TW201312167A - 鏡片及具有該鏡片的鏡頭模組 - Google Patents

Abstract

一種鏡片，其包括光學部和環繞該光學部的非光學部。該光學部用於允許光線穿透以實現光學成像，該光學部具有相對的第一表面和第二表面。該第一表面的曲率大於零，且該第一表面沉積有抗反射膜。該抗反射膜在400nm-850nm的波長範圍內的反射率小於2%。該光學部在420nm-650nm的波長範圍內反射率小於2%。此外，本發明還涉及一種具有上述鏡片的鏡頭模組。

Description

鏡片及具有該鏡片的鏡頭模組

本發明涉及一種鏡片及鏡頭模組，尤其涉及一種具有抗反射膜的鏡片及具有具有該鏡片的鏡頭模組。

為了減少眩光的產生，一般會在鏡片表面沉積抗反射膜。先前的一種抗反射膜的反射光譜曲線如圖6所示。

鏡片光學部的表面一般為曲面，例如球面或者非球面。當抗反射膜沉積在表面為曲面的鏡片時，鏡片光學部的中心區域和邊緣區域的反射光譜曲線常常會不一樣，一般邊緣區域的反射光譜曲線會向短波偏移，如圖7所示。圖7中，實線代表中心區域的反射光譜曲線，虛線代表邊緣區域的反射光譜曲線。從圖7可以看出，邊緣區域對於波長大於450nm的光線的反射率大於5%。這樣會導致鏡片的抗反射效果變差，從而會在鏡頭內部產生較嚴重眩光，進而影響鏡頭的成像品質。

有鑒於此，有必要提供一種抗反射效果較好的鏡片及鏡頭模組。

一種鏡片，其包括光學部和環繞該光學部的非光學部。該光學部用於允許光線穿透以實現光學成像，該光學部具有相對的第一表面和第二表面。該第一表面的曲率大於零，且該第一表面沉積有抗反射膜。該抗反射膜在400nm-850nm的波長範圍內的反射率小於2%。該光學部在420nm-650nm的波長範圍內反射率小於2%。

一種鏡頭模組，其包括鏡筒及上述的鏡片，該鏡片收容在該鏡筒內。

通過採用上述抗反射膜，該鏡片光學部在420nm-650nm的波長範圍內反射率小於2%，從而減少具有該鏡片的鏡頭模組的眩光，進而提升鏡頭模組的成像品質。

下面將結合附圖及實施方式對本發明作進一步詳細說明。

請參閱圖1，本發明第一實施方式的鏡片10包括光學部12，環繞該光學部12的非光學部14及形成在光學部12表面的抗反射膜16。該光學部12用於允許光線穿透以實現光學成像。光學部12包括相對的第一表面121和第二表面122，非光學部14包括相對的第三表面141和第四表面142，第一表面121與第三表面141連接，第三表面141與第四表面142連接。在本實施方式中，鏡片10為凸透鏡。第一表面121和第二表面122均為非球面，第一表面121和第二表面122的曲率均大於零。第三表面141和第四表面142均為平面。第一至第四表面121-122，141-142均沉積有抗反射膜16。

抗反射膜16由高折射率材料的薄膜和低折射率材料的薄膜交替疊加而成。在本實施方式中，抗反射膜16由8層薄膜依次堆疊而成，高折射率材料為二氧化鈦，低折射率材料為二氧化矽。抗反射膜16的具體結構如表1所示，其中，第一薄膜直接形成第一至第四表面121-122，141-142。

表1

抗反射膜16的反射光譜曲線如圖2所示。從圖2可見，該抗反射膜16在400nm-850nm的波長範圍內的反射率小於2%。光學部12的中心區域123和邊緣區域124的反射光譜曲線如圖3所示，其中，實線代表中心區域123的反射光譜曲線，虛線代表邊緣區域124的反射光譜曲線。從圖3可以看出，中心區域123和邊緣區域124的反射光譜曲線在420nm-650nm的波長範圍內反射率小於2%。對於一般相機，波長範圍在420nm-650nm的光才參與成像，其餘波段的光線基本上都被濾光片濾掉。故，鏡片10具有較好的抗反射效果，可以減少鏡頭模組的眩光。

可以理解，高低折射率材料及其折射率可參考以下材料選擇：氟化鎂(1.38)、氟化釷(1.47)、冰晶石(1.35)、二氧化矽(1.47)、氧化鋁(1.63)、氧化鉿(1.85)、五氧化二鉭(2.2)、氧化鈮(2.19)、硫化鋅(2.27)、二氧化鈦(2.41)、矽(3.5)、鍺(4.0)以及碲化鉛(5.0)。

可以理解，抗反射膜16也可以僅形成在第一表面121或僅形成在第一表面121及第三表面141。

請參閱圖4，本發明第二實施方式的鏡頭模組20包括鏡筒22及鏡片10。鏡筒22大體呈圓筒狀，內部開設有收容空間222，鏡片10收容在鏡筒22的收容空間222內。鏡頭模組20由於採用了上述鏡片10，可以減少眩光。

對於第一表面121、第二表面122曲率更大的鏡片10，可以採用更寬頻帶的抗反射膜16，以使得中心區域123和邊緣區域124的反射光譜曲線在420nm-650nm的波長範圍內反射率小於2%。例如，如表2所示的本發明第三實施方式的抗反射膜16，其中，第一薄膜直接形成在第一至第四表面121-122，141-142。

表2

表2的抗反射膜16的反射光譜曲線如圖5所示。從圖5可見，該抗反射膜16在400nm-1000nm的波長範圍內的反射率小於2%。

綜上所述，本發明確已符合發明專利之要件，遂依法提出專利申請。惟，以上所述者僅為本發明之較佳實施方式，自不能以此限制本案之申請專利範圍。舉凡熟悉本案技藝之人士爰依本發明之精神所作之等效修飾或變化，皆應涵蓋於以下申請專利範圍內。

10．．．鏡片

12．．．光學部

14．．．非光學部

16．．．抗反射膜

121．．．第一表面

122．．．第二表面

123．．．中心區域

124．．．邊緣區域

141．．．第三表面

142．．．第四表面

20．．．鏡頭模組

22．．．鏡筒

222．．．收容空間

圖1是本發明第一實施方式的鏡片的剖面示意圖。

圖2是圖1的抗反射膜的反射光譜曲線。

圖3是圖1的鏡片的反射光譜曲線。

圖4是本發明第二實施方式的鏡頭模組的剖面示意圖。

圖5是第三實施方式的抗反射膜的反射光譜曲線。

圖6是先前的一種抗反射膜的反射光譜曲線。

圖7是先前的一種鏡片的反射光譜曲線。

10．．．鏡片

12．．．光學部

14．．．非光學部

16．．．抗反射膜

121．．．第一表面

122．．．第二表面

123．．．中心區域

124．．．邊緣區域

141．．．第三表面

142．．．第四表面

Claims (10)

1. 一種鏡片，該鏡片包括光學部和環繞該光學部的非光學部，該光學部用於允許光線穿透以實現光學成像，該光學部具有相對的第一表面和第二表面，該第一表面的曲率大於零，且該第一表面沉積有抗反射膜，其改良在於，該抗反射膜在400nm-850nm的波長範圍內的反射率小於2%，該光學部在420nm-650nm的波長範圍內反射率小於2%。
2. 如申請專利範圍第1項所述之鏡片，其中，該抗反射膜在400nm-1000nm的波長範圍內的反射率小於2%。
3. 如申請專利範圍第1項所述之鏡片，其中，該抗反射膜由高折射率材料的薄膜和低折射率材料的薄膜交替疊加而成。
4. 如申請專利範圍第3項所述之鏡片，其中，該抗反射膜包括依次沉積在該第一表面的第一至第八薄膜，所述第一至第八薄膜分別為：以二氧化鈦為材料的膜厚為8.84nm的第一薄膜、以二氧化矽為材料的膜厚為46.07nm的第二薄膜、以二氧化鈦為材料的膜厚為27.57nm的第三薄膜、以二氧化矽為材料的膜厚為20.39nm的第四薄膜、以二氧化鈦為材料的膜厚為75.34nm的第五薄膜、以二氧化矽為材料的膜厚為13.68nm的第六薄膜、以二氧化鈦為材料的膜厚為29.06nm的第七薄膜以及以二氧化矽為材料的膜厚為100.33nm的第八薄膜。
5. 如申請專利範圍第3項所述之鏡片，其中，該抗反射膜包括依次沉積在該第一表面的第一至第八薄膜，所述第一至第八薄膜分別為：以二氧化鈦為材料的膜厚為13.80nm的第一薄膜、以二氧化矽為材料的膜厚為43.70nm的第二薄膜、以二氧化鈦為材料的膜厚為37.65nm的第三薄膜、以二氧化矽為材料的膜厚為15.97nm的第四薄膜、以二氧化鈦為材料的膜厚為90.79nm的第五薄膜、以二氧化矽為材料的膜厚為18.81nm的第六薄膜、以二氧化鈦為材料的膜厚為30.13nm的第七薄膜以及以二氧化矽為材料的膜厚為109.95nm的第八薄膜。
6. 如申請專利範圍第1項所述之鏡片，其中，該第一表面為非球面。
7. 如申請專利範圍第1項所述之鏡片，其中，該第二表面進一步沉積有該抗反射膜。
8. 如申請專利範圍第1項所述之鏡片，其中，該非光學部包括相對的第三表面和第四表面，該第三表面與該第一表面相連接，該第四表面與該第二表面相連接，該第三表面進一步沉積有該抗反射膜。
9. 如申請專利範圍第8項所述之鏡片，其中，該第二表面和該第四表面進一步沉積有該抗反射膜。
10. 一種鏡頭模組，其包括鏡筒及申請專利範圍第1-9項任一項所述之鏡片，該鏡片收容在該鏡筒內。