JP2022072420A - 光学素子、光学系、および、光学機器 - Google Patents
光学素子、光学系、および、光学機器 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2022072420A JP2022072420A JP2020181840A JP2020181840A JP2022072420A JP 2022072420 A JP2022072420 A JP 2022072420A JP 2020181840 A JP2020181840 A JP 2020181840A JP 2020181840 A JP2020181840 A JP 2020181840A JP 2022072420 A JP2022072420 A JP 2022072420A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- film
- optical element
- refractive index
- reflectance
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 115
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 72
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 56
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 56
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 22
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 22
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract description 19
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 claims abstract description 18
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 claims description 17
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 abstract description 7
- 239000010408 film Substances 0.000 description 161
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 34
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 19
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 18
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 17
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 15
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 14
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 8
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 6
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 4
- 238000007736 thin film deposition technique Methods 0.000 description 3
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
- -1 oxygen ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 230000011514 reflex Effects 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
- G02B1/115—Multilayers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14601—Structural or functional details thereof
- H01L27/1462—Coatings
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N23/00—Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof
- H04N23/50—Constructional details
- H04N23/55—Optical parts specially adapted for electronic image sensors; Mounting thereof
Abstract
【課題】機械強度および環境耐久性が高い光学素子を提供する。【解決手段】樹脂材料（２００）からなる基材と反射防止膜（１００）とを有する光学素子（３００）であって、反射防止膜は、基材の上に形成された第１の膜（１１１）と、第１の膜の上に形成された第２の膜（１０１）とからなり、第２の膜は、第１の膜に近い側から順に、第１の層、第２の層、および第３の層からなり、第１の層および第３の層はそれぞれ酸化ケイ素を含み、第２の層はフッ化マグネシウムを含む。【選択図】図１
Description
本発明は、光学素子に関する。
特許文献１には、最外層をＳｉＯ２又はＳｉＯを主成分とする層（酸化ケイ素層）とし、その次の層をＭｇＦ２を主成分とする層（フッ化マグネシウム層）として形成された反射防止膜が開示されている。特許文献２には、酸化ケイ素層と酸化タンタル層とが交互に積層された多重層と、多重層の上に形成されたフッ化マグネシウム層と、最外層としてフッ化マグネシウム層の上に形成された酸化ケイ素層とからなる反射防止膜が開示されている。
しかしながら、特許文献１や特許文献２に記載された反射防止膜の構成では、フッ化マグネシウムの引張り応力が強いため、光学素子の機械強度および環境耐久性を高めることが難しい。その結果、樹脂材料からなるレンズ上の反射防止膜に膜割れや膜剥がれが発生する可能性がある。
そこで本発明は、機械強度および環境耐久性が高い光学素子、光学系、および光学機器を提供することを目的とする。
本発明の一側面としての光学素子は、樹脂材料からなる基材と反射防止膜とを有する光学素子であって、前記反射防止膜は、前記基材の上に形成された第１の膜と、該第１の膜の上に形成された第２の膜とからなり、前記第２の膜は、前記第１の膜に近い側から順に、第１の層、第２の層、および第３の層からなり、前記第１の層および前記第３の層はそれぞれ酸化ケイ素を含み、前記第２の層はフッ化マグネシウムを含む。
本発明の他の目的及び特徴は、以下の実施形態において説明される。
本発明によれば、機械強度および環境耐久性が高い光学素子、光学系、および光学機器を提供することができる。
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。
まず、図１を参照して、本実施形態における光学素子３００の概略構成について説明する。図１は、光学素子３００を示す概略断面図である。光学素子３００は、透明樹脂基板（樹脂材料からなる基材）２００、および、透明樹脂基板２００の上に形成された反射防止膜１００を有する。反射防止膜１００は、透明樹脂基板２００から順に、多層膜（第１の膜）１１１と、多層膜（第２の膜）１０１とから構成される。すなわち反射防止膜１００は、透明樹脂基板２００の上に形成された多層膜１１１と、多層膜１１１の上に形成された（透明樹脂基板２００から最も遠くに形成された）多層膜１０１とからなる。
多層膜１１１は、透明樹脂基板２００から順に、層１１、１２、１３、１４、１５、１６からなる。なお本実施形態において、多層膜１１１は６層からなるが、これに限定されるものではない。多層膜１１１の層数は、１層以上であれば、何層であっても構わない。多層膜１０１は、多層膜１１１に近い側から順に、層（第１の層）０１、層（第２の層）０２、および層（第３の層）０３の３層からなる。多層膜１０１を構成する層０１、０３はそれぞれ酸化ケイ素（ＳｉＯ２）を含み、層０２はフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）を含む。より具体的には、層０１、０３は酸化ケイ素から構成されるか、または酸化ケイ素を主成分（重量比９０％以上の酸化ケイ素を含む層）として構成される。層０２は、フッ化マグネシウムから構成されるか、またはフッ化マグネシウムを主成分として構成される。
透明樹脂基板２００に反射防止膜１００を蒸着する場合、透明樹脂基板２００を無加熱（もしくは８０度以下の低温加熱）の状態で成膜を行う必要がある。無加熱（もしくは８０度以下の低温加熱）で蒸着したフッ化マグネシウムは、膜強度は小さく、強い引張応力を有する。一方、酸化ケイ素は、無加熱（もしくは８０度以下の低温加熱）で蒸着しても、膜強度は大きく、さらに圧縮応力を有する。本実施形態では、多層膜１０１の構成のように、フッ化マグネシウム層を酸化ケイ素層で挟んだ構成にすることで、膜強度の向上と応力の相殺による密着性の向上が可能となる。
本実施形態において、層０１、０２、０３のｄ線における屈折率をそれぞれｎ１、ｎ２、ｎ３、層０１、０２、０３の物理膜厚をそれぞれｄ１、ｄ２、ｄ３（ｎｍ）、ｄ線の波長をλとするとき、以下の条件式（１）を満足することが望ましい。
λ／８≦ｎ１ｄ１＋ｎ２ｄ２＋ｎ３ｄ３≦λ／２ …（１）
また本実施形態において、条件式（１）の数値範囲を以下の条件式（１ａ）のように設定することがより望ましい。
また本実施形態において、条件式（１）の数値範囲を以下の条件式（１ａ）のように設定することがより望ましい。
λ／６≦ｎ１ｄ１＋ｎ２ｄ２＋ｎ３ｄ３≦λ／３ …（１ａ）
反射防止膜１００は、最外層（最上層）をより屈折率が低い材料とし、その光学膜厚をλ／４程度にすると、反射防止性能が向上する。本実施形態において、多層膜１０１を最外層の低屈折率材料と実質的に等価な層とみなし、式（１）を満足することで、反射防止性能の向上を図ることができる。
反射防止膜１００は、最外層（最上層）をより屈折率が低い材料とし、その光学膜厚をλ／４程度にすると、反射防止性能が向上する。本実施形態において、多層膜１０１を最外層の低屈折率材料と実質的に等価な層とみなし、式（１）を満足することで、反射防止性能の向上を図ることができる。
また本実施形態において、以下の条件式（２）、（３）を満足することが望ましい。
０．２≦ｎ２ｄ２／（ｎ１ｄ１＋ｎ２ｄ２＋ｎ３ｄ３）≦０．９ …（２）
０．５≦ｎ１ｄ１／ｎ３ｄ３≦２．０ …（３）
また本実施形態において、条件式（２）、（３）の数値範囲を以下の条件式（２ａ）、（３ａ）のように設定することがより望ましい。
０．５≦ｎ１ｄ１／ｎ３ｄ３≦２．０ …（３）
また本実施形態において、条件式（２）、（３）の数値範囲を以下の条件式（２ａ）、（３ａ）のように設定することがより望ましい。
０．３≦ｎ２ｄ２／（ｎ１ｄ１＋ｎ２ｄ２＋ｎ３ｄ３）≦０．７ …（２ａ）
０．８≦ｄ１／ｄ３≦１．２ …（３ａ）
多層膜１０１の層０２の膜厚を厚くすると、多層膜１０１の平均屈折率は下がるが、膜強度は低下し、さらに引張応力の上昇により密着性の確保も難しくなる。一方、層０１、０３の膜厚を厚くすると、膜強度は向上、さらに引張応力が低下し密着性の確保も容易になるが、多層膜１０１の平均屈折率が上昇してしまう。それぞれの膜厚を条件式（２）、（３）を満足するように成膜することで、反射防止性能と膜強度とを両立することができる。
０．８≦ｄ１／ｄ３≦１．２ …（３ａ）
多層膜１０１の層０２の膜厚を厚くすると、多層膜１０１の平均屈折率は下がるが、膜強度は低下し、さらに引張応力の上昇により密着性の確保も難しくなる。一方、層０１、０３の膜厚を厚くすると、膜強度は向上、さらに引張応力が低下し密着性の確保も容易になるが、多層膜１０１の平均屈折率が上昇してしまう。それぞれの膜厚を条件式（２）、（３）を満足するように成膜することで、反射防止性能と膜強度とを両立することができる。
透明樹脂基板２００は、温度上昇により膨張する。また、フッ化マグネシウムは大きな引っ張り応力を有する。一般的に、酸化ケイ素の蒸着膜は圧縮応力を有するが、フッ化マグネシウムの応力を相殺するには、より強い圧縮応力が必要である。そこで本実施形態では、微量のアルミニウムを含有させた酸化ケイ素材料を用いることで、圧縮応力を増強する。このため層０１、０３を構成する材料は、酸化ケイ素を主成分とし、微量なアルミニウムを含む材料であることが望ましい。このため屈折率ｎ１、ｎ３はそれぞれ、以下の条件式（４）、（５）を満足することが望ましい。
１．４≦ｎ１≦１．５ …（４）
１．４≦ｎ３≦１．５ …（５）
また、層０１、０３は、重量比１０％以下のアルミニウムを含むことが望ましい。アルミニウムの添加は、ごく微量でも効果がある。重量比０．００１％アルミニウムを含有した酸化ケイ素膜でも、フッ化マグネシウム膜と組み合わせた際に、膜割れや膜剥がれの発生を防ぐことができる。
１．４≦ｎ３≦１．５ …（５）
また、層０１、０３は、重量比１０％以下のアルミニウムを含むことが望ましい。アルミニウムの添加は、ごく微量でも効果がある。重量比０．００１％アルミニウムを含有した酸化ケイ素膜でも、フッ化マグネシウム膜と組み合わせた際に、膜割れや膜剥がれの発生を防ぐことができる。
多層膜１１１は、高屈折率材料と中屈折率材料（ｄ線に関する屈折率が１．６～１．８程度）との組み合わせでもよいが、高屈折率材料と低屈折率材料とを交互に積層した層（交互層）であることが望ましい。多層膜１１１に使用される高屈折率材料は、酸化タンタル、酸化チタン、酸化ランタン、または酸化ジルコニアのいずれか一つ、または、これらの複数の混合物を主成分とする材料であることが望ましい。高屈折率材料は、引張応力を有する。多層膜１１１に使用される低屈折率材料は、作製の容易性や反射防止膜１００の応力を相殺する等の観点から、層０１、０３と同一の材料であることが望ましい。高屈折率材料が引張応力を有し、低屈折率材料が圧縮応力を有するため、交互層とすることで応力が相殺される。なお交互層は、図１に示されるような６層に限定されるものではなく、少なくとも２種類の材料の層が一層ずつあればよい。
多層膜１１１の最下層である層１１は、層０１、０３と同一材料であってもよい。透明樹脂基板２００は、一般的にガラスよりも大きな熱膨張係数を有する。透明樹脂基板２００上に、圧縮応力が強い材料を使用することで、高温化で透明樹脂基板２００が膨張した際の形状変化に層１１が追従することができ、膜割れを防止することができる。
多層膜１１１および多層膜１０１からなる反射防止膜１００の成膜方法は、蒸着法やスパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理気相成長法であれば、特に限定されるものではない。特に蒸着法は、フッ化物が分解しにくいため、より望ましい。蒸着法において、蒸着材料の加熱方法としては、抵抗加熱法、電子ビーム蒸着法、レーザー蒸着法などがある。電子ビーム蒸着法は、膜材料を直接加熱できるため、基板に対しては無加熱状態で成膜できること、汚染が少なく、膜の品質が比較的高くなることから、より望ましい。また、イオンビームアシスト法を用いることも望ましい。独立したイオン源が、蒸着のアシストの役割を果たすことで、吸収や散乱が少なく、強度が高い緻密な膜を形成することができる。
本実施形態において、透明樹脂基板２００の屈折率（ｄ線における平均屈折率）をｎｄとするとき、以下の条件式（６）を満足することが望ましい。
１．４８≦ｎｄ≦１．８０
また本実施形態において、透明樹脂基板２００の線膨張係数をα（１０－５／℃）とするとき、以下の条件式（７）を満足することが望ましい。
また本実施形態において、透明樹脂基板２００の線膨張係数をα（１０－５／℃）とするとき、以下の条件式（７）を満足することが望ましい。
１．５≦α≦３０．０
以下、各実施例について具体的に説明する。
以下、各実施例について具体的に説明する。
図１は、本発明の実施例１における光学素子３００の概略断面図である。本実施例の光学素子３００は、透明樹脂基板２００の上に反射防止膜１００が形成された光学素子である。透明樹脂基板２００は、屈折率１．５３（ｄ線）のＣＯＰ樹脂（日本ゼオン（株）「ＺＥＯＮＥＸ」）である。層材料として、層１１、１３、１５、０１、０３がＳｉＯ２、層１２、１４、１６がＺｒＯ２とＴｉＯ２との混合物、および、層０２がＭｇＦ２を用いている。表１は、本実施例の光学素子の膜構成の詳細を示す。各材料の屈折率および膜厚は、式（１）、（２）、（３）を満足する。
本実施例の反射防止膜１００の成膜法は、以下のとおりである。反射防止膜１００は、蒸着法にて成膜される。蒸発材料の加熱には、電子ビームを使用した。また、より緻密な膜を形成するため、イオンビームアシスト蒸着法を行った。蒸着装置の真空チャンバ内は、２×１０－３（Ｐａ）近傍の高真空領域まで無加熱状態で排気した。真空チャンバ内が高真空状態になったのを確認してから、不活性ガスとしてＡｒをイオン銃に導入し、イオン銃を放電させる。イオン銃が安定状態になってから、真空チャンバ内に酸素を導入し、真空圧が１×１０－２（Ｐａ）程度で酸素イオンによるイオンアシスト蒸着を行う。
図２は、本実施例における光学素子の反射率特性である。図２において、横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は反射率（％）をそれぞれ示す。波長４２０～６８０ｎｍの範囲において、反射率は０．２５％以下であり、非常に良い特性である。
フッ化マグネシウムからなる層０２は、無加熱蒸着であり、強度が弱く、強い引張応力を有する。一方、無加熱蒸着の酸化ケイ素は、強度があり、圧縮応力を有する。フッ化マグネシウム膜を酸化ケイ素膜で挟み込んだ多層膜１０１全体としては、強度が強く、応力が相殺された構成となっており、クラックや剥離が発生しない、環境信頼性に優れた膜となっている。
反射防止膜１００において、様々な条件下での耐久性を確認するため、下記のような耐久試験を実施した。
（高温高湿放置試験）
作製したサンプルを温度６０度、湿度９０％に設定された恒温槽に１０００時間放置した後、反射防止膜１００の外観を目視で観察した。
（低温放置試験）
作製したサンプルを温度－３０度に設定された恒温槽に１０００時間放置した後、反射防止膜１００の外観を目視で観察した。
（高温放置試験）
作製したサンプルを７０度に設定された恒温槽に１２時間放置した後、反射防止膜１００の外観を目視で観察した。
（密着性試験）
作製したサンプルの反射防止膜１００の表面に粘着テープを張り付けた後、膜面に対して垂直方向にテープを引きはがす。５回繰り返し、膜が剥離していないかどうかを目視で観察した。
（表面硬度試験）
溶剤をつけたシルボン紙において、約２００ｇ重の荷重をかけて反射防止膜１００を１０往復擦った後、反射防止膜１００の外観を目視で観察した。
（高温高湿放置試験）
作製したサンプルを温度６０度、湿度９０％に設定された恒温槽に１０００時間放置した後、反射防止膜１００の外観を目視で観察した。
（低温放置試験）
作製したサンプルを温度－３０度に設定された恒温槽に１０００時間放置した後、反射防止膜１００の外観を目視で観察した。
（高温放置試験）
作製したサンプルを７０度に設定された恒温槽に１２時間放置した後、反射防止膜１００の外観を目視で観察した。
（密着性試験）
作製したサンプルの反射防止膜１００の表面に粘着テープを張り付けた後、膜面に対して垂直方向にテープを引きはがす。５回繰り返し、膜が剥離していないかどうかを目視で観察した。
（表面硬度試験）
溶剤をつけたシルボン紙において、約２００ｇ重の荷重をかけて反射防止膜１００を１０往復擦った後、反射防止膜１００の外観を目視で観察した。
耐久試験の結果を表１８に示す。いずれの試験においても、膜割れや膜剥がれが生じておらず、良好な反射防止膜が形成されていることが確認できる。
実施例２の光学素子は、実施例１と同一の透明樹脂基板、同一の蒸着材料、および同一の蒸着条件で作製されている。表２は、本実施例の光学素子の膜構成の詳細を示す。各材料の屈折率および膜厚は、式（１）、（２）、（３）を満足する。図３は、本実施例における光学素子の反射率特性である。図３において、横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は反射率（％）をそれぞれ示す。波長４２０～６８０ｎｍの範囲で反射率は０．２５％以下であり、非常に良い特性である。
耐久試験の結果を表１８に示す。いずれの試験においても、膜割れや膜剥がれが生じておらず、良好な反射防止膜が形成されていることが確認できる。
実施例３の透明樹脂基板２００は、特殊ＰＣ樹脂（三井ガス化学（株）「ＥＰ－５０００」）である。層材料としては、層１１、１３、１５、０１、０３が重量比０．００１％のＡｌを含むＳｉＯ２、層１２、１４、１６がＴａ２Ｏ５とＴｉＯ２との混合物、および、層０２がＭｇＦ２を用いている。表３は、本実施例の光学素子の膜構成の詳細を示す。各材料の屈折率および膜厚は、式（１）、（２）、（３）を満足する。本実施例の反射防止膜１００の成膜方法は、実施例１と同様に、電子ビーム蒸着法およびイオンアシスト蒸着法を用いている。図４は、本実施例における光学素子の反射率特性である。図４において、横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は反射率（％）をそれぞれ示す。波長４２０～６８０ｎｍの範囲で反射率は０．２５％以下であり、非常に良い特性である。
耐久試験の結果を表１８に示す。いずれの試験においても、膜割れや膜剥がれが生じておらず、良好な反射防止膜が形成されていることが確認できる。
本実施例において、層０１、層０３は、Ａｌを重量比０．００１％含むＳｉＯ２層である。この層は、非常に圧縮応力が強い。ＭｇＦ２は非常に引張応力が強く、また樹脂材料は膨張傾向が強い。本実施例によれば、これらの応力が相殺されるため、非常に環境耐久性の高い反射防止膜を提供することができる。
実施例４の透明樹脂基板２００は、特殊ＰＣ樹脂（三井ガス化学（株）「ＥＰ－５０００」）である。層材料としては、層１２、１４、０１、０３が重量比１．０％のＡｌを含むＳｉＯ２、層１１、１３、１５がＺｒＯ２とＴｉＯ２との混合物、および、層０２がＭｇＦ２を用いている。表４は、本実施例の光学素子の膜構成の詳細を示す。各材料の屈折率および膜厚は、式（１）、（２）、（３）を満足する。図５は、本実施例における光学素子の反射率特性である。図５において、横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は反射率（％）をそれぞれ示す。波長４２０～６８０ｎｍの範囲で反射率は０．３％以下であり、非常に良い特性である。
耐久試験の結果を表１８に示す。いずれの試験においても、膜割れや膜剥がれが生じておらず、良好な反射防止膜が形成されていることが確認できる。
実施例５の透明樹脂基板２００は、ＣＯＰ樹脂（日本ゼオン（株）「ＺＥＯＮＥＸ」）である。層材料としては、層１１、１３、１５、０１、０３が重量比２．０％のＡｌを含むＳｉＯ２、層１２、１４、１６がＴａ２Ｏ５とＴｉＯ２との混合物、および、層０２がＭｇＦ２を用いている。表５は、本実施例の光学素子の膜構成の詳細を示す。各材料の屈折率および膜厚は、式（１）、（２）、（３）を満足する。図６は、本実施例における光学素子の反射率特性である。図６において、横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は反射率（％）をそれぞれ示す。波長４２０～６８０ｎｍの範囲で反射率は０．２５％以下であり、非常に良い特性である。
耐久試験の結果を表１８に示す。いずれの試験においても、膜割れや膜剥がれが生じておらず、良好な反射防止膜が形成されていることが確認できる。
実施例６の透明樹脂基板２００は、ＣＯＰ樹脂（日本ゼオン（株）「ＺＥＯＮＥＸ」）である。層材料としては、層１１、１３、１５、０１、０３が重量比３．０％のＡｌを含むＳｉＯ２、層１２、１４、１６がＴａ２Ｏ５とＴｉＯ２との混合物、および、層０２がＭｇＦ２を用いている。表６は、本実施例の光学素子の膜構成の詳細を示す。各材料の屈折率および膜厚は、式（１）、（２）、（３）を満足する。図７は、本実施例における光学素子の反射率特性である。図７において、横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は反射率（％）をそれぞれ示す。波長４２０～６８０ｎｍの範囲で反射率は０．３％以下であり、非常に良い特性である。
耐久試験の結果を表１８に示す。いずれの試験においても、膜割れや膜剥がれが生じておらず、良好な反射防止膜が形成されていることが確認できる。
実施例７の透明樹脂基板２００は、ＣＯＰ樹脂（日本ゼオン（株）「ＺＥＯＮＥＸ」）である。層材料としては、層１２、１４、０１、０３が重量比２．０％のＡｌを含むＳｉＯ２、層１１、１３、１５がＴａ２Ｏ５とＴｉＯ２との混合物、および、層０２がＭｇＦ２を用いている。表７は、本実施例の光学素子の膜構成の詳細を示す。各材料の屈折率および膜厚は、式（１）、（２）、（３）を満足する。図８は、本実施例における光学素子の反射率特性である。図８において、横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は反射率（％）をそれぞれ示す。波長４２０～６８０ｎｍの範囲で反射率は０．３％以下であり、非常に良い特性である。
耐久試験の結果を表１８に示す。いずれの試験においても、膜割れや膜剥がれが生じておらず、良好な反射防止膜が形成されていることが確認できる。
実施例８の透明樹脂基板２００は、特殊ＰＣ樹脂（三井ガス化学（株）「ＥＰ－５０００」）である。層材料としては、層１１、１３、１５、０１、０３が重量比３．０％のＡｌを含むＳｉＯ２、層１２、１４、１６がＴａ２Ｏ５とＴｉＯ２との混合物、および、層０２がＭｇＦ２を用いている。表８は、本実施例の光学素子の膜構成の詳細を示す。各材料の屈折率および膜厚は、式（１）、（２）、（３）を満足する。図９は、本実施例における光学素子の反射率特性である。図９において、横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は反射率（％）をそれぞれ示す。波長４２０～６８０ｎｍの範囲で反射率は０．２５％以下であり、非常に良い特性である。
耐久試験の結果を表１８に示す。いずれの試験においても、膜割れや膜剥がれが生じておらず、良好な反射防止膜が形成されていることが確認できる。
実施例９の透明樹脂基板２００は、特殊ＰＣ樹脂（三井ガス化学（株）「ＥＰ－５０００」）である。層材料としては、層１１、１３、１５、０１、０３が重量比２．５％のＡｌを含むＳｉＯ２、層１２、１４、１６がＴａ２Ｏ５とＴｉＯ２との混合物、および、層０２がＭｇＦ２を用いている。表９は、本実施例の光学素子の膜構成の詳細を示す。各材料の屈折率および膜厚は、式（１）、（２）、（３）を満足する。図１０は、本実施例における光学素子の反射率特性である。図１０において、横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は反射率（％）をそれぞれ示す。波長４２０～６８０ｎｍの範囲で反射率は０．３％以下であり、非常に良い特性である。
耐久試験の結果を表１８に示す。いずれの試験においても、膜割れや膜剥がれが生じておらず、良好な反射防止膜が形成されていることが確認できる。
実施例１０の透明樹脂基板２００は、ＣＯＰ樹脂（日本ゼオン（株）「ＺＥＯＮＥＸ」）である。層材料としては、層１１、１３、１５、０１、０３が重量比４．５％のＡｌを含むＳｉＯ２、層１２、１４、１６がＴａ２Ｏ５とＴｉＯ２との混合物、および、層０２がＭｇＦ２を用いている。表１０は、本実施例の光学素子の膜構成の詳細を示す。各材料の屈折率および膜厚は、式（１）、（２）、（３）を満足する。図１１は、本実施例における光学素子の反射率特性である。図１１において、横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は反射率（％）をそれぞれ示す。波長４２０～６８０ｎｍの範囲で反射率は０．３％以下であり、非常に良い特性である。
耐久試験の結果を表１８に示す。いずれの試験においても、膜割れや膜剥がれが生じておらず、良好な反射防止膜が形成されていることが確認できる。
実施例１１の透明樹脂基板２００は、ＣＯＰ樹脂（日本ゼオン（株）「ＺＥＯＮＥＸ」）である。層材料としては、層１２、１４、０１、０３が重量比５．２％のＡｌを含むＳｉＯ２、層１１、１３、１５がＴａ２Ｏ５とＴｉＯ２との混合物、および、層０２がＭｇＦ２を用いている。表１１は、本実施例の光学素子の膜構成の詳細を示す。各材料の屈折率および膜厚は、式（１）、（２）、（３）を満足する。図１２は、本実施例における光学素子の反射率特性である。図１２において、横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は反射率（％）をそれぞれ示す。波長４２０～６８０ｎｍの範囲で反射率は０．３％以下であり、非常に良い特性である。
耐久試験の結果を表１８に示す。いずれの試験においても、膜割れや膜剥がれが生じておらず、良好な反射防止膜が形成されていることが確認できる。
実施例１２の透明樹脂基板２００は、特殊ＰＣ樹脂（三井ガス化学（株）「ＥＰ－５０００」）である。層材料としては、層１１、１３、１５、０１、０３が重量比４．５％のＡｌを含むＳｉＯ２、層１２、１４、１６がＴａ２Ｏ５とＴｉＯ２との混合物、および、層０２がＭｇＦ２を用いている。表１２は、本実施例の光学素子の膜構成の詳細を示す。各材料の屈折率および膜厚は、式（１）、（２）、（３）を満足する。図１３は、本実施例における光学素子の反射率特性である。図１３において、横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は反射率（％）をそれぞれ示す。波長４２０～６８０ｎｍの範囲で反射率は０．３％以下であり、非常に良い特性である。
耐久試験の結果を表１８に示す。いずれの試験においても、膜割れや膜剥がれが生じておらず、良好な反射防止膜が形成されていることが確認できる。
実施例１３の透明樹脂基板２００は、特殊ＰＣ樹脂（三井ガス化学（株）「ＥＰ－５０００」）である。層材料としては、層１２、１４、０１、０３が重量比１０．０％のＡｌを含むＳｉＯ２、層１１、１３、１５がＴａ２Ｏ５とＴｉＯ２との混合物、および、層０２がＭｇＦ２を用いている。表１３は、本実施例の光学素子の膜構成の詳細を示す。各材料の屈折率および膜厚は、式（１）、（２）、（３）を満足する。図１４は、本実施例における光学素子の反射率特性である。図１４において、横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は反射率（％）をそれぞれ示す。波長４２０～６８０ｎｍの範囲で反射率は０．３％以下であり、非常に良い特性である。
耐久試験の結果を表１８に示す。いずれの試験においても、膜割れや膜剥がれが生じておらず、良好な反射防止膜が形成されていることが確認できる。
実施例１４の透明樹脂基板２００は、ポリエステルフィルム（ＰＥＴ樹脂）（東レ（株）「ルミラーＴ６０」）である。層材料としては、層１１、１３、１５、０１、０３が重量比５．２％のＡｌを含むＳｉＯ２、層１２、１４、１６がＴａ２Ｏ５とＴｉＯ２との混合物、および、層０２がＭｇＦ２を用いている。表１４は、本実施例の光学素子の膜構成の詳細を示す。各材料の屈折率および膜厚は、式（１）、（２）、（３）を満足する。図１５は、本実施例における光学素子の反射率特性である。図１５において、横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は反射率（％）をそれぞれ示す。波長４２０～６８０ｎｍの範囲で反射率は０．２５％以下であり、非常に良い特性である。
耐久試験の結果を表１８に示す。いずれの試験においても、膜割れや膜剥がれが生じておらず、良好な反射防止膜が形成されていることが確認できる。
実施例１５の透明樹脂基板２００は、ポリエステルフィルム（ＰＥＴ樹脂）（東レ（株）「ルミラーＴ６０」）である。層材料としては、層１１、１３、１５、０１、０３が重量比５．２％のＡｌを含むＳｉＯ２、層１２、１４、１６がＴａ２Ｏ５とＴｉＯ２との混合物、および、層０２がＭｇＦ２を用いている。表１５は、本実施例の光学素子の膜構成の詳細を示す。各材料の屈折率および膜厚は、式（１）、（２）、（３）を満足する。図１６は、本実施例における光学素子の反射率特性である。図１６において、横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は反射率（％）をそれぞれ示す。波長４２０～６８０ｎｍの範囲で反射率は０．３％以下であり、非常に良い特性である。
耐久試験の結果を表１８に示す。いずれの試験においても、膜割れや膜剥がれが生じておらず、良好な反射防止膜が形成されていることが確認できる。
次に、図１９を参照して、実施例１６における光学系について説明する。図１９は、光学系４００の断面図である。光学系４００は、複数の光学素子Ｇ４０１～Ｇ４１１を有する。４０２は絞り、４０３は結像面である。光学素子Ｇ４０１～Ｇ４１１はそれぞれレンズである。これらのレンズのうち、入射面および射出面の少なくとも一方に、実施例１～１５のいずれかの反射防止膜が付与されている。すなわち光学系４００は、複数の光学素子Ｇ４０１～Ｇ４１１を有し、複数の光学素子Ｇ４０１～Ｇ４１１は、実施例１～１５のいずれかの反射防止膜が形成された光学素子３００を含む。
なお本実施例の光学系４００は、後述する撮像装置に用いられる撮像光学系に限定されるものではなく、双眼鏡、プロジェクタ、望遠鏡等の様々な用途の光学系に適用可能である。
次に、図２０を参照して、実施例１７における撮像装置について説明する。図２０は、撮像装置（デジタルカメラ５００）の外観斜視図である。
デジタルカメラ５００は、カメラ本体５０２と、カメラ本体５０２一体的に構成されたレンズ装置５０１とを有する。ただし本実施例は、これに限定されるものではなく、レンズ装置５０１は、一眼レフカメラ用やミラーレスカメラ用等の、カメラ本体５０２に対して着脱可能な交換レンズであってもよい。レンズ装置５０１は、実施例１～１５のいずれかの光学系４００を有する。カメラ本体５０２は、ＣＭＯＳセンサやＣＣＤセンサ等の撮像素子５０３を有する。撮像素子５０３は、光学系４００の結像面４０３に配置される。
（比較例１）
比較例１は、実施例１０と同一の蒸着材料および同一の透明樹脂基板を使用し、同一の蒸着条件で作製される。表１６は、本比較例の光学素子の膜構成である。多層膜１０１は、フッ化マグネシウム層のみで形成されている。図１７は、本比較例における光学素子の反射率特性である。図１７において、横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は反射率（％）をそれぞれ示す。波長４２０～６８０ｎｍの範囲において反射率は０．２以下であり、実施例１～１５よりも低反射率を実現している。
比較例１は、実施例１０と同一の蒸着材料および同一の透明樹脂基板を使用し、同一の蒸着条件で作製される。表１６は、本比較例の光学素子の膜構成である。多層膜１０１は、フッ化マグネシウム層のみで形成されている。図１７は、本比較例における光学素子の反射率特性である。図１７において、横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は反射率（％）をそれぞれ示す。波長４２０～６８０ｎｍの範囲において反射率は０．２以下であり、実施例１～１５よりも低反射率を実現している。
耐久試験の結果を表１８に示す。本比較例の最外層は、強度が小さいフッ化マグネシウム膜で形成されている。このため本比較例の構成では、各耐久試験において膜割れや膜剥がれが生じており、反射防止膜として使用するには不適である。
（比較例２）
比較例２は、実施例１０と同一の蒸着材料および同一の透明樹脂基板を使用し、同一の蒸着条件で作製される。表１７は、本比較例の光学素子の膜構成である。多層膜１０１は、酸化ケイ素層のみで形成されている。
比較例２は、実施例１０と同一の蒸着材料および同一の透明樹脂基板を使用し、同一の蒸着条件で作製される。表１７は、本比較例の光学素子の膜構成である。多層膜１０１は、酸化ケイ素層のみで形成されている。
耐久試験の結果を表１８に示す。本比較例の最外層は、強度が強い酸化ケイ素膜で形成されている。このため、各耐久試験においても、膜割れや膜剥がれが生じていない。
図１８は、本比較例の反射率特性である。図１８において、横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は反射率（％）をそれぞれ示す。波長４２０～６８０ｎｍの範囲で反射率は０．５％程度であり、実施例１～１５よりも高い反射率を示している。このため本比較例の構成では、ゴーストやフレアの原因となる可能性がある。
各実施例によれば、機械強度および環境耐久性が高い光学素子、光学系、および光学機器を提供することができる。
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。
１００ 反射防止膜
１０１ 多層膜（第２の膜）
１１１ 多層膜（第１の膜）
２００ 透明樹脂基板（樹脂材料からなる基材）
３００ 光学素子
１０１ 多層膜（第２の膜）
１１１ 多層膜（第１の膜）
２００ 透明樹脂基板（樹脂材料からなる基材）
３００ 光学素子
Claims (13)
- 樹脂材料からなる基材と反射防止膜とを有する光学素子であって、
前記反射防止膜は、前記基材の上に形成された第１の膜と、該第１の膜の上に形成された第２の膜とからなり、
前記第２の膜は、前記第１の膜に近い側から順に、第１の層、第２の層、および第３の層からなり、
前記第１の層および前記第３の層はそれぞれ酸化ケイ素を含み、
前記第２の層はフッ化マグネシウムを含むことを特徴とする光学素子。 - 前記第１の層のｄ線における屈折率をｎ１、前記第２の層のｄ線における屈折率をｎ２、前記第３の層のｄ線における屈折率をｎ３、前記第１の層の物理膜厚をｄ１（ｎｍ）、前記第２の層の物理膜厚をｄ２（ｎｍ）、前記第３の層の物理膜厚をｄ３（ｎｍ）、ｄ線の波長をλ（ｎｍ）とするとき、
λ／８≦ｎ１ｄ１＋ｎ２ｄ２＋ｎ３ｄ３≦λ／２
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１に記載の光学素子。 - λ／６≦ｎ１ｄ１＋ｎ２ｄ２＋ｎ３ｄ３≦λ／３
なる条件式を満足することを特徴とする請求項２に記載の光学素子。 - 前記第１の層のｄ線における屈折率をｎ１、前記第２の層のｄ線における屈折率をｎ２、前記第３の層のｄ線における屈折率をｎ３、前記第１の層の物理膜厚をｄ１（ｎｍ）、前記第２の層の物理膜厚をｄ２（ｎｍ）、前記第３の層の物理膜厚をｄ３（ｎｍ）とするとき、
０．２≦ｎ２ｄ２／（ｎ１ｄ１＋ｎ２ｄ２＋ｎ３ｄ３）≦０．９
０．５≦ｎ１ｄ１／ｎ３ｄ３≦２．０
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の光学素子。 - ０．３≦ｎ２ｄ２／（ｎ１ｄ１＋ｎ２ｄ２＋ｎ３ｄ３）≦ ０．７
０．８≦ｎ１ｄ１／ｎ３ｄ３ ≦１．２
なる条件式を満足することを特徴とする請求項４に記載の光学素子。 - 前記第１の層のｄ線における屈折率をｎ１、前記第３の層のｄ線における屈折率をｎ３とするとき、
１．４≦ｎ１≦１．５
１．４≦ｎ３≦１．５
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の光学素子。 - 前記第１の層および前記第３の層はそれぞれ重量比９０％以上の酸化ケイ素を含むことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の光学素子。
- 前記第１の層および前記第３の層はそれぞれ重量比１０％以下のアルミニウムを含むことを特徴とする請求項７に記載の光学素子。
- 前記第１の膜は、
前記第２の膜の前記第１の層および前記第３の層のそれぞれを構成する材料と、
酸化タンタル、酸化チタン、酸化ランタン、または酸化ジルコニアの少なくとも一つを含む材料と、を交互に積層して構成されていることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか一項に記載の光学素子。 - 前記樹脂材料のｄ線における平均屈折率をｎｄとするとき、
１．４８≦ｎｄ≦１．８０
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１乃至９のいずれか一項に記載の光学素子。 - 前記樹脂材料の線膨張係数をα（１０－５／℃）とするとき、
１．５≦α≦３０．０
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の光学素子。 - 複数の光学素子を有し、
前記複数の光学素子は、請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の光学素子を含むことを特徴とする光学系。 - 撮像素子と、
請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の光学素子と、を有することを特徴とする光学機器。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2020181840A JP2022072420A (ja) | 2020-10-29 | 2020-10-29 | 光学素子、光学系、および、光学機器 |
| EP21202894.8A EP3992672A1 (en) | 2020-10-29 | 2021-10-15 | Optical element, optical system, and optical apparatus |
| US17/503,747 US20220137265A1 (en) | 2020-10-29 | 2021-10-18 | Optical element, optical system, and optical apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2020181840A JP2022072420A (ja) | 2020-10-29 | 2020-10-29 | 光学素子、光学系、および、光学機器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2022072420A true JP2022072420A (ja) | 2022-05-17 |
| JP2022072420A5 JP2022072420A5 (ja) | 2023-10-27 |
Family
ID=78483124
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2020181840A Pending JP2022072420A (ja) | 2020-10-29 | 2020-10-29 | 光学素子、光学系、および、光学機器 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20220137265A1 (ja) |
| EP (1) | EP3992672A1 (ja) |
| JP (1) | JP2022072420A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2024043120A1 (ja) * | 2022-08-24 | 2024-02-29 | Ａｇｃ株式会社 | 誘電体多層膜付き基板およびその製造方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2546887B2 (ja) * | 1989-02-07 | 1996-10-23 | 株式会社トクヤマ | チオカルボン酸エステル化合物及びその製造方法 |
| JP2002202401A (ja) | 2000-12-28 | 2002-07-19 | Minolta Co Ltd | 反射防止膜およびそれを備えたプラスチック光学部品 |
| JP6549458B2 (ja) * | 2015-09-30 | 2019-07-24 | 株式会社トプコン | 反射防止膜、光学素子、及び眼科装置 |
| EP3196677A1 (en) | 2016-01-25 | 2017-07-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical element and method for producing the same |
| JP2020083700A (ja) * | 2018-11-26 | 2020-06-04 | コニカミノルタ株式会社 | 光学部材及び光学部材の製造方法 |
-
2020
- 2020-10-29 JP JP2020181840A patent/JP2022072420A/ja active Pending
-
2021
- 2021-10-15 EP EP21202894.8A patent/EP3992672A1/en active Pending
- 2021-10-18 US US17/503,747 patent/US20220137265A1/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2024043120A1 (ja) * | 2022-08-24 | 2024-02-29 | Ａｇｃ株式会社 | 誘電体多層膜付き基板およびその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20220137265A1 (en) | 2022-05-05 |
| EP3992672A1 (en) | 2022-05-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI236547B (en) | Optical multilayer-film filter, method for fabricating optical multilayer-film filter, optical low-pass filter, and electronic apparatus | |
| EP2708922A2 (en) | Anti-reflection coating, optical member having it, and optical equipment comprising such optical member | |
| US20180095192A1 (en) | Antireflection film, optical element, and optical system | |
| US20050219724A1 (en) | Optical element having a dielectric multilayer film | |
| EP2962137A1 (en) | Enhanced, durable silver coating stacks for highly reflective mirrors | |
| JP7005584B2 (ja) | レンズ及びその製造方法とレンズモジュール | |
| JP6862192B2 (ja) | 光学素子 | |
| JP2014032213A (ja) | 赤外線用光学機能膜 | |
| JP2007206172A (ja) | 撮像系光学素子 | |
| JP2006301487A (ja) | 近赤外線カットフィルタ | |
| JP2022072420A (ja) | 光学素子、光学系、および、光学機器 | |
| JP2005165249A (ja) | 反射防止膜及びこれを備える光学レンズ並びに光学レンズユニット | |
| JP3221770B2 (ja) | プラスチック光学部品の反射防止膜 | |
| KR20180078328A (ko) | 안경 렌즈 및 안경 | |
| JP2009192708A (ja) | ビームスプリッター、並びにそれを利用した一眼レフデジタルカメラ及びオートフォーカスビデオカメラ | |
| JP5292318B2 (ja) | 反射防止膜、及びこれを有する光学部材 | |
| JP2022139912A (ja) | 光学素子、光学系、および、光学機器 | |
| US20230296809A1 (en) | Optical element, optical system, and optical apparatus | |
| JP2017032852A (ja) | 反射防止膜及び光学部品 | |
| JPS58221811A (ja) | 耐熱反射防止膜 | |
| JPH0968602A (ja) | 反射防止層を有する光学物品 | |
| JP7404673B2 (ja) | 反射防止膜及びその製造方法及び光学部品 | |
| JP6982951B2 (ja) | 赤外線用機能性膜付シリコン基板 | |
| JP2023135975A (ja) | 光学素子、光学系、および光学機器 | |
| JP2018036371A (ja) | 光学フィルタ |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20231019 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20231019 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20240422 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20240507 |