JP2007298661A - 赤外光用反射防止膜 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 Si基板1の一方の面に、Ge層2、ZnS層3、Ge層4、ZnS層5及びフッ化イットリウム(YF3 )層を前記Si基板1側から順に積層し、これら各層それぞれの光学膜厚を、1.79μm、2.50μm、0.93μm、6.00μm及び5.38μmに設定して6〜12μm付近の赤外波長領域で90%以上の透過特性となるように構成されている。
【選択図】 図1
Description
図1は、本発明に係る赤外光用反射防止膜の多層膜構造を示す概略縦断面図であり、同図において、1はシリコン(Si)基板であり、このSi基板1は1mmの厚さを有し、その一方の面上に、第1ゲルマニウム(Ge)層2、第1硫化亜鉛(ZnS)層3、第2Ge層4、第2ZnS層5及びフッ化イットリウム(YF3 )層6を、前記Si基板1側から順に積層してなる。
ここで、実際には、各層の屈折率は成膜条件により多少変化するとともに、屈折率の波長分散によって広い波長範囲で一様な値にならないが、上述したような各層それぞれの光学膜厚は、各層材料の波長10μm付近の屈折率を、Ge=4.25、ZnS=2.3、YF3 =1.5とみなして設定している。
まず、Si基板1等をホルダ11にセットした上で、ヒータ12を作動させてSi基板1等を100℃以下、詳しくは、60℃以上100℃以下に加熱し、その加熱温度を維持しつつ、電子銃加熱源15の電子銃14から放射される電子ビームをハース13に照射して該ハース13を加熱することにより、ハース13に充填されているYF3 を蒸発させて1〜15Å/sec.の速度で成膜を開始する。
2 第1ゲルマニウム(Ge)層
3 第1硫化亜鉛(ZnS)層
4 第2Ge層
5 第2ZnS層
6 フッ化イットリウム(YF3 )層
Claims (3)
- シリコン基板に複数の薄膜が積層状態に形成されてなる赤外光用反射防止膜であって、
前記シリコン基板の少なくとも一方の面に、ゲルマニウム層、硫化亜鉛層、ゲルマニウム層、硫化亜鉛層及びフッ化イットリウム層を前記シリコン基板側から順に積層し、これら各層それぞれの光学膜厚を6〜12μm付近の赤外波長領域で90%以上の透過特性となるように設定して構成されていることを特徴とする赤外光用反射防止膜。 - 前記ゲルマニウム層、硫化亜鉛層、ゲルマニウム層、硫化亜鉛層及びフッ化イットリウム層の光学膜厚が、1.79μm、2.50μm、0.93μm、6.00μm及び5.38μmに設定されている請求項1に記載の赤外光用反射防止膜。
- 前記シリコン基板の両面に、前記したと同一のゲルマニウム層、硫化亜鉛層、ゲルマニウム層、硫化亜鉛層及びフッ化イットリウム層が形成されている請求項1または2に記載の赤外光用反射防止膜。
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