JP2010015186A5 - - Google Patents

Claims (12)

1. 光学部材の光学面に形成されて前記光学面に入射して反射した光線を低減させる反射防止膜であって、
   前記反射防止膜は、複数の層を重ね合わせて構成され、前記複数の層のうち、最上層がゾル−ゲル法を用いて形成された層であり、
   前記光学面に入射する波長域が４００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の前記光線に対して、
   前記光線の入射角が０度以上２５度以下のときは反射率が０．５％以下であり、且つ、
   前記光線の入射角が２５度より大きく６０度以下のときは反射率が３．５％以下であることを特徴とする反射防止膜。
2. 前記ゾル−ゲル法を用いて形成された層は、フッ化マグネシウムで構成されていることを特徴とする請求項１に記載の反射防止膜。
3. 前記複数の層は、酸化チタンと酸化ジルコニウムの混合物で構成される層を含むことを特徴とする請求項１または２に記載の反射防止膜。
4. 前記複数の層は、酸化アルミニウムで構成される層を含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の反射防止膜。
5. 前記光学面上に形成される第１層は酸化アルミニウムを真空蒸着法で形成し、前記第１層上に形成される第２層は酸化チタンと酸化ジルコニウムの混合物を真空蒸着法で形成し、前記第２層上に形成される第３層は酸化アルミニウムを真空蒸着法で形成し、前記第３層上に形成される第４層はフッ化マグネシウムをゾル−ゲル法で形成したことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の反射防止膜。
6. １．５２の屈折率を有する前記光学部材の前記光学面に形成される反射防止膜であって、
   前記光線の基準波長λを５５０ｎｍとするとき、
   前記光学面上に形成される屈折率が１．６５で且つ光学的膜厚が０．２７λの第１層と、
   前記第１層上に形成され、屈折率が２．１２で且つ光学的膜厚が０．０７λの第２層と、
   前記第２層上に形成され、屈折率が１．６５で且つ光学的膜厚が０．３０λの第３層と、
   前記第３層上に形成され、屈折率が１．２５で且つ光学的膜厚が０．２６λの第４層とから構成されることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の反射防止膜。
7. 前記光学面が平面状若しくは曲面状に形成された前記光学部材と、前記光学面に形成された請求項１〜６のいずれか１項に記載の反射防止膜とから構成されることを特徴とする光学素子。
8. 物体と像面との間に配設された光学素子から構成され、
   前記光学素子が有する光学面のうち、少なくとも１面に請求項１〜６のいずれか１項に記載の反射防止膜が形成されていることを特徴とする光学系。
9. 複数の光学面を有して構成され、
   前記光学面のうち、ｎ番目のゴースト発生面とｍ番目のゴースト発生面の少なくとも一方に請求項１〜６のいずれか１項に記載の反射防止膜が形成され、
   前記ｎ番目のゴースト発生面での反射率をＲnとし、前記ｍ番目のゴースト発生面での反射率をＲmとしたとき、次式
   Ｒn × Ｒm ≦ ０．１０［％］
   を満足することを特徴とする光学系。
10. 波長域が４００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の光線に対して使用されることを特徴とする請求項８または９に記載の光学系。
11. 結像光学系として用いられることを特徴とする請求項８〜１０のいずれか１項に記載の光学系。
12. 観察光学系として用いられることを特徴とする請求項８〜１０のいずれか１項に記載の光学系。