，所述定向纳米特征结构通常具有更小的尺寸。在一些实施方案中，工程化结构包括基底，基底具有不小于0.5微米且不大于50微米的至少一个横截面的至少一个尺寸。相邻工程化结构之间的间距通常为至少结构的最小尺寸，并可不大于最小尺寸的5倍。相比于不具有这种形貌的表面，根据本公开的表面形貌抗生物粘附。可通过将含有多个微结构和纳米结构的膜或其他基底固定至多层光学叠堆体的外部表面，或通过直接将结构特征微复制至制品表面而产生根据本发明的表面形貌。当微复制时，所得结构将与基础制品单片集成。在其他实施例中，所述工程化结构可通过光刻法产生。作为最终任选的步骤，表面能改性涂层可施用至工程化表面。例如，低表面能可以是所需的。此低表面能涂层一般可以理解为在平坦表面上具有大于110°的水接触角的涂层。对于获得高疏水性性能，这种涂层可能是不必要的。可以使用的示例性低表面能涂层材料可以包括以下材料：例如六氟环氧丙烷(HFPO)，或有机硅烷(例如，烷基硅烷、烷氧基硅烷、丙烯酰基硅烷、多面体低聚倍半硅氧烷(POSS)和含氟的有机硅烷)。也可以使用多种其他合适的低表面能涂层来进一步提高膜的疏水性。本领域已知的特定涂层的示例包括以下专利中所述的那些：美国专利公布2008/0090010(Zhang等人)和2007/0298216(Jing等人)中，这些专利的公开内容以引用方式并入本文。当将涂层施用至微结构时，其可以通过任何适当的涂布方法进行施加，例如溅射、汽相沉积、旋涂、浸涂、滚筒式涂布或任何其他合适的方法。
还设想了控制生物膜和细菌粘附的顶部或外部涂层或层。示例性涂层包括在美国专利公布2008/0075960(Pocius等人)中报道的那些，该专利的公开内容以引用方式并入本文。可固化组合物包含衍生自具有长链脂族侧基的烯键式不饱和单元、具有聚(氧化烯)侧基的烯键式不饱和单元、具有基底反应性侧基的烯键式不饱和单元以及交联剂的聚合物。
在一些实施方案中，防腐剂包含有效量的抗微生物脂质防腐剂，该防腐剂包含多元醇的(C7-C14)饱和脂肪酸酯、多元醇的(C8-C22)不饱和脂肪酸酯、多元醇的(C7-C14)饱和脂肪醚、多元醇的(C8-C22)不饱和脂肪醚、C8-C14烷基羧酸酯以及C5-C12 1,2-链烷二醇。还可以使用它们的烷氧基化衍生物，其中烷氧基化衍生物具有小于5摩尔醇盐每摩尔多元醇；前提条件是，对除蔗糖之外的多元醇，酯包含单酯并且醚包含单醚，而对蔗糖，酯包含单酯、二酯或它们的组合，并且醚包含单醚、二醚或它们的组合。此类可用的防腐剂还在例如美国专利7,582,681(Schmaus等人)和8,512,723(Scholz等人)中有所描述，其公开内容以引用方式并入本文。
示例性类别的抗微生物防腐剂包括C6-C14烷基羧酸和烷基羧酸酯羧酸，其包括C6-C14(在一些实施方案中，C8-C12)直链或支链烷基羧酸(例如，庚酸、癸酸、辛酸、十一碳烯酸和月桂酸)。这些常被称为脂肪酸。如本文所用，术语“脂肪的”包括可为直链或支链的烷基酸中偶数和奇数个碳原子。还包括C8-C22单或多不饱和脂肪酸。示例包括油酸、亚油酸、亚麻酸和花生四烯酸。就紫外线稳定性而言，羧酸烷基酯优选是饱和的。还包括在此类中的为这些羧酸与羟基官能烷基酸的酯(羧酸的烷基羧酸酯)，诸如月桂酰乳酸盐、辛酰乳酸盐或己酰乳酸盐。羧酸烷基酯羧酸包含C6-C14(在一些实施方案中，C8-C12)烷基基团。最便利的是，这些可通过C6-C14饱和直链或支链烷基羧酸或C8-C22单不饱和或多不饱和脂肪酸与羟基官能烷基羧酸的酯化反应来形成。烷基羧酸的烷基羧酸酯的可商购获得的示例为以商品名“PATIONIC 122A”由位于伊利诺伊州水晶湖的丽塔公司(RITA Corp.,CrystalLake,IL)出售的己酰乳酸盐。另一类示例性化合物为月桂酰乳酸盐。单态氧是有效的抗微生物剂，并且可通过将合适的光敏剂暴露于适当波长的光而原位产生。在一个实施方案中，光敏剂为二氧化钛(例如，锐钛矿形式)，其施加到或结合到用紫外光(200nm-320nm)照射的外表面中。光敏剂优选地通过任何合适的方式诸如真空沉积来施加。其他光敏剂和应用方法在美国专利7,569,181(Curry等人)中有所描述，该专利的公开内容以引用方式并入本文。
UV-C屏蔽罩、集中器或准直仪还可包含改性的表面化学物质，包括用于固定广泛群组或靶标微生物的蛋白质结合或官能化探针。示例性应用包括但不限于过敏原去除和病原体特异性隔离清理区。
所需的紫外线保护层厚度通常取决于由Beers定律计算的特定波长下的光密度目标。在一些实施方案中，紫外线保护层的光密度在380nm处大于3.5、3.8或4；在390nm处大于1.7；并且在400nm处大于0.5nm。本领域普通技术人员将认识到，光密度通常应当在延长的制品使用寿命期间保持适度恒定，以便提供预期的保护功能。
可以选择紫外线保护层和任何任选的添加剂来实现所需保护功能，例如紫外保护。本领域普通技术人员将认识到，存在多种手段来实现紫外线保护层的上述目的。例如，可以将非常易溶于某些聚合物中的添加剂添加到组合物。特别重要的是添加剂在聚合物中的持久性。添加剂不应使聚合物劣化或迁移出聚合物。另外，层厚度可以变化以实现所需保护效果。例如，较厚的UV保护层能用较低浓度的UV吸收剂实现相同UV吸收水平，并且归因于对UV吸收剂迁移的较小驱动力而可提供更多UV吸收剂持久性。一种用于检测物理特性变化的机制是使用ASTM G155-05a(2005年10月)中所述的风化循环以及在反射模式下工作的D65光源。在所述测试下，并且当紫外保护层被施加到制品时，在开始明显开裂、剥离、分层或浑浊前，在使用CIE L*a*b*空间获得的b*值增加不超过5或不超过4或不超过3或不超过2之前，制品应当能经受340nm下至少18,700kJ/m2的暴露。
示例性UV-C保护层为交联的含氟聚合物。含氟聚合物可用电子束照射进行交联。交联含氟聚合物层可具有交联密度梯度，其中在其第一表面处具有高交联密度并且在其第二表面处具有低交联密度。交联密度梯度可实现50kV至150kV范围内的低电子束电压。
另一个示例性UV-C保护层为交联的有机硅聚合物。交联硅氧烷聚合物还可包含纳米级二氧化硅粒子和倍半硅氧烷粒子。包含纳米级二氧化硅粒子的示例性交联有机硅聚合物涂层可以商品名“GENTOO”购自佛罗里达州杰克逊维尔的Ulta-Tech国际公司(Ulta-TechInternational,Inc.,Jacksonville,FL)。
本文所述的多层光学膜可使用一般加工技术来制备，诸如美国专利6,783,349(Neavin等人)中所描述的那些，该专利的公开内容以引用方式并入本文。
用于提供具有受控的光谱的多层光学膜的理想技术包括使用轴杆加热器控制共挤出聚合物层的层厚度值，例如如美国专利6,783,349(Neavin等人)中所述；通过使用层厚度测量工具，例如原子力显微镜(AFM)、透射型电镜、或扫描电镜，在制备期间适时地反馈层厚度分布；用于产生所需的层厚度分布的光学建模；以及基于在所测层分布与所需层分布之间的差值重复轴杆调节。
层厚分布控制的基本方法涉及根据目标层厚度分布和所测量层厚度分布的差异来调整轴棒区功率设置。调节给定反馈区中的层厚度值所需的轴杆功率的增加首先会以该加热器区中生成层的所得厚度的每纳米变化的热输入(瓦特)来校准。例如，使用针对275个层的24个轴杆区可以实现光谱的精确控制。一旦经过校准，就可以在给定目标分布和所测量分布的情况下计算所需的功率调整。重复该过程直至两个分布会聚。
反射指定波长范围上的入射紫外光的至少50％的本文中所述多层光学膜的层厚度分布(层厚度值)可以调节为近似线性的分布：从调节为对100nm光具有约1/4波光学厚度(折射率乘物理厚度)的第一(最薄)光学层向调节为对280nm光具有约1/4波厚光学厚度的最厚层递变。
电介质镜特别适用于此，电介质镜具有由具有折射率对比度的无机电介质材料的交替薄层构成的光学薄膜叠堆设计。近几十年来，它们用于UV、可见光、NIR和IR光谱区中的应用。根据所关注的光谱区，存在适用于该区域的特定材料。另外，对于涂布这些材料，使用两种形式的物理气相沉积(PVD)中的一种：蒸发或溅射。蒸发的涂层依赖于将涂层材料(蒸发剂)加热至其蒸发的温度。然后是蒸气在基底上的冷凝。对于蒸镀的电介质镜涂层，最常用电子束沉积工艺。溅射涂层使用高能气体离子来轰击材料(“目标”)表面，从而喷射原子，这些原子随后凝结在附近的基底上。根据使用的涂覆方法以及用于该方法的设置，薄膜涂覆速率和结构-特性关系将受到强烈影响。理想的是，涂布速率应足够高以允许可接受的工艺通过量和膜性能，其特征在于致密、低应力、无空隙、非光学吸收性涂层。
示例性实施方案可被设计为通过两种PVD方法在254nm处具有峰值反射率。例如，通过电子束沉积法，使用HfO2作为高折射率材料，使用SiO2作为低折射率材料来涂布分立基底。镜设计具有每种材料的“四分之一波长光学厚度”(qwot)的交替层，交替层被逐层地涂覆，直到例如在13层之后254nm下的反射率>99％。该反射峰的带宽为约80nm。四分之一波长光学厚度是设计波长(此处254nm)除以4nm或63.5nm。高折射率层(HfO2)的物理厚度为qwot与HfO2在254nm(2.41)或30.00nm下的折射率的商数。低折射率层(254nm处的折射率为1.41)(MgF2)的物理厚度为45.02nm。然后，涂布由HfO2和SiO2的交替层构成并被设计成在254nm处具有峰值反射率的薄膜叠堆开始于30.00nm处的涂层1HfO2。在电子束沉积中，使用四底蒸发源。每个心形为圆锥形，并且用17cm3体积的HfO2块填进行填充。随着光束的细丝电流以预先编程的方式稳定地增加，磁偏转的高电压电子束在材料表面上被光栅扫描。在预编程步骤完成时，将HFO2表面加热至约2500℃的蒸发温度，并且打开源快门，HfO2蒸气通量以硬币形分布从源出现并冷凝在源上方的基底材料上。为了提高涂层均匀度，基底夹持器在沉积期间旋转。在达到规定的涂层厚度(30.00nm)时，切断灯丝电流；快门关闭并且HfO2材料冷却。对于层2，然后将蒸发源旋转到包含MgF2块的炉床，并且开始类似的预编程加热过程。此处，当源极快门打开时，MgF2表面温度为约950℃，并且在达到指定的涂层厚度(45.02nm)时，切断灯丝电流；快门关闭并且HfO2材料冷却。逐层继续该逐步过程，直到达到设计层的总数目。利用该光学设计，随着总层从3增加到13，所得峰值反射率相应地从3层处的40％增加到13层处的>99％。
在另一个示例性实施方案中，可使用ZrON作为高折射率材料和SiO2作为低折射率材料，以连续卷对卷(R2R)方式涂布UV透明膜。光学设计是相同类型的薄膜叠堆，两种材料的交替qwot层。对于在254nm下的折射率为2.25的ZrON，物理厚度目标为28.22nm。对于SiO2，此处从折射率为1.49的铝掺杂硅溅射靶溅射，靶厚度为42.62nm。第一层ZrON是从纯锆溅射靶DC溅射的氩、氧和氮的气体混合物中。虽然氩气是主要溅射气体，但设定氧气和氮气水平以实现透明性、低吸收率和高折射率。膜卷传送最初以预定速度开始，并且溅射源功率斜升至全操作功率，然后引入反应性气体，然后实现稳态条件。根据要涂覆的膜的长度，该过程继续进行，直到实现总足迹。此处，由于溅射源与正被涂覆的膜正交且宽于正被涂覆的膜，因此涂层厚度的均匀度相当高。在达到所需长度的涂覆膜时，将反应性气体设定为零，并将靶溅射至纯Zr表面状态。接下来反转膜方向，并且硅(掺杂铝)旋转对的溅射靶具有在氩溅射气氛中施加的AC频率(40kHz)功率。在达到稳态时，引入氧气反应性气体以提供透明性和低折射率。在预定工艺设置和线速度下，将第二层涂覆在对于层一涂覆的长度上。同样，由于这些溅射源也正交于并宽于被涂布的膜，因此涂层厚度的均匀度相当高。在达到所需长度的涂覆膜之后，移除反应性氧并且在氩气中将靶溅射至纯硅(掺杂铝)表面状态。根据峰值反射率目标，以该顺序涂覆三至五或七或九或十一或十三层。完成后，移除膜卷用于后加工。
对于这些无机涂层的制造，电子束工艺最适于涂布离散部件。尽管一些腔室已显示出R2R膜涂布，但逐层涂布顺序仍是必要的。对于膜的R2R溅射，有利的是使用具有位于一个或可能两个涂布筒周围的多个源的溅射系统。此处，对于十三个层的光学叠堆设计，具有交替的高折射率层和低折射率层的双或甚至单次机器将是可行的。需要多少机器通过将取决于机器设计、成本、十三个连续源的实用性等。另外，涂覆速率将需要与单膜线速度匹配。
在一些实施方案中，本文所述的多层光学膜在暴露于至少151,108,800mJ/cm2的254nm UV-C光之后不具有UV-C光吸收的增加，如使用实施例中所述的“UV-C使用寿命测试”所测试的。
本文所述的多层光学膜的实施方案可用于(例如)UV-C屏蔽罩(如包括本文所述的多层光学膜的UV-C屏蔽罩)、UV-C光准直仪(如包括本文所述的多层光学膜的UV-C光准直仪)和UV-C光集中器应用(例如，包括本文所述的多层光学膜的UV-C光集中器)。
UV-C屏蔽罩、集中器或准直仪可用于对多孔膜或过滤器进行消毒。薄膜是薄的柔性片状结构，其用于选择性地分离内部的两种环境或组分。它们可由单层或多层构成。多孔薄膜和过滤器允许从空气和水中过滤/去除微生物。UV-C屏蔽罩可保护薄膜和过滤材料免受UV-C光的影响，并且UV-C集中器或准直仪可用于对薄膜/过滤材料消毒，从而延长寿命并且/或者增加性能。
在一些实施方案中，本文所述的UV-C屏蔽罩可用于消毒装置(例如，腔室)中。UV-C消毒装置、机柜或封装件包括UV-C光源，该UV-C光源用UV-C光照射装置的内部和装置的内容物。UV-C消毒装置可为例如正方形、矩形、圆锥形、抛物线形、椭圆形、球形或形状的组合，并且对于施加到内表面的UV-C反射器更有效。内表面上的UV反射往往在UV-C光被其预期用途的微生物吸收之前使UV-C光的吸收最小化。UV-C反射内表面可以是例如对可见光不透明的(例如，铝、多孔聚四氟乙烯(PTFE)或多孔硫酸钡)或对可见光透明的UV-C屏蔽罩，如本文所述。UV-C屏蔽罩还可为例如用于观察UV-C消毒装置中的内容物的窗口，其中UV-C消毒装置的内壁的其余部分覆盖有不透明的UV-C反射器(例如，铝或多孔PTFE)。UV-C消毒装置可用于例如对医疗器械、卫生制品、空气、液体(例如，水或饮料)、过滤介质、食品制备装置和多孔薄膜消毒。
UV-C屏蔽罩、集中器或准直仪可用于对食物制备设备进行消毒。食物制备装置可为表面、切割装置、混合装置或甚至烹饪装置。UV-C屏蔽罩可保护食品制备表面免受UV-C光的影响。UV-C集中器和UV-C准直仪可用于对食物制备设备进行消毒。
UV-C屏蔽罩、集中器或准直仪可用于对伤口进行消毒。伤口的UV-C消毒可提供非接触式消毒。UV-C屏蔽罩可保护伤口绷带材料免受UV-C光的影响。UV-C集中器或准直仪可用于在外科手术之前、期间或之后对伤口进行消毒。
参见图1，示例性组件10为紫外线镜膜，其包括在第一光学层12A、12B、12N上的UV-C透明保护层11、第二光学层13A、13B、13N、任选的粘合剂层14和任选的待保护免受UV影响的基底15。
参见图2，示例性多层光学膜20包括在第一光学层22A、22B、22N上的UV-C透明保护层21、第二光学层23A、23B、23N和任选的粘合剂层24。
参见图3，示例性光学组件30包括蓝光吸收表层31、具有第一光学层32A、32B、32N的蓝光反射透明反射器、第二光学层33A、33B、33N、任选的第二表层34和任选的粘合剂层35。
在一些实施方案中，机械过滤器包括本文所述的多层光学膜。例如，具有作为观察窗的多层光学膜的液体(例如，水)过滤器，或使用多层光学膜来反射UV-C光的空气过滤器。
蓝光屏蔽罩、集中器或准直仪可用于对多孔薄膜或过滤器进行消毒。薄膜是薄的柔性片状结构，其用于选择性地分离内部的两种环境或组分。它们可由单层或多层构成。多孔薄膜和过滤器允许从空气和水中过滤/去除微生物。蓝光屏蔽罩可保护薄膜和过滤材料免受蓝光的影响，并且蓝光集中器或准直仪可用于对薄膜/过滤材料消毒，从而延长寿命和/或增加性能。
本文所述的多层光学膜的实施方案可用于(例如)蓝光屏蔽罩(如包括本文所述的多层光学膜的蓝光屏蔽罩)、蓝光准直仪(如包括本文所述的多层光学膜的蓝光准直仪)和蓝光集中器应用(例如，包括本文所述的多层光学膜的蓝光集中器)。
蓝光屏蔽罩、集中器或准直仪可用于对食物制备设备进行消毒。食物制备装置可为表面、切割装置、混合装置或甚至烹饪装置。蓝光屏蔽罩可保护食品制备表面免受蓝光的影响。蓝光集中器和蓝光准直仪可用于对食物制备设备进行消毒。
蓝光屏蔽罩、集中器或准直仪可用于对伤口进行消毒。伤口的蓝光消毒可提供非接触式消毒。蓝光屏蔽罩可保护伤口绷带材料免受蓝光的影响。蓝光集中器或准直仪可用于在外科手术之前、期间或之后对伤口进行消毒。
在一些实施方案中，本文所述的蓝光屏蔽罩可用于消毒装置(例如，腔室)中。蓝光屏蔽罩消毒装置、机柜或封装件包括蓝光光源，该蓝光光源用蓝光照射装置的内部和装置的内容物。蓝光消毒装置可为例如正方形、矩形、圆锥形、抛物线形、椭圆形、球形或形状的组合，并且对于应用于内表面的蓝光反射器更有效。内表面上的蓝光反射往往在蓝光被其预期用途的微生物吸收之前使蓝光的吸收最小化。蓝光反射内表面可以是例如对可见光不透明的(例如，铝、多孔聚四氟乙烯(PTFE)或多孔硫酸钡)或对可见光透明的蓝光屏蔽罩，如本文所述。蓝光屏蔽罩还可为例如用于观察蓝光消毒装置中的内容物的窗口，其中蓝光消毒装置的内壁的其余部分覆盖有不透明的蓝光反射器(例如，铝或多孔PTFE)。蓝光消毒装置可用于例如对医疗器械、卫生制品、空气、液体(例如，水或饮料)、过滤介质、食品制备装置和多孔薄膜消毒。
蓝光固化装置可包括蓝光屏蔽罩，该蓝光屏蔽罩包括多层光学膜，该多层光学膜包括至少多个交替的第一光学层和第二光学层，在至少400nm至600nm(在一些实施方案中，400nm至550nm或甚至至少400nm至500nm)的波长范围内的至少30nm的波长反射带宽上，该第一光学层和该第二光学层在0°、30°、45°、60°或75°光入射角度中的至少一者下共同反射至少30％(在一些实施方案中，至少35％、40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至至少90％)的入射蓝光(即，具有在400nm至小于500nm范围内的波长的任何光)，其中在至少500nm至750nm(在一些实施方案中，至少500nm至700nm，或甚至至少550nm至700nm)的波长反射带宽中，通过至少多个交替的第一光学层和第二光学层的入射可见光(即，具有在550nm至小于750nm范围内的波长的任何光)透射率为至少30％(在一些实施方案中，至少为35％、40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至至少90％)(在一些实施方案中，大于55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至大于90％)。
蓝光固化装置可包括蓝光准直仪，该蓝光准直仪包括多层光学膜，该多层光学膜包括至少多个交替的第一光学层和第二光学层，在至少400nm至600nm(在一些实施方案中，400nm至550nm或甚至至少400nm至500nm)的波长范围内的至少30nm的波长反射带宽上，该第一光学层和该第二光学层在0°、30°、45°、60°或75°光入射角度中的至少一者下共同反射至少30％(在一些实施方案中，至少35％、40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至至少90％)的入射蓝光(即，具有在400nm至小于500nm范围内的波长的任何光)，其中在至少500nm至750nm(在一些实施方案中，500nm至700nm，或甚至至少550nm至700nm)的波长反射带宽中，通过至少多个交替的第一光学层和第二光学层的入射可见光(即，具有在550nm至小于750nm范围内的波长的任何光)透射率为至少30％(在一些实施方案中，至少为30％、35％、40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至至少90％)(在一些实施方案中，大于55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至大于90％)。
蓝光固化装置可包括蓝光集中器，该蓝光集中器包括多层光学膜，该多层光学膜包括至少多个交替的第一光学层和第二光学层，在至少400nm至600nm(在一些实施方案中，400nm至550nm或甚至至少400nm至500nm)的波长范围内的至少30nm的波长反射带宽上，该第一光学层和该第二光学层在0°、30°、45°、60°或75°光入射角度中的至少一者下共同反射至少30％(在一些实施方案中，至少35％、40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至至少90％)的入射蓝光(即，具有在400nm至小于500nm范围内的波长的任何光)，其中在至少500nm至750nm(在一些实施方案中，至少500nm至700nm，或甚至至少550nm至700nm)的波长反射带宽中，通过至少多个交替的第一光学层和第二光学层的入射可见光(即，具有在550nm至小于750nm范围内的波长的任何光)透射率为至少30％(在一些实施方案中，至少为35％、40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至至少90％)(在一些实施方案中，大于55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至大于90％)。
蓝光消毒装置可包括蓝光准直仪，该蓝光准直仪包括多层光学膜，该多层光学膜包括至少多个交替的第一光学层和第二光学层，在至少400nm至600nm(在一些实施方案中，400nm至550nm或甚至至少400nm至500nm)的波长范围内的至少30nm的波长反射带宽上，该第一光学层和该第二光学层在0°、30°、45°、60°或75°光入射角度中的至少一者下共同反射至少30％(在一些实施方案中，至少35％、40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至至少90％)的入射蓝光(即，具有在400nm至小于500nm范围内的波长的任何光)，其中在至少500nm至750nm(在一些实施方案中，至少500nm至700nm，或甚至至少550nm至700nm)的波长反射带宽中，通过至少多个交替的第一光学层和第二光学层的入射可见光(即，具有在550nm至小于750nm范围内的波长的任何光)透射率为至少30％(在一些实施方案中，至少为35％、40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至至少90％)(在一些实施方案中，大于55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至大于90％)。
示例性实施方案
1A.多层光学膜包括至少多个交替的第一光学层和第二光学层，在至少100nm至280nm(在一些实施方案中，至少180nm至280nm或甚至至少200nm至280nm)的波长范围内的至少30nm的波长反射带宽上，该第一光学层和该第二光学层在0°、30°、45°、60°或75°光入射角度中的至少一者下共同反射至少30％(在一些实施方案中，至少35％、40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至至少90％)的入射紫外(UV)光(即，具有在100nm至小于400nm范围内的波长的任何光)。
2A.示例性实施方案1A的多层光学膜在222nm、254nm、265nm或275nm中的至少一者处具有大于90％的UV反射率。
3A.根据任一前述A示例性实施方案所述的多层光学膜，其中在至少400nm至750nm(在一些实施方案中，至少400nm至700nm或甚至至少500nm至700nm)的波长范围内，通过至少多个交替的第一光学层和第二光学层的入射可见光(即，具有在400nm至小于750nm范围内的波长的任何光)透射率为至少30％(在一些实施方案中，至少35％、40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至至少90％)。
4A.根据任一前述A示例性实施方案所述的多层光学膜，该多层光学膜具有在10％至90％的透射率范围内的紫外线透射带边缘，跨度小于20nm(在一些实施方案中，小于15nm或甚至小于10nm)。
5A.根据任一前述A示例性实施方案所述的多层光学膜，其中至少第一光学层包含至少一种聚乙烯共聚物，并且其中第二光学层包含以下所列中的至少一者：包含四氟乙烯、六氟丙烯和偏二氟乙烯的共聚物，包含四氟乙烯和六氟丙烯的共聚物，或全氟烷氧基烷烃。
6A.根据任一前述A示例性实施方案所述的多层光学膜，其中至少第一光学层包含二氧化钛、氧化锆、氧氮化锆、二氧化铪或氧化铝中的至少一者，并且其中第二光学层包含二氧化硅、氟化铝或氟化镁中的至少一者。
7A.根据任一前述A示例性实施方案所述的多层光学膜，该多层光学膜在暴露于254nm下的至少151,108,800mJ/cm2的UV-C光之后不具有UV-C光吸收的增加。
8A.根据任一前述A示例性实施方案所述的多层光学膜，该多层光学膜可包在直径不大于1m(在一些实施方案中，不大于75cm、50cm、25cm、10cm、5cm或甚至不大于1cm)的杆上而没有可见的裂纹。
1B.一种UV-C屏蔽罩，该UV-C屏蔽罩包括根据任一前述A示例性实施方案所述的多层光学膜。
2B.根据示例性实施方案1B所述的UV-C屏蔽罩，该UV-C屏蔽罩具有主表面，该主表面具有用于固定广泛基团或靶标微生物的蛋白质结合探针或官能化探针中的至少一者。
3B.一种图形膜，该图形膜包括任一前述B示例性实施方案。
4B.一种UV-C食物制备装置，该UV-C食物制备装置包括任一前述B示例性实施方案。
1C.一种多孔薄膜，该多孔薄膜包括根据任一前述A示例性实施方案所述的多层光学膜。
1D.一种机械过滤器，该机械过滤器包括根据任一前述A示例性实施方案所述的多层光学膜。
2D.一种UV-C空气过滤装置，该UV-C空气过滤装置包括任一前述D示例性实施方案。
3D.一种UV-C伤口消毒装置，该UV-C伤口消毒装置包括任一前述D示例性实施方案。
1E.一种UV-C光准直仪，该UV-C光准直仪包括根据任一前述A示例性实施方案所述的多层光学膜。
2E.根据示例性实施方案1E所述的UV-C光准直仪，该UV-C光准直仪具有主表面，该主表面具有用于固定广泛基团或靶标微生物的蛋白质结合探针或官能化探针中的至少一者。
1F.一种UV-C光集中器，该UV-C光集中器包括根据任一前述A示例性实施方案所述的多层光学膜。
1G.一种UV-C消毒装置，该UV-C消毒装置包括根据任一前述A示例性实施方案所述的多层光学膜。
1H.一种紫外线屏蔽罩，该紫外线屏蔽罩包括含氟聚合物膜和多层光学膜，该多层光学膜包括至少多个交替的第一光学层和第二光学层，该第一光学层和该第二光学层包含至少一种无机材料，在至少320nm至小于400nm的波长范围内的至少30nm的波长反射带宽上，该第一光学层和该第二光学层在0°、30°、45°、60°或75°光入射角度中的至少一者下共同反射至少30％(在一些实施方案中，至少35％、40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至至少90％)的入射紫外光。
2H.根据示例性实施方案1H所述的紫外线屏蔽罩，该紫外线屏蔽罩在325nm、365nm或385nm中的至少一者处具有大于90％的UV反射率。
3H.根据任一前述H示例性实施方案所述的紫外线屏蔽罩，其中在至少400nm至750nm(在一些实施方案中，至少400nm至700nm或甚至至少500nm至700nm)的波长范围内，通过至少多个交替的第一光学层和第二光学层的入射可见光(即，具有在400nm至小于750nm范围内的波长的任何光)透射率为至少30％(在一些实施方案中，至少35％、40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至至少90％)。
4H.根据任一前述H示例性实施方案所述的紫外线屏蔽罩，该紫外线屏蔽罩具有在10％至90％的透射率范围内的紫外线透射带边缘，跨度小于20nm(在一些实施方案中，小于15nm或甚至小于10nm)。
5H.根据任一前述H示例性实施方案所述的紫外线屏蔽罩，其中至少第一光学层包含二氧化钛、氧化锆、氧氮化锆、二氧化铪或氧化铝中的至少一者，并且其中第二光学层包含二氧化硅、氟化铝或氟化镁中的至少一者。
1I.一种紫外线屏蔽罩，该紫外线屏蔽罩包括含氟聚合物膜和多层光学膜，该多层光学膜包括至少多个交替的第一光学层和第二光学层，该第一光学层和该第二光学层包含至少一种无机材料，在至少280nm至小于320nm的波长范围内的至少30nm的波长反射带宽上，该第一光学层和该第二光学层在0°、30°、45°、60°或75°光入射角度中的至少一者下共同反射至少50％的入射紫外光。
2I.根据示例性实施方案1I所述的紫外线屏蔽罩，其在300nm处具有大于90％的UV反射率。
3I.根据任一前述I示例性实施方案所述的紫外线屏蔽罩，其中在至少400nm至700nm(在一些实施方案中，至少400nm至700nm或甚至至少500nm至700nm)的波长范围内，通过至少多个交替的第一光学层和第二光学层的入射可见光(即，具有在400nm至小于750nm范围内的波长的任何光)透射率为至少30％(在一些实施方案中，至少35％、40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至至少90％)。
4I.根据任一前述I示例性实施方案所述的紫外线屏蔽罩，该紫外线屏蔽罩具有在10％至90％的透射率范围内的紫外线透射带边缘，跨度小于20nm(在一些实施方案中，小于15nm或甚至小于10nm)。
5I.根据任一前述I示例性实施方案所述的紫外线屏蔽罩，其中至少第一光学层包含二氧化钛、氧化锆、氧氮化锆、二氧化铪或氧化铝中的至少一者，并且其中第二光学层包含二氧化硅、氟化铝或氟化镁中的至少一者。
1J.一种紫外线屏蔽罩，该紫外线屏蔽罩包括含氟聚合物膜和多层光学膜，该多层光学膜包括至少多个交替的第一光学层和第二光学层，该第一光学层和该第二光学层包含至少一种无机材料，在至少100nm至小于280nm(在一些实施方案中，180nm至280nm、200nm至280nm，或甚至至少200nm至280nm)的波长范围内的至少30nm的波长反射带宽上，该第一光学层和该第二光学层在0°、30°、45°、60°或75°光入射角度中的至少一者下共同反射至少30％(在一些实施方案中，至少35％、40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至至少90％)的入射紫外光。
2J.根据示例性实施方案1J所述的紫外线屏蔽罩，其在222nm、254nm、265nm或275nm中的至少一者处具有大于90％的UV反射率。
3J.根据任一前述J示例性实施方案所述的紫外线屏蔽罩，其中在至少400nm至750nm(在一些实施方案中，至少400nm至700nm或甚至至少500nm至700nm)的波长范围内，通过至少多个交替的第一光学层和第二光学层的入射可见光(即，具有在400nm至小于750nm范围内的波长的任何光)透射率为大于50％(在一些实施方案中，大于55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至大于90％)。
4J.根据任一前述J示例性实施方案所述的紫外线屏蔽罩，该紫外线屏蔽罩具有在10％至90％的透射率范围内的紫外线透射带边缘，跨度小于20nm(在一些实施方案中，小于15nm或甚至小于10nm)。
5J.根据任一前述J示例性实施方案所述的紫外线屏蔽罩，其中至少第一光学层包含二氧化钛、氧化锆、氧氮化锆、二氧化铪或氧化铝中的至少一者，并且其中第二光学层包含二氧化硅、氟化铝或氟化镁中的至少一者。
6J.根据任一前述J示例性实施方案所述的紫外线屏蔽罩，该紫外线屏蔽罩包括抗微生物剂。
7J.根据任一前述J示例性实施方案所述的紫外线屏蔽罩，该紫外线屏蔽罩包括表面结构(例如，减小或防止细菌粘附的表面结构)。
8J.一种UV-C消毒装置，该UV-C消毒装置包括示例性实施方案1J至7J中任一项所述的UV-C屏蔽罩。
9J.一种多孔薄膜，该多孔薄膜包括示例性实施方案1J至7J中任一项所述的UV-C屏蔽罩。
10J.一种机械过滤器，该机械过滤器包括示例性实施方案1J至7J中任一项所述的UV-C屏蔽罩。
11J.根据示例性实施方案1J至7J中任一项所述的UV-C屏蔽罩，该UV-C屏蔽罩具有主表面，该主表面具有用于固定广泛基团或靶标微生物的蛋白质结合探针或官能化探针中的至少一者。
12J.一种UV-C集中器，该UV-C集中器包括前述J示例性实施方案中的任一者。
1K.一种蓝光屏蔽罩，该蓝光屏蔽罩包括含氟聚合物膜和多层光学膜，该多层光学膜包括至少多个交替的第一光学层和第二光学层，该第一光学层和该第二光学层包含至少一种无机材料，在至少400nm至500nm的波长范围内的至少30nm的波长反射带宽上，该第一光学层和该第二光学层在0°、30°、45°、60°或75°光入射角度中的至少一者下共同反射至少30％(在一些实施方案中，至少35％、40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至至少90％)的入射蓝光。
2K.根据示例性实施方案1K所述的蓝光屏蔽罩，该蓝光屏蔽罩在450nm处具有大于90％的蓝光反射率。
3K.根据任一前述K示例性实施方案所述的蓝光屏蔽罩，其中在至少500nm至750nm(在一些实施方案中，至少500nm至700nm或甚至至少550nm至700nm)的波长反射带宽内，通过至少多个交替的第一光学层和第二光学层的入射可见光(即，具有在550nm至小于750nm范围内的波长的任何光)透射率为至少30％(在一些实施方案中，至少35％、40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至至少90％)(在一些实施方案中，大于55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至大于90％)。
4K.根据任一前述K示例性实施方案所述的蓝光屏蔽罩，该蓝光屏蔽罩具有在10％至90％的透射率范围内的光透射带边缘(即，由反射转变为透射)，跨度小于20nm(在一些实施方案中，小于15nm或甚至小于10nm)。
5K.根据任一前述K示例性实施方案所述的蓝光屏蔽罩，其中至少第一光学层包含二氧化钛、氧化锆、氧氮化锆、二氧化铪或氧化铝中的至少一者，并且其中第二光学层包含二氧化硅、氟化铝或氟化镁中的至少一者。
6K.一种蓝光固化装置，该蓝光固化装置包括根据任一前述K示例性实施方案所述的蓝光屏蔽罩。
1L.一种蓝光准直仪，该蓝光准直仪包括含氟聚合物膜和多层光学膜，该多层光学膜包括至少多个交替的第一光学层和第二光学层，该第一光学层和该第二光学层包含至少一种无机材料，在至少400nm至500nm的波长范围内的至少30nm的波长反射带宽上，该第一光学层和该第二光学层在0°、30°、45°、60°或75°光入射角度中的至少一者下共同反射至少30％的入射蓝光，其中在至少500nm至750nm的波长范围内的30nm的波长反射带宽上，通过至少多个交替的第一光学层和第二光学层的入射可见光透射率大于30％。
2L.一种蓝光固化装置，该蓝光固化装置包括示例性实施方案1L所述的蓝光准直仪。
1M.一种蓝光集中器，该蓝光集中器包括含氟聚合物膜和多层光学膜，该多层光学膜包括至少多个交替的第一光学层和第二光学层，该第一光学层和该第二光学层包含至少一种无机材料，在至少400nm至500nm的波长范围内的至少30nm的波长反射带宽上，该第一光学层和该第二光学层在0°、30°、45°、60°或75°光入射角度中的至少一者下共同反射至少30％的入射蓝光，其中在至少500nm至750nm的波长范围内的30nm波长反射带宽上，通过至少多个交替的第一光学层和第二光学层的入射可见光透射率大于30％。
2M.一种蓝光固化装置，该蓝光固化装置包括示例性实施方案1M所述的蓝光集中器。
1N.一种蓝光固化装置，该蓝光固化装置包括蓝光屏蔽罩，该蓝光屏蔽罩包括多层光学膜，该多层光学膜包括至少多个交替的第一光学层和第二光学层，在至少400nm至600nm(在一些实施方案中，400nm至550nm或甚至至少400nm至500nm)的波长范围内的至少30nm的波长反射带宽上，该第一光学层和该第二光学层在0°、30°、45°、60°或75°光入射角度中的至少一者下共同反射至少30％(在一些实施方案中，至少35％、40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至至少90％)的入射蓝光(即，具有在400nm至小于500nm范围内的波长的任何光)，其中在至少500nm至750nm(在一些实施方案中，至少500nm至700nm，或甚至至少550nm至700nm)的波长反射带宽中，通过至少多个交替的第一光学层和第二光学层的入射可见光(即，具有在550nm至小于750nm范围内的波长的任何光)透射率为至少30％(在一些实施方案中，至少为35％、40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至至少90％)(在一些实施方案中，大于55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至大于90％)。
1O.一种蓝光固化装置，该蓝光固化装置包括蓝光准直仪，该蓝光准直仪包括多层光学膜，该多层光学膜包括至少多个交替的第一光学层和第二光学层，在至少400nm至600nm(在一些实施方案中，至少400nm至550nm或甚至至少400nm至500nm)的波长范围内的至少30nm的波长反射带宽上，该第一光学层和该第二光学层在0°、30°、45°、60°或75°光入射角度中的至少一者下共同反射至少30％(在一些实施方案中，至少35％、40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至至少90％)的入射蓝光(即，具有在400nm至小于500nm范围内的波长的任何光)，其中在至少500nm至750nm(在一些实施方案中，500nm至700nm，或甚至至少550nm至700nm)的波长反射带宽中，通过至少多个交替的第一光学层和第二光学层的入射可见光(即，具有在550nm至小于750nm范围内的波长的任何光)透射率为至少30％(在一些实施方案中，至少为30％、35％、40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至至少90％)(在一些实施方案中，大于55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至大于90％)。
1P.一种蓝光固化装置，该蓝光固化装置包括蓝光集中器，该蓝光集中器包括多层光学膜，该多层光学膜包括至少多个交替的第一光学层和第二光学层，在至少400nm至600nm(在一些实施方案中，至少400nm至550nm或甚至至少400nm至500nm)的波长范围内的至少30nm的波长反射带宽上，该第一光学层和该第二光学层在0°、30°、45°、60°或75°光入射角度中的至少一者下共同反射至少30％(在一些实施方案中，至少35％、40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至至少90％)的入射蓝光(即，具有在400nm至小于500nm范围内的波长的任何光)，其中在至少500nm至750nm(在一些实施方案中，至少500nm至700nm，或甚至至少550nm至700nm)的波长反射带宽中，通过至少多个交替的第一光学层和第二光学层的入射可见光(即，具有在550nm至小于750nm范围内的波长的任何光)透射率为至少30％(在一些实施方案中，至少为35％、40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至至少90％)(在一些实施方案中，大于55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至大于90％)。
1Q.一种蓝光消毒装置，该蓝光消毒装置包括蓝光准直仪，该蓝光准直仪包括多层光学膜，该多层光学膜包括至少多个交替的第一光学层和第二光学层，在至少400nm至600nm(在一些实施方案中，至少400nm至550nm或甚至至少400nm至500nm)的波长范围内的至少30nm的波长反射带宽上，该第一光学层和该第二光学层在0°、30°、45°、60°或75°光入射角度中的至少一者下共同反射至少30％(在一些实施方案中，至少35％、40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至至少90％)的入射蓝光(即，具有在400nm至小于500nm范围内的波长的任何光)，其中在至少500nm至750nm(在一些实施方案中，至少500nm至700nm，或甚至至少550nm至700nm)的波长反射带宽中，通过至少多个交替的第一光学层和第二光学层的入射可见光(即，具有在550nm至小于750nm范围内的波长的任何光)透射率为至少30％(在一些实施方案中，至少为35％、40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至至少90％)(在一些实施方案中，大于55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至大于90％)。
1R.一种蓝光消毒装置，该蓝光消毒装置包括蓝光集中器，该蓝光集中器包括多层光学膜，该多层光学膜包括至少多个交替的第一光学层和第二光学层，在至少400nm至600nm(在一些实施方案中，至少400nm至550nm或甚至至少400nm至500nm)的波长范围内的至少30nm的波长反射带宽上，第一光学层和第二光学层在0°、30°、45°、60°或75°光入射角度中的至少一者下共同反射至少30％(在一些实施方案中，至少35％、40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至至少90％)的入射蓝光(即，具有在400nm至小于500nm范围内的波长的任何光)，其中在至少500nm至750nm(在一些实施方案中，至少500nm至700nm，或甚至至少550nm至700nm)的波长反射带宽中，通过至少多个交替的第一光学层和第二光学层的入射可见光(即，具有在550nm至小于750nm范围内的波长的任何光)透射率为至少30％(在一些实施方案中，至少为35％、40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至至少90％)(在一些实施方案中，大于55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％或甚至大于90％)。
以下实施例进一步说明了本发明的优点和实施方案，但是这些实施例中所提到的具体材料及其量以及其它条件和细节均不应被解释为是对本发明的不当限制。除非另外指明，否则所有份数和百分比均按重量计。
实施例
UV-C使用寿命测试
用由铝制成的封装件测定UV-C使用寿命，该封装件具有118V RRD-30-8S杀菌夹具，该夹具由位于纽约州哈帕克的Pacific Ultraviolet公司制造(Atlantic UltravioletCorporation,Hauppauge,NY)。夹具包含八个高输出瞬时启动的254nm UV-C灯。在124kPa(18psi)的压力下使压缩空气在灯的整个长度上运行，以保持恒定的温度，并且使灯输出强度的温度引起的损失最小化。将测试样品安装到包含适当尺寸窗口的铝载片上，以使用分光光度计(以商品名“SHIMADZU 2550UV-VIS”购自日本东京的岛津公司(Shimadzu,Kyoto,Japan))进行吸光度测量。以离散的时间间隔进行连续曝光，每100小时移除以进行吸光度测量，并放回暴露腔室中。在整个实验期间，将样品以距灯受控的高度和沿着灯的距离放置在测试腔室内。根据测试样品将UV辐射计(以商品名“UVPAD”购自菲律宾马尼拉市的OPSYTECH公司(Opsytech Corporation,Makati City,Philippines))放置在腔室内，以在整个暴露过程中每100小时收集UV(特别是UV-C)辐照度和剂量数据。
实施例1
用40mm双螺杆挤出机和平膜挤出模头将含氟聚合物(可以商品名“THV815GZ”购自明尼苏达州奥克代尔的丹尼昂公司)挤出到冷却至21℃(70℉)的膜浇注轮上，以形成100微米厚的含氟聚合物(“THV815”)膜。根据UV-C使用寿命测试测量含氟聚合物(“THV815”)膜的膜吸收光谱，并且初始光谱41示于图4中。然后如UV-C使用寿命测试方法中所述，将含氟聚合物(“THV815”)膜暴露于254nm光下1588小时，总剂量为105,108,800mJ/cm2。暴露之后，根据UV-C使用寿命测试再次测量含氟聚合物(“THV815”)膜吸收光谱，并且吸收光谱42示于图4中。
模型化实施例I
使用Berreman算法的4x4矩阵方法用于对由具有不同折射率的材料的层界面生成的相长干涉和相消干涉的光谱进行建模。Berreman 4x4矩阵方法描述于美国光学学会杂志(Journal of the Optical Society of America)(第62卷，第4号，1972年4月)和应用物理学杂志(Journal of Applied Physics)(第85卷，第6号，1999年3月)，其公开内容以引用方式并入本文。此光学模型的输入参数为单层折射率、层厚度、层的数量以及包括左频带边缘和右频带边缘的反射带宽。Berreman方法计算在每个层界面处反射的光百分比和在每个层界面处透射的光百分比，并且输出反射光谱和透射光谱。使用Berreman方法计算图5中示出的UV-C多层光学膜的光谱50的反射率％，UV-C多层光学膜具有HfO2高折射率层和SiO2低折射率层的10个交替光学层，峰值反射率目标为254nm。
模型化实施例II
使用实施例2中所述的Berreman方法计算图6中示出的多层光学膜的光谱61的反射率％，多层光学膜具有HfO2高折射率层和SiO2低折射率层的11个交替光学层，反射光谱中值目标为222nm。计算对于相同多层光学层但反射光谱中值目标为254nm的光谱62的反射率％。计算对于相同多层光学层但反射光谱中值目标为265nm的光谱63的反射率％。计算对于相同多层光学层但反射光谱中值目标为275nm的光谱64的反射率％。
模型化实施例III
使用实施例2中所述的Berreman方法计算图7中示出的多层光学膜的光谱71的反射率％，多层光学膜具有ZrON高折射率层和SiO2低折射率层的14个交替光学层，在法线光入射角度(0°)处的反射光谱中值目标为254nm。计算对于相同多层光学膜但光入射角度为10°时的光谱72的反射率％。计算对于相同多层光学膜但光入射角度为20°时的光谱73的反射率％。计算对于相同多层光学膜但光入射角度为30°时的光谱74的反射率％。计算对于相同多层光学膜但光入射角度为40°时的光谱75的反射率％。
实施例2
参见图8，示出了具有抛物面反射光学元件82的光准直仪80。光准直仪可被设计成准直来自点光源的光，并且可使用抛物线(椭圆)反射光学元件进行准直(聚焦)。主要要求是光源位于光学元件的焦点附近，并且与光学元件的尺寸相比，光源相对较小。将厚度为3175微米(125密耳)的254mm×254mm(PETG)片材(以商品名“SPECTAR 14471”购自田纳西州金斯波特的伊士曼公司(Eastman,Kingsport,TN))热成形为抛物线光学元件。在大多数应用中，必须出于实际考虑设计光学元件，例如发光二极管(LED)阵列的横截面积和光学元件的允许空间量。给定源直径Ds(1D中的宽度)以及由高度Hv和直径Dv(1D中的宽度)组成的设计体积，可以推导出接近最佳抛物线反射器的形状的公式：
y＝a*(x+b)2+偏移
其中a＝Hv/((Dv/2)2-(Ds/2)2)，b＝-Dv/2，并且偏移＝-a*(Ds/2)2；
Hv和/或Dv被选择为使得抛物线的焦点与光源的位置重合，这通过选择来实现：
Hv＝((Dv/2)2-(Ds/2)2)/Ds。
此处，x＝Dv/2并且y＝0。考虑到系统的物理约束，计算的光学元件几乎是最佳的。遵循集光率守恒原理，准直量与(Dv/Ds)2成比例，其中所得较高设计体积为较大准直。该光学元件的截止角度由下式给出：
θ＝+/-atan((Dv/2+Ds/2)/Hv)。
用光学透明的粘合剂(以商品名“OCA8171”购自美国明尼苏达州圣保罗的3M公司)将如下所述产生的蓝光反射膜层合到抛物线光学元件。蓝光反射膜光学元件包括多层光学膜，多层光学膜包括由聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)(以商品名“EASTAPAK 7452”购自田纳西州金斯波特的伊士曼化工公司)制成的第一光学层和包含甲基丙烯酸共聚乙酯(CoPMMA)(以商品名“CP63”购自俄亥俄州哥伦布的普拉斯克莱特公司(Plaskolite,Columbus,OH)的第二光学层。通过多层熔融歧管(馈送块)共挤出PET和CoPMMA，以形成275层的光学叠堆。此蓝光反射光学元件的层厚度分布(层厚度值)被调节为大致线性轮廓，其中最薄光学层被调节为对450nm光具有约1/4波长光学厚度(折射率乘物理厚度)并向最厚层发展，最厚层被调节为在0°光入射角度(法向角度)处测量反射时，对550nm光具有约1/4波长光学厚度。使用美国专利6,783,349(Neavin等人)(该专利的公开内容以引用方式并入本文)中描述的轴杆设备结合用原子力显微技术获得的层分布信息，调节层厚度分布以提供改善的光谱特征。当用Lambda 900分光光度计在60°光入射角度下测定时，反射谱带向左偏移以反射400nm至500nm的波长。蓝色LED 81的阵列由80个450nm的LED(以商品名“ZES”购自荷兰史基浦的Lumileds公司(Lumileds,Schiphol,Netherlands)的型号LXZ2-PR02)制成，这些LED具有5.0mm的交错间距以被放置在蓝光准直仪的顶部上。散热片83附接到LED阵列以去除由LED产生的热量。在没有蓝光准直仪的情况下进行测量，然后使用定位在距蓝色LED阵5.1cm(2英寸)处的剂量计(以商品名“S121C sensor”(具有“PM100D METER”)购自德国达克豪斯的Thor Labs公司(Thor Labs,Dachau/Munich,Germany))在蓝光准直仪的适当位置处重复测量。在蓝光准直仪保持在适当位置的情况下，测得蓝光剂量高出76％。
实施例3
通过将具有包含HfO2的第一光学层和包含SiO2的第二光学层的无机光学叠堆蒸汽涂布到100微米(4密耳)厚的含氟聚合物膜(以商品名“NOWOFLON THV815”购自德国西格斯多夫的诺福尔公司(Nowofol,Siegsdorf,Germany))上，来制备UV-C镜。更具体地，涂布由HfO2和SiO2的交替层构成并被设计成在254nm处具有峰值反射率的薄膜叠堆，开始于30.00nm处的涂层1HfO2。在电子束沉积中，使用四底蒸发源。每个心形为圆锥形，并且用17cm3体积的HfO2块填进行填充。随着光束的细丝电流以预先编程的方式稳定地增加，磁偏转的高电压电子束在材料表面上被光栅扫描。在预编程步骤完成时，将HFO2表面加热至约2500℃的蒸发温度，并且打开源快门，HfO2蒸气通量以硬币形分布从源出现并冷凝在源上方的基底材料上。为了提高涂层均匀度，基底夹持器在沉积期间旋转。在达到规定的涂层厚度(30.00nm)时，切断灯丝电流；快门关闭并且HfO2材料冷却。对于层2，然后将蒸发源旋转到包含SiO2块的炉床，并且开始类似的预编程加热过程。此处，当源极快门打开时，SiO2表面温度为约950℃，并且在达到指定的涂层厚度(45.02nm)时，灯丝电流截止；快门关闭并且HfO2材料冷却。逐层继续该逐步过程，直到达到13层的总数目。用分光光度计(以商品名“SHIMADZU 2550UV-VIS”购自日本东京的岛津公司)测量所得的峰值反射率，并且发现在254nm处为99％。
预示性实施例I
PETG片材(“SPECTAR 14471”)形成图9所示的抛物线光学元件。可用光学透明的粘合剂(可以商品名“OCA8171”购自美国明尼苏达州圣保罗的3M公司)UV-C光反射光学元件层合到抛物线光学元件。UV-C光反射光学元件包括多层光学膜，多层光学膜包括用PVDF(聚偏二氟乙烯)(可以商品名“PVDF 6008”购自明尼苏达州圣保罗的3M DYNEON公司(3M DYNEON,St.Paul,MN))制成的第一光学层和包含含氟聚合物(可以商品名“THV815GZ”购自明尼苏达州圣保罗的3M DYNEON公司)的第二光学层。PVDF(“PVDF 6008”)和含氟聚合物(“THV815GZ”)可通过多层熔融歧管共挤出以形成600层的光学叠堆。此UV-C光反射光学元件的层厚度分布(层厚度值)可被调节为大致线性轮廓，其中最薄光学层被调节为对240nm光具有约1/4波长光学厚度(折射率乘物理厚度)并向最厚层发展，最厚层被调节为在0°光入射角度(法向角度)处测量反射时，对320nm光具有约1/4波长光学厚度。当在60°光入射角度下测定时，反射谱带向左偏移以反射190nm至260nm的波长。
预测性实施例II
PETG片材(可以商品名“SPECTAR 14471”购自田纳西州金斯波特的伊士曼公司)可热成形为图9所示的抛物线光学元件90。光集中器可利用由椭圆的一部分产生的旋转曲面来设计，其中光源位于椭圆的一个焦点处，并且目标位于椭圆的另一个焦点处。一个焦点处的光源朝向椭圆的最近顶点照射。用于生成旋转曲面的椭圆的截面是由光源处的正焦弦和距光源最近的顶点所限定的截面。正焦弦必须大于光源，使得集中器可收集来自光源的大部分光。如果光源和目标为点，则来自光源的所有光将在目标处收集。由于光源是LED阵列并且目标是区域，因此可使用射线跟踪软件(例如，可以商品名“ASAP”购自亚利桑那州图森的布劳特研究公司(Breault Research,Tucson,AZ))来跟踪从以椭圆焦点为中心的朗伯LED阵列发射的射线的分布。优化椭圆的长轴和偏心度，使得由LED发射的最大量的能量入射在目标表面上。
可用光学透明的粘合剂(“OCA8171”)UV-C光反射光学元件层合到抛物线光学元件。UV-C光反射光学元件包括多层光学膜，多层光学膜包括由聚乙烯丙烯酸甲酯(可以商品名“ELVALOY 1125”购自密歇根州米德兰的陶氏化学公司)制成的第一光学层和包含含氟聚合物(“THV815GZ”)的第二光学层。聚乙烯丙烯酸甲酯(“ELVALOY1125”)和含氟聚合物(“THV815”)可通过多层熔融歧管送料区块共挤出，以形成600层的光学叠堆。此UV-C光反射光学元件的层厚度分布(层厚度值)可被调节为大致线性轮廓，其中最薄光学层被调节为对200nm光具有约1/4波长光学厚度(折射率乘物理厚度)并向最厚层发展，最厚层被调节为在0°光入射角度(法向角度)处测量反射时，对320nm光具有约1/4波长光学厚度。使用美国专利6,783,349(Neavin等人)(该专利的公开内容以引用方式并入本文)中描述的轴杆设备结合用原子力显微技术获得的层分布信息，将调节层厚度分布以提供改善的光谱特征。当用Lambda 900分光光度计在60°光入射角度下测定时，反射谱带向左偏移以反射160nm至260nm的波长。
预测性实施例III
可通过将具有包含ZrON的第一光学层和包含SiO2的第二光学层的无机光学叠堆溅射涂布到100微米(4密耳)厚的含氟聚合物膜(以商品名“NOWOFLON THV815”购自德国西格斯多夫的诺福尔公司)上，来制备UV-C镜。可使用ZrON作为高折射率材料和SiO2作为低折射率材料，以连续卷对卷(R2R)方式涂布UV透明膜。光学设计为两种材料的交替四分之一波厚层，交替四分之一波厚层被调谐为在200nm处开始反射，其中层厚的梯度在300nm处结束反射。对于在222nm下的折射率为2.25的ZrON，物理厚度目标为24.66nm。对于SiO2，此处从折射率为1.49的铝掺杂硅溅射靶溅射，靶厚度为37.23nm。第一层ZrON可以是从纯锆溅射靶DC溅射的氩、氧和氮的气体混合物中。虽然氩气是主要溅射气体，但设定氧气和氮气水平以实现透明性、低吸收率和高折射率。膜卷传送最初以预定速度开始，并且溅射源功率斜升至全操作功率，然后引入反应性气体，然后实现稳态条件。溅射光源与被涂覆的膜正交并且比被涂覆的膜宽。在达到所需长度的涂覆膜时，将反应性气体设定为零，并将靶溅射至纯Zr表面状态。接下来反转膜方向，并且硅(掺杂铝)旋转对的溅射靶具有在氩溅射气氛中施加的AC频率(40kHz)功率。在达到稳态时，引入氧气反应性气体以提供透明性和低折射率。在预定工艺设置和线速度下，将第二层涂覆在对于层一涂覆的长度上。溅射源与被涂覆的膜正交并且比被涂覆的膜宽。在达到所需长度的涂覆膜之后，移除反应性氧并且在氩气中将靶溅射至纯硅(掺杂铝)表面状态。逐层继续该逐步过程，直到达到13层的总数目。当用分光光度计(“SHIMADZU 2550UV-VIS”)测量时，预计222nm处的所得峰值反射率为99％。
预测性实施例IV
PETG片材(可以商品名“SPECTAR 14471”购自田纳西州金斯波特的伊士曼公司)可热成形为图9所示的抛物线光学元件90，其为一种示例性光集中器设计。光集中器可利用由椭圆的一部分产生的旋转曲面来设计，其中光源位于椭圆的一个焦点处，并且目标位于椭圆的另一个焦点处。一个焦点处的光源朝向椭圆的最近顶点照射。用于生成旋转曲面的椭圆的截面是由光源处的正焦弦和距光源最近的顶点所限定的截面。正焦弦必须大于光源，使得集中器可收集来自光源的大部分光。如果光源和目标为点，则来自光源的所有光将在目标处收集。由于光源是LED阵列并且目标是区域，因此可使用射线跟踪软件(例如，可以商品名“ASAP”购自亚利桑那州图森的布劳特研究公司(Breault Research,Tucson,AZ))来跟踪从以椭圆焦点为中心的朗伯LED阵列发射的射线的分布。优化椭圆的长轴和偏心度，使得由LED发射的最大量的能量入射在目标表面上。然后可将如实施例5所述的蓝光镜膜或如实施例6所述的UV-C镜膜层合为热成形的椭圆形集中器形状，以形成蓝光或UV-C光集中器。
预测性实施例V
图10所示的示例性牙科固化装置1000可由蓝光牙科填充固化装置1001制成，蓝光牙科填充固化装置与如实施例5所述制备的对可见光透明的蓝屏蔽罩1002组装在一起。
预测性实施例VI
图11所示的防尘罩1100可由附接到防尘罩1101的如实施例5所述制备的对可见光透明的蓝光屏蔽罩1102制成。
预测性实施例VII
图12所示的面罩1200可由附接到面罩支撑头带1201的如实施例5所述制备的对可见光透明的蓝光屏蔽罩1202制成。
在不脱离本发明的范围和实质的情况下，本发明的可预知修改和更改对于本领域技术人员而言将显而易见。本发明不应受限于本申请中为了说明目的所示出的实施方案。
Claims (13)
1.一种多层光学膜，所述多层光学膜包括至少多个交替的第一光学层和第二光学层，在至少100nm至280nm的波长范围内的至少30nm的波长反射带宽上，所述多个交替的第一光学层和第二光学层共同反射0°、30°、45°、60°和75°光入射角度中的每一者的至少30％的入射紫外光，其中在至少400nm至750nm的波长范围内的至少30nm的波长反射带宽上，通过至少所述多个交替的第一光学层和第二光学层的入射可见光透射率大于30％，并且其中至少所述第一光学层包含二氧化钛、氧化锆、氧氮化锆、二氧化铪和氧化铝中的至少一者，并且所述第二光学层包含二氧化硅。
2.根据前述权利要求所述的多层光学膜，其中至少所述第一光学层包含至少一种聚乙烯共聚物，并且其中所述第二光学层包含以下所列中的至少一者：包含四氟乙烯、六氟丙烯和偏二氟乙烯的共聚物，包含四氟乙烯和六氟丙烯的共聚物，或全氟烷氧基烷烃。
3.一种UV-C屏蔽罩，所述UV-C屏蔽罩包括根据任一前述权利要求所述的多层光学膜。
4.一种UV-C光准直仪，所述UV-C光准直仪包括根据权利要求1至2中任一项所述的多层光学膜。
5.一种UV-C光集中器，所述UV-C光集中器包括根据权利要求1至2中任一项所述的多层光学膜。
6.一种UV-C消毒装置，所述UV-C消毒装置包括根据权利要求1至2中任一项所述的多层光学膜。
7.一种紫外线屏蔽罩，所述紫外线屏蔽罩包括含氟聚合物膜和根据权利要求1至2中任一项所述的多层光学膜，其中在至少320nm至小于400nm的波长范围内的至少30nm的波长反射带宽上，所述多个交替的第一光学层和第二光学层共同反射0°、30°、45°、60°和75°光入射角度中的每一者的至少30％的入射紫外光。
8.一种紫外线屏蔽罩，所述紫外线屏蔽罩包括含氟聚合物膜和根据权利要求1至2中任一项所述的多层光学膜，其中在至少280nm至小于320nm的波长范围内的至少30nm的波长反射带宽上，所述多个交替的第一光学层和第二光学层共同反射0°、30°、45°、60°和75°光入射角度中的每一者的至少30％的入射紫外光。
9.一种紫外线屏蔽罩，所述紫外线屏蔽罩包括含氟聚合物膜和根据权利要求1至2中任一项所述的多层光学膜。
10.一种蓝光屏蔽罩，所述蓝光屏蔽罩包括含氟聚合物膜和根据权利要求1至2中任一项所述的多层光学膜，其中在至少400nm至500nm的波长范围内的至少30nm的波长反射带宽上，所述多个交替的第一光学层和第二光学层共同反射0°、30°、45°、60°和75°光入射角度中的每一者的至少30％的入射蓝光，其中在至少500nm至750nm的波长范围内的30nm的波长反射带宽上，通过至少所述多个交替的第一光学层和第二光学层的入射可见光透射率大于30％。
11.一种蓝光固化装置，所述蓝光固化装置包括蓝光屏蔽罩，所述蓝光屏蔽罩包括根据权利要求1至2中任一项所述的多层光学膜，其中在至少400nm至600nm的波长范围内的至少30nm的波长反射带宽上，所述多个交替的第一光学层和第二光学层共同反射0°、30°、45°、60°和75°光入射角度中的每一者的至少30％的入射蓝光，其中在至少500nm至750nm的波长反射带宽内，通过至少所述多个交替的第一光学层和第二光学层的入射可见光透射率大于30％。
12.一种蓝光固化装置，所述蓝光固化装置包括蓝光准直仪，所述蓝光准直仪包括根据权利要求1至2中任一项所述的多层光学膜，其中在至少400nm至600nm的波长范围内的至少30nm的波长反射带宽上，所述多个交替的第一光学层和第二光学层共同反射0°、30°、45°、60°和75°光入射角度中的每一者的至少30％的入射蓝光，其中在至少500nm至750nm的波长反射带宽内，通过至少所述多个交替的第一光学层和第二光学层的入射可见光透射率大于30％。
13.一种蓝光消毒装置，所述蓝光消毒装置包括蓝光准直仪，所述蓝光准直仪包括根据权利要求1至2中任一项所述的多层光学膜，其中在至少400nm至600nm的波长范围内的至少30nm的波长反射带宽上，所述多个交替的第一光学层和第二光学层共同反射0°、30°、45°、60°和75°光入射角度中的每一者的至少30％的入射蓝光，其中在至少500nm至750nm的波长反射带宽内，通过至少所述多个交替的第一光学层和第二光学层的入射可见光透射率大于30％。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US201862741886P | 2018-10-05 | 2018-10-05 | |
| US62/741,886 | 2018-10-05 | ||
| PCT/IB2019/058145 WO2020070589A1 (en) | 2018-10-05 | 2019-09-25 | Multilayer optical films and articles comprising the same |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN113272126A CN113272126A (zh) | 2021-08-17 |
| CN113272126B true CN113272126B (zh) | 2023-08-25 |
Family
ID=70055102
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201980065898.1A Active CN113272126B (zh) | 2018-10-05 | 2019-09-25 | 多层光学膜和包括该多层光学膜的制品 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US12001036B2 (zh) |
| EP (1) | EP3860847A4 (zh) |
| JP (1) | JP2022504163A (zh) |
| CN (1) | CN113272126B (zh) |
| WO (1) | WO2020070589A1 (zh) |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11866602B2 (en) | 2018-06-12 | 2024-01-09 | 3M Innovative Properties Company | Fluoropolymer compositions comprising fluorinated additives, coated substrates and methods |
| US12018144B2 (en) | 2018-06-12 | 2024-06-25 | 3M Innovative Properties Company | Fluoropolymer coating compositions comprising amine curing agents, coated substrates and related methods |
| BR112022003161A2 (pt) | 2019-08-20 | 2022-05-17 | 3M Innovative Properties Co | Superfície microestruturada com remoção aprimorada de micro-organismos quando limpa, artigos e métodos |
| US11766822B2 (en) | 2019-08-20 | 2023-09-26 | 3M Innovative Properties Company | Microstructured surface with increased microorganism removal when cleaned, articles and methods |
| WO2021088198A1 (en) | 2019-11-04 | 2021-05-14 | 3M Innovative Properties Company | Electronic telecommunications articles comprising crosslinked fluoropolymers and methods |
| WO2021236429A1 (en) | 2020-05-20 | 2021-11-25 | 3M Innovative Properties Company | Medical articles with microstructured surface |
| US20210363360A1 (en) * | 2020-05-21 | 2021-11-25 | Goodrich Corporation | Disinfecting touch surfaces within aircraft |
| US20220039488A1 (en) * | 2020-07-31 | 2022-02-10 | Kahama Wainwright El | Removable Finger Pad Apparatus |
| IT202000025579A1 (it) * | 2020-10-28 | 2022-04-28 | Matteo Maria Maifrini | Filtro per la radiazione ultravioletta, metodo di realizzazione di detto filtro e dispositivo germicida a radiazione ultravioletta includente detto filtro |
| EP4237886A1 (en) * | 2020-10-28 | 2023-09-06 | Maifrini, Matteo Maria | Ultraviolet radiation filter, method for manufacturing said filter, and ultraviolet radiation germicidal device including said filter |
| WO2022090901A1 (en) * | 2020-10-30 | 2022-05-05 | 3M Innovative Properties Company | Ultraviolet c (uv-c) light reflector including fluoropolymer films |
| JP2023553925A (ja) | 2020-12-11 | 2023-12-26 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 構造化表面を有するフィルムを熱成形する方法及び物品 |
| WO2022148746A1 (en) * | 2021-01-11 | 2022-07-14 | Signify Holding B.V. | A light emitting device |
| JP2022112565A (ja) * | 2021-01-22 | 2022-08-03 | ウシオ電機株式会社 | 保護処理方法、不活化機能搭載方法、シート材、構造体 |
| WO2022162528A1 (en) | 2021-01-28 | 2022-08-04 | 3M Innovative Properties Company | Microstructured surface with increased microorganism removal when cleaned, articles and methods |
| US20240261449A1 (en) * | 2021-06-29 | 2024-08-08 | 3M Innovative Properties Company | Devices Including a Multilayer Article Having an Absorbent Layer and an Ultraviolet Mirror, Systems, and Methods of Disinfecting |
| WO2023105372A1 (en) | 2021-12-07 | 2023-06-15 | 3M Innovative Properties Company | Microstructured surface and articles with lower visibilty of scratches and methods |
| WO2023119008A1 (en) * | 2021-12-23 | 2023-06-29 | 3M Innovative Properties Company | Articles including a multilayer optical film and fluoropolymer layers, transfer articles, and methods of making same |
| WO2024105565A1 (en) * | 2022-11-17 | 2024-05-23 | 3M Innovative Properties Company | Structured ultraviolet light shielding articles and solar arrays including the same |
| WO2024134303A1 (en) * | 2022-12-21 | 2024-06-27 | 3M Innovative Properties Company | Structured transfer articles and articles, and methods of making structured articles |
Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5540978A (en) * | 1992-02-25 | 1996-07-30 | The Dow Chemical Compny | All-polymeric ultraviolet light reflecting film |
| CN102325650A (zh) * | 2008-12-30 | 2012-01-18 | 3M创新有限公司 | 包含含氟聚合物多层光学膜的建筑制品及其制备方法 |
| CN102918428A (zh) * | 2010-09-02 | 2013-02-06 | 奥林巴斯株式会社 | 反射防止膜、透镜、光学系统、物镜以及光学设备 |
| CN104737039A (zh) * | 2012-07-30 | 2015-06-24 | 3M创新有限公司 | 包括多层光学膜的对紫外线稳定的组件 |
| US20150219805A1 (en) * | 2014-01-31 | 2015-08-06 | Corning Incorporated | Uv and duv expanded cold mirrors |
| CN104871035A (zh) * | 2012-12-20 | 2015-08-26 | 3M创新有限公司 | 制备包括层层自组装层的多层光学膜的方法以及制品 |
| CN107390300A (zh) * | 2009-11-18 | 2017-11-24 | 3M创新有限公司 | 多层光学膜 |
| CN107407755A (zh) * | 2015-03-17 | 2017-11-28 | 东丽株式会社 | 叠层膜、使用了该叠层膜的液晶显示器、触摸面板以及有机el显示器 |
| US20170368215A1 (en) * | 2012-08-28 | 2017-12-28 | Sensor Electronic Technology, Inc. | Storage Device Including Ultraviolet Illumination |
| WO2018144881A1 (en) * | 2017-02-03 | 2018-08-09 | UD Innovations, LLC | Apparatus and method for reducing dosage time in uv-c germicidal irradiation |
Family Cites Families (33)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA1316623C (en) | 1989-04-06 | 1993-04-20 | Pavel Stovicek | Biocidal surface coating and casting compositions based on quarternary ammonium salts of nalkyl x,x bis (4,4' hydroxyphenyl) and quarternary salts of polyglycols as backbones of resins |
| MY109261A (en) | 1991-09-27 | 1996-12-31 | Kerr Mc Gee Chem Corp | Attenuation of polymer substrate degradation due to ultraviolet radiation. |
| EP0537774B1 (en) | 1991-10-18 | 1998-01-07 | Kuraray Co., Ltd. | Antimicrobial polymerizable composition, the polymer and article obtained from the same |
| GB9316437D0 (en) | 1993-08-06 | 1993-09-22 | Harcros Chemicals Uk Limited | Zinc oxide and a process for making it |
| US6498683B2 (en) | 1999-11-22 | 2002-12-24 | 3M Innovative Properties Company | Multilayer optical bodies |
| JPH0866462A (ja) | 1994-08-27 | 1996-03-12 | Toppan Printing Co Ltd | 紫外線照射殺菌方法及び装置 |
| US6808658B2 (en) | 1998-01-13 | 2004-10-26 | 3M Innovative Properties Company | Method for making texture multilayer optical films |
| US6692694B1 (en) | 1998-11-09 | 2004-02-17 | Clean Earth Technologies, Llc | Method and apparatus for photosensitized ultraviolet decontamination of surfaces and aerosol clouds |
| US6440405B1 (en) | 1999-06-07 | 2002-08-27 | University Of Delaware | Quaternary ammonium functionalized dendrimers and methods of use therefor |
| US6449093B2 (en) | 1999-10-12 | 2002-09-10 | 3M Innovative Properties Company | Optical bodies made with a birefringent polymer |
| US6224898B1 (en) | 2000-03-23 | 2001-05-01 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Antimicrobial dendrimer nanocomposites and a method of treating wounds |
| US6579906B2 (en) | 2000-06-09 | 2003-06-17 | University Of Delaware | Dendrimer biocide-silver nanocomposites: their preparation and applications as potent antimicrobials |
| US20030103867A1 (en) | 2001-06-19 | 2003-06-05 | Welch Allyn, Inc. | Compact diagnostic testing device |
| DE10206759A1 (de) | 2002-02-19 | 2003-08-28 | Dragoco Gerberding Co Ag | Synergistische Mischungen von 1,2-Alkandiolen |
| US20040145289A1 (en) | 2003-01-27 | 2004-07-29 | 3M Innovative Properties Company | Phosphor based light sources having a non-planar short pass reflector and method of making |
| US20050058673A1 (en) | 2003-09-09 | 2005-03-17 | 3M Innovative Properties Company | Antimicrobial compositions and methods |
| US7206125B2 (en) * | 2003-11-10 | 2007-04-17 | Therma-Wave, Inc. | Infrared blocking filter for broadband Optical metrology |
| US20080090010A1 (en) | 2004-01-15 | 2008-04-17 | Newsouth Innovations Pty Limited | Hydrophobic Coating Composition |
| JP2005221867A (ja) | 2004-02-06 | 2005-08-18 | Canon Inc | 反射型光学素子 |
| US20060051384A1 (en) | 2004-09-07 | 2006-03-09 | 3M Innovative Properties Company | Antiseptic compositions and methods of use |
| US8198326B2 (en) | 2004-09-07 | 2012-06-12 | 3M Innovative Properties Company | Phenolic antiseptic compositions and methods of use |
| US7345137B2 (en) | 2004-10-18 | 2008-03-18 | 3M Innovative Properties Company | Modified copolyesters and optical films including modified copolyesters |
| US8623446B2 (en) | 2006-02-25 | 2014-01-07 | Metascape Llc | Ultraviolet activated antimicrobial surfaces |
| US8354160B2 (en) | 2006-06-23 | 2013-01-15 | 3M Innovative Properties Company | Articles having durable hydrophobic surfaces |
| US7585919B2 (en) | 2006-09-26 | 2009-09-08 | 3M Innovative Properties Company | Polymer derived from monomers with long-chain aliphatic, poly(oxyalkylene) and substrate-reactive groups |
| US8426778B1 (en) * | 2007-12-10 | 2013-04-23 | Novellus Systems, Inc. | Tunable-illumination reflector optics for UV cure system |
| WO2010078105A1 (en) | 2008-12-30 | 2010-07-08 | 3M Innovative Properties Company | Broadband reflectors, concentrated solar power systems, and methods of using the same |
| JP6345935B2 (ja) | 2010-10-28 | 2018-06-20 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 細菌付着を低減するための加工表面 |
| CN107073281B (zh) | 2014-10-28 | 2020-01-21 | 首尔伟傲世有限公司 | 用于uv杀菌的柔性制品 |
| JP6520211B2 (ja) * | 2015-03-02 | 2019-05-29 | セイコーエプソン株式会社 | 光源装置、照明装置、およびプロジェクター |
| EP3303116A4 (en) | 2015-06-03 | 2019-02-27 | Sharklet Technologies, Inc. | SURFACE OPOGRAPHS FOR THE NON-INFERTIVE COMBUSTION OF BIOADHESION |
| US10517974B2 (en) | 2016-04-07 | 2019-12-31 | Sensor Electronic Technology, Inc. | Ultraviolet surface illumination system |
| CN107783218B (zh) | 2016-08-31 | 2021-11-09 | 上海兆九光电技术有限公司 | 一种深紫外带通滤光片及其制备方法 |
-
2019
- 2019-09-25 US US17/280,447 patent/US12001036B2/en active Active
- 2019-09-25 WO PCT/IB2019/058145 patent/WO2020070589A1/en active Application Filing
- 2019-09-25 CN CN201980065898.1A patent/CN113272126B/zh active Active
- 2019-09-25 JP JP2021518446A patent/JP2022504163A/ja active Pending
- 2019-09-25 EP EP19868588.5A patent/EP3860847A4/en not_active Withdrawn
Patent Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5540978A (en) * | 1992-02-25 | 1996-07-30 | The Dow Chemical Compny | All-polymeric ultraviolet light reflecting film |
| CN102325650A (zh) * | 2008-12-30 | 2012-01-18 | 3M创新有限公司 | 包含含氟聚合物多层光学膜的建筑制品及其制备方法 |
| CN107390300A (zh) * | 2009-11-18 | 2017-11-24 | 3M创新有限公司 | 多层光学膜 |
| CN102918428A (zh) * | 2010-09-02 | 2013-02-06 | 奥林巴斯株式会社 | 反射防止膜、透镜、光学系统、物镜以及光学设备 |
| CN104737039A (zh) * | 2012-07-30 | 2015-06-24 | 3M创新有限公司 | 包括多层光学膜的对紫外线稳定的组件 |
| US20170368215A1 (en) * | 2012-08-28 | 2017-12-28 | Sensor Electronic Technology, Inc. | Storage Device Including Ultraviolet Illumination |
| CN104871035A (zh) * | 2012-12-20 | 2015-08-26 | 3M创新有限公司 | 制备包括层层自组装层的多层光学膜的方法以及制品 |
| US20150219805A1 (en) * | 2014-01-31 | 2015-08-06 | Corning Incorporated | Uv and duv expanded cold mirrors |
| CN107407755A (zh) * | 2015-03-17 | 2017-11-28 | 东丽株式会社 | 叠层膜、使用了该叠层膜的液晶显示器、触摸面板以及有机el显示器 |
| WO2018144881A1 (en) * | 2017-02-03 | 2018-08-09 | UD Innovations, LLC | Apparatus and method for reducing dosage time in uv-c germicidal irradiation |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US12001036B2 (en) | 2024-06-04 |
| EP3860847A4 (en) | 2022-06-29 |
| CN113272126A (zh) | 2021-08-17 |
| EP3860847A1 (en) | 2021-08-11 |
| JP2022504163A (ja) | 2022-01-13 |
| US20220003904A1 (en) | 2022-01-06 |
| WO2020070589A1 (en) | 2020-04-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN113272126B (zh) | 多层光学膜和包括该多层光学膜的制品 | |
| US20230011730A1 (en) | Ultraviolet-c radiation-protective films and methods of making the same | |
| EP3732514B1 (en) | Passive cooling articles having a fluoropolymer surface layer | |
| KR102062046B1 (ko) | 다층 광학 필름을 포함하는 uv 안정 조립체 | |
| US9829604B2 (en) | Method of making multilayer optical film comprising layer-by-layer self-assembled layers and articles | |
| TWI540744B (zh) | 寬頻反射器、集光式太陽能系統及其使用方法 | |
| US11298918B2 (en) | Visibly transparent broadband infrared mirror films having fluoropolymers and 7:1:1:7:1:1 layer thickness ratio | |
| US20090283133A1 (en) | Solar concentrating mirror | |
| US20090283144A1 (en) | Solar concentrating mirror | |
| CN113348389B (zh) | 紫外c光导 | |
| CN116419840A (zh) | 包括吸收层和紫外反射镜的多层制品、系统、装置和消毒方法 | |
| WO2012154793A2 (en) | Architectural article with photovoltaic cell and visible light-transmitting reflector | |
| JP2016530707A (ja) | 太陽エネルギー装置 | |
| US20240229227A1 (en) | Ultraviolet Radiation and Atomic Oxygen Barrier Films and Methods of Making and Using the Same | |
| US20240115746A1 (en) | Ultraviolet-c emitting disinfecting device and method of using the same | |
| CN117545514A (zh) | 包括具有吸收层和紫外反射镜的多层制品的设备、系统和进行消毒的方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |