JP2005221867A - 反射型光学素子 - Google Patents
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Abstract
【課題】紫外光に対して反射率が高く、バンド幅が広く、クラックや剥離がなく、更ににレーザー耐力が高いミラーを反射型光学素子を提供すること。
【解決手段】対象波長域で十分に透明な基板の両面に、基板の表面と裏面で互いに異なる光学特性を持った2層以上の異なる屈折率の膜から構成される多層膜を積層することで反射型光学素子を形成する。ここで、前記基板は、蛍石、合成石英、MgF2、LiFの何れかであり、多層膜の膜材料がGdF3、LaF3、NdF3、DyF3、Al2O3、SiO2、PdF3、MgF2、AlF3、NaF3、LiF3、CaF2、BaF2、SrF2、ErF3、CeF3、Na3AlF6、Na5Al3Fl4及びこれらの混合物又は化合物から選ばれた1つ以上の成分であることを特徴とする。
【選択図】図5
【解決手段】対象波長域で十分に透明な基板の両面に、基板の表面と裏面で互いに異なる光学特性を持った2層以上の異なる屈折率の膜から構成される多層膜を積層することで反射型光学素子を形成する。ここで、前記基板は、蛍石、合成石英、MgF2、LiFの何れかであり、多層膜の膜材料がGdF3、LaF3、NdF3、DyF3、Al2O3、SiO2、PdF3、MgF2、AlF3、NaF3、LiF3、CaF2、BaF2、SrF2、ErF3、CeF3、Na3AlF6、Na5Al3Fl4及びこれらの混合物又は化合物から選ばれた1つ以上の成分であることを特徴とする。
【選択図】図5
Description
本発明は、紫外光用の反射型光学素子に関するものである。
これまでにミラー等の反射型光学素子が、紫外光を用いた様々な製品の光学系で用いられている。一般的に紫外光用ミラーとしては、次のようなもの構造のものが知られている。
第1には、図1に示すような構造のものである。基板上にAlやAgの金属膜を積層し、そして、この金属膜の酸化等の劣化を防ぐためにSiO2
等の誘電体がオーバーコートされているものである。図6にこの光学素子の反射分光特性の一例を示す。図6から分かるように、ブロードな特性を示すために光の射角度依存が低い。しかし、反射率の最大値が90%程度と低い。又、金属膜は吸収率が高いため、レーザー耐力が低い。よって、実製品に搭載することが困難な場合が多い。
等の誘電体がオーバーコートされているものである。図6にこの光学素子の反射分光特性の一例を示す。図6から分かるように、ブロードな特性を示すために光の射角度依存が低い。しかし、反射率の最大値が90%程度と低い。又、金属膜は吸収率が高いため、レーザー耐力が低い。よって、実製品に搭載することが困難な場合が多い。
第2には、図2に示すような構造のものである。基板上に高屈折率誘電体膜と低屈折率誘電体膜をλ/4(λは対象波長)光学的膜厚で交互に積層させた、誘電体多層膜ミラーである。図7にこの光学素子の反射分光特性の一例を示す。図7から分かるように中心波長において反射率が95%と高い。しかし、バンド幅が非常に狭く、光に対する入射角度依存が高い。よって、広い波長帯域や入射角度幅のある場合の使用では適さない場合が多い。
そこで、第3として、図3に示すような構造のものがある。基板上に中心波長の異なる誘電体多層膜ミラーを順次積層させたものである。上記第1の例に比べ反射率が高く、第2の例に比べバンド幅が広いミラーが可能となる。
しかし、このミラーは積層数が70〜100層と第2のミラーの2倍膜厚になるため、膜吸収や表面散乱が大きくなり、所望の光学特性を得るには、成膜方式や成膜条件の自由度が下がる場合が多い。又、吸収が大きくなることでレーザー耐力の低下が問題となる場合が多い。又、膜の応力が大きくなるため、クラックや剥離の問題が生じる場合が多い。
そこで、これらのミラーの欠点を補うものとして、第4として特許文献1に示すような構造のものがある(図4参照)。これは、基板上に金属膜を積層し、その上に誘電体多層膜ミラーを積層したものである。この構造は、上記第1の例に比べ反射率が高く、第2の例に比べバンド幅が広いミラーが可能となる。又、誘電体多層膜ミラーの積層数が少ないため、上記第3のミラーのように膜厚が厚くなり、吸収や散乱、クラックや剥離の問題が少ない。又、誘電体多層膜により金属膜に届く光量が弱くなり、上記第1のミラーよりもレーザー耐力が向上する。
しかし、金属膜にレーザーが照射されることには変わりないので、光学素子に照射されるレーザーの光量が大きい場合や長時間の照射の場合はやはりレーザー劣化が生じる場合が多い。
上記のような従来技術では、紫外光に対して反射率が高く、バンド幅が広く、又、クラックや剥離がなく、更にレーザー耐力が高いミラーを製造することは困難であった。
本発明は、このような従来技術の問題点を克服し、紫外光に対して反射率が高く、バンド幅が広く、クラックや剥離がなく、更ににレーザー耐力が高いミラーを反射型光学素子を提供することを目的とする。
上記目的を達成するため、請求項1記載の発明は、対象波長域で十分に透明な基板の両面に、基板の表面と裏面で互いに異なる光学特性を持った2層以上の異なる屈折率の膜から構成される多層膜を積層することで反射型光学素子を形成することを特徴とする。
請求項2記載の発明は、請求項1記載の発明において、前記基板が、蛍石、合成石英、MgF2、LiFの何れかであり、多層膜の膜材料がGdF3、LaF3、NdF3、DyF3、Al2O3、SiO2、PdF3、MgF2、AlF3、NaF3、LiF3、CaF2、BaF2、SrF2、ErF3、CeF3、Na3AlF6、Na5Al3Fl4及びこれらの混合物又は化合物から選ばれた1つ以上の成分であることを特徴とする。
本発明に係る反射型光学素子は、紫外光に対して反射率が高く、バンド幅が広く、又、クラックや剥離がなく、更にレーザー耐力が高い特性示す。
以下に本発明の実施の形態を添付図面に基づいて説明する。
図5は本発明の実施の形態に係るミラーの構成図である。
基板1の表面に高屈折率誘電体膜と低屈折率誘電体膜をλ1/4の光学的膜厚分交互に積層し、裏面に高屈折率誘電体膜と低屈折率誘電体膜をλ2/4の光学的膜厚分交互に積層した構成となっている。このときλ1とλ2は異なる。これら誘電体膜は真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法、イオンアシスト法等の成膜方法で積層できる。これら膜の材料は、GdF3、LaF3、NdF3、DyF3、Al2O3、SiO2、PdF3、MgF2、AlF3、NaF3、LiF3、CaF2、BaF2、SrF2、ErF3、CeF3、Na3AlF6、Na5Al3Fl4及びこれらの混合物又は化合物から選ばれたものである。又、基板1はλ1とλ2の波長で十分に透明であるものを用い、蛍石、合成石英、MgF2、LiFの何れかである。
実施例1として、合成石英基板に高屈折率膜(H)としてNdF3、低屈折率膜(L)としてAlF3を用いて、基板表面にSub(0.27λL0.25λH)10(0.28λL0.26λH)10Airの膜構成、基板裏面にsub(0.30λL0.29λH)10(0.31λL0.29λH)10Airの膜構成の多層膜を真空蒸着法によりそれぞれ積層することにより形成されたミラーの45°入射光に対する反射率特性を図8に示す。λ=193.4nm。図7の第2のミラー例に比べてバンド幅が広がっている。又、フルーエンス15mJ/cm2のArFエキシマレーザーを300M plus照射した場合、従来のsubAlMgF2Airのミラーの反射率は10%程度低下したが、実施例1のミラーは低下しなかった。
実施例2として、蛍石基板に高屈折率膜(H)としてLaF3、低屈折率膜(L)としてAlF3を用いて、基板表面にSub(0.27λL0.25λH)10(0.28λL0.26λH)10Airの膜構成、基板裏面にSub(0.30λL0.29λH)10(0.31λL0.29λH)10Airの膜構成の多層膜を真空蒸着法によりそれぞれ積層することにより形成されたミラーの45°入射光に対する反射率特性を図9に示す。λ=157.6nm。又、フルーエンス10mJ/cm2のF2レーザーを300M plus照射した場合、従来のsub Al(AlF3/LaF3)3Airのミラーの反射率は11%程度低下したが、実施例2のミラーは低下しなかった。
本発明は、紫外光用の反射型光学素子に対して適用可能である。
1 誘電体保護膜
2 金属膜
3 基板
4 高屈折率誘電体膜と低屈折率誘電体膜の交互層
5 高屈折率誘電体膜と低屈折率誘電体膜の交互層
6 5と中心波長が異なる高屈折率誘電体膜と低屈折率誘電体膜の交互層
2 金属膜
3 基板
4 高屈折率誘電体膜と低屈折率誘電体膜の交互層
5 高屈折率誘電体膜と低屈折率誘電体膜の交互層
6 5と中心波長が異なる高屈折率誘電体膜と低屈折率誘電体膜の交互層
Claims (2)
- 対象波長域で十分に透明な基板の両面に、基板の表面と裏面で互いに異なる光学特性を持った2層以上の異なる屈折率の膜から構成される多層膜を積層することで形成されることを特徴とする反射型光学素子。
- 前記基板が、蛍石、合成石英、MgF2、LiFの何れかであり、多層膜の膜材料がGdF3、LaF3、NdF3、DyF3、Al2O3、SiO2、PdF3、MgF2、AlF3、NaF3、LiF3、CaF2、BaF2、SrF2、ErF3、CeF3、Na3AlF6、Na5Al3Fl4及びこれらの混合物又は化合物から選ばれた1つ以上の成分であることを特徴とする請求項1記載の紫外光用の反射型光学素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2004030956A JP2005221867A (ja) | 2004-02-06 | 2004-02-06 | 反射型光学素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2004030956A JP2005221867A (ja) | 2004-02-06 | 2004-02-06 | 反射型光学素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2005221867A true JP2005221867A (ja) | 2005-08-18 |
Family
ID=34997535
Family Applications (1)
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JP2004030956A Withdrawn JP2005221867A (ja) | 2004-02-06 | 2004-02-06 | 反射型光学素子 |
Country Status (1)
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JP (1) | JP2005221867A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009258406A (ja) * | 2008-04-17 | 2009-11-05 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 誘電体多層膜ミラーとその製造方法 |
JP2009265346A (ja) * | 2008-04-24 | 2009-11-12 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 接合光学部品とその製造方法 |
CN104730608A (zh) * | 2015-02-12 | 2015-06-24 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种远紫外宽带反射滤光片 |
CN111443418A (zh) * | 2020-05-12 | 2020-07-24 | 苏州江泓电子科技有限公司 | 一种用于70~100nm真空紫外波段的偏振多层膜及其制备方法 |
-
2004
- 2004-02-06 JP JP2004030956A patent/JP2005221867A/ja not_active Withdrawn
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