JP6549458B2 - 反射防止膜、光学素子、及び眼科装置 - Google Patents
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Description
本発明は、可視光から近赤外光までの帯域の光線の反射を抑制する反射防止膜、その反射防止膜を備えた光学素子、及びその光学素子を備えた眼科装置に関する。
従来から、入射する光線の反射を低減するため、レンズ等の光学素子の表面に、反射防止膜を設けたものが知られている。このような反射防止膜として、最外層側に、ＭｇＦ2を積層した技術が開示されている（例えば、特許文献１、２参照）。
しかしながら、特許文献１、２に記載の反射防止膜は、３５０〜７００ｎｍ程度の可視域の光線に対して低い反射率特性を示すことは開示があるが、可視域から近赤外域までの広い帯域に対する反射率については開示がない。また、反射防止膜では、膜材料の組み合わせによっては入射光線が減衰される現象が発生することがあり、反射防止の効果を十分に奏することができないことや、反射防止膜や光学部品の生産性に影響することがあった。
本発明は、上記の事情に鑑みて為されたもので、可視域及び近赤外域の、より広い帯域に対して、優れた反射防止の効果を奏し、生産性を向上させることを目的とする。
上記の目的を達成するため、本願に係る反射防止膜は、基板上に形成される反射防止膜であって、少なくとも９層が積層されてなり、最外層に、基板から順にＳｉＯ2からなる層と、ＭｇＦ2からなる層とを有することを特徴とする。
また、本願に係る光学素子は、上述のような反射防止膜を備えることを特徴とする。
また、本願に係る眼科装置は、上述のような光学素子を備えることを特徴とする。
本発明によれば、可視域及び近赤外域の、より広い帯域に対して、優れた反射防止の効果を奏する反射防止膜を提供することができる。また、成膜の際の反射防止膜の品質も向上して、生産性を向上させることができる。また、このような反射防止膜を備えることで、可視域及び近赤外域の、より広い帯域に対して、優れた反射防止の効果を奏する光学素子、及びこの光学素子を備えた眼科装置を提供することができるとともに、光学素子及び眼科装置の生産性を向上させることもできる。
本発明の反射防止膜は、基板上に形成され、少なくとも９層が積層された構成を有している。そして、本発明の反射防止膜は、最外層に、基板から順にＳｉＯ2からなる層（以下、「ＳｉＯ2層」という）と、ＭｇＦ2からなる層（以下、「ＭｇＦ2層」という）とを有している。反射防止膜の成膜方法としては、特に限定されることはなく、真空蒸着法、ＩＡＤ成膜法、イオンプレーティング成膜法、各種スパッタリング法等を用いることができる。
従来のように最外層側に、基板側から順にＮｂ2Ｏ5層とＭｇＦ2層を積層した膜構成では、成膜不良等を生じることがあり、入射光が減衰される、すなわち、入射光が吸収される現象が発生することがあった。この現象は、５回の成膜作業で２回程度の頻度で発生し、光学部品の生産性に影響していた。
そこで、発明者は、最外層に、基板側から順に、Ｎｂ2Ｏ5層とＭｇＦ2層とを積層した膜構成において、Ｎｂ2Ｏ5層とＭｇＦ2層との間に、ＳｉＯ2層を積層することを試みたところ、成膜を良好に行うことができ、入射光が減衰する現象の発生を低減できることを知見した。さらに、反射防止膜が８層では可視域若しくは近赤外域に対する良好な反射防止効果が得られないが、反射防止膜を９層とすることで、可視域及び近赤外域の広い帯域に対する反射防止効果が得られることを知見し、本願を発明するに至った。
本発明の反射防止膜は、上述のような構成を有することで、可視域だけでなく、近赤外域を含む、より広い帯域に対して、優れた反射防止の効果を奏することが可能となり、反射防止膜の品質も向上して、生産性を向上させることができる。したがって、本発明の反射防止膜は、可視光や近赤外光を入射させる光学素子、及び可視光や近赤外光で検査等を行う眼科装置に、好適に用いることができる。
本発明の反射防止膜は、少なくとも９層を有していればよく、使用目的や使用する装置の機種等に応じて、１０層以上とすることもできる。例えば、最外層にＭｇＦ2層を配置し、ＭｇＦ2層の内側（基板側）に、基板側から順に、所定以上の屈折率を有する高屈折率物質（Ｎｂ2Ｏ5など）からなる層と、高屈折率物質よりも屈折率の低い低屈折率物質（ＳｉＯ2）からなる層の組を、少なくとも４組設けて反射防止膜を構成する。１０層以上とする場合は、このような層の組を５組以上配置したり、基板側に低屈折率物質（ＳｉＯ2）からなる層を追加したりすることで実現できる。
なお、本明細書では、「高屈折率物質」とは、所定以上の屈折率（例えば、ｄ線に対する屈折率が１．５以上。ただし、これに限定されない）を有する物質をいう。また、「低屈折率物質」とは、所定未満の屈折率（例えば、ｄ線に対する屈折率が１．５未満。ただし、これに限定されない）を有する物質をいう。
また、本発明の反射防止膜は、外層に防汚膜等の他の機能を有する膜を成膜する場合、ＭｇＦ2層の前記基板とは反対側に、ＳｉＯ2層を、さらに有することが好ましい。この構成により、防汚膜等を設けた場合でも、反射防止膜の光学性能が低減されるのを抑制することができ、優れた反射防止効果を実現することができる。
また、本発明の反射防止膜は、可視域及び近赤外域の８００ｎｍ〜９００ｎｍに対し、１．０％以下、より好ましくは０．５％以下の反射率を実現することが好ましい。この条件を満足することで、発光波長８４０ｎｍ近傍の低コヒーレンス光源を用いたＳＤ−ＯＣＴのような光干渉計測を利用した３次元眼底像撮影装置等の眼科装置のレンズの反射防止膜として特に好適に用いることができる。
また、本発明の反射防止膜は、可視域及び近赤外域の１，０００ｎｍ〜１，１００ｎｍに対し、１．０％以下、より好ましくは０．５％以下の低反射率を実現することが好ましい。この条件を満足することで、発光波長1μｍ近傍の波長掃引光源を用いたＳＳ−ＯＣＴのような光干渉計測を利用した３次元眼底像撮影装置等の眼科装置のレンズの反射防止膜として特に好適に用いることができる。
また、上述のような反射防止膜を備えることで、本発明の光学素子及び本発明の眼科装置は、可視域及び近赤外域における、より広い帯域に対して優れた反射防止の効果を奏することが可能となる。その結果、光学素子及び眼科装置の生産性を向上させることもできる。
以下、本発明に係る反射防止膜を備えた光学素子、及び眼科装置の実施例について、図面を参照しながら説明する。
（実施例１）
本発明の実施例１に係る反射防止膜を備えた光学素子について、図１、図２を参照しながら説明する。図１は、本発明の実施例１に係る反射防止膜１０を備えた光学素子１の概略構成を示す断面図である。図２は、実施例１に係る反射防止膜１０の光学特性を示すグラフであり、より詳細には可視域及び近赤外域の光線に対する反射率分布図である。
本発明の実施例１に係る反射防止膜を備えた光学素子について、図１、図２を参照しながら説明する。図１は、本発明の実施例１に係る反射防止膜１０を備えた光学素子１の概略構成を示す断面図である。図２は、実施例１に係る反射防止膜１０の光学特性を示すグラフであり、より詳細には可視域及び近赤外域の光線に対する反射率分布図である。
図１に示すように、本発明の実施例１に係る光学素子１は、基板２上に、９層からなる反射防止膜１０が配置された構成を備えている。
基板２として、実施例１では、１．６以上の屈折率を有するガラス基板の「ＴＩＨ１１」（株式会社オハラ製）を用いている。なお、基板２が「ＴＩＨ１１」に限定されることはなく、「ＴＩＨ１１」と同様の光学性能を有するものであれば、他の硝材に実施例１のような反射防止膜１０を設けることができる。
反射防止膜１０は、図１に示すように、基板２側から順に、Ｎｂ2Ｏ5（五酸化二ニオブ）からなる第１層１１、ＳｉＯ2（二酸化ケイ素）からなる第２層１２、Ｎｂ2Ｏ5からなる第３層１３、ＳｉＯ2からなる第４層１４、Ｎｂ2Ｏ5からなる第５層１５、ＳｉＯ2からなる第６層１６、Ｎｂ2Ｏ5からなる第７層１７、ＳｉＯ2からなる第８層１８、及びＭｇＦ2（二フッ化マグネシウム）からなる第９層１９を積層した構成を備えている。第９層１９の外側（基板２とは反対側）は、空気層となっている。この順に各層を成膜することで、可視域から近赤外域の８００ｎｍ〜９００ｎｍの帯域に対する反射防止膜１０を形成している。
実施例１の反射防止膜１０の層構成、各層の物質名、ｄ線に対する屈折率、及び物理的膜厚を下記表１に示す。
表１に示すように、実施例１の反射防止膜１０は、基板２側から、屈折率が２．３以上で高屈折率の物質（Ｎｂ2Ｏ5）からなる層と、屈折率が１．５以下で低屈折率の物質（ＳｉＯ2）からなる層との組を４組積層し、基板２から最も離れた最外層にＭｇＦ2層を積層した９層構造を備える。
反射防止膜１０を９層構造とすることで、可視域及び近赤外域に対する優れた反射防止性能を得ることができる。また、最外層側のＮｂ2Ｏ5からなる第７層１７と、ＭｇＦ2からなる第９層１９との間に、ＳｉＯ2からなる第８層１８を配置することで、成膜を良好に行うことが可能となり、可視域から入射光の減衰を抑制すること、すなわち入射光の吸収を抑制することができる。したがって、反射防止膜１０及び光学素子１の品質が向上して、これらの生産性を向上させることができる。
なお、高屈折率物質として、Ｎｂ（ニオブ）に代えて、Ｔａ（タンタル）、Ｔｉ（チタン）、Ｚｒ（ジルコニウム）等を用いることができる。より具体的には、高屈折率物質として、Ｎｂ2Ｏ5以外にも、Ｔａ2Ｏ5（酸化タンタル）、ＴｉＯ2（酸化チタン）、ＺｒＯ2（酸化ジルコニウム）等を用いることができる。
実施例１では、成膜手順として、Ｎｂ2Ｏ5又はＳｉＯ2からなる第１層１１〜第８層１８をＩＡＤ成膜法で成膜し、最外層のＭｇＦ2からなる第９層１９を真空蒸着法により成膜した。この成膜手順により、可視域及び近赤外域の帯域に対して、低い反射率を実現することができる。また、化学的にも物理的にも各層の結合性が向上するため、成膜の安定性がより向上し、反射防止膜１０及び光学素子１の品質が向上し、これらの生産性を向上させることが可能となる。
なお、成膜手順が上記手順に限定されることはなく、すべての層をＩＡＤ成膜法によって成膜することもできるし、すべての層を真空蒸着法で成膜することもできる。また、真空蒸着法、ＩＡＤ成膜法以外にも、イオンプレーティング成膜法、各種スパッタリング法等を用いて成膜することや、これらの成膜方法を組み合わせて成膜することもできる。
上述のような構成の反射防止膜１０を備えた光学素子１の光学特性（反射率分布図）を、図２に示す。図２からわかるように、実施例１の反射防止膜１０では、可視域（４２０ｎｍ〜８００ｎｍ）から近赤外域の８００ｎｍ〜９００ｎｍの帯域において、０．５％以下の低反射率を実現できた。
（実施例２）
次に、実施例２の反射防止膜を備えた光学素子について説明する。実施例２の光学素子は、図１に示す実施例１の光学素子１と同一の基本構成を備えているが、反射防止膜の外層に防汚層を設けるため、ＭｇＦ2からなる第９層１９の外側に、ＳｉＯ2層をさらに積層して、反射防止膜を１０層構造としている。
次に、実施例２の反射防止膜を備えた光学素子について説明する。実施例２の光学素子は、図１に示す実施例１の光学素子１と同一の基本構成を備えているが、反射防止膜の外層に防汚層を設けるため、ＭｇＦ2からなる第９層１９の外側に、ＳｉＯ2層をさらに積層して、反射防止膜を１０層構造としている。
実施例２の反射防止膜の層構成、各層の物質名、ｄ線に対する屈折率、及び物理的膜厚を下記表２に示す。実施例２では、ガラス基板「ＴＩＨ１１」上に、下記表２のような物質からなる層を積層することで、可視域から近赤外域の８００ｎｍ〜９００ｎｍの帯域に対する反射防止膜を形成している。
防汚層は、指紋や汚れ等の付着を防止するために、対物レンズ等の光学素子の表面に設けられる。実施例２では、反射防止膜のＭｇＦ2層の外層にＳｉＯ2層を積層し、このＳｉＯ2層の外層に防汚層を積層している。防汚層の材料及び成膜方法としては、例えば、特開２０１３−１５６５２３公報に記載の材料や成膜方法を用いることができるが、これに限定されることはなく、公知の他の材料や成膜方法を用いることもできる。
実施例２のようにＭｇＦ2層と防汚層との間にＳｉＯ2層を配置することにより、防汚層によって反射防止膜の反射防止効果が阻害されることがなく、可視域及び近赤外域の８００ｎｍ〜９００ｎｍの帯域に対する優れた反射防止効果を実現することができる。
実施例２の反射防止膜の光学特性（反射率分布図）を、図３に示す。図３からわかるように、実施例２の反射防止膜では、可視域（４２０ｎｍ〜８００ｎｍ）及び近赤外域の８００ｎｍ〜９００ｎｍの帯域において、０．５％以下の低反射率を実現できた。
（実施例３）
次に、実施例３の反射防止膜を備えた光学素子について説明する。実施例３の光学素子１は、基板２として「ＴＩＨ１１」に代えて、これよりも屈折率の低い「ＢＡＬ３５」（株式会社オハラ製のガラス基板）を用い、各層の物理的膜厚を変えたこと以外は、図１に示す実施例１の光学素子１と同一の基本構成を備え、９層構造の反射防止膜を備えている。この場合も、基板２が「ＢＡＬ３５」に限定されることはなく、「ＢＡＬ３５」と同様の光学性能を有するものであれば、他の硝材に実施例３のような反射防止膜を設けることができる。
次に、実施例３の反射防止膜を備えた光学素子について説明する。実施例３の光学素子１は、基板２として「ＴＩＨ１１」に代えて、これよりも屈折率の低い「ＢＡＬ３５」（株式会社オハラ製のガラス基板）を用い、各層の物理的膜厚を変えたこと以外は、図１に示す実施例１の光学素子１と同一の基本構成を備え、９層構造の反射防止膜を備えている。この場合も、基板２が「ＢＡＬ３５」に限定されることはなく、「ＢＡＬ３５」と同様の光学性能を有するものであれば、他の硝材に実施例３のような反射防止膜を設けることができる。
実施例３の反射防止膜の層構成、各層の物質名、ｄ線に対する屈折率、及び物理的膜厚を下記表３に示す。実施例３では、ガラス基板の「ＢＡＬ３５」上に、下記表３のような物質からなる層を積層することで、可視域から近赤外域の８００ｎｍ〜９００ｎｍの帯域に対する反射防止膜を形成している。
実施例３の反射防止膜の光学特性（反射率分布図）を、図４に示す。図４からわかるように、実施例３の反射防止膜では、可視域及び近赤外域の８００ｎｍ〜９００ｎｍの帯域において、０．５％以下の低反射率を実現できた。
（実施例４）
次に、実施例４の反射防止膜を備えた光学素子について説明する。実施例４の光学素子は、図１に示す実施例１の光学素子１と同一の基本構成を備えているが、基板２とＮｂ2Ｏ5層（図１の第１層１１）との間に、ＳｉＯ2層を配置して、反射防止膜を１０層構造としている。
次に、実施例４の反射防止膜を備えた光学素子について説明する。実施例４の光学素子は、図１に示す実施例１の光学素子１と同一の基本構成を備えているが、基板２とＮｂ2Ｏ5層（図１の第１層１１）との間に、ＳｉＯ2層を配置して、反射防止膜を１０層構造としている。
実施例４の反射防止膜の層構成、各層の物質名、ｄ線に対する屈折率、及び物理的膜厚を下記表４に示す。実施例４では、ガラス基板の「ＴＩＨ１１」上に、下記表４のような物質からなる層を積層することで、可視光から近赤外光の１，０００ｎｍ〜１，１００ｎｍの帯域で反射防止膜を形成している。
実施例４の反射防止膜の光学特性（反射率分布図）を、図５に示す。図５からわかるように、実施例４の反射防止膜では、可視域（４２０ｎｍ〜７２０ｎｍ）及び近赤外域の１，０００ｎｍ〜１，１００ｎｍの帯域において、０．５％以下の低反射率を実現できた。
（実施例５）
次に、実施例５の反射防止膜を備えた光学素子について説明する。実施例５の光学素子は、実施例４の光学素子と同一の基本構成を備えているが、反射防止膜の外装に防汚層を設けるため、ＭｇＦ2層の外側に、ＳｉＯ2層をさらに積層して、反射防止膜を１１層構造としている。
次に、実施例５の反射防止膜を備えた光学素子について説明する。実施例５の光学素子は、実施例４の光学素子と同一の基本構成を備えているが、反射防止膜の外装に防汚層を設けるため、ＭｇＦ2層の外側に、ＳｉＯ2層をさらに積層して、反射防止膜を１１層構造としている。
実施例５の反射防止膜の層構成、各層の物質名、ｄ線に対する屈折率、及び物理的膜厚を下記表５に示す。実施例５では、ガラス基板の「ＴＩＨ１１」上に、下記表５のような物質からなる層を積層することで、可視光から近赤外光の１，０００ｎｍ〜１，１００ｎｍの帯域で反射防止膜を形成している。
実施例５の反射防止膜の光学特性（反射率分布図）を、図６に示す。図６からわかるように、実施例５の反射防止膜では、可視域（４２０ｎｍ〜７２０ｎｍ）及び近赤外域の１，０００ｎｍ〜１，１００ｎｍの帯域において、０．５％以下の低反射率を実現できた。
（実施例６）
次に、実施例６の反射防止膜を備えた光学素子について説明する。実施例６の光学素子は、反射防止膜の各層の物理的膜厚を変えたこと以外は、実施例３の光学素子と同様の基本構成を備えており、反射防止膜は９層構造である。
次に、実施例６の反射防止膜を備えた光学素子について説明する。実施例６の光学素子は、反射防止膜の各層の物理的膜厚を変えたこと以外は、実施例３の光学素子と同様の基本構成を備えており、反射防止膜は９層構造である。
実施例６の反射防止膜の層構成、各層の物質名、ｄ線に対する屈折率、及び物理的膜厚を下記表６に示す。実施例６では、ガラス基板の「ＢＡＬ３５」上に、下記表６のような物質からなる層を積層することで、可視光から近赤外光の１，０００ｎｍ〜１，１００ｎｍの帯域で反射防止膜を形成している。
実施例６の反射防止膜の光学特性（反射率分布図）を、図７に示す。図７からわかるように、実施例６の反射防止膜では、可視域（４２０ｎｍ〜７２０ｎｍ）及び近赤外域の１，０００ｎｍ〜１，１００ｎｍの帯域において、０．５％以下の低反射率を実現できた。
（比較例１）
実施例１に対する比較例１として、８層の反射防止膜を有する光学素子を作製した。具体的には、図１に示す実施例１の最も基板２側の第１層１１のＮｂ2Ｏ5層を設けずに、第２層１２〜第９層１９と同様の構成の８層のみをガラス基板の「ＴＩＨ１１」上に成膜して比較例１の光学素子を作製した。可視域から近赤外域までの帯域における比較例１の反射防止膜の光学特性と、実施例１の反射防止膜の光学特性とを比較したグラフ（反射率分布図）を、図８に示す。図８中、細線が比較例１の反射防止膜の光学特性であり、太線が実施例１の反射防止膜の光学特性である。
実施例１に対する比較例１として、８層の反射防止膜を有する光学素子を作製した。具体的には、図１に示す実施例１の最も基板２側の第１層１１のＮｂ2Ｏ5層を設けずに、第２層１２〜第９層１９と同様の構成の８層のみをガラス基板の「ＴＩＨ１１」上に成膜して比較例１の光学素子を作製した。可視域から近赤外域までの帯域における比較例１の反射防止膜の光学特性と、実施例１の反射防止膜の光学特性とを比較したグラフ（反射率分布図）を、図８に示す。図８中、細線が比較例１の反射防止膜の光学特性であり、太線が実施例１の反射防止膜の光学特性である。
図８のグラフから、Ｎｂ2Ｏ5層を設けずに８層からなる比較例１の反射防止膜と比較して、Ｎｂ2Ｏ5層を設けた９層からなる実施例１の反射防止膜は、可視域から近赤外域までの帯域に対して優れた反射防止の効果を奏することがわかる。
（比較例２）
実施例２に対する比較例２として、実施例２の反射防止膜の構成において、最も基板側の第１層のＮｂ2Ｏ5層を設けずに、９層の反射防止膜を成膜した。つまり、比較例２の反射防止膜は、ＭｇＦ2層までが８層である。可視域から近赤外域までの帯域における比較例２の反射防止膜の光学特性と、実施例２の反射防止膜の光学特性とを比較したグラフ（反射率分布図）を、図９に示す。図９中、細線が比較例２の反射防止膜の光学特性であり、太線が実施例２の反射防止膜の光学特性である。
実施例２に対する比較例２として、実施例２の反射防止膜の構成において、最も基板側の第１層のＮｂ2Ｏ5層を設けずに、９層の反射防止膜を成膜した。つまり、比較例２の反射防止膜は、ＭｇＦ2層までが８層である。可視域から近赤外域までの帯域における比較例２の反射防止膜の光学特性と、実施例２の反射防止膜の光学特性とを比較したグラフ（反射率分布図）を、図９に示す。図９中、細線が比較例２の反射防止膜の光学特性であり、太線が実施例２の反射防止膜の光学特性である。
図９のグラフから、全体では９層であるが、基板側にＮｂ2Ｏ5層を設けないことでＭｇＦ2層までが８層である比較例２の反射防止膜と比較して、Ｎｂ2Ｏ5層を設けて１０層（ＭｇＦ2層までが９層）からなる実施例２の反射防止膜は、可視域から近赤外域までの帯域に対して優れた反射防止の効果を奏することがわかる。
（その他の比較例）
その他の比較例として、実施例１〜実施例６の光学素子の反射防止膜の層構成において、最外層側のＭｇＦ2層とＮｂ2Ｏ5層との間にＳｉＯ2層を設けずに反射防止膜を成膜して光学素子を作製した。これらの比較例の光学素子では、５回の成膜作業で２回程度の頻度で入射光が吸収される現象が発生した。これに対して、実施例１〜実施例６の光学素子では、このような現象が発生しなかった。
その他の比較例として、実施例１〜実施例６の光学素子の反射防止膜の層構成において、最外層側のＭｇＦ2層とＮｂ2Ｏ5層との間にＳｉＯ2層を設けずに反射防止膜を成膜して光学素子を作製した。これらの比較例の光学素子では、５回の成膜作業で２回程度の頻度で入射光が吸収される現象が発生した。これに対して、実施例１〜実施例６の光学素子では、このような現象が発生しなかった。
以上、実施例１〜６の反射防止膜及び、その反射防止膜を備えた光学素子は、可視域及び近赤外域の、より広い帯域に対して優れた反射防止の効果を奏することが可能となる。また、成膜作業時に入射光が吸収される現象が抑制され、反射防止膜及び光学素子の品質が向上して、製品ごとに品質のばらつきがなく、これらの生産性を向上させることができる。また、実施例１の反射防止膜１０及び光学素子１は、可視光又は近赤外光を用いて眼の診断、検査等を行う眼科装置、特に眼底検査装置や３次元眼底像撮影装置のような光断層撮影装置（Optical Coherence Tomography）等に好適に用いることができる。
なお、上記各実施例では、反射防止膜を９層〜１１層構造としている。これに対して、他の異なる実施例として、基板上に積層された高屈折率物質（Ｎｂ2Ｏ5など）と低屈折率物質（ＳｉＯ2）の繰り返し層を増やし、その最外層にＭｇＦ2を積層して、２０層程度の積層構造を有する反射防止膜とすることもできる。このような反射防止膜では、可視域及び近赤外域における優れた反射防止の効果を得られるだけでなく、さらに、光学的な画像のノイズを低減させることができる。従って、光断層撮影装置等の眼科装置に組み込まれるレンズの反射防止膜として好適に用いることができる。
（実施例７）
以下、実施例７として、上記実施例１〜実施例６のような反射防止膜を設けた光学素子を備えた眼科装置の一実施例を、図１０Ａ、図１０Ｂを参照しながら説明する。図１０Ａ、図１０Ｂは、実施例７の眼科装置としての光断層撮影装置１００の正面図と側面図である。
以下、実施例７として、上記実施例１〜実施例６のような反射防止膜を設けた光学素子を備えた眼科装置の一実施例を、図１０Ａ、図１０Ｂを参照しながら説明する。図１０Ａ、図１０Ｂは、実施例７の眼科装置としての光断層撮影装置１００の正面図と側面図である。
図１０Ａ、図１０Ｂに示すように、実施例７の光断層撮影装置１００は、ベース１０１と、装置本体１０２とを備えて構成されている。装置本体部１０２は、対物レンズ１０３等の光学素子を有する光学系が収容されたレンズ収容部１０４、操作画面や測定結果等を表示する液晶ディスプレイ等の表示部１０５等を備えている。ベース１０１は、装置本体１０２の動作を制御する制御系、駆動系等を内部に備え、被検者（患者）Ｘの顔（被検眼）の位置を固定するための顎受部及び額当部を有する顔受部１０６等を外部に備えている。そして、光学系の対物レンズ１０３に、実施例１〜実施例６のいずれかの反射防止膜を設けた光学素子を用いている。なお、眼科装置が実施例７の光断層撮影装置１００に限定されることはなく、他の構成の光断層撮影装置を用いることもできるし、眼底カメラ等の他の眼科装置を用いることもできる。
実施例７の光断層撮影装置１００では、実施例１〜６のような反射防止膜を設けた光学素子を対物レンズ１０３に用いることで、可視域及び近赤外域の８００ｎｍ〜９００ｎｍに対して、若しくは可視域及び近赤外域の１，０００ｎｍ〜１，１００ｎｍに対して、０．５％以下の反射率を実現することができる。このような優れた反射防止効果により、光断層撮影装置１００のような眼科装置の光学性能や生産性を向上させることができる。
以上、本発明の実施形態を図面により詳述してきたが、上記実施形態は本発明の例示にしか過ぎないものであり、本発明は上記実施形態の構成にのみ限定されるものではない。本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計の変更等があっても、本発明に含まれる。
１ 光学素子 ２ 基板 １０ 反射防止膜 １１ 第１層 １２ 第２層
１３ 第３層 １４ 第４層 １５ 第５層 １６ 第６層 １７ 第７層
１８ 第８層 １９ 第９層 １００ 光断層撮影装置（眼科装置）
１０３ 対物レンズ（光学素子）
１３ 第３層 １４ 第４層 １５ 第５層 １６ 第６層 １７ 第７層
１８ 第８層 １９ 第９層 １００ 光断層撮影装置（眼科装置）
１０３ 対物レンズ（光学素子）
Claims (6)
- 基板上に形成される反射防止膜であって、
前記基板はガラスであり、
前記反射防止膜は、前記基板から見た場合において、
屈折率２．３９５２６及び物理的膜厚１６．２１ｎｍのＮｂ２Ｏ５からなる第１層、
屈折率１．４５９９８及び物理的膜厚２４．１５ｎｍのＳｉＯ２からなる第２層、
屈折率２．３９５２６及び物理的膜厚４１．８２ｎｍのＮｂ２Ｏ５からなる第３層、
屈折率１．４５９９８及び物理的膜厚７．７５ｎｍのＳｉＯ２からなる第４層、
屈折率２．３９５２６及び物理的膜厚８３．３ｎｍのＮｂ２Ｏ５からなる第５層、
屈折率１．４５９９８及び物理的膜厚２１．６６ｎｍのＳｉＯ２からなる第６層、
屈折率２．３９５２６及び物理的膜厚２４．３１ｎｍのＮｂ２Ｏ５からなる第７層、
屈折率１．４５９９８及び物理的膜厚１８．５３ｎｍのＳｉＯ２からなる第８層、
屈折率１．３８５３１及び物理的膜厚９４．１ｎｍのＭｇＦ２からなる第９層、及び
空気層を有することを特徴とする反射防止膜。 - 基板上に形成される反射防止膜であって、
前記基板はガラスであり、
前記反射防止膜は、前記基板から見た場合において、
屈折率２．３９９４５及び物理的膜厚１２．７９ｎｍのＮｂ２Ｏ５からなる第１層、
屈折率１．４６０３７及び物理的膜厚３６．７８ｎｍのＳｉＯ２からなる第２層、
屈折率２．３９９４５及び物理的膜厚３４．５６ｎｍのＮｂ２Ｏ５からなる第３層、
屈折率１．４６０３７及び物理的膜厚１２．２２ｎｍのＳｉＯ２からなる第４層、
屈折率２．３９９４５及び物理的膜厚８７．３９ｎｍのＮｂ２Ｏ５からなる第５層、
屈折率１．４６０３７及び物理的膜厚２０．１１ｎｍのＳｉＯ２からなる第６層、
屈折率２．３９９４５及び物理的膜厚２４．６９ｎｍのＮｂ２Ｏ５からなる第７層、
屈折率１．４６０３７及び物理的膜厚１１．６７ｎｍのＳｉＯ２からなる第８層
屈折率１．３８５５９及び物理的膜厚９８．６６ｎｍのＭｇＦ２からなる第９層、及び
空気層を有することを特徴とする反射防止膜。 - 基板上に形成される反射防止膜であって、
前記基板はガラスであり、
前記反射防止膜は、前記基板から見た場合において、
屈折率１．４５４４１及び物理的膜厚３１．８６ｎｍのＳｉＯ２からなる第１層、
屈折率２．３０４６６及び物理的膜厚１７．９ｎｍのＮｂ２Ｏ５からなる第２層、
屈折率１．４５４４１及び物理的膜厚５１．５１ｎｍのＳｉＯ２からなる第３層、
屈折率２．３０４６６及び物理的膜厚２９．５６ｎｍのＮｂ２Ｏ５からなる第４層、
屈折率１．４５４４１及び物理的膜厚２４．３４ｎｍのＳｉＯ２からなる第５層、
屈折率２．３０４６６及び物理的膜厚１５０．８４ｎｍのＮｂ２Ｏ５からなる第６層、
屈折率１．４５４４１及び物理的膜厚２５．２８ｎｍのＳｉＯ２からなる第７層、
屈折率２．３０４６６及び物理的膜厚２４．２７ｎｍのＮｂ２Ｏ５からなる第８層、
屈折率１．４５４４１及び物理的膜厚１４．１１ｎｍのＳｉＯ２からなる第９層、
屈折率１．３７７２６及び物理的膜厚１０１．１８ｎｍのＭｇＦ２からなる第１０層、及び
空気層を有することを特徴とする反射防止膜。 - 基板上に形成される反射防止膜であって、
前記基板はガラスであり、
前記反射防止膜は、前記基板から見た場合において、
屈折率２．３０１１３及び物理的膜厚７．１１ｎｍのＮｂ２Ｏ５からなる第１層、
屈折率１．４５４２２及び物理的膜厚４０．７６ｎｍのＳｉＯ２からなる第２層、
屈折率２．３０１１３及び物理的膜厚２４．９７ｎｍのＮｂ２Ｏ５からなる第３層、
屈折率１．４５４２２及び物理的膜厚２１．６３ｎｍのＳｉＯ２からなる第４層、
屈折率２．３０１１３及び物理的膜厚１４５．８９ｎｍのＮｂ２Ｏ５からなる第５層、
屈折率１．４５４２２及び物理的膜厚２５．０３ｎｍのＳｉＯ２からなる第６層、
屈折率２．３０１１３及び物理的膜厚２４．４１ｎｍのＮｂ２Ｏ５からなる第７層、
屈折率１．４５４２２及び物理的膜厚１１．８３ｎｍのＳｉＯ２からなる第８層、
屈折率１．３７６７２及び物理的膜厚１０２．６５ｎｍのＭｇＦ２からなる第９層、及び、
空気層を有することを特徴とする反射防止膜。 - 請求項１〜４のいずれか一項に記載の反射防止膜を備えたことを特徴とする光学素子。
- 請求項５に記載の光学素子を備えたことを特徴とする眼科装置。
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