JP3130406B2 - 電波と赤外線との分離板およびその製法 - Google Patents
電波と赤外線との分離板およびその製法Info
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- C03C17/366—Low-emissivity or solar control coatings
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電波と赤外線との分離
板に関する。さらに詳しくは、電波を透過し赤外線を反
射することにより電波と赤外線を分離する、電波と赤外
線との分離板、およびその製法に関するものである。
板に関する。さらに詳しくは、電波を透過し赤外線を反
射することにより電波と赤外線を分離する、電波と赤外
線との分離板、およびその製法に関するものである。
【０００２】ここに電波とは赤外線より周波数が低く、
電気通信に用いられる電磁波をいい、ここではとくにマ
イクロ波帯とミリ波帯の電磁波をいう。
電気通信に用いられる電磁波をいい、ここではとくにマ
イクロ波帯とミリ波帯の電磁波をいう。
【０００３】
【従来の技術】最近の航空機、ミサイル、船舶、戦車な
どの防衛装備品に備えられるレーダーや赤外線探知機
は、高性能化の一途を辿っており、これらを構成する部
品に対しても多岐に渡る機能が求められている。たとえ
ば、探知装置の複合化はその一つであり、電波による探
知システムと赤外線による探知システムとを一体化する
ことにより探知性能と耐妨害性とを大幅に向上すること
ができるが、そのためには目標物からの信号である反射
電波と放射赤外線とを分離してそれぞれの検知器で検知
することが必要である。
どの防衛装備品に備えられるレーダーや赤外線探知機
は、高性能化の一途を辿っており、これらを構成する部
品に対しても多岐に渡る機能が求められている。たとえ
ば、探知装置の複合化はその一つであり、電波による探
知システムと赤外線による探知システムとを一体化する
ことにより探知性能と耐妨害性とを大幅に向上すること
ができるが、そのためには目標物からの信号である反射
電波と放射赤外線とを分離してそれぞれの検知器で検知
することが必要である。
【０００４】前記複合探知システムを実現させるための
電波と赤外線との分離は、たとえば電波を透過し赤外線
を反射することにより行われ、従来、このような電波を
透過し赤外線を反射することにより電波と赤外線とを分
離する技術としては、赤外線のフィルター技術を応用
し、電波を吸収しない誘電体材料を基板として、誘電体
材料または半導体材料により赤外線を高反射させるコー
ティングを行うことにより、電波は吸収されることなく
透過し赤外線を反射させることによって分離されてい
る。この赤外線を高反射させるコーティングは、たとえ
ばエイチ エイ マクロード(H.A.Macleod)（小倉、中
島、矢部、吉田訳）による「光学薄膜」（日刊工業新聞
社発行、1989年）の191〜217頁に記載されているよう
に、高屈折率物質と低屈折率物質とを反射したい赤外線
の波長をλとしてλ／４の光学膜厚で交互に積層するこ
とにより実現される。ここに光学膜厚とは、実際の膜厚
×波長λの電磁波に対する物質の屈折率をいう。高屈折
率物質の屈折率をｎH、低屈折率物質の屈折率をｎL、基
板の屈折率をｎS、積層数を２ｐ＋１（ｐは自然数）と
すると、赤外線の反射率Ｒは
電波と赤外線との分離は、たとえば電波を透過し赤外線
を反射することにより行われ、従来、このような電波を
透過し赤外線を反射することにより電波と赤外線とを分
離する技術としては、赤外線のフィルター技術を応用
し、電波を吸収しない誘電体材料を基板として、誘電体
材料または半導体材料により赤外線を高反射させるコー
ティングを行うことにより、電波は吸収されることなく
透過し赤外線を反射させることによって分離されてい
る。この赤外線を高反射させるコーティングは、たとえ
ばエイチ エイ マクロード(H.A.Macleod)（小倉、中
島、矢部、吉田訳）による「光学薄膜」（日刊工業新聞
社発行、1989年）の191〜217頁に記載されているよう
に、高屈折率物質と低屈折率物質とを反射したい赤外線
の波長をλとしてλ／４の光学膜厚で交互に積層するこ
とにより実現される。ここに光学膜厚とは、実際の膜厚
×波長λの電磁波に対する物質の屈折率をいう。高屈折
率物質の屈折率をｎH、低屈折率物質の屈折率をｎL、基
板の屈折率をｎS、積層数を２ｐ＋１（ｐは自然数）と
すると、赤外線の反射率Ｒは
【０００５】
【数１】 と表される。
【０００６】また、赤外線反射膜の各層の光学膜厚がλ
／４のばあい、反射率の高い波長帯域λ±Δλは、
／４のばあい、反射率の高い波長帯域λ±Δλは、
【０００７】
【数２】 と表される。すなわち、積層数が多く、高屈折率物質と
低屈折率物質との屈折率比が大きいほど反射率は高く、
またこの屈折率比が大きいほど反射率の高い波長帯域は
広くなる。
低屈折率物質との屈折率比が大きいほど反射率は高く、
またこの屈折率比が大きいほど反射率の高い波長帯域は
広くなる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、波長が
10μｍ近傍の赤外線に対するコーティング材料として
は、一般に、高屈折率物質として赤外線での屈折率が４
であるゲルマニウム（Ｇｅ）、低屈折率物質として屈折
率が2.2である硫化亜鉛（ＺｎＳ）がよく選ばれるが、
硫化亜鉛はそれほど屈折率が小さくないという問題があ
る。
10μｍ近傍の赤外線に対するコーティング材料として
は、一般に、高屈折率物質として赤外線での屈折率が４
であるゲルマニウム（Ｇｅ）、低屈折率物質として屈折
率が2.2である硫化亜鉛（ＺｎＳ）がよく選ばれるが、
硫化亜鉛はそれほど屈折率が小さくないという問題があ
る。
【０００９】また前記の問題を解消するために、屈折率
が1.4と小さいフッ化カルシウム（ＣａＦ2）やクライオ
ライト（Ｎａ3ＡｌＦ6）が使われることがあるが、これ
らは吸湿性を有するため、耐湿性に問題がある。
が1.4と小さいフッ化カルシウム（ＣａＦ2）やクライオ
ライト（Ｎａ3ＡｌＦ6）が使われることがあるが、これ
らは吸湿性を有するため、耐湿性に問題がある。
【００１０】さらに、波長が10μｍ程度の赤外線フィル
ターの基板としては、ゲルマニウム、硫化亜鉛、セレン
化亜鉛（ＺｎＳｅ）、フッ化カルシウム（特開昭63-151
904号公報および特開昭64-80906号公報参照）などが使
用されるが、これらの材料は一般に高価であるばかりで
なく、目的とする厚さに加工したり、所望の形状に加工
するのに、加工性がわるく、工数を多く要するという問
題がある。
ターの基板としては、ゲルマニウム、硫化亜鉛、セレン
化亜鉛（ＺｎＳｅ）、フッ化カルシウム（特開昭63-151
904号公報および特開昭64-80906号公報参照）などが使
用されるが、これらの材料は一般に高価であるばかりで
なく、目的とする厚さに加工したり、所望の形状に加工
するのに、加工性がわるく、工数を多く要するという問
題がある。
【００１１】本発明は、このような問題を解決するため
になされたもので、赤外線の反射性と基板の加工性に優
れた電波と赤外線との分離板およびその製法を提供する
ことを目的とする。
になされたもので、赤外線の反射性と基板の加工性に優
れた電波と赤外線との分離板およびその製法を提供する
ことを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明の電波と赤外線と
の分離板は、誘電体基板の片側表面に電波を透過し赤外
線を反射する赤外線反射膜が設けられ、該赤外線反射膜
はゲルマニウムと希土類フッ化物とがこの順序で交互に
積層されているものである。
の分離板は、誘電体基板の片側表面に電波を透過し赤外
線を反射する赤外線反射膜が設けられ、該赤外線反射膜
はゲルマニウムと希土類フッ化物とがこの順序で交互に
積層されているものである。
【００１３】前記希土類フッ化物は、フッ化セリウムま
たはフッ化セリウムを50重量％以上含む希土類フッ化物
の混合物であることが好ましい。
たはフッ化セリウムを50重量％以上含む希土類フッ化物
の混合物であることが好ましい。
【００１４】また、前記赤外線反射膜はゲルマニウムと
希土類フッ化物とがこの順序で交互に５層以上21層以下
の奇数回積層されていることが好ましい。
希土類フッ化物とがこの順序で交互に５層以上21層以下
の奇数回積層されていることが好ましい。
【００１５】また、前記赤外線反射膜のゲルマニウム層
と希土類フッ化物層のそれぞれの光学膜厚が反射したい
赤外線の波長をλとしてλ／４に設定され、少なくとも
２種類の赤外線の波長の反射膜が積層されていることが
好ましい。
と希土類フッ化物層のそれぞれの光学膜厚が反射したい
赤外線の波長をλとしてλ／４に設定され、少なくとも
２種類の赤外線の波長の反射膜が積層されていることが
好ましい。
【００１６】また前記誘電体基板が石英ガラスまたは石
英ガラスを20重量％以上含むガラスからなることが好ま
しい。
英ガラスを20重量％以上含むガラスからなることが好ま
しい。
【００１７】また前記誘電体基板の厚さが、該誘電体基
板の比誘電率をε、透過したい電波の波長をΛとして、
Λ／（２ε1/2）の整数倍となるように設定されている
ことが好ましい。
板の比誘電率をε、透過したい電波の波長をΛとして、
Λ／（２ε1/2）の整数倍となるように設定されている
ことが好ましい。
【００１８】また、本発明の電波と赤外線との分離板の
製法は、誘電体基板の片側表面にゲルマニウム層と希土
類フッ化物層とをこの順序で交互に電子ビーム蒸着によ
って積層して赤外線反射膜を形成する電波と赤外線との
分離板の製法であって、前記誘電体基板を130〜250℃に
加熱しながら前記ゲルマニウム層および希土類フッ化物
層を積層することを特徴とするものである。
製法は、誘電体基板の片側表面にゲルマニウム層と希土
類フッ化物層とをこの順序で交互に電子ビーム蒸着によ
って積層して赤外線反射膜を形成する電波と赤外線との
分離板の製法であって、前記誘電体基板を130〜250℃に
加熱しながら前記ゲルマニウム層および希土類フッ化物
層を積層することを特徴とするものである。
【００１９】
【作用】本発明による電波と赤外線との分離板は、誘電
体基板の表面に、ゲルマニウム層と希土類フッ化物層と
をこの順序で交互にコーティングしているので、両層の
屈折率の差を大きくすることができ、式（１）より大き
な反射率がえられると共に、電波の透過性が優れ、電波
と赤外線を効率よく分離することができる。しかも希土
類フッ化物は耐湿性にも優れており、信頼性の高い分離
板がえられる。
体基板の表面に、ゲルマニウム層と希土類フッ化物層と
をこの順序で交互にコーティングしているので、両層の
屈折率の差を大きくすることができ、式（１）より大き
な反射率がえられると共に、電波の透過性が優れ、電波
と赤外線を効率よく分離することができる。しかも希土
類フッ化物は耐湿性にも優れており、信頼性の高い分離
板がえられる。
【００２０】前記希土類フッ化物としてフッ化セリウム
またはフッ化セリウムを50重量％以上含む希土類フッ化
物の混合物を用いれば、安価に入手でき、取扱い易く、
前記特性の分離板を容易にうることができる。
またはフッ化セリウムを50重量％以上含む希土類フッ化
物の混合物を用いれば、安価に入手でき、取扱い易く、
前記特性の分離板を容易にうることができる。
【００２１】また、前記赤外線反射膜としてゲルマニウ
ムと希土類フッ化物とを５層以上21層以下で奇数回交互
に積層したばあいは、積層膜のクラックの発生を防止で
きるなど信頼性を低下させることなく、赤外線の反射率
が一層優れたものになる。
ムと希土類フッ化物とを５層以上21層以下で奇数回交互
に積層したばあいは、積層膜のクラックの発生を防止で
きるなど信頼性を低下させることなく、赤外線の反射率
が一層優れたものになる。
【００２２】また、前記赤外線反射膜のゲルマニウム層
と希土類フッ化物層の光学膜厚が、反射したい赤外線の
波長をλとして、λ／４に設定されるとともに、少なく
とも２種類の赤外線の波長の反射膜が積層されているば
あいは、広い範囲の赤外線の波長帯域で反射率が大きい
ものになる。
と希土類フッ化物層の光学膜厚が、反射したい赤外線の
波長をλとして、λ／４に設定されるとともに、少なく
とも２種類の赤外線の波長の反射膜が積層されているば
あいは、広い範囲の赤外線の波長帯域で反射率が大きい
ものになる。
【００２３】また、前記誘電体基板が石英ガラスまたは
石英ガラスを20重量％以上含むガラスからなるばあい
は、基板のコストを低減できると共に加工性に優れ、精
度のよい所定厚さの基板となり、電波の透過特性が向上
する。
石英ガラスを20重量％以上含むガラスからなるばあい
は、基板のコストを低減できると共に加工性に優れ、精
度のよい所定厚さの基板となり、電波の透過特性が向上
する。
【００２４】また、前記誘電体基板の厚さが、誘電体基
板の比誘電率をε、透過したい電波の波長をΛとして、
Λ／（２ε1/2）の整数倍となるように設定することに
より、誘電体基板から直接射出される電波と多重反射に
より射出される電波の位相が合致し、電波の無反射条件
を満たし、電波透過性の優れたものとなる。
板の比誘電率をε、透過したい電波の波長をΛとして、
Λ／（２ε1/2）の整数倍となるように設定することに
より、誘電体基板から直接射出される電波と多重反射に
より射出される電波の位相が合致し、電波の無反射条件
を満たし、電波透過性の優れたものとなる。
【００２５】また、本発明による電波と赤外線との分離
板の製法は、電子ビーム蒸着によって赤外線反射膜を積
層する際に、基板を130〜250℃に加熱しながら行うた
め、希土類フッ化物層でも剥離やクラックを生じること
がなく積層でき、密着性、耐湿性に優れた多層膜とな
る。
板の製法は、電子ビーム蒸着によって赤外線反射膜を積
層する際に、基板を130〜250℃に加熱しながら行うた
め、希土類フッ化物層でも剥離やクラックを生じること
がなく積層でき、密着性、耐湿性に優れた多層膜とな
る。
【００２６】
【実施例】つぎに図面を参照しながら本発明の電波と赤
外線との分離板について詳細に説明する。図１は、本発
明の一実施例である電波と赤外線との分離板の構造を示
す断面図、図２は、本発明の電波と赤外線との分離板を
製造するのに用いられる真空蒸着装置の説明図、図３は
電波と赤外線との分離板の電波透過特性を調べるための
構成図である。
外線との分離板について詳細に説明する。図１は、本発
明の一実施例である電波と赤外線との分離板の構造を示
す断面図、図２は、本発明の電波と赤外線との分離板を
製造するのに用いられる真空蒸着装置の説明図、図３は
電波と赤外線との分離板の電波透過特性を調べるための
構成図である。
【００２７】本発明の電波と赤外線との分離板21は、図
１に示されるように、電波を透過する誘電体基板１の上
に赤外線反射膜４が設けられ、赤外線反射膜４はゲルマ
ニウム層２と希土類のフッ化物層３との積層体であるこ
とに特徴がある。
１に示されるように、電波を透過する誘電体基板１の上
に赤外線反射膜４が設けられ、赤外線反射膜４はゲルマ
ニウム層２と希土類のフッ化物層３との積層体であるこ
とに特徴がある。
【００２８】誘電体基板１としては電波を損失させずに
透過させると共に、赤外線反射膜４を保持できる材料で
あればよく、ガラス基板やセラミック基板などを用いる
ことができるが、（１）その表面にコーティングされる
赤外線反射膜４の希土類フッ化物層３の密着性がよいこ
と、（２）前述の式（１）より、反射率を大きくするた
めには誘電体基板１の屈折率ｎsが大きいほどよいこ
と、（３）ガラスは加工性がよく、高い寸法精度がえら
れ、信頼性の高い製品がえられ易いこと、などの点から
ガラス基板が好んで用いられる。ガラスの中でも、二酸
化ケイ素は他の成分よりも比誘電率が3.2〜3.4程度と小
さく、電波の透過性がよいこと、およびつぎに述べる好
ましい基板の光学的厚さに対しても幾何学的厚さを厚く
できるため加工し易いことなどから、二酸化ケイ素を主
成分とする石英ガラスまたは少なくとも二酸化ケイ素の
含有率が20重量％以上のガラス基板がとくに好ましい。
透過させると共に、赤外線反射膜４を保持できる材料で
あればよく、ガラス基板やセラミック基板などを用いる
ことができるが、（１）その表面にコーティングされる
赤外線反射膜４の希土類フッ化物層３の密着性がよいこ
と、（２）前述の式（１）より、反射率を大きくするた
めには誘電体基板１の屈折率ｎsが大きいほどよいこ
と、（３）ガラスは加工性がよく、高い寸法精度がえら
れ、信頼性の高い製品がえられ易いこと、などの点から
ガラス基板が好んで用いられる。ガラスの中でも、二酸
化ケイ素は他の成分よりも比誘電率が3.2〜3.4程度と小
さく、電波の透過性がよいこと、およびつぎに述べる好
ましい基板の光学的厚さに対しても幾何学的厚さを厚く
できるため加工し易いことなどから、二酸化ケイ素を主
成分とする石英ガラスまたは少なくとも二酸化ケイ素の
含有率が20重量％以上のガラス基板がとくに好ましい。
【００２９】誘電体基板１の厚さは、電波をできるだけ
透過させ易い厚さに設定することが好ましい。すなわ
ち、赤外線反射膜４側から入射した電波は赤外線反射膜
４や誘電体基板１には殆ど吸収されないで誘電体基板１
側から射出されるが、誘電体基板１から空気中に射出す
る際に一部は反射して戻り、再度赤外線反射膜４との境
界面で反射して誘電体基板１から射出する。この電波の
位相を直接射出する電波の位相と合わせることにより相
殺されず、透過率を向上することができるため、電波の
波長をΛ、誘電体基板の比誘電率をεとしたとき、誘電
体基板の厚さをΛ／（２ε1/2）またはその整数倍にす
ることが好ましい。
透過させ易い厚さに設定することが好ましい。すなわ
ち、赤外線反射膜４側から入射した電波は赤外線反射膜
４や誘電体基板１には殆ど吸収されないで誘電体基板１
側から射出されるが、誘電体基板１から空気中に射出す
る際に一部は反射して戻り、再度赤外線反射膜４との境
界面で反射して誘電体基板１から射出する。この電波の
位相を直接射出する電波の位相と合わせることにより相
殺されず、透過率を向上することができるため、電波の
波長をΛ、誘電体基板の比誘電率をεとしたとき、誘電
体基板の厚さをΛ／（２ε1/2）またはその整数倍にす
ることが好ましい。
【００３０】赤外線反射膜４はゲルマニウム層２と希土
類のフッ化物層３とが交互にそれぞれλ／４の光学膜厚
（λは反射する赤外線の波長）で積層されたもので、積
層数は奇数層とし、両端はゲルマニウム層で形成されて
いる。前述の（１）式より積層数が多い程反射率が大き
くなり好ましいが、余り積層数が多くなると膜にクラッ
クが入り易くなるため、製造上21層程度が限度となる。
また下限については後述する具体的な各実施例に示され
るように５層で形成することにより、電波と赤外線とを
分離するのに充分な赤外線の反射率をうることができ
る。すなわち赤外線反射膜の積層数は５層から21層で形
成されることが好ましい。
類のフッ化物層３とが交互にそれぞれλ／４の光学膜厚
（λは反射する赤外線の波長）で積層されたもので、積
層数は奇数層とし、両端はゲルマニウム層で形成されて
いる。前述の（１）式より積層数が多い程反射率が大き
くなり好ましいが、余り積層数が多くなると膜にクラッ
クが入り易くなるため、製造上21層程度が限度となる。
また下限については後述する具体的な各実施例に示され
るように５層で形成することにより、電波と赤外線とを
分離するのに充分な赤外線の反射率をうることができ
る。すなわち赤外線反射膜の積層数は５層から21層で形
成されることが好ましい。
【００３１】本発明における赤外線反射膜４には低屈折
率層として希土類のフッ化物層３が用いられている。希
土類のフッ化物層３は屈折率が1.4程度と小さく、しか
も耐湿性に優れているため、安定した膜で高反射率がえ
られる。一方、希土類のフッ化物層３はコーティングし
てゲルマニウムとの交互多層膜を形成する際に、剥離や
クラックが生じ易いという製造上の問題があるが、後述
するように、希土類フッ化物のコーティング時に誘電体
基板を130〜250℃に加熱しながら行うことにより、この
問題を解決した。
率層として希土類のフッ化物層３が用いられている。希
土類のフッ化物層３は屈折率が1.4程度と小さく、しか
も耐湿性に優れているため、安定した膜で高反射率がえ
られる。一方、希土類のフッ化物層３はコーティングし
てゲルマニウムとの交互多層膜を形成する際に、剥離や
クラックが生じ易いという製造上の問題があるが、後述
するように、希土類フッ化物のコーティング時に誘電体
基板を130〜250℃に加熱しながら行うことにより、この
問題を解決した。
【００３２】希土類フッ化物としては、フッ化セリウム
またはフッ化セリウムを50重量％以上含む希土類フッ化
物の混合物が安価で入手し易いため好ましいが、その他
のフッ化ランタン、フッ化プラセオジム、フッ化ネオジ
ム、フッ化サマリウム、フッ化ユウロピウム、フッ化ガ
ドリニウム、フッ化テルビウム、フッ化ジスプロシウ
ム、フッ化ホルミウム、フッ化エルビウム、フッ化イッ
テルビウムなどの希土類フッ化物またはこれらの混合物
も屈折率は1.45〜1.6程度で、同様に使用することがで
きる。
またはフッ化セリウムを50重量％以上含む希土類フッ化
物の混合物が安価で入手し易いため好ましいが、その他
のフッ化ランタン、フッ化プラセオジム、フッ化ネオジ
ム、フッ化サマリウム、フッ化ユウロピウム、フッ化ガ
ドリニウム、フッ化テルビウム、フッ化ジスプロシウ
ム、フッ化ホルミウム、フッ化エルビウム、フッ化イッ
テルビウムなどの希土類フッ化物またはこれらの混合物
も屈折率は1.45〜1.6程度で、同様に使用することがで
きる。
【００３３】つぎに、赤外線反射膜４の積層体の形成法
について説明する。
について説明する。
【００３４】図２は前記電波と赤外線との分離板を製造
するための蒸着装置を示す説明図である。図２において
４は高真空をうるための真空容器、５は誘電体基板１を
取りつける基板取付けドームで、蒸着中は膜の均一性を
向上するために回転される。また基板取付けドーム５に
取りつけられた誘電体基板１はヒータ７によって加熱さ
れる。８は蒸着物質を入れるるつぼで、るつぼ回転ステ
ージ９によって、蒸着されるべき物質の入ったるつぼ８
が電子銃10から放出される電子ビームの当たる位置に移
動される。電子ビームによって加熱され、蒸発した物質
は誘電体基板１の表面に蒸着され、膜となる。この蒸着
膜の厚さは、真空容器４の上方に取りつけられた反射式
光学膜厚計11により、モニター用のガラス基板12の膜厚
を計測することによって測定され、所要の厚さになった
ときシャッター13を閉じる。以下、同様にして順次異な
る層の蒸着膜を所定の厚さだけ形成する。
するための蒸着装置を示す説明図である。図２において
４は高真空をうるための真空容器、５は誘電体基板１を
取りつける基板取付けドームで、蒸着中は膜の均一性を
向上するために回転される。また基板取付けドーム５に
取りつけられた誘電体基板１はヒータ７によって加熱さ
れる。８は蒸着物質を入れるるつぼで、るつぼ回転ステ
ージ９によって、蒸着されるべき物質の入ったるつぼ８
が電子銃10から放出される電子ビームの当たる位置に移
動される。電子ビームによって加熱され、蒸発した物質
は誘電体基板１の表面に蒸着され、膜となる。この蒸着
膜の厚さは、真空容器４の上方に取りつけられた反射式
光学膜厚計11により、モニター用のガラス基板12の膜厚
を計測することによって測定され、所要の厚さになった
ときシャッター13を閉じる。以下、同様にして順次異な
る層の蒸着膜を所定の厚さだけ形成する。
【００３５】前述のゲルマニウムと希土類のフッ化物の
多層膜を形成する際に、誘電体基板１を130〜250℃、さ
らに好ましくは160〜180℃に加熱しながら行うことによ
り、剥離やクラックが生じなく、しかも密着性や耐湿性
に優れた多層膜がえられる。これは加熱することによ
り、膜に発生する内部応力が最小となるためであり、13
0℃より低すぎると剥れて膜形成ができず、250℃より高
すぎると膜表面に無数のクラックが生じ好ましくない。
多層膜を形成する際に、誘電体基板１を130〜250℃、さ
らに好ましくは160〜180℃に加熱しながら行うことによ
り、剥離やクラックが生じなく、しかも密着性や耐湿性
に優れた多層膜がえられる。これは加熱することによ
り、膜に発生する内部応力が最小となるためであり、13
0℃より低すぎると剥れて膜形成ができず、250℃より高
すぎると膜表面に無数のクラックが生じ好ましくない。
【００３６】つぎに、電波と赤外線の分離板の分離特性
の検査法について説明する。分離特性は分離板を透過す
る電波の透過量と分離板により反射される赤外線の反射
率をそれぞれ測定することにより、電波の透過量が大き
く、赤外線の反射率が大きい程分離特性が良いという判
断に基づいている。この反射率は赤外線光学系における
他の光学素子とのバランスから、８〜12μｍの波長に対
しては少なくとも90％以上、３〜５μｍおよび８〜12μ
ｍの波長の広い範囲に対しては、80％以上であることが
望ましい。
の検査法について説明する。分離特性は分離板を透過す
る電波の透過量と分離板により反射される赤外線の反射
率をそれぞれ測定することにより、電波の透過量が大き
く、赤外線の反射率が大きい程分離特性が良いという判
断に基づいている。この反射率は赤外線光学系における
他の光学素子とのバランスから、８〜12μｍの波長に対
しては少なくとも90％以上、３〜５μｍおよび８〜12μ
ｍの波長の広い範囲に対しては、80％以上であることが
望ましい。
【００３７】図３は電波と赤外線との分離板の電波透過
性を調べるための装置の構成を示す図で、送信アンテナ
ホーン14と受信アンテナホーン15とのあいだに電波と赤
外線との分離板21を置く。送信機17と受信機18により、
一定の出力の電波に対し、分離板21を挿入しないばあい
に対し、分離板21を挿入したばあいの受信機18による受
信パワーの変化を測定することにより、分離板の挿入に
よる減衰の割合を測定した。なお、送信機の送信周波数
は94ＧＨｚで行った。この電磁波の透過率は、アンテナ
の利得特性から、−0.5ｄＢ以上であることが好まし
い。
性を調べるための装置の構成を示す図で、送信アンテナ
ホーン14と受信アンテナホーン15とのあいだに電波と赤
外線との分離板21を置く。送信機17と受信機18により、
一定の出力の電波に対し、分離板21を挿入しないばあい
に対し、分離板21を挿入したばあいの受信機18による受
信パワーの変化を測定することにより、分離板の挿入に
よる減衰の割合を測定した。なお、送信機の送信周波数
は94ＧＨｚで行った。この電磁波の透過率は、アンテナ
の利得特性から、−0.5ｄＢ以上であることが好まし
い。
【００３８】また赤外線の反射率はフーリエ変換赤外分
光光度計（商品名、堀場製作所（株）製）により、アル
ミニウムミラーを基準（赤外線の反射率98％）として測
定した。
光光度計（商品名、堀場製作所（株）製）により、アル
ミニウムミラーを基準（赤外線の反射率98％）として測
定した。
【００３９】また、この電波と赤外線との分離板の耐湿
性は、該分離板を高温、高湿槽の中に置き、温度50℃、
湿度95％以上に48時間曝したのち、コーティング面を目
視にて観察することにより、しみ、曇り、剥離などの有
無を確かめた。
性は、該分離板を高温、高湿槽の中に置き、温度50℃、
湿度95％以上に48時間曝したのち、コーティング面を目
視にて観察することにより、しみ、曇り、剥離などの有
無を確かめた。
【００４０】つぎに、具体的な実施例により、さらに詳
細に説明する。
細に説明する。
【００４１】［実施例１］誘電体基板１として厚さ1.73
ｍｍの石英ガラスからなるガラス基板を用い、赤外線反
射膜４は、基板１の温度を約180℃にして、電子ビーム
蒸着法によってゲルマニウム層２とフッ化セリウムから
なる希土類フッ化物層３をそれぞれ光学膜厚が2.5μｍ
になるように、この順序で交互に５層積層することによ
って形成した。なお、基板１の石英ガラスの厚さを1.73
ｍｍにしたのは、電波の周波数（94ＧＨｚ）に対して基
板１の比誘電率3.4の１／２乗と厚さとの積が電波の波
長3.2ｍｍの１／２の２倍とし、無反射条件に合致する
ようにしたためである。
ｍｍの石英ガラスからなるガラス基板を用い、赤外線反
射膜４は、基板１の温度を約180℃にして、電子ビーム
蒸着法によってゲルマニウム層２とフッ化セリウムから
なる希土類フッ化物層３をそれぞれ光学膜厚が2.5μｍ
になるように、この順序で交互に５層積層することによ
って形成した。なお、基板１の石英ガラスの厚さを1.73
ｍｍにしたのは、電波の周波数（94ＧＨｚ）に対して基
板１の比誘電率3.4の１／２乗と厚さとの積が電波の波
長3.2ｍｍの１／２の２倍とし、無反射条件に合致する
ようにしたためである。
【００４２】この分離板１による赤外線の分光反射率は
図５のＡに示すように、赤外線の波長８〜12μｍでの反
射率は90％以上で高い反射率を示すと共に、94ＧＨｚの
電波の透過率は−0.3ｄＢ以上であった。また耐湿性に
ついては前述の測定法により調べた結果、しみ、曇り、
剥離などは一切生じなかった。
図５のＡに示すように、赤外線の波長８〜12μｍでの反
射率は90％以上で高い反射率を示すと共に、94ＧＨｚの
電波の透過率は−0.3ｄＢ以上であった。また耐湿性に
ついては前述の測定法により調べた結果、しみ、曇り、
剥離などは一切生じなかった。
【００４３】［実施例２］電波と赤外線との分離板21と
して、厚さ1.47ｍｍで石英の含有率が64重量％、酸化ア
ルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）の含有率が25重量％、残りが他
の酸化物である、ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3−ＭｇＯ−Ｎａ2Ｏ
を組成とするアルミノケイ酸塩ガラスからなるガラス基
板１を用い、実施例１と同様、図１に示すように、その
表面にこのガラス基板１の温度を180℃にして、前述の
電子ビーム蒸着法によってゲルマニウムと、フッ化セリ
ウムの含有率が70重量％、その他の希土類フッ化物であ
るフッ化ランタン（ＬａＦ3）、フッ化ネオジム（Ｎｄ
Ｆ3）の含有率が30重量％である混合物との交互多層膜
を、それぞれ光学膜厚が2.5μｍになるように、この順
序で５層積層することによって形成した。
して、厚さ1.47ｍｍで石英の含有率が64重量％、酸化ア
ルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）の含有率が25重量％、残りが他
の酸化物である、ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3−ＭｇＯ−Ｎａ2Ｏ
を組成とするアルミノケイ酸塩ガラスからなるガラス基
板１を用い、実施例１と同様、図１に示すように、その
表面にこのガラス基板１の温度を180℃にして、前述の
電子ビーム蒸着法によってゲルマニウムと、フッ化セリ
ウムの含有率が70重量％、その他の希土類フッ化物であ
るフッ化ランタン（ＬａＦ3）、フッ化ネオジム（Ｎｄ
Ｆ3）の含有率が30重量％である混合物との交互多層膜
を、それぞれ光学膜厚が2.5μｍになるように、この順
序で５層積層することによって形成した。
【００４４】なお、ガラス基板１の厚さを1.47ｍｍにし
たのは、電波の周波数に対してガラス基板１の比誘電率
4.7の１／２乗と厚さとの積が電波の波長3.2ｍｍの１／
２の２倍とし、無反射条件に合致するようにしたためで
ある。
たのは、電波の周波数に対してガラス基板１の比誘電率
4.7の１／２乗と厚さとの積が電波の波長3.2ｍｍの１／
２の２倍とし、無反射条件に合致するようにしたためで
ある。
【００４５】また、同じガラスの組成でも二酸化ケイ素
の含有比率が高くなると誘電率が小さくなるため、前述
のように、二酸化ケイ素の含有率は20重量％以上にする
ことが望ましい。
の含有比率が高くなると誘電率が小さくなるため、前述
のように、二酸化ケイ素の含有率は20重量％以上にする
ことが望ましい。
【００４６】この分離板による赤外線の分光反射率は実
施例１と同じで、図５のＡに示すように、赤外線の波長
８〜12μｍでの反射率が90％以上と高い反射率を示すと
共に、94ＧＨｚの電波の透過率は−0.4ｄＢ以上であっ
た。また耐湿性に付いては前述の測定法で調べた結果、
しみ、曇り、剥離などは一切生じなかった。
施例１と同じで、図５のＡに示すように、赤外線の波長
８〜12μｍでの反射率が90％以上と高い反射率を示すと
共に、94ＧＨｚの電波の透過率は−0.4ｄＢ以上であっ
た。また耐湿性に付いては前述の測定法で調べた結果、
しみ、曇り、剥離などは一切生じなかった。
【００４７】［実施例３］電波と赤外線との分離板21と
して、図４に示すように、誘電体基板１として厚さ1.73
ｍｍの石英ガラスからなる基板１に、この基板１の温度
を180℃にして、前述の電子ビーム蒸着によってゲルマ
ニウム層２とフッ化セリウムからなる希土類フッ化物層
３との交互多層膜をこの順序で交互に７層積層すること
により電波と赤外線との分離板とした。７層のうち下層
の３層２ａ、３ａ、２ｂは光学膜厚を2.5μｍ、４層目
のフッ化セリウム層３ｂは光学膜厚を0.8μｍ、上層の
３層２ｃ、３ｃ、２ｄは光学膜厚を１μｍとした。下層
の３層２ａ、３ａ、２ｂは波長が８〜12μｍの赤外線に
対し高反射率となる作用を有し、上層の３層２ｃ、３
ｃ、２ｄは波長が３〜５μｍの赤外線に対し高反射率と
なる作用を有するもので、中間にあるフッ化セリウム層
３ｂはその両者の効果が相殺しないようにするための調
整層である。
して、図４に示すように、誘電体基板１として厚さ1.73
ｍｍの石英ガラスからなる基板１に、この基板１の温度
を180℃にして、前述の電子ビーム蒸着によってゲルマ
ニウム層２とフッ化セリウムからなる希土類フッ化物層
３との交互多層膜をこの順序で交互に７層積層すること
により電波と赤外線との分離板とした。７層のうち下層
の３層２ａ、３ａ、２ｂは光学膜厚を2.5μｍ、４層目
のフッ化セリウム層３ｂは光学膜厚を0.8μｍ、上層の
３層２ｃ、３ｃ、２ｄは光学膜厚を１μｍとした。下層
の３層２ａ、３ａ、２ｂは波長が８〜12μｍの赤外線に
対し高反射率となる作用を有し、上層の３層２ｃ、３
ｃ、２ｄは波長が３〜５μｍの赤外線に対し高反射率と
なる作用を有するもので、中間にあるフッ化セリウム層
３ｂはその両者の効果が相殺しないようにするための調
整層である。
【００４８】この分離板による赤外線の反射率は図６に
示すように、赤外線の波長３〜５μｍに対しても90％以
上の反射率がえられると共に、波長が８〜12μｍの赤外
線に対しても平均の反射率で少なくとも80％以上の高い
反射率がえられた。本実施例では波長が８〜12μｍの赤
外線に対して、反射率が実施例１および２より劣ってい
るのは、積層数が８〜12μｍの波長用として３層で形成
されているためと考えられる。本実施例のように目的に
応じた赤外線の波長に対する光学膜厚の積層膜を形成す
ることにより、広い範囲の赤外線反射膜を形成すること
ができる。また、電波の透過率に関しては−0.4ｄＢ以
上で実施例２と変らなかった。また、耐湿性については
前述の測定法により調べた結果、しみ、曇り、剥離など
は一切生じなかった。
示すように、赤外線の波長３〜５μｍに対しても90％以
上の反射率がえられると共に、波長が８〜12μｍの赤外
線に対しても平均の反射率で少なくとも80％以上の高い
反射率がえられた。本実施例では波長が８〜12μｍの赤
外線に対して、反射率が実施例１および２より劣ってい
るのは、積層数が８〜12μｍの波長用として３層で形成
されているためと考えられる。本実施例のように目的に
応じた赤外線の波長に対する光学膜厚の積層膜を形成す
ることにより、広い範囲の赤外線反射膜を形成すること
ができる。また、電波の透過率に関しては−0.4ｄＢ以
上で実施例２と変らなかった。また、耐湿性については
前述の測定法により調べた結果、しみ、曇り、剥離など
は一切生じなかった。
【００４９】［実施例４］電波と赤外線との分離板21
を、図１に示すように、誘電体基板１として石英ガラス
からなる基板１の厚さを7.8ｍｍとすることのほかは、
実施例１と同様の構成により形成した。なお、基板１の
石英ガラスの厚さを7.8ｍｍにしたのは、電波の周波数
に対して基板の比誘電率3.74の１／２乗と基板の厚さと
の積が電波の波長30ｍｍの１／２倍とし、無反射条件に
合致するようにしたためである。
を、図１に示すように、誘電体基板１として石英ガラス
からなる基板１の厚さを7.8ｍｍとすることのほかは、
実施例１と同様の構成により形成した。なお、基板１の
石英ガラスの厚さを7.8ｍｍにしたのは、電波の周波数
に対して基板の比誘電率3.74の１／２乗と基板の厚さと
の積が電波の波長30ｍｍの１／２倍とし、無反射条件に
合致するようにしたためである。
【００５０】この分離板による赤外線の反射率は実施例
１と同じで、図５のＡに示すように、赤外線の波長８〜
12μｍでの反射率が90％以上の高い反射率を示してい
る。本実施例では、電波の周波数が10ＧＨｚのばあいに
透過率が低下しないように基板１の厚さを調整したもの
で、図３に示す構成で送信機17の発振周波数を10ＧＨｚ
にして電波の透過率を調べた結果、−0.25ｄＢ以上とな
り、94ＧＨｚのばあいより一層よい透過率をうることが
できた。また、耐湿性については前述の測定法により調
べた結果、実施例１と同様にしみ、曇り、剥離などは生
じなかった。
１と同じで、図５のＡに示すように、赤外線の波長８〜
12μｍでの反射率が90％以上の高い反射率を示してい
る。本実施例では、電波の周波数が10ＧＨｚのばあいに
透過率が低下しないように基板１の厚さを調整したもの
で、図３に示す構成で送信機17の発振周波数を10ＧＨｚ
にして電波の透過率を調べた結果、−0.25ｄＢ以上とな
り、94ＧＨｚのばあいより一層よい透過率をうることが
できた。また、耐湿性については前述の測定法により調
べた結果、実施例１と同様にしみ、曇り、剥離などは生
じなかった。
【００５１】［比較例１］前記各実施例と比較するた
め、赤外線反射膜４としてゲルマニウムと硫化亜鉛の積
層膜を用い、電波と赤外線との分離板を、厚さ1.73ｍｍ
の石英からなるガラス基板の表面に光学膜厚が2.5μｍ
のゲルマニウムと硫化亜鉛を実施例１と同様に、この順
序で交互に５層積層することによって形成した。
め、赤外線反射膜４としてゲルマニウムと硫化亜鉛の積
層膜を用い、電波と赤外線との分離板を、厚さ1.73ｍｍ
の石英からなるガラス基板の表面に光学膜厚が2.5μｍ
のゲルマニウムと硫化亜鉛を実施例１と同様に、この順
序で交互に５層積層することによって形成した。
【００５２】この分離板による赤外線の反射率は、図５
のＢに示すように、波長が８μｍや12μｍでは反射率が
80％程度に低下すると共に、そのあいだの波長に対して
も平均88％程度で実施例１、２および４より低下してい
ることがわかる。また、耐湿性について前述の測定法に
より調べた結果、しみが発生していることが確かめられ
た。
のＢに示すように、波長が８μｍや12μｍでは反射率が
80％程度に低下すると共に、そのあいだの波長に対して
も平均88％程度で実施例１、２および４より低下してい
ることがわかる。また、耐湿性について前述の測定法に
より調べた結果、しみが発生していることが確かめられ
た。
【００５３】［比較例２］さらに、前記各実施例と比較
するため、赤外線反射膜４としてゲルマニウムとフッ化
カルシウムの積層膜を用い、電波と赤外線との分離板
を、厚さ1.73ｍｍの石英ガラスからなる基板１の表面に
光学膜厚がそれぞれ2.5μｍのゲルマニウムとフッ化カ
ルシウムを実施例１と同様にこの順序で交互に５層積層
することにより形成した。その結果、耐湿性について前
述の測定法により調べた結果、曇りが発生していること
が確かめられた。
するため、赤外線反射膜４としてゲルマニウムとフッ化
カルシウムの積層膜を用い、電波と赤外線との分離板
を、厚さ1.73ｍｍの石英ガラスからなる基板１の表面に
光学膜厚がそれぞれ2.5μｍのゲルマニウムとフッ化カ
ルシウムを実施例１と同様にこの順序で交互に５層積層
することにより形成した。その結果、耐湿性について前
述の測定法により調べた結果、曇りが発生していること
が確かめられた。
【００５４】［比較例３］電波と赤外線との分離板の製
造方法として、厚さ1.73ｍｍの石英ガラスからなる基板
１の表面に、ゲルマニウムとフッ化セリウムを電子ビー
ム蒸着するときに、この基板１の温度を（Ａ）70℃、
（Ｂ）270℃の２種類の加熱をしながら、ゲルマニウム
とフッ化セリウムの交互多層膜を、光学膜厚が2.5μｍ
になるように、この順序で５層積層することによって電
波と赤外線との分離板を形成した。
造方法として、厚さ1.73ｍｍの石英ガラスからなる基板
１の表面に、ゲルマニウムとフッ化セリウムを電子ビー
ム蒸着するときに、この基板１の温度を（Ａ）70℃、
（Ｂ）270℃の２種類の加熱をしながら、ゲルマニウム
とフッ化セリウムの交互多層膜を、光学膜厚が2.5μｍ
になるように、この順序で５層積層することによって電
波と赤外線との分離板を形成した。
【００５５】このようにして形成された電波と赤外線と
の分離板は、基板温度を（Ａ）の70℃としたばあい、フ
ッ化セリウム層はコーティングの途中で剥離が発生し、
赤外線の高反射交互多層膜を形成することができなかっ
た。また、基板温度を（Ｂ）の270℃としたばあい、蒸
着後のコーティング面に、無数のクラックが発生してい
た。
の分離板は、基板温度を（Ａ）の70℃としたばあい、フ
ッ化セリウム層はコーティングの途中で剥離が発生し、
赤外線の高反射交互多層膜を形成することができなかっ
た。また、基板温度を（Ｂ）の270℃としたばあい、蒸
着後のコーティング面に、無数のクラックが発生してい
た。
【００５６】以上説明した、実施例１から４の電波の透
過率を表にまとめると、表１のようになる。なお、この
ときの電波の周波数すなわち、送信機17からの送信周波
数は実施例１から３が94ＧＨｚ、実施例４が10ＧＨｚ
で、透過率をデシベル（ｄＢ）で表した。
過率を表にまとめると、表１のようになる。なお、この
ときの電波の周波数すなわち、送信機17からの送信周波
数は実施例１から３が94ＧＨｚ、実施例４が10ＧＨｚ
で、透過率をデシベル（ｄＢ）で表した。
【００５７】
【表１】 表１からわかるように、本発明の電波と赤外線との分離
板は、レーダで使用される周波数が５〜110ＧＨｚ範囲
でも電波の透過率が−0.5ｄＢ以上であり、高い電波の
透過性を有していることがわかる。したがって、本発明
による電波と赤外線との分離板によって、電波を透過し
赤外線を反射することにより電波と赤外線を分離するこ
とが可能になり、実用上多大な効果がえられる。
板は、レーダで使用される周波数が５〜110ＧＨｚ範囲
でも電波の透過率が−0.5ｄＢ以上であり、高い電波の
透過性を有していることがわかる。したがって、本発明
による電波と赤外線との分離板によって、電波を透過し
赤外線を反射することにより電波と赤外線を分離するこ
とが可能になり、実用上多大な効果がえられる。
【００５８】［実施例５］前記の各実施例では、希土類
フッ化物としてフッ化セリウム、またはフッ化セリウム
を主成分としたものを用いたが、これらの代りに、Ｌａ
Ｆ3（フッ化ランタン）、ＰｒＦ3（フッ化プラセオジ
ム）、ＮｄＦ3（フッ化ネオジム）、ＳｍＦ3（フッ化サ
マリウム）、ＥｕＦ3（フッ化ユウロピウム）、ＧｄＦ3
（フッ化ガドリニウム）、ＴｂＦ3（フッ化テルビウ
ム）、ＤｙＦ3（フッ化ジスプロシウム）、ＨｏＦ3（フ
ッ化ホルミウム）、ＥｒＦ3（フッ化エルビウム）、Ｙ
ｂＦ3（フッ化イッテルビウム）などの他の希土類フッ
化物を用いても同様の効果がえられた。
フッ化物としてフッ化セリウム、またはフッ化セリウム
を主成分としたものを用いたが、これらの代りに、Ｌａ
Ｆ3（フッ化ランタン）、ＰｒＦ3（フッ化プラセオジ
ム）、ＮｄＦ3（フッ化ネオジム）、ＳｍＦ3（フッ化サ
マリウム）、ＥｕＦ3（フッ化ユウロピウム）、ＧｄＦ3
（フッ化ガドリニウム）、ＴｂＦ3（フッ化テルビウ
ム）、ＤｙＦ3（フッ化ジスプロシウム）、ＨｏＦ3（フ
ッ化ホルミウム）、ＥｒＦ3（フッ化エルビウム）、Ｙ
ｂＦ3（フッ化イッテルビウム）などの他の希土類フッ
化物を用いても同様の効果がえられた。
【００５９】
【発明の効果】本発明の電波と赤外線との分離板によれ
ば、誘電体基板の表面に赤外線反射膜として、ゲルマニ
ウム層と希土類フッ化物層とをそれぞれ光学膜厚がλ／
４になるように交互に積層しているため、その赤外線反
射膜は赤外線の反射率が大きく、耐湿性を有していると
共に、電波の透過率が大きく、低コストで分離特性のよ
い分離板がえられる。
ば、誘電体基板の表面に赤外線反射膜として、ゲルマニ
ウム層と希土類フッ化物層とをそれぞれ光学膜厚がλ／
４になるように交互に積層しているため、その赤外線反
射膜は赤外線の反射率が大きく、耐湿性を有していると
共に、電波の透過率が大きく、低コストで分離特性のよ
い分離板がえられる。
【００６０】また誘電体基板を加熱しながら電子ビーム
蒸着によりゲルマニウム層とフッ化物層を積層すること
により、剥離やクラックがなく密着性、耐湿性に優れた
赤外線反射膜がえられる。
蒸着によりゲルマニウム層とフッ化物層を積層すること
により、剥離やクラックがなく密着性、耐湿性に優れた
赤外線反射膜がえられる。
【図１】本発明の電波と赤外線との分離板の一実施例の
構造を示す断面説明図である。
構造を示す断面説明図である。
【図２】本発明の電波と赤外線との分離板の製造するの
に用いられる真空蒸着装置の説明図である。
に用いられる真空蒸着装置の説明図である。
【図３】電波と赤外線との分離板の電波の透過性を調べ
るための装置の構成図である。
るための装置の構成図である。
【図４】本発明の電波と赤外線との分離板の他の実施例
の構造を示す断面説明図である。
の構造を示す断面説明図である。
【図５】本発明の実施例１、２、４および比較例１の赤
外線の分光反射率を示す図である。
外線の分光反射率を示す図である。
【図６】本発明の実施例３の赤外線の分光反射率を示す
図である。
図である。
１ 誘電体基板 ２ ゲルマニウム層 ３ 希土類フッ化物層 ４ 赤外線反射膜 ７ ヒータ 21 電波と赤外線との分離板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C23C 14/00 - 14/58 G02B 5/28 H01Q 15/14
Claims (7)
- 【請求項１】 誘電体基板の表面に電波を透過し赤外線
を反射する赤外線反射膜が設けられ、該赤外線反射膜は
ゲルマニウムと希土類フッ化物とがこの順序で交互に積
層されてなる電波と赤外線との分離板。 - 【請求項２】 前記希土類フッ化物がフッ化セリウムま
たはフッ化セリウムを50重量％以上含む希土類フッ化物
の混合物である請求項１記載の電波と赤外線との分離
板。 - 【請求項３】 前記赤外線反射膜はゲルマニウムと希土
類フッ化物とがこの順序で交互に５層以上21層以下の奇
数回積層されてなる請求項１記載の電波と赤外線との分
離板。 - 【請求項４】 前記赤外線反射膜のゲルマニウム層と希
土類フッ化物層のそれぞれの光学膜厚が反射したい赤外
線の波長をλとしてλ／４に設定され、少なくとも２種
類の赤外線の波長の反射膜が積層されてなる請求項１記
載の電波と赤外線との分離板。 - 【請求項５】 前記誘電体基板が石英ガラスまたは石英
ガラスを20重量％以上含むガラスからなる請求項１記載
の電波と赤外線との分離板。 - 【請求項６】 前記誘電体基板の厚さが、該誘電体基板
の比誘電率をε、透過したい電波の波長をΛとして、Λ
／（２ε1/2）の整数倍となるように設定されてなる請
求項１記載の電波と赤外線との分離板。 - 【請求項７】 誘電体基板の表面にゲルマニウム層と希
土類フッ化物層とをこの順序で交互に電子ビーム蒸着に
よって積層して赤外線反射膜を形成する電波と赤外線と
の分離板の製法であって、前記誘電体基板を130〜250℃
に加熱しながら前記ゲルマニウム層および希土類フッ化
物層を積層することを特徴とする電波と赤外線との分離
板の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05112809A JP3130406B2 (ja) | 1993-05-14 | 1993-05-14 | 電波と赤外線との分離板およびその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05112809A JP3130406B2 (ja) | 1993-05-14 | 1993-05-14 | 電波と赤外線との分離板およびその製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06322520A JPH06322520A (ja) | 1994-11-22 |
| JP3130406B2 true JP3130406B2 (ja) | 2001-01-31 |
Family
ID=14596079
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP05112809A Expired - Fee Related JP3130406B2 (ja) | 1993-05-14 | 1993-05-14 | 電波と赤外線との分離板およびその製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3130406B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101802248B (zh) * | 2007-09-18 | 2013-10-16 | 信越聚合物株式会社 | 电波透过性装饰构件 |
| WO2009038116A1 (ja) * | 2007-09-18 | 2009-03-26 | Shin-Etsu Polymer Co., Ltd. | 電波透過性装飾部材 |
| JP5017207B2 (ja) * | 2007-09-18 | 2012-09-05 | 信越ポリマー株式会社 | 電波透過性装飾部材 |
| JP2011025634A (ja) * | 2009-07-29 | 2011-02-10 | Mitsubishi Electric Corp | 電磁波透過性加飾部品 |
| DE102011016683A1 (de) * | 2011-01-27 | 2012-08-02 | Oerlikon Trading Ag, Trübbach | Radartransparente Beschichtung |
| JP5528591B2 (ja) * | 2013-02-28 | 2014-06-25 | 三菱電機株式会社 | 電磁波透過性加飾部品 |
| CN114236661B (zh) * | 2021-11-11 | 2023-09-08 | 中国航空工业集团公司洛阳电光设备研究所 | 单晶锗红外晶体分光镜、及激光长波红外分束膜制备方法 |
-
1993
- 1993-05-14 JP JP05112809A patent/JP3130406B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06322520A (ja) | 1994-11-22 |
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