WO2022244686A1

WO2022244686A1 - 遠赤外線透過部材の製造方法及び遠赤外線透過部材

Info

Publication number: WO2022244686A1
Application number: PCT/JP2022/020170
Authority: WO
Inventors: 容二安井; 康幸滝本
Original assignee: Ａｇｃ株式会社
Priority date: 2021-05-20
Filing date: 2022-05-13
Publication date: 2022-11-24
Also published as: JPWO2022244686A1; EP4343392A1

Abstract

遠赤外線透過率の高い遠赤外線透過部材の製造方法。遠赤外線を透過する基材上に、ＮｉＯとＮｉとの混合ターゲットを用い、Ａｒガスと酸素ガスの混合雰囲気下でスパッタリングして、酸化ニッケル層を１層以上含む遠赤外線透過膜を形成する、遠赤外線透過部材の製造方法において、混合ターゲット中のＮｉＯの含有率が、混合ターゲットの全体に対して、３０質量％以上１００質量％未満であり、混合雰囲気中の酸素ガスの体積流量比率が、Ａｒガスと酸素ガスの合計体積流量に対して１％以上５０％未満である、遠赤外線透過部材の製造方法。

Description

遠赤外線透過部材の製造方法及び遠赤外線透過部材

　本発明は、遠赤外線透過部材の製造方法及び遠赤外線透過部材に関する。

　例えば車両などに遠赤外線センサを取り付ける際に、遠赤外線センサに遠赤外線が適切に入射するように、遠赤外線の反射を抑制して透過光量を増大させるための遠赤外線透過膜を設ける場合がある。例えば非特許文献１、２には、Ｓｉ基板上に、遠赤外線透過膜として酸化ニッケル膜を形成する旨が記載されている。

　遠赤外線の透過光量を増大させるための遠赤外線透過膜は、遠赤外線の吸収損失を低減することにより、遠赤外線透過率を増大させることが重要であるが、例えば非特許文献１、２に依れば、Ｓｉ基板上にＲＦマグネトロンスパッタ法により形成した酸化ニッケル膜を３００℃以上の温度でアニール処理することで、遠赤外線透過率の高い酸化ニッケル膜を得ることができる。

Ｈｙｕｎ　Ｂｉｎ　Ｓｈｉｍ　他、Ｃｏｎｔｒｏｌｌｉｎｇ　ｔｈｅ　ｉｎｆｒａｒｅｄ　ｏｐｔｉｃａｌ　ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ　ｏｆ　ｒｆ－ｓｐｕｔｔｅｒｅｄ　ＮｉＯ　ｆｉｌｍｓ　ｆｏｒ　ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ　ｏｆ　ｉｎｆｒａｒｅｄ　ｗｉｎｄｏｗ、　Ｉｎｆｒａｒｅｄ　Ｐｈｙｓｉｃｓ　ａｎｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ　７２（２０１５）、１３５－１３９Ｈｙｕｎ　Ｂｉｎ　Ｓｈｉｍ　他、Ｎｉｃｋｅｌ　ｏｘｉｄｅ　ｆｉｌｍ　ａｓ　ａｎ　ＡＲ　ｃｏａｔｉｎｇ　ｏｆ　Ｓｉ　ｗｉｎｄｏｗ　ｆｏｒ　ＩＲｓｅｎｓｏｒ　ｐａｃｋａｇｉｎｇ、　Ｉｎｆｒａｒｅｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ　ａｎｄ　Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ　ＸＸＸＩＸ、　Ｐｒｏｃ．ｏｆ　ＳＰＩＥ　Ｖｏｌ，８７０４　８７０４２０－１

　しかしながら、非特許文献１、２に記載の３００℃以上の高温アニール処理を行うと、使用可能な赤外線透過性基材が制限される、赤外線透過性基材と遠赤外線透過膜の熱膨張率差により膜剥がれが生じる、さらにはプロセスコストが増大する、といった課題がある。従って、高温アニール処理が不要な方法で、遠赤外線透過率の高い遠赤外線透過部材を製造することが求められている。

　本発明は、高温アニール処理を行うことなく、遠赤外線透過率の高い遠赤外線透過部材を製造する方法及び遠赤外線透過部材を提供することを目的とする。

　上述した課題を解決し、目的を達成するために、本開示に係る遠赤外線透過部材の製造方法は、遠赤外線を透過する基材上に、ＮｉＯとＮｉとの混合ターゲットを用い、Ａｒガスと酸素ガスの混合雰囲気下でスパッタリングして酸化ニッケル層を１層以上含む遠赤外線透過膜を形成する、遠赤外線透過部材の製造方法において、前記混合ターゲット中のＮｉＯの含有率が、前記混合ターゲットの全体に対して３０質量％以上１００質量％未満であり、前記混合雰囲気中の酸素ガスの体積流量比率が、Ａｒガスと酸素ガスの合計体積流量に対して１％以上５０％未満とする。
　また、本開示に係る赤外線透過部材は、遠赤外線を透過する基材と、前記基材上に形成された機能膜とを含み、前記機能膜が、ニッケルのＫ吸収端のＸ線吸収微細構造（ＸＡＮＥＳ）スペクトルのピークトップエネルギーが８３４７．１ｅＶ以下である酸化ニッケル層を１層以上含むことを特徴とする。
　さらに、本開示に係る赤外線透過部材は、遠赤外線を透過する基材と、前記基材上に形成された機能膜とを含み、前記機能膜が、１０μｍの波長の光に対する消衰係数が、０．０２５以下である酸化ニッケル層を１層以上含むことを特徴とする。

　本発明によれば、高温アニール処理をせずとも、遠赤外線透過率の高い遠赤外線透過部材を得ることができる。

図１は、本実施形態に係る車両用ガラスが車両に搭載された状態を示す模式図である。図２は、第１実施形態に係る車両用ガラス１の概略平面図である。図３は、図２のＡ－Ａ線に沿った断面図である。図４は、図２のＢ－Ｂ断面に沿った断面図である。図５は、本実施形態に係る遠赤外線透過部材の模式的な断面図である。図６は、本実施形態の他の例に係る遠赤外線透過部材の模式的な断面図である。図７は、本実施形態の他の例に係る遠赤外線透過部材の模式的な断面図である。図８は、実施例のサンプルの遠赤外線透過性能を示す図である。図９は、実施例のサンプルの波長８μｍ～１２μｍの光に対する平均透過率と、酸化ニッケル層の１０μｍの波長の光に対する消衰係数との関係を示す図である。図１０は、実施例のサンプルの波長８μｍ～１２μｍの光に対する平均透過率と、Ｅ（Ｓ）との関係を示す図である。

　以下に添付図面を参照して、本発明の好適な実施形態を詳細に説明する。なお、この実施形態により本発明が限定されるものではなく、また、実施形態が複数ある場合には、各実施形態を組み合わせて構成するものも含むものである。また、数値については四捨五入の範囲が含まれる。

　（車両）
　図１は、本実施形態に係る車両用ガラスが車両に搭載された状態を示す模式図である。図１に示すように、本実施形態に係る車両用ガラス１は、車両Ｖに搭載される。車両用ガラス１は、車両Ｖのフロントガラスに適用される窓膜である。すなわち、車両用ガラス１は、車両Ｖのフロントウィンドウ、言い換えれば風防ガラスとして用いられている。車両Ｖの内部（車内）には、遠赤外カメラＣＡ１及び可視光カメラＣＡ２が搭載されている。なお、車両Ｖの内部（車内）とは、例えばドライバーの運転席が設けられる車室内を指す。

　車両用ガラス１、遠赤外カメラＣＡ１及び可視光カメラＣＡ２は、本実施形態に係るカメラユニット１００を構成している。遠赤外カメラＣＡ１は、遠赤外線を検出するカメラであり、車両Ｖの外部からの遠赤外線を検出することで、車両Ｖの外部の熱画像を撮像する。可視光カメラＣＡ２は、可視光を検出するカメラであり、車両Ｖの外部からの可視光を検出することで、車両Ｖの外部の画像を撮像する。なお、カメラユニット１００は、遠赤外カメラＣＡ１及び可視光カメラＣＡ２以外にも、例えばＬｉＤＡＲやミリ波レーダーをさらに備えてもよい。ここでの遠赤外線とは、例えば、波長が８μｍ～１３μｍの波長帯の電磁波であり、可視光とは、例えば、波長が３６０ｎｍ～８３０ｎｍの波長帯の電磁波である。また、ここでの８μｍ～１３μｍ、３６０ｎｍ～８３０ｎｍとは、８μｍ以上１３μｍ以下、３６０ｎｍ以上８３０ｎｍ以下を指し、以降でも同様である。なお、遠赤外線を、波長が８μｍ～１２μｍの波長帯の電磁波としてもよい。

　（車両用ガラス）
　図２は、第１実施形態に係る車両用ガラス１の概略平面図である。図３は、図２のＡ－Ａ線に沿った断面図である。図４は、図２のＢ－Ｂ断面に沿った断面図である。図２に示すように、以下、車両用ガラス１の上縁を、上縁部１ａとし、下縁を、下縁部１ｂとし、一方の側縁を、側縁部１ｃとし、他方の側縁を、側縁部１ｄとする。上縁部１ａは、車両用ガラス１を車両Ｖに搭載した際に、鉛直方向上側に位置する縁部分である。下縁部１ｂは、車両用ガラス１を車両Ｖに搭載した際に、鉛直方向下側に位置する縁部分である。側縁部１ｃは、車両用ガラス１を車両Ｖに搭載した際に、一方の側方側に位置する縁部分である。側縁部１ｄは、車両用ガラス１を車両Ｖに搭載した際に、他方の側方側に位置する縁部分である。

　以下、車両用ガラス１の表面に平行な方向のうち、上縁部１ａから下縁部１ｂに向かう方向を、Ｙ方向とし、側縁部１ｃから側縁部１ｄに向かう方向を、Ｘ方向とする。本実施形態において、Ｘ方向とＹ方向とは直交している。車両用ガラス１の表面に直交する方向、すなわち車両用ガラス１の厚み方向を、Ｚ方向とする。Ｚ方向は、例えば、車両用ガラス１を車両Ｖに搭載した際に、車両Ｖの車外側から車内側に向かう方向である。Ｘ方向及びＹ方向は、車両用ガラス１の表面に沿っているが、例えば車両用ガラス１の表面が曲面の場合、車両用ガラス１の中心点Ｏにおいて車両用ガラス１の表面に接する方向となっていてもよい。中心点Ｏとは、Ｚ方向から車両用ガラス１を見た場合の、車両用ガラス１の中心位置である。

　車両用ガラス１には、透光領域Ａ１及び遮光領域Ａ２が形成されている。透光領域Ａ１は、Ｚ方向から見て車両用ガラス１の中央部分を占める領域である。透光領域Ａ１は、ドライバーの視野を確保するための領域である。透光領域Ａ１は、可視光を透過する領域である。遮光領域Ａ２は、Ｚ方向から見て透光領域Ａ１の周囲に形成される領域である。遮光領域Ａ２は、可視光を遮蔽する領域である。遮光領域Ａ２のうち、上縁部１ａ側の部分である遮光領域Ａ２ａ内には、遠赤外線透過領域Ｂと可視光透過領域Ｃとが形成されている。

　遠赤外線透過領域Ｂは、遠赤外線を透過する領域であり、遠赤外カメラＣＡ１が設けられる領域である。すなわち、遠赤外カメラＣＡ１は、遠赤外カメラＣＡ１の光軸方向から見た場合に、遠赤外線透過領域Ｂと重なる位置に設けられる。可視光透過領域Ｃは、可視光を透過する領域であり、可視光カメラＣＡ２が設けられる領域である。すなわち、可視光カメラＣＡ２は、可視光カメラＣＡ２の光軸方向から見た場合に、可視光透過領域Ｃと重なる位置に設けられる。

　このように、遮光領域Ａ２には、遠赤外線透過領域Ｂと可視光透過領域Ｃとが形成されているため、遮光領域Ａ２は、遠赤外線透過領域Ｂが形成されている領域以外では遠赤外線を遮蔽し、可視光透過領域Ｃが形成されている領域以外では可視光を遮蔽する。遠赤外線透過領域Ｂ及び可視光透過領域Ｃは、周囲に遮光領域Ａ２ａが形成されている。このように周囲に遮光領域Ａ２ａが設けられることにより各種センサが太陽光から保護されるため好ましい。各種センサの配線が車外から見えなくなるので、意匠性の観点からも好ましい。

　図３に示すように、車両用ガラス１は、ガラス基体１２（第１ガラス基体）と、ガラス基体１４（第２ガラス基体）と、中間層１６と、遮光層１８とを備える。車両用ガラス１は、ガラス基体１２、中間層１６、ガラス基体１４及び遮光層１８が、Ｚ方向に向けてこの順で積層されている。ガラス基体１２とガラス基体１４とは、中間層１６を介して互いに固定（接着）されている。

　ガラス基体１２、１４としては、例えばソーダライムガラス、ボロシリケートガラス、アルミノシリケートガラス等を用いることができる。中間層１６は、ガラス基体１２とガラス基体１４とを接着する接着層である。中間層１６としては、例えばポリビニルブチラール（以下ＰＶＢともいう）改質材料、エチレン－酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）系材料、ウレタン樹脂材料、塩化ビニル樹脂材料等を用いることができる。より詳しくは、ガラス基体１２は、一方の表面１２Ａと他方の表面１２Ｂとを含み、他方の表面１２Ｂが、中間層１６の一方の表面１６Ａに接触して、中間層１６に対して固定（接着）されている。ガラス基体１４は、一方の表面１４Ａと他方の表面１４Ｂとを含み、一方の表面１４Ａが、中間層１６の他方の表面１６Ｂに接触して、中間層１６に対して固定（接着）されている。このように、車両用ガラス１は、ガラス基体１２とガラス基体１４とが積層された合わせガラスである。ただし、車両用ガラス１は、合わせガラスに限られず、例えばガラス基体１２とガラス基体１４とのうち一方のみを含む構成であってよい。この場合、中間層１６も設けられていなくてよい。以下、ガラス基体１２、１４を区別しない場合は、ガラス基体１０と記載する。

　遮光層１８は、一方の表面１８Ａと他方の表面１８Ｂとを含み、一方の表面１８Ａが、ガラス基体１４の他方の表面１４Ｂに接触して固定されている。遮光層１８は、可視光を遮蔽する層である。遮光層１８としては、例えばセラミックス遮光層や遮光フィルムを用いることができる。セラミックス遮光層としては、例えば黒色セラミックス層等の従来公知の材料からなるセラミックス層を用いることができる。遮光フィルムとしては、例えば遮光ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、遮光ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）フィルム、遮光ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）フィルム等を用いることができる。

　本実施形態においては、車両用ガラス１は、遮光層１８が設けられる側が、車両Ｖの内部側（車内側）となり、ガラス基体１２が設けられる側が車両Ｖの外部側（車外側）となるが、それに限られず、遮光層１８が車両Ｖの外部側であってもよい。ガラス基体１２、１４の合わせガラスで構成されている場合は、遮光層１８が、ガラス基体１２とガラス基体１４との間に形成されてもよい。

　（遮光領域）
　遮光領域Ａ２は、ガラス基体１０に遮光層１８を設けることにより形成される。すなわち、遮光領域Ａ２は、ガラス基体１０が遮光層１８を備える領域である。すなわち、遮光領域Ａ２は、ガラス基体１２と中間層１６とガラス基体１４と遮光層１８が積層された領域である。一方、透光領域Ａ１は、ガラス基体１０が遮光層１８を備えない領域である。すなわち、透光領域Ａ１は、ガラス基体１２と中間層１６とガラス基体１４とが積層されて、遮光層１８が積層されない領域である。

　（遠赤外線透過領域）
　図３に示すように、車両用ガラス１は、Ｚ方向における一方の表面（ここでは表面１２Ａ）から他方の表面（ここでは表面１４Ｂ）までにわたって貫通する開口部１９が形成されている。開口部１９内には、遠赤外線透過部材２０が設けられている。開口部１９が形成されて遠赤外線透過部材２０が設けられている領域が、遠赤外線透過領域Ｂである。すなわち、遠赤外線透過領域Ｂは、開口部１９と、開口部１９内に配置された遠赤外線透過部材２０とが設けられる領域である。遮光層１８は遠赤外線を透過しないため、遠赤外線透過領域Ｂには、遮光層１８が設けられていない。すなわち、遠赤外線透過領域Ｂにおいては、ガラス基体１２、中間層１６、ガラス基体１４、及び遮光層１８が設けられておらず、形成された開口部１９に遠赤外線透過部材２０が設けられている。遠赤外線透過部材２０については後述する。

　（可視光領域）
　図４に示すように、可視光透過領域Ｃは、透光領域Ａ１と同様に、Ｚ方向において、ガラス基体１０が遮光層１８を備えない領域である。すなわち、可視光透過領域Ｃは、ガラス基体１２と中間層１６とガラス基体１４とが積層されて、遮光層１８が積層されない領域である。

　図２に示すように、可視光透過領域Ｃは、遠赤外線透過領域Ｂの近傍に設けられることが好ましい。具体的には、Ｚ方向から見た遠赤外線透過領域Ｂの中心を中心点ＯＢとし、Ｚ方向から見た可視光透過領域Ｃの中心を中心点ＯＣとする。Ｚ方向から見た場合の、遠赤外線透過領域Ｂ（開口部１９）と可視光透過領域Ｃとの間の最短距離を距離Ｌとすると、距離Ｌは、０ｍｍより大きく１００ｍｍ以下であることが好ましく、１０ｍｍ以上８０ｍｍ以下であることがさらに好ましい。可視光透過領域Ｃを、遠赤外線透過領域Ｂに対してこの範囲の位置とすることによって、遠赤外カメラＣＡ１と可視光カメラＣＡ２とで近い位置の画像を撮像することを可能としつつ、可視光透過領域Ｃでの透視歪み量を抑えて、可視光カメラＣＡ２で適切に画像を撮像できる。遠赤外カメラＣＡ１と可視光カメラＣＡ２とで近い位置の画像を撮像することによって、それぞれのカメラから得られるデータを演算処理する際の負荷が軽減され、電源や信号ケーブルの取り廻しも好適となる。

　図２に示すように、可視光透過領域Ｃと遠赤外線透過領域Ｂとは、Ｘ方向に並んで位置していることが好ましい。すなわち、可視光透過領域Ｃは、遠赤外線透過領域ＢのＹ方向側に位置しておらず、遠赤外線透過領域ＢとＸ方向で並んでいることが好ましい。可視光透過領域Ｃを遠赤外線透過領域ＢにＸ方向に並べて配置することによって、可視光透過領域Ｃを上縁部１ａの近傍に配置することができる。従って、透光領域Ａ１におけるドライバーの視野を適切に確保することができる。

　（遠赤外線透過部材）
　以下、遠赤外線透過領域Ｂに設けられる遠赤外線透過部材２０について、具体的に説明する。図５は、本実施形態に係る遠赤外線透過部材の模式的な断面図である。図５に示すように、遠赤外線透過部材２０は、基材３０と、基材３０上に形成される遠赤外線透過膜３１とを有している。本実施形態において、遠赤外線透過部材２０は、基材３０の一方の表面３０ａと他方の表面３０ｂとの両方に、遠赤外線透過膜３１が形成されている。表面３０ａは、車両用ガラス１に搭載された場合に車内側となる面であり、表面３０ｂは、車両用ガラス１に搭載された場合に車外側となる面である。ただし、遠赤外線透過部材２０は、基材３０の表面３０ａ、３０ｂとの両方に遠赤外線透過膜３１が形成されることに限られず、表面３０ａ、３０ｂの少なくとも一方に遠赤外線透過膜３１が形成されていてよい。

　このように、本実施形態においては、遠赤外線透過部材２０は、車両Ｖの窓膜である車両用ガラス１の、遮光領域Ａ２に設けられているが、それに限られず、車両Ｖのピラー用外装膜など、車両Ｖの任意の外装膜に設けられてよい。また、遠赤外線透過部材２０は、車両Ｖに設けられることに限られず、任意の用途に用いてもよい。

　（基材）
　基材３０は、遠赤外線を透過可能な部材である。基材３０は、波長１０μｍの光（遠赤外線）に対する内部透過率が、５０％以上であることが好ましく、６０％以上であることがより好ましく、７０％以上であることがさらに好ましい。また、基材３０は、波長８μｍ～１２μｍの光（遠赤外線）に対する平均内部透過率が、５０％以上であることが好ましく、６０％以上であることがより好ましく、７０％以上であることがさらに好ましい。基材３０の１０μｍでの内部透過率や８μｍ～１２μｍでの平均内部透過率がこの数値範囲となることで、遠赤外線を適切に透過して、例えば遠赤外カメラＣＡ１の性能を十分に発揮できる。なお、ここでの平均内部透過率とは、その波長帯域（ここでは８μｍから１２μｍ）の、それぞれの波長の光に対する内部透過率の平均値である。

　基材３０の内部透過率は、入射側および出射側における表面反射損失を除いた透過率であり、当該技術分野において周知のものであり、その測定も通常行われる方法でよい。測定は、例えば、以下のように行う。

　同一組成の基材からなり、厚さの異なる一対の平板状試料（第１の試料および第２の試料）を用意する。平板状試料の両面は互いに平行かつ光学研磨された平面とする。第１の試料の表面反射損失を含む外部透過率をＴ１、第２の試料の表面反射損失を含む外部透過率をＴ２、第１の試料の厚みをＴｄ１（ｍｍ）、第２の試料の厚みをＴｄ２（ｍｍ）、ただしＴｄ１＜Ｔｄ２とすると、厚さＴｄｘ（ｍｍ）での内部透過率τは次式（１）により算出することができる。

　τ　＝　ｅｘｐ［－Ｔｄｘ×（ｌｎＴ１－ｌｎＴ２）／ΔＴｄ］　・・・（１）

　なお、赤外線の外部透過率は、例えばフーリエ変換型赤外分光装置（ＴｈｅｒｍｏＳｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社製、商品名：Ｎｉｃｏｌｅｔ　ｉＳ１０）により測定できる。

　基材３０は、波長１０μｍの光に対する屈折率が、１．５以上４．０以下であることが好ましく、２．０以上４．０以下であることがより好ましく、２．２以上３．５以下であることがさらに好ましい。また、基材３０は、波長８μｍ～１２μｍの光に対する平均屈折率が、１．５以上４．０以下であることが好ましく、２．０以上４．０以下であることがより好ましく、２．２以上３．５以下であることがさらに好ましい。基材３０の屈折率や平均屈折率がこの数値範囲となることで、遠赤外線を適切に透過して、例えば遠赤外カメラＣＡ１の性能を十分に発揮できる。なお、ここでの平均屈折率とは、その波長帯域（ここでは８μｍから１２μｍ）の、それぞれの波長の光に対する屈折率の平均値である。屈折率は、例えば赤外分光エリプソメーター（Ｊ．Ａ．ウーラム社製・ＩＲ－ＶＡＳＥ－ＵＴ）により得られる偏光情報、およびフーリエ変換型赤外分光装置により得られる分光透過スペクトルを用いて、光学モデルのフィッティングを行うことで、決定できる。

　基材３０の厚みｄ０は、０．５ｍｍ以上５ｍｍ以下であることが好ましく、１ｍｍ以上４ｍｍ以下であることがより好ましく、１．５ｍｍ以上３ｍｍ以下であることがさらに好ましい。厚みｄ０がこの範囲にあることで、強度を確保しつつ、遠赤外線を適切に透過できる。なお、厚みｄ０は、基材３０の表面３０ａから表面３０ｂまでのＺ方向における長さともいえる。

　基材３０の材料は、特に限定はされないが、例えばＳｉ、Ｇｅ、ＺｎＳ、及びカルコゲナイトガラス等が挙げられる。基材３０は、Ｓｉ、Ｇｅ、ＺｎＳ、及びカルコゲナイトガラスの群より選ばれる少なくとも１種の材料を含むことが好ましいといえる。基材３０にこのような材料を用いることで、遠赤外線を適切に透過できる。
　カルコゲナイトガラスの好ましい組成としては、
　原子％表示で、
　Ｇｅ＋Ｇａ；７％～２５％、
　Ｓｂ；０％～３５％、
　Ｂｉ；０％～２０％、
　Ｚｎ；０％～２０％、
　Ｓｎ；０％～２０％、
　Ｓｉ；０％～２０％、
　Ｌａ；０％～２０％、
　Ｓ＋Ｓｅ＋Ｔｅ；５５％～８０％、
　Ｔｉ；０．００５％～０．３％、
　Ｌｉ＋Ｎａ＋Ｋ＋Ｃｓ；０％～２０％、
　Ｆ＋Ｃｌ＋Ｂｒ＋Ｉ；０％～２０％含有する組成である。そして、このガラスは、１４０℃～５５０℃のガラス転移点（Ｔｇ）を有することが好ましい。

　なお、基材３０の材料としては、Ｓｉ、ＺｎＳ及びカルコゲナイドガラスを用いることがより好ましい。

　（遠赤外線透過膜）
　遠赤外線透過膜３１は、基材３０上に形成されており、遠赤外線の反射を抑制するための膜である。

　図５に示すように、本実施形態に係る遠赤外線透過膜３１は、酸化ニッケル層３２と、高屈折率層３６と、低屈折率層３８とを含む。図５の例では、基材３０と酸化ニッケル層３２との間に、高屈折率層３６と低屈折率層３８とが交互に積層されている。すなわち、遠赤外線透過膜３１内においては、酸化ニッケル層３２は、最も外側（基材３０から最も離れる側）に形成されている。ただし、酸化ニッケル層３２は、遠赤外線透過膜３１内において最も外側に形成されていることに限られず、酸化ニッケル層３２より外側に、高屈折率層３６や低屈折率層３８が形成されていてもよい。

　図５の例では、遠赤外線透過膜３１は、基材３０上に、基材３０から離れる方向に向けて、高屈折率層３６、低屈折率層３８、酸化ニッケル層３２の順で積層されている。すなわち、図５の例では、高屈折率層３６の表面３６ｂが遠赤外線透過膜３１の基材３０側の表面３１ｂとなり、酸化ニッケル層３２の表面３２ａが遠赤外線透過膜３１の基材３０の表面３１ａとなる。ただし、酸化ニッケル層３２と高屈折率層３６と低屈折率層３８とを含む構成において、もっとも基材３０側に形成される層は、高屈折率層３６に限られず、例えば低屈折率層３８であってもよい。例えば、基材３０から離れる方向に、低屈折率層３８、高屈折率層３６、酸化ニッケル層３２の順で積層されてもよい。

　また、図５の例では、遠赤外線透過膜３１は、高屈折率層３６と低屈折率層３８と酸化ニッケル層３２とが、１層ずつ積層される構成であるが、それに限られず、高屈折率層３６と低屈折率層３８との少なくとも１つが複数層積層されていてもよい。例えば、遠赤外線透過部材２０は、基材３０上から、基材３０から離れる方向に向けて、高屈折率層３６と低屈折率層３８が交互に複数積層され、最も外側（基材３０から最も離れる側）が酸化ニッケル層３２となるように積層されてもよい。すなわち、基材３０、高屈折率層３６、低屈折率層３８、高屈折率層３６、・・・低屈折率層３８、酸化ニッケル層３２の順で積層されてよい。また、遠赤外線透過部材２０は、基材３０上から、基材３０から離れる方向に向けて、高屈折率層３６と低屈折率層３８が交互に積層され、最も外側が酸化ニッケル層３２となるように積層されてもよい。すなわち、基材３０、低屈折率層３８、高屈折率層３６、・・・低屈折率層３８、酸化ニッケル層３２の順で積層されてもよい。

　また、遠赤外線透過膜３１は、酸化ニッケル層３２と高屈折率層３６とを含むが低屈折率層３８を含まない層構成であってもよい。この場合、酸化ニッケル層３２は、高屈折率層３６より屈折率が低い中間屈折率層（低屈折率層）として機能する。遠赤外線透過膜３１は、基材３０上に、基材３０から離れる方向に向けて、高屈折率層３６、酸化ニッケル層３２の順で１層ずつ積層されてもよいし、酸化ニッケル層３２、高屈折率層３６の順で１層ずつ積層されてもよい。また、遠赤外線透過膜３１は、酸化ニッケル層３２と高屈折率層３６との少なくとも１つが複数層積層されていてもよい。この場合例えば、遠赤外線透過膜３１は、酸化ニッケル層３２と高屈折率層３６とが交互に積層されて、基材３０上に、基材３０から離れる方向に向けて、高屈折率層３６、酸化ニッケル層３２、高屈折率層３６、・・・、酸化ニッケル層３２の順で積層されてもよいし、酸化ニッケル層３２、高屈折率層３６、・・・酸化ニッケル層３２の順で積層されてもよい。

　また、遠赤外線透過膜３１は、酸化ニッケル層３２と低屈折率層３８とを含むが高屈折率層３６を含まない層構成であってもよい。この場合、酸化ニッケル層３２は、低屈折率層３８より屈折率が高い中間屈折率層（高屈折率層）として機能する。遠赤外線透過膜３１は、基材３０上に、基材３０から離れる方向に向けて、酸化ニッケル層３２、低屈折率層３８の順で１層ずつ積層されてもよいし、低屈折率層３８、酸化ニッケル層３２の順で１層ずつ積層されてもよい。また、遠赤外線透過膜３１は、酸化ニッケル層３２と低屈折率層３８との少なくとも１つが複数層積層されていてもよい。この場合例えば、遠赤外線透過膜３１は、酸化ニッケル層３２と低屈折率層３８とが交互に積層されて、基材３０上に、基材３０から離れる方向に向けて、酸化ニッケル層３２、低屈折率層３８、酸化ニッケル層３２、・・・、低屈折率層３８の順で積層されてもよいし、低屈折率層３８、酸化ニッケル層３２、・・・低屈折率層３８の順で積層されてもよい。

　以上のように複数層積層される場合、遠赤外線透過膜３１の高屈折率層３６と低屈折率層３８と酸化ニッケル層３２の３層のうちどの層が基材３０側に配置されてもよいが、基材３０がカルコゲナイドガラスおよび／またはＺｎＳの場合は基材３０側に配置される層が低屈折率層３８又は高屈折率層３６であると、基材３０と遠赤外線透過膜３１との界面における反射を低減できるため好ましい。一方、基材３０がＳｉおよび／またはＧｅの場合は基材３０側に配置される層が酸化ニッケル層３２又は低屈折率層３８であると、基材と遠赤外線透過膜との界面における反射を低減できるため好ましい。基材３０の材質によらず、基材３０側に配置される層がＳｉ層であると、基材との密着性に優れるため好ましい。このように酸化ニッケル層３２と高屈折率層３６と低屈折率層３８とを複数枚積層することで、より広い波長帯の光の反射率を抑制可能となる。

　また、遠赤外線透過膜３１は、高屈折率層３６及び低屈折率層３８を両方とも含まなくてよく、少なくとも１層以上の酸化ニッケル層３２を有することを特徴とするといえる。すなわち、遠赤外線透過膜３１は、酸化ニッケル層３２の単層膜であってもよいが、高屈折率層３６及び低屈折率層３８の少なくとも１つと積層した多層膜としてもよい。遠赤外線透過膜３１を多層構造の反射防止膜とすることにより、各界面で生じる界面反射光により、光の干渉作用を利用して広い波長域において低い反射率を実現することが容易になる。

　また、基材３０の車内側に形成される遠赤外線透過膜３１と車外側に形成される遠赤外線透過膜３１とで、異なる層構成であってもよい。

　（酸化ニッケル層）
　酸化ニッケル層３２は、酸化ニッケル（ＮｉＯ_ｘ）を主成分とする層であり、遠赤外線を透過可能である。なお、酸化ニッケルは、ニッケルの価数に応じて複数の組成をとることが知られており、ｘは０．５から２の任意の値をとることができる。また価数は単一でなくてもよく、２種以上の価数が混合していても良い。本実施形態では、ＮｉＯ_ｘとして、ＮｉＯを用いることが好ましい。また、ここでの主成分とは、酸化ニッケル層３２の全体に対する含有率が、５０質量％以上であることを指してよい。
　酸化ニッケル層３２は、１０μｍの波長の光に対する消衰係数が、０．０５以下であることが好ましく、０．０３以下であることがより好ましく、０．０２５以下であることが更に好ましく、０．０２以下であることが更に好ましく、０．０１以下であることが特に好ましい。酸化ニッケル層３２は、波長８μｍ～１２μｍの光に対する平均消衰係数が、０．０５以下であることが好ましく、０．０３以下であることがより好ましく、０．０２以下であることが更に好ましく、０．０１以下であることが特に好ましい。消衰係数や平均消衰係数がこの範囲となることで、遠赤外線を適切に透過することができる。８μｍ～１２μｍの波長の光に対する消衰係数は、例えば赤外分光エリプソメーター（Ｊ．Ａ．ウーラム社製、ＩＲ－ＶＡＳＥ－ＵＴ）により得られる偏光情報、フーリエ変換型赤外分光装置（ＴｈｅｒｍｏＳｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社製、Ｎｉｃｏｌｅｔ　ｉＳ１０）により得られる分光透過スペクトルを用いて、光学モデルのフィッティングを行うことで、決定できる。

　酸化ニッケル層３２は、波長１０μｍの光（遠赤外線）に対する屈折率が、１．５以上４．０以下であることが好ましく、１．７以上３．０以下であることがより好ましく、２．０以上２．５以下であることが更に好ましい。また、酸化ニッケル層３２は、波長８μｍ～１２μｍの光に対する平均屈折率が、１．５以上４．０以下であることが好ましく、１．７以上３．０以下であることがより好ましく、２．０以上２．５以下であることがさらに好ましい。酸化ニッケル層３２の遠赤外線に対する屈折率や平均屈折率がこの数値範囲となることで、遠赤外線の反射を抑制して、遠赤外線を適切に透過できる。８μｍ～１２μｍの波長の光に対する屈折率は、例えば赤外分光エリプソメーターにより得られる偏光情報、フーリエ変換型赤外分光装置により得られる分光透過スペクトルを用いて、光学モデルのフィッティングを行うことで、決定できる。

　酸化ニッケル層３２は、波長５５０ｎｍの光の消衰係数が、０．０４以上であることが好ましく、０．０５以上であることがより好ましく、０．０６以上であることが更に好ましく、０．０７以上であることが更に好ましく、０．０８以上であることが更に好ましく、０．１０以上であることが更に好ましい。また、酸化ニッケル層３２は、波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍの光に対する平均消衰係数が、０．０４以上であることが好ましく、０．０５以上であることがより好ましく、０．０６以上であることが更に好ましく、０．０７以上であることが更に好ましく、０．０８以上であることが更に好ましく、０．１０以上であることが更に好ましい。消衰係数や平均消衰係数がこの範囲となることで、可視光の反射率分散を適切に抑制し、意匠性を担保した外観とすることができる。なお、平均消衰係数とは、その波長帯域（ここでは３８０ｎｍから７８０ｎｍ）の、それぞれの波長の光の消衰係数の平均値である。波長５５０ｎｍの光の消衰係数は、例えば分光エリプソメーターにより得られる偏光情報、ＪＩＳ　Ｒ３１０６に基づき測定される分光透過率を用いて、光学モデルのフィッティングを行うことで、決定できる。

　酸化ニッケル層３２は、ニッケルと酸素の元素比率（Ｏ／Ｎｉ）が、１．０以上１．３未満であることが好ましく、１．０以上１．２５未満であることがより好ましく、１．０以上１．２未満であることが最も好ましい。酸化ニッケル層３２のＯ／Ｎｉがこの数値範囲であることで、遠赤外線を適切に透過できる。元素比率（Ｏ／Ｎｉ）は、例えばラザフォード後方散乱分析法や弾性反跳検出分析により決定できる。

　酸化ニッケル層３２は、膜密度が、５．０ｇ／ｃｍ^３以上６．０ｇ／ｃｍ^３以下であることが好ましく、５．０ｇ／ｃｍ^３以上５．８ｇ／ｃｍ^３以下であることがより好ましく、５．０ｇ／ｃｍ^３以上５．４ｇ／ｃｍ^３以下であることが最も好ましい。酸化ニッケル層３２の膜密度がこの数値範囲となることで、遠赤外線を適切に透過できる。膜密度は、例えばラザフォード後方散乱分析法により決定できる。

　酸化ニッケル層３２は、ニッケルのＫ吸収端のＸ線吸収端エネルギー値Ｅ（Ｓ）が、８３４７．１ｅＶ以下であることが好ましく、８３４７．０ｅＶ以下であることがより好ましく、８３４６．９ｅＶ以下であることが最も好ましい。酸化ニッケル層３２のニッケルのＫ吸収端のＸ線吸収端エネルギー値Ｅ（Ｓ）がこの数値範囲となることで、遠赤外線を適切に透過できる。

　酸化ニッケル層３２のニッケルのＫ吸収端のＸ線吸収端エネルギー値Ｅ（Ｓ）は、例えば酸化ニッケル層３２に対し、以下の手順でニッケルのＫ吸収端のＸ線吸収微細構造（Ｘ－ｒａｙ　Ａｂｓｏｒｐｔｉｏｎ　Ｆｉｎｅ　Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ；ＸＡＦＳ）測定を実施し、Ｘ線吸収端近傍構造（Ｘ－ｒａｙ　Ａｂｓｏｒｐｔｉｏｎ　Ｎｅａｒ　Ｅｄｇｅ　Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ；ＸＡＮＥＳ）の評価を行って得られる。
　放射光施設のＸＡＦＳ測定ビームラインにより、ＸＡＦＳ分析を行う。放射光施設としては、あいちシンクロトロン光センター、ＳＰｒｉｎｇ－８、高エネ研フォトンファクトリー、佐賀シンクロトロンなどが挙げられる。ＸＡＦＳ分析に用いる分光器はＳｉ（１１１）とする。検出は蛍光収量と電子収量を同時に実施する。測定範囲はプレエッジおよびポストエッジのラインが精度よく引けるよう広範囲とし、具体的には８１００～８８００［ｅＶ］より広範囲で測定する。スペクトルが急激に変化するエッジ領域においては、違いが識別できるように測定間隔を細かくする。具体的には、少なくとも８３２０～８３６０［ｅＶ］の範囲において、０．１８[ｅＶ]よりも小さい間隔で測定する。
　得られたデータを解析ソフトＡｔｈｅｎａを用いて規格化した後、ホワイトラインピークエネルギー値を読み取り、この値をＥｍ（Ｓ）[ｅＶ]とする。また、横軸エネルギー値の校正の目的で、Ｎｉ箔の透過ＸＡＦＳを、上記と同様の測定範囲および測定間隔で測定する。得られたデータを解析ソフトＡｔｈｅｎａを用いて規格化した後、エッジジャンプ（吸収端前後での吸光度の差）が０．５となるエネルギー値を読み取り、この値をＥｍ（Ｍ）［ｅＶ］とする。式（２）に基づき計算することで、酸化ニッケル層３２の吸収端エネルギー値Ｅ（Ｓ）［ｅＶ］すなわちＸＡＮＥＳスペクトルのピークトップエネルギー値を得られる。

　Ｅ（Ｓ）＝　Ｅｍ（Ｓ）－　Ｅｍ（Ｍ）＋　８３３７．９　・・・（２）

　酸化ニッケル層３２の厚みｄ１は、０．１μｍ以上２．０μｍ以下であることが好ましく、０．２μｍ以上１．５μｍ以下であることがより好ましく、０．３μｍ以上１．４μｍ以下であることがさらに好ましい。厚みｄ１がこの範囲にあることで、遠赤外線の反射を適切に抑制することができる。なお、厚みｄ１は、酸化ニッケル層３２の表面３２ａから、反対側の表面３２ｂまでのＺ方向における長さともいえる。

　酸化ニッケル層３２は、主成分とする酸化物（ここでは酸化ニッケル）以外の成分である副成分を含有していてもよい。副成分としては赤外線を透過する酸化物が好ましく、ＭｇＯ、ＣｕＯ_ｘ、ＺｎＯ、ＺｒＯ_２、Ｂｉ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３が挙げられる。副成分の含有率は、５０質量％以下が好ましく、３０質量％以下がより好ましく、１０質量％以下が最も好ましい。副成分の含有率がこの範囲となることで、遠赤外線を適切に透過しつつ、耐水性等を向上できる。

　酸化ニッケル層３２は、表面算術平均粗さＲａが４．０ｎｍ以下であることが好ましく、３．０ｎｍ以下であることがより好ましく、２．０ｎｍ以下であることが最も好ましい。表面粗さがこの範囲内となることで、酸化ニッケル層３２の耐摩耗性、耐擦傷性を向上させることが出来る。Ｒａは、例えば原子間力顕微鏡法により決定できる。

　（高屈折率層）
　高屈折率層３６は、酸化ニッケル層３２及び低屈折率層３８と積層されて、遠赤外線の反射を抑制する膜である。本実施形態では、高屈折率層３６は、酸化ニッケル層３２よりも基材３０側に積層されており、図５の例では、基材３０と低屈折率層３８との間に設けられている。低屈折率層３８が形成されていない場合には、高屈折率層３６は、基材３０と酸化ニッケル層３２との間に設けられることになる。

　高屈折率層３６は、遠赤外線に対して高屈折率の膜であり、波長１０μｍの光に対する屈折率が、酸化ニッケル層３２よりも高く、２．５以上４．５以下であることが好ましく、３．０以上４．５以下であることがより好ましく、３．３以上４．３以下であることが更に好ましい。また、高屈折率層３６は、波長８μｍ～１２μｍの光に対する平均屈折率が、酸化ニッケル層３２よりも高く、２．５以上４．５以下であることが好ましく、３．０以上４．５以下であることがより好ましく、３．３以上４．３以下であることが更に好ましい。高屈折率層３６の屈折率や平均屈折率がこの数値範囲となることで、高屈折率膜として適切に機能して、遠赤外線の反射を適切に抑制することができる。

　高屈折率層３６は、遠赤外線を透過可能である。高屈折率層３６は、１０μｍの波長の光に対する消衰係数が、０．０５以下であることが好ましく、０．０２以下であることがより好ましく、０．０１以下であることが更に好ましい。高屈折率層３６は、波長８μｍ～１２μｍの光に対する平均消衰係数が、０．０５以下であることが好ましく、０．０２以下であることがより好ましく、０．０１以下であることが更に好ましい。消衰係数や平均消衰係数がこの範囲となることで、遠赤外線を適切に透過することができる。

　また、高屈折率層３６の厚みｄ２は、０．１μｍ以上２．０μｍ以下であることが好ましく、０．２μｍ以上１．５μｍ以下であることがより好ましく、０．３μｍ以上１．２μｍ以下であることが更に好ましい。厚みｄ２がこの範囲にあることで、遠赤外線の反射を適切に抑制できる。なお、厚みｄ２は、高屈折率層３６の表面３６ａから、反対側の表面３６ｂまでのＺ方向における長さともいえる。

　高屈折率層３６の材料は任意であってよいが、Ｓｉ、及びＧｅの群より選ばれる少なくとも１種の材料を主成分とすることが好ましい。

　（低屈折率層）
　低屈折率層３８は、酸化ニッケル層３２及び高屈折率層３６と積層されて、遠赤外線の反射を抑制する膜である。本実施形態では、低屈折率層３８は、酸化ニッケル層３２よりも基材３０側に積層されており、図５の例では、高屈折率層３６と酸化ニッケル層３２との間に設けられている。高屈折率層３６が形成されていない場合には、低屈折率層３８は、基材３０と酸化ニッケル層３２との間に設けられることになる。

　低屈折率層３８は、遠赤外線に対して低屈折率の膜であり、波長１０μｍの光に対する屈折率が、酸化ニッケル層３２よりも低く、０．８以上２．０以下であることが好ましく、１．０以上１．７以下であることがより好ましく、１．０以上１．５以下であることが更に好ましい。また、低屈折率層３８は、波長８μｍ～１２μｍの光に対する平均屈折率が、酸化ニッケル層３２よりも低く、０．８以上２．０以下であることが好ましく、１．０以上１．７以下であることがより好ましく、１．０以上１．５以下であることが更に好ましい。低屈折率層３８の屈折率や平均屈折率がこの数値範囲となることで、低屈折率膜として適切に機能して、遠赤外線の反射を適切に抑制することができる。

　低屈折率層３８は、遠赤外線を透過可能である。低屈折率層３８は、１０μｍの波長の光に対する消衰係数が、０．０５以下であることが好ましく、０．０２以下であることがより好ましく、０．０１以下であることが更に好ましい。低屈折率層３８は、波長８μｍ～１２μｍの光に対する平均消衰係数が、０．０５以下であることが好ましく、０．０２以下であることがより好ましく、０．０１以下であることが更に好ましい。消衰係数や平均消衰係数がこの範囲となることで、遠赤外線を適切に透過することができる。

　また、低屈折率層３８の厚みｄ３は、０．１μｍ以上２．０μｍ以下であることが好ましく、０．２μｍ以上１．７μｍ以下であることがより好ましく、０．３μｍ以上１．５μｍ以下であることが更に好ましい。厚みｄ３がこの範囲にあることで、遠赤外線の反射を適切に抑制できる。なお、厚みｄ３は、低屈折率層３８の表面３８ａから、反対側の表面３８ｂまでのＺ方向における長さともいえる。

　低屈折率層３８は、酸化物を主成分とする膜であることが好ましい。より具体的には、低屈折率層３８は、酸化物としてＭｇＯを主成分とすることが好ましい。低屈折率層３８は、ＭｇＯの含有率が、低屈折率層３８の全体に対して、５０質量％以上１００質量％以下であることが好ましく、７０質量％以上１００質量％以下であることがより好ましく、８５質量％以上１００質量％以下であることが更に好ましい。低屈折率層３８は、ＭｇＯの含有率がこの範囲となることで、遠赤外線を適切に透過し、かつ遠赤外線に対して低屈折率となり、遠赤外線の反射を適切に抑制することができる。

　低屈折率層３８は、主成分とする酸化物（ここではＭｇＯ）以外の成分である副成分を含有していてもよい。副成分としては赤外線を透過する酸化物が好ましく、ＣｕＯ_ｘ、ＺｎＯ、ＺｒＯ_２、Ｂｉ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３が挙げられる。

　（密着層）
　また、遠赤外線透過膜３１と基材３０との間には、図示しない密着層が形成されていてよい。密着膜は、基材３０と遠赤外線透過膜３１とを密着させる膜であり、言い換えれば、基材３０と遠赤外線透過膜３１との接着力を向上させる膜である。

　密着層は、遠赤外線を透過可能であることが好ましい。密着層は、１０μｍの波長の光に対する消衰係数が、０．１０以下であることが好ましく、０．０５以下であることがより好ましく、０．０４以下であることが更に好ましい。
　密着層は、波長１０μｍの光に対する屈折率が、１．４以上であることが好ましく、１．４以上３．６以下であることがより好ましく、１．６以上２．２以下であることが更に好ましい。密着層の屈折率がこの数値範囲となることで、遠赤外線を適切に透過することができる。また、単波長光（波長０．８μｍ～１．８μｍの範囲の光を発するレーザ光源からの光）を適切に透過することもできる。単波長光は、波長０．８μｍ～１．８μｍの範囲内の所定の波長（単波長）の光といえる。単波長光の波長としては、０．９０５μｍ（９０５ｎｍ）、１．３５μｍ（１３５０ｎｍ）、１．５５μｍ（１５５０ｎｍ）が挙げられる。

　密着層は、単波長光を透過可能であることが好ましい。密着層は、単波長光に対する消衰係数が、０．１０以下であることが好ましく、０．０５以下であることがより好ましく、０．０４以下であることが更に好ましい。
　密着層は、単波長光に対する屈折率が、１．４以上であることが好ましく、１．４以上３．６以下であることがより好ましく、２．０以上２．４以下であることが更に好ましい。

　また、密着膜の厚みは、０．０５μｍ以上０．５μｍ以下であることが好ましく、０．０５μｍ以上０．３μｍ以下であることがより好ましく、０．０５μｍ以上０．１μｍ以下であることがさらに好ましい。密着膜の厚みがこの範囲にあることで、単波長光及び遠赤外線の反射を適切に抑制しつつ、基材３０と遠赤外線透過膜３１とを適切に密着できる。なお、密着膜の厚みは、密着膜のＺ方向側の表面から、Ｚ方向と反対側の表面までのＺ方向における長さともいえる。また、密着膜の厚みは、遠赤外線透過膜３１の厚みよりも薄いことが好ましい。密着膜の厚みが遠赤外線透過膜３１の厚みより薄いことで、光学性能への影響を少なくできる。

　密着膜の材料は任意であるが、例えば、Ｓｉ、Ｇｅ、ＭｇＯ、ＮｉＯ_ｘ、ＣｕＯ_ｘ、ＺｎＳ、Ａｌ_２Ｏ_３、ＺｒＯ_２、ＳｉＯ_２、ＴｉＯ_２、ＺｎＯ、及びＢｉ_２Ｏ_３の群より選ばれる少なくとも１種の材料を含むものであることが好ましく、ＺｒＯ_２を含むものがより好ましい。密着膜は、このような材料が用いられることで、基材３０と遠赤外線透過膜３１とを適切に密着できる。

　（遠赤外線透過部材の特性）
　遠赤外線透過部材２０は、以上のように、基材３０の表面に、少なくとも１層以上の酸化ニッケル層３２を有する遠赤外線透過膜３１が形成されたものとなっている。遠赤外線透過部材２０は、基材３０の表面に酸化ニッケル層３２を有する遠赤外線透過膜３１が形成されることで、遠赤外線の反射率を低減し、遠赤外線の透過率を高めることができる。

　遠赤外線透過部材２０は、１０μｍの光の透過率が、５０％以上であることが好ましく、６５％以上であることがより好ましく、７０％以上であることが更に好ましい。また、遠赤外線透過部材２０は、波長８μｍ～１２μｍの光に対する平均透過率が、５０％以上であることが好ましく、６５％以上であることがより好ましく、７０％以上であることが更に好ましい。透過率や平均透過率がこの範囲となることで、赤外線透過膜としての機能を適切に発揮できる。なお、平均透過率とは、その波長帯域（ここでは８μｍから１２μｍ）の、それぞれの波長の光に対する透過率の平均値である。透過率は、例えばフーリエ変換型赤外分光装置（ＴｈｅｒｍｏＳｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社製、Ｎｉｃｏｌｅｔ　ｉＳ１０）で測定可能である。

　遠赤外線透過部材２０は、１０μｍの光の反射率が、１５％以下であることが好ましく、１０％以下であることがより好ましく、５％以下であることが更に好ましい。また、遠赤外線透過部材２０は、波長８μｍ～１２μｍの光に対する平均反射率が、１５％以下であることが好ましく、１０％以下であることがより好ましく、５％以下であることが更に好ましい。反射率や平均反射率がこの範囲となることで、赤外線透過膜としての機能を適切に発揮できる。なお、平均反射率とは、その波長帯域（ここでは８μｍから１２μｍ）の、それぞれの波長の光に対する反射率の平均値である。反射率は、例えばフーリエ変換型赤外分光装置（ＴｈｅｒｍｏＳｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社製、Ｎｉｃｏｌｅｔ　ｉＳ１０）で測定可能である。

　また、図３に示すように、遠赤外線透過部材２０は、車外側の面が、遮光領域Ａ２の車外側の面と、面一に（連続して）形成されていることが好ましい。言い換えれば、遠赤外線透過部材２０の車外側の表面２０Ａは、ガラス基体１２の表面１２Ａと連続するように取り付けられている。このように遠赤外線透過部材２０の表面２０Ａがガラス基体１２の表面１２Ａと連続することで、ワイパの拭き取り効果が損なわれることを抑制できる。また、段差があることで車両Ｖとしてのデザイン性が損なわれることや、段差に砂埃等が堆積することなどのおそれを抑制できる。さらに、遠赤外線透過部材２０は、適用される車両用ガラス１の曲面形状に合わせて成形されていることが好ましい。遠赤外線透過部材２０の成形方法は特に限定されないが、曲面形状や膜に応じて、研磨もしくはモールド成形が選択される。

　遠赤外線透過部材２０の形状は特に限定されないが、開口部１９の形状にあわせた板状の形状であることが好ましい。すなわち、例えば開口部１９が円形である場合は、遠赤外線透過部材２０は円板状（円柱状）であることが好ましい。また、意匠性の観点から、車外側の遠赤外線透過部材２０の表面形状は、ガラス基体１２の外表面形状の曲率に合うように加工してもよい。さらに、遠赤外カメラＣＡ１の視野角の広角化と、機械的特性の向上との両立を図る等の理由から、遠赤外線透過部材２０を、レンズ形状にしてもよい。このような構成とすると、遠赤外線透過部材２０の面積が小さくても効率的に遠赤外光を集光することができるため好ましい。この場合、レンズ形状の遠赤外線透過部材２０の個数は、１個～３個が好ましく、典型的には２個が好ましい。さらにレンズ形状の遠赤外線透過部材２０は、予め調芯されモジュール化され、遠赤外カメラＣＡ１を車両用ガラス１に接着させる筐体、もしくはブラケットと一体化されていることが特に好ましい。

　本実施形態の車両用ガラス１においては、車内側の面における開口部１９の面積が、車外側の面における開口部１９の面積より小さい構成とし、遠赤外線透過部材２０の形状もこれにあわせて車内側の面における面積が車外側の面における面積より小さくすることが好ましい。このような構成とすることにより、車外側からの衝撃に対する強度が向上する。さらに言えば、本実施形態の車両用ガラス１がガラス基体１２（車外側）とガラス基体１４（車内側）とを備える合わせガラスである場合は、開口部１９は、ガラス基体１２の開口部１２ａとガラス基体１４の開口部１４ａとが重なって形成される。この場合、ガラス基体１２の開口部１２ａの面積を、ガラス基体１４の開口部１４ａの面積より大きくし、ガラス基体１２の開口部１２ａのサイズに合わせた遠赤外線透過部材２０を、ガラス基体１２の開口部１２ａ内に配置すればよい。

　また、図３に示すように、遠赤外線透過部材２０は、車外側の面内の任意の２点を結ぶ直線のうち最長の直線の長さＤ１が、８０ｍｍ以下となることが好ましい。長さＤ１は、７０ｍｍ以下であることがより好ましく、更に好ましくは６５ｍｍ以下である。また、長さＤ１は、６０ｍｍ以上であることが好ましい。また、図３に示すように、遠赤外線透過領域Ｂの開口部１９は、車外側の面内の任意の２点を結ぶ直線のうち最長の直線の長さＤ２が、８０ｍｍ以下であることが好ましい。長さＤ２は、７０ｍｍ以下であることがより好ましく、更に好ましくは６５ｍｍ以下である。また、長さＤ２は、６０ｍｍ以上であることが好ましい。長さＤ２は、車両用ガラス１の車外側の面（表面１２Ａ）での開口部１９の外周における、任意の２点を結ぶ直線のうち最長の直線の長さともいえる。遠赤外線透過部材２０の長さＤ１や開口部１９の長さＤ２をこの範囲とすることで、車両用ガラス１の強度低下を抑制し、開口部１９の周囲の透視歪み量も抑制できる。なお、長さＤ１、Ｄ２は、遠赤外線透過部材２０の車外側の面の形状が円形である場合は、車外側の表面の直径にあたる長さである。また、ここでの長さＤ１、Ｄ２は、車両用ガラス１を車両Ｖに搭載する状態における長さを指しており、例えばガラスを曲げ加工して車両Ｖに搭載する形状とする場合は、長さＤ１、Ｄ２は、曲げ加工した後の状態における長さとなる。長さＤ１、Ｄ２以外の寸法や位置の説明についても、特に説明していない場合は、同様である。

　（遠赤外線透過部材の製造方法）
　次に、遠赤外線透過部材２０の製造方法について説明する。遠赤外線透過部材２０を製造する際には、基材３０を準備し、基材３０の対向に原料ターゲットを配置し、基材３０の表面上にスパッタリングにより遠赤外線透過膜３１を形成する。これにより、遠赤外線透過部材２０が製造される。スパッタリングで遠赤外線透過膜３１を形成することで、蒸着に比べて大面積の基材３０にも均一な遠赤外線透過膜３１を形成できる。また、遠赤外線透過膜３１と基材３０との密着性を向上させることができる。
　本製造方法では、遠赤外線透過膜３１の酸化ニッケル層３２は、ＮｉＯとＮｉとの混合ターゲットを用いたスパッタリングにより形成する。混合ターゲットを原料として用いることで、ニッケルと酸素の元素比率（Ｏ／Ｎｉ）の制御が容易となり、遠赤外線透過率の高い酸化ニッケル層３２を形成できる。
　混合ターゲット中のＮｉＯの含有率は、混合ターゲットの全体に対して、質量比率で３０％以上１００％未満とする。混合ターゲット中のＮｉＯの含有率を下限値以上とすることで、ＮｉＯ成膜時のプロセスウィンドウが広がり、酸化ニッケル層３２のニッケルと酸素の元素比率（Ｏ／Ｎｉ）の制御が容易となる。一方、混合ターゲット中のＮｉＯの含有率を上限値以下とすることで、ターゲットが導電性を有し、後述するＤＣパルススパッタ法、Ｂｉ－ｐｏｌａｒパルススパッタ法や、ＡＣスパッタ法での成膜を可能とする。
　混合ターゲット中のＮｉＯの含有率は、混合ターゲットの全体に対して、質量比率で、５０％以上９５％以下がより好ましく、７０％以上９０％以下が最も好ましい。

　また、酸化ニッケル層３２のスパッタリングはＡｒと酸素の混合雰囲気下で行う。Ａｒと酸素の混合雰囲気下でスパッタリングを行うことで、ニッケルと酸素の元素比率が制御された、遠赤外線透過率の高い酸化ニッケル層３２を形成できる。
　このとき、混合雰囲気中の酸素ガスの体積流量（ＳＣＣＭ：ｓｔａｎｄａｒｄ　ｃｃ／ｍｉｎ、１ａｔｍ（２５℃））の比率は１％以上５０％未満とする。混合雰囲気中の酸素ガスの体積流量比率を１％以上５０％未満とすることで、ニッケルと酸素の元素比率の制御が容易となり、遠赤外線透過率の高い酸化ニッケル層３２を形成できる。混合雰囲気中の酸素ガスの体積流量比率は１％以上４０％以下がより好ましく、１％以上３０％以下が最も好ましい。

　スパッタリングはＤＣパルススパッタ法、Ｂｉ－ｐｏｌａｒパルススパッタ法、又はＡＣスパッタ法であると、膜厚均一性、生産安定性、酸化度制御性の点で好ましい。

　スパッタリングは成膜と酸化を別室で行う後酸化スパッタ法であっても良い。後酸化スパッタ法においては、成膜機内の混合雰囲気中の酸素ガスの体積流量の比率は１％以上５０％未満とする。成膜機内の混合雰囲気中の酸素ガスの体積流量比率を１％以上５０％未満とすることで、ニッケルと酸素の元素比率の制御が容易となり、遠赤外線透過率の高い酸化ニッケル層３２を形成できる。成膜機内の混合雰囲気中の酸素ガスの体積流量比率は１％以上４０％以下がより好ましく、１％以上３０％以下が最も好ましい。

　遠赤外線透過膜３１の製造時に、基材３０又は遠赤外線透過膜３１を加熱してもよい。加熱により遠赤外線透過膜３１の膜応力が緩和され、基材３０と遠赤外線透過膜３１との密着性を向上できる。
　例えば、基材３０の表面上に遠赤外線透過膜３１をスパッタリングした後、遠赤外線透過膜３１の基材３０と反対側の表面を１００℃以上３００℃未満で、０．５時間以上２時間以内のアニール処理を行ってもよい。これにより、遠赤外線透過膜３１の膜応力が緩和され、高温アニール処理を行うことなく基材３０と遠赤外線透過膜３１との密着性を向上できる。

　また、基材３０に遠赤外線透過膜３１をスパッタリングする際に、基材３０を１００℃以上３００℃未満で加熱してもよい。これにより、遠赤外線透過膜３１の膜応力が緩和され、高温アニール処理を行うことなく基材３０と遠赤外線透過膜３１との密着性を向上できる。

　（本実施形態の他の例）
　本実施形態では、遠赤外線透過部材２０は、基材３０上に遠赤外線透過膜３１のみが形成された構成であるが、それに限られない。以下、遠赤外線透過部材２０の他の例について説明する。

　図６は、本実施形態の他の例に係る遠赤外線透過膜の模式的な断面図である。図６に示すように、遠赤外線透過部材２０は、遠赤外線透過膜３１の基材３０と反対側の表面３１ａ上に、保護膜３４が形成されていてもよい。保護膜３４は、遠赤外線透過部材２０の外表面に、すなわち外部に露出する最も外側の表面に形成される膜であり、遠赤外線透過膜３１をワイパ払拭や砂埃による傷付き、オイルや薬液による腐食などから保護する。本実施形態では、保護膜３４は、車外側の遠赤外線透過膜３１上に、すなわち遠赤外線透過部材２０の車外側の外表面に設けられており、車内側には設けられていない。ただし、保護膜３４は、車内側の遠赤外線透過膜３１上にも、すなわち遠赤外線透過部材２０の車内側の外表面にも、設けられてよい。なお、図６の例では、説明の便宜上、遠赤外線透過膜３１が単層として図示されているが、遠赤外線透過膜３１は、単層であることに限られず、上述したいずれの層構成をとることもできる。

　（保護膜）
　保護膜３４は、遠赤外線透過膜３１よりも硬い膜であることが好ましい。具体的には、保護膜３４は、遠赤外線透過膜３１よりも硬度Ｈ_ＩＴが高いことが好ましく、硬度Ｈ_ＩＴが９．０ＧＰａよりも高いことが好ましく、１０．０ＧＰａよりも高いことがより好ましく、１１ＧＰａよりも高いことが最も好ましい。また、Ｈ_ＩＴとヤング率Ｅの比率Ｈ_ＩＴ／Ｅの値が、遠赤外線透過膜３１よりも大きいことが好ましく、０．０８０よりも大きいことがより好ましく、０．０９０よりも大きいことが更に好ましく、０．０９５よりも大きいことが最も好ましい。保護膜３４のＨ_ＩＴやＨ_ＩＴ／Ｅの値がこの数値範囲となることで、遠赤外線透過膜３１をワイパ払拭や砂埃による傷付きなどから適切に保護できる。硬度Ｈ_ＩＴ及びヤング率Ｅは、ＩＳＯ１４５７７に基づき測定される。

　保護膜３４は、波長５５０ｎｍの光（可視光）に対する屈折率が、２．５以下であることが好ましく、１．５以上２．５以下であることがより好ましく、１．７以上２．４以下であることが更に好ましい。また、保護膜３４は、波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍの光に対する平均屈折率が、２．５以下であることが好ましく、１．５以上２．５以下であることがより好ましく、１．７以上２．４以下であることがさらに好ましい。保護膜３４の可視光に対する屈折率や平均屈折率がこの数値範囲となることで、酸化ニッケル層３２との組み合わせによって可視光の反射を抑制して、遠赤外線透過部材２０を目立たなくすることが可能となる。

　保護膜３４は、波長１０μｍの光（遠赤外線）に対する屈折率が、０．５以上３．５以下であることが好ましく、０．７以上２．５以下であることがより好ましく、１．０以上２．５以下であることが更に好ましい。また、保護膜３４は、波長８μｍ～１２μｍの光に対する平均屈折率が、０．５以上３．５以下であることが好ましく、０．７以上２．５以下であることがより好ましく、１．０以上２．５以下であることがさらに好ましい。保護膜３４の遠赤外線に対する屈折率や平均屈折率がこの数値範囲となることで、遠赤外線の反射を抑制して、遠赤外線を適切に透過できる。

　保護膜３４は、遠赤外線を透過可能である。保護膜３４は、１０μｍの波長の光に対する消衰係数が、０．４以下であることが好ましく、０．２以下であることがより好ましく、０．１以下であることが更に好ましい。保護膜３４は、波長８μｍ～１２μｍの光に対する平均消衰係数が、０．４以下であることが好ましく、０．２以下であることがより好ましく、０．１以下であることが更に好ましい。消衰係数や平均消衰係数がこの範囲となることで、遠赤外線を適切に透過することができる。

　また、保護膜３４の厚みｄ４は、０．０１μｍ以上１μｍ以下であることが好ましく、０．０２μｍ以上０．５μｍ以下であることがより好ましく、０．０５μｍ以上０．３μｍ以下であることがさらに好ましい。厚みｄ２がこの範囲にあることで、遠赤外線や可視光の反射を適切に抑制することができる。なお、厚みｄ２は、保護膜３４の表面３４ａから、反対側の表面３４ｂまでのＺ方向における長さともいえる。

　保護膜３４の材料は任意であるが、例えば、ＺｒＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２、Ｓｉ_３Ｎ_４、ＡｌＮ、及びダイヤモンドライクカーボンの群より選ばれる少なくとも１種の材料を含むものであることが好ましい。保護膜３４は、このような材料が用いられることで、遠赤外線透過膜３１を適切に保護できる。

　保護膜３４は、遠赤外線透過膜３１を水から保護するために、水バリア性を有していることが好ましい。すなわち、保護膜３４は、遠赤外線透過膜３１の可視光域における外観を保つために、遠赤外線透過膜３１を水から保護することが好ましい。保護膜３４の水バリア性能は、材料、結晶構造、膜厚によって変わる。また、保護膜３４は、水バリア性の観点から、アモルファス構造であることが好ましい。

　なお、保護膜３４も、遠赤外線透過膜３１と同様に、スパッタリングで形成されてもよいが、それに限られず、例えば蒸着で形成されてもよい。

　図７は、本実施形態の他の例に係る遠赤外線透過膜の模式的な断面図である。図７に示すように、遠赤外線透過部材２０は、遠赤外線透過膜３１と基材３０との間に、密着膜４０が形成されていてもよい。また、図７の例においても、図６の例のような保護膜３４を外表面に形成してよい。なお、図７の例でも、遠赤外線透過膜３１が単層として図示されているが、遠赤外線透過膜３１は、単層であることに限られず、上述したいずれの層構成をとることもできる。

　（密着膜）
　密着膜４０は、基材３０と遠赤外線透過膜３１とを密着させる膜であり、言い換えれば、基材３０と遠赤外線透過膜３１との接着力を向上させる膜である。密着膜４０は、基材３０と遠赤外線透過膜３１との間に設けられる。

　密着膜４０は、波長１０μｍの光（遠赤外線）に対する屈折率が、１．０以上４．３以下であることが好ましく、１．５以上４．３以下であることがより好ましく、１．５以上３．８以下であることが更に好ましい。また、密着膜４０は、波長８μｍ～１２μｍの光に対する平均屈折率が、１．０以上４．３以下であることが好ましく、１．５以上４．３以下であることがより好ましく、１．５以上３．８以下であることがさらに好ましい。密着膜４０の遠赤外線に対する屈折率や平均屈折率がこの数値範囲となることで、遠赤外線の反射を抑制して、遠赤外線を適切に透過できる。

　密着膜４０は、遠赤外線を透過可能である。密着膜４０は、１０μｍの波長の光に対する消衰係数が、０．４以下であることが好ましく、０．２以下であることがより好ましく、０．１以下であることが更に好ましい。密着膜４０は、波長８μｍ～１２μｍの光に対する平均消衰係数が、０．４以下であることが好ましく、０．２以下であることがより好ましく、０．１以下であることが更に好ましい。消衰係数や平均消衰係数がこの範囲となることで、遠赤外線を適切に透過することができる。

　また、密着膜４０の厚みｄ５は、０．０５μｍ以上０．５μｍ以下であることが好ましく、０．０５μｍ以上０．３μｍ以下であることがより好ましく、０．０５μｍ以上０．１μｍ以下であることがさらに好ましい。厚みｄ５がこの範囲にあることで、遠赤外線や可視光の反射を適切に抑制することができる。なお、厚みｄ５は、密着膜４０の表面４０ａから、反対側の表面４０ｂまでのＺ方向における長さともいえる。また、密着膜４０の厚みｄ５は、酸化ニッケル層３２の厚みｄ１、高屈折率層３６の厚みｄ２、及び低屈折率層３８の厚みｄ３よりも、薄いことが好ましい。密着膜４０の厚みｄ５がこれらの層の厚みより薄いことで、光学性能への影響を少なくできる。

　密着膜４０の材料は任意であるが、例えば、Ｓｉ、Ｇｅ、ＭｇＯ、ＣｕＯ_ｘ、ＺｎＳ、Ａｌ_２Ｏ_３、ＺｒＯ_２、ＳｉＯ_２、ＴｉＯ_２、ＺｎＯ、及びＢｉ_２Ｏ_３の群より選ばれる少なくとも１種の材料を含むものであることが好ましい。密着膜４０は、このような材料が用いられることで、基材３０と遠赤外線透過膜３１とを適切に密着できる。

　なお、密着膜４０も、遠赤外線透過膜３１と同様に、スパッタリングで形成されてもよいが、それに限られず、例えば蒸着で形成されてもよい。

　（効果）
　以上説明したように、本発明の遠赤外線透過部材の製造方法は、遠赤外線を透過する基材上に、ＮｉＯとＮｉとの混合ターゲットを用いたスパッタリングにより１層以上の酸化ニッケル層を含む遠赤外線透過膜を形成する。このとき、混合ターゲット中のＮｉＯの含有率が、混合ターゲットの全体に対して３０質量％以上１００質量％未満である。ここで、遠赤外線透過膜は、遠赤外線の透過率が高いことが求められる。また、基材の選択肢を広げること、熱膨張差による膜剥がれを抑制すること、プロセスコストを低減させること、のために、３００℃未満の低温プロセスが求められる場合がある。それに対し、本発明の遠赤外線透過膜の製造方法によれば、酸化ニッケル層のニッケルと酸素の元素比率を適切に制御でき、３００℃以上の高温プロセスを必要とせず、遠赤外線透過率の高い遠赤外線透過膜を形成できる。

　遠赤外線透過膜３１は、スパッタリングをＡｒガスと酸素ガスの混合雰囲気下で行い、混合雰囲気中の酸素の体積流量比率が１％以上５０％未満の条件において形成する。酸化ニッケル層を酸素の体積流量の比率が５０％未満の条件において形成することで、酸化ニッケル層のニッケルと酸素の元素比率を適切に制御でき、３００℃以上の高温アニール処理を行うことなく、遠赤外透過率の高い遠赤外線透過膜を形成できる。

　遠赤外線透過膜３１は、基材３０を１００℃以上３００℃未満に加熱しながら形成することが好ましい。基材３０を１００℃以上３００℃未満の温度に加熱しながら酸化ニッケル層３２が形成することで、遠赤外線透過膜３１の膜応力を緩和し、膜剥がれを抑制できる。

　遠赤外線透過膜３１は、１００℃以上３００℃未満の温度でアニール処理することが好ましい。遠赤外線透過膜３１を１００℃以上３００℃未満の温度でアニール処理することで、遠赤外線透過膜３１の膜応力を緩和し、基材３０と遠赤外線透過膜３１との結合力を高め、膜剥がれを抑制できる。
　このとき、アニール処理は０．５ｈ以上２ｈ以内で行うことが、遠赤外線透過膜３１の膜応力を緩和し、基材３０と遠赤外線透過膜３１との結合力を高め、膜剥がれを抑制しやすくなる点から好ましい。

　基材３０は、Ｓｉ、Ｇｅ、ＺｎＳ、及びカルコゲナイトガラスの群より選ばれる少なくとも１種の材料を含むことが好ましい。基材３０の材料をこのようにすることで、遠赤外線を適切に透過できる。

　遠赤外線透過部材２０は、車両に搭載されることが好ましい。遠赤外線透過部材２０は、遠赤外線を適切に透過可能であるため、車両に適切に搭載可能となる。

　遠赤外線透過部材２０は、車両の窓部材に配置されてよい。遠赤外線透過部材２０は、遠赤外線を適切に透過可能であるため、車両に適切に搭載可能となる。

　遠赤外線透過部材２０は、車両のピラー用外装部材に配置されてよい。遠赤外線透過部材２０は、遠赤外線を適切に透過可能であるため、車両に適切に搭載可能となる。

　遠赤外線透過部材２０は、車両用外装部材の遮光領域Ａ２内に配置されてよい。遠赤外線透過部材２０は、遠赤外線を適切に透過可能であるため、車両に適切に搭載可能となる。

　（実施例）
　以下に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれに限定されない。表１は、実施例を示している。表１において、遠赤外線透過膜の膜構成は基板の片面のみを示しているが、基板の逆面にも同様の遠赤外線透過膜を形成している。

　（例１）
　例１においては、基材そのものを遠赤外線透過部材として、遠赤外線透過膜は形成しなかった。例１においては、基材として両面が鏡面研磨されたＳｉ（１００配向、ＣＺグレード、Ｐ型、松崎製作所製）を用いた。基材の厚みは、０．５２５ｍｍ±０．０２５ｍｍとした。

　（例２）
　例２においては、基材の両面上に、それぞれマグネトロンスパッタリングによって酸化ニッケル層を形成し、遠赤外線透過膜とした。例２では、基材として例１と同じＳｉを用い、基材の厚みは、例１と同じであり、酸化ニッケル層の厚みを１．２μｍとした。基材および酸化ニッケル層の厚みは触針式プロファイリングシステム（Ｄｅｋｔａｋ　ＸＴ－Ｓ、ＢＲＵＫＥＲ社製）により評価した。

　成膜原料としては、ＮｉＯとＮｉの混合ターゲット（高純度化学研究所製）を使用した。混合ターゲット中のＮｉＯの質量比率は７０％、Ｎｉの質量比率を３０％であった。成膜装置内に上記の混合ターゲットと基材とを対向配置した。この時、ターゲットと基板の距離は１５０ｍｍとした。次に、装置内全体を真空に排気した。そして、装置内の圧力が５×１０^－４Ｐａに到達した時点で、Ａｒガスと酸素ガスの混合雰囲気を合計１５０ＳＣＣＭ（ｓｔａｎｄａｒｄ　ｃｃ／ｍｉｎ、１ａｔｍ（２５℃））流した。混合雰囲気中の酸素ガスの体積流量比率は２０％とし、装置内の圧力が０．３Ｐａになるように、排気速度を調整した。その後、ターゲット表面に３０００Ｗの直流パルス電流（２０ｋＨｚ）を印加し、ターゲットの前方で基材を回転させながら、基材の表面に酸化ニッケル層を形成し、遠赤外線透過部材を作製した。

　（例３）
　得られた酸化ニッケル層の表面を、大気雰囲気下１５０℃で１時間のアニール処理を施した点以外は、例２と同様の方法で遠赤外線透過部材を作製した。

　（例４）
　Ｓｉ基板を２５０℃で加熱しながら酸化ニッケル層を形成した以外は、例２と同様の方法で遠赤外線透過部材を作製した。

　（例５）
　例２とは異なる成膜装置を用い、例２と同様の基材と、純ニッケルターゲット（高純度化学研究所製）とを対向配置した。このとき、ターゲットと基板の距離は９０ｍｍとした。例２と同様に装置全体を真空排気した後、Ａｒガスと酸素ガスの混合雰囲気を合計１５ＳＣＣＭ流した。このとき、混合雰囲気中の酸素ガスの体積流量比率は２７％とし、装置内の圧力が０．３Ｐａになるように、排気速度を調整した。その後、ターゲット表面に４００Ｗの直流パルス電流（２０ｋＨｚ）を印加し、ターゲットの前方で基材を回転させながら、基材の表面に酸化ニッケル層を形成し、遠赤外線透過部材を作製した。

　（例６）
　混合雰囲気中の酸素ガスの体積流量比率を３３％とした点以外は、例２と同様の方法で遠赤外線透過部材を作製した。

　（例７）
　混合雰囲気中の酸素ガスの体積流量比率を５０％とした点以外は、例２と同様の方法で遠赤外線透過部材を作製した。

　（例８）
　混合雰囲気中の酸素ガスの体積流量比率を１００％とした点以外は、例２と同様の方法で遠赤外線透過部材を作製した。

　（例９）
　非特許文献２のＴａｂｌｅ３のデータを準用して遠赤外線透過部材を作製した。両面が鏡面研磨されたＳｉ（１００配向、Ｐ型）からなる基材の両面上に、それぞれＲＦマグネトロンスパッタ法によって酸化ニッケル層を形成し、遠赤外線透過部材とした。基材の厚みは０．５２５ｍｍとし、酸化ニッケル層の厚みを１．２μｍとした。

　成膜原料として、例５と同様の純Ｎｉターゲットを使用した。成膜装置全体を真空に排気し、装置内の圧力が３×１０^－６Ｔｏｒｒに到達した時点で、Ａｒガスと酸素ガスの混合雰囲気を流した。この時、装置内の圧力が、３．５ｍＴｏｒｒになるように排気速度を調整した。その後、ターゲット表面にＲＦ電流を印加し、基材の表面に酸化ニッケル層を形成して、遠赤外線透過部材を作製した。

　（例１０）
　非特許文献２のデータを準用し、得られた酸化ニッケル層の表面を、大気雰囲気下６００℃で１時間のアニール処理を施した点以外は、例１０と同様の方法で遠赤外線透過部材を作製した。

　（遠赤外線透過性能の評価）
　例１から例８のサンプルについて、遠赤外線透過性能の評価を行った。遠赤外線透過性能は、サンプルの平均透過率で評価した。ここでの平均透過率は、８μｍ～１２μｍのそれぞれの波長の光の透過率の平均値である。例１から例８においては、８μｍ～１２μｍのそれぞれの波長の光の透過率を、フーリエ変換型赤外分光装置（ＴｈｅｒｍｏＳｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社製、商品名：Ｎｉｃｏｌｅｔ　ｉＳ１０）を用いて測定し、測定した透過率から、算術平均透過率を算出した。測定範囲は４００ｃｍ^－１から４０００ｃｍ^－１とし、測定間隔は２ｃｍ^－１とした。遠赤外線透過性能の評価においては、平均透過率が、７８％以上を二重丸とし、７５％以上であり７８％より低い場合を丸とし、７５％より低い場合をバツとし、丸、二重丸を合格とした。

　次に、例９および例１０のサンプルについては、非特許文献２のＴａｂｌｅ３の記載を準用して、遠赤外線透過性能の評価を行った。遠赤外線透過性能は、フーリエ変換型赤外分光装置（ＦＴ―ＩＲ）を用いて測定した平均透過率で評価した。遠赤外線透過性能の評価においては、平均透過率が、７８％以上を二重丸とし、７５％以上であり７８％より低い場合を丸とし、７５％より低い場合をバツとし、丸、二重丸を合格とした。

　表１は、例１から例１０のサンプルの遠赤外線透過性能を示している。また、図８は、例２、例６、例７、例８のサンプルの赤外線透過性能を示している。表１により、例２、例３、例４、例６、例１０は良好な透過性能が確認されたが、例１、例５、例７、例８、例９は透過性能が不十分であった。また、図８により、例２、例６は良好な透過性能が確認されたが、例７、例８は透過性能が不十分であった。
　例２、例３、例４、例６はＮｉＯとＮｉの混合ターゲットを用いて、成膜時の酸素ガスの体積流量比率が５０％未満の条件で作製されたサンプルであり、前記条件では酸化ニッケル層中のニッケルと酸素の元素比率（Ｏ／Ｎｉ）が適切に制御され、３００℃以上の高温プロセスを必要とせず、遠赤外線透過率の高い酸化膜を得られることが分かる。例７、例８は酸化ニッケルとニッケルの混合ターゲットを用いて、成膜時の酸素ガスの体積流量比率が５０％以上の条件で作製されたサンプルであり、前記条件では酸化ニッケル層中のニッケルと酸素の元素比率（Ｏ／Ｎｉ）が不適切であり、遠赤外線透過率が減衰したと考えられる。
　例１０はＮｉＯを含まない純Ｎｉターゲットを使用し、６００℃もの高温で１時間のアニール処理を行ったことで、欠陥の密度が減少し、遠赤外線透過率の高い酸化ニッケル層を得られたと推察される。例５、例９はＮｉＯの質量比率を含まない純Ｎｉターゲットを用いて作製されたサンプルであり、前記条件では酸化ニッケル層中の酸素元素比が不適切であり、遠赤外線透過率が減衰したと考えられる。

　（耐水性の評価）
　さらに、例１から例１０のサンプルに対し、耐水性の評価を行った。耐水性能の評価においては、煮沸試験を実行し、煮沸試験に合格したものをマルとし、煮沸試験に不合格となったものをバツとした。煮沸試験は、成膜基板を１００℃±３℃の純水中で１０分間保持し行った。煮沸試験後は、膜剥がれが生じたもの、もしくは８μｍから１２μｍの平均透過率変化が５％以上生じたものを不合格とした。例３、例４に示すように、酸化ニッケル層を１００℃以上加熱することで、煮沸試験の耐久性を向上でき、より好ましいといえる。

　（酸化ニッケル層の評価）
　さらに、例２および例９のサンプルに対し、ペレトロンタンデム加速器システム３ＳＤＨ（Ｎａｔｉｏｎａｌ　Ｅｌｅｃｔｒｏｓｔａｔｉｃｓ　Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製）を用い、ラザフォード後方散乱分析法により、酸化ニッケル層の元素比率（Ｏ／Ｎｉ）および膜密度の評価を行った。
　加えて、例２、例６、例７および例８のサンプルに対し、赤外分光エリプソメーター（Ｊ．Ａ．ウーラム社製、ＩＲ－ＶＡＳＥ－ＵＴ）により得られる偏光情報から、光学フィッティングを行って、１０μｍの波長の光に対する消衰係数の評価を行った。結果を表２に示す。表２に示すとおり、例２では、酸化ニッケル層の元素比率（Ｏ／Ｎｉ）が１．３以下、膜密度が６．０ｇ／ｃｍ^３以下の酸化ニッケル層が得られた。
　図９は、例２、例６、例７、例８のサンプルの波長８μｍ～１２μｍの光に対する平均透過率と、酸化ニッケル層の１０μｍの波長の光に対する消衰係数との関係を示している。図９により、１０μｍの波長の光に対する消衰係数が小さいほど、遠赤外線性能に優れた酸化ニッケル層が得られることが確認され、例２および例６では、１０μｍの波長の光に対する消衰係数が０．０２５以下と、遠赤外線透過性能に優れた酸化ニッケル層が得られた。

　（酸化ニッケル層のＸＡＮＥＳ評価）
　さらに、例２、例６、例７、および例８のサンプルに対し、ニッケルのＫ吸収端のＸＡＦＳ測定を実施し、ＸＡＮＥＳの評価を行った。
　測定は、あいちシンクロトロン光センターのビームラインＢＬ５Ｓ１を用いて、硬Ｘ線によるＸＡＦＳ分析を行った。分光器はＳｉ（１１１）とした。検出は蛍光収量と電子収量を同時に実施した。測定範囲はプレエッジおよびポストエッジのラインが精度よく引けるよう広範囲とし、具体的には８１００～８８００［ｅＶ］より広範囲で測定した。スペクトルが急激に変化するエッジ領域においては、違いが識別できるように測定間隔を細かくした。具体的には、少なくとも８３２０～８３６０［ｅＶ］の範囲について、０．１８［ｅＶ］よりも小さい間隔で測定した。
　得られたデータを解析ソフトＡｔｈｅｎａを用いて規格化した後、ホワイトラインピークエネルギー値を読み取り、この値をＥｍ（Ｓ）[ｅＶ]とした。また、横軸エネルギー値の校正の目的で、Ｎｉ箔の透過ＸＡＦＳを、上記と同様の測定範囲および測定間隔で測定した。得られたデータを解析ソフトＡｔｈｅｎａを用いて規格化した後、エッジジャンプが０．５となるエネルギー値を読み取り、この値をＥｍ（Ｍ）［ｅＶ］とした。式（２）に基づき計算し、各試料の吸収端エネルギー値Ｅ（Ｓ）［ｅＶ］すなわちＸＡＮＥＳスペクトルのピークトップエネルギー値を得た。
　Ｅ（Ｓ）＝　Ｅｍ（Ｓ）－　Ｅｍ（Ｍ）＋　８３３７．９　　・・・（２）
　表２に示すとおり、例２および例６では、Ｅ（Ｓ）が８３４７．１ｅＶ以下と、遠赤外線透過性能に優れた酸化ニッケル層が得られた。

　図１０は、例２、例６、例７、例８のサンプルの波長８μｍ～１２μｍの光に対する平均透過率と、Ｅ（Ｓ）との関係を示している。図１０により、Ｅ（Ｓ）が小さいほど、遠赤外線透過性能に優れた酸化ニッケル層が得られることが確認され、例２および例６では、Ｅ（Ｓ）が８３４７．１ｅＶ以下と、遠赤外線性能に優れた酸化ニッケル層が得られた。

　以上、本発明の実施形態を説明したが、この実施形態の内容により実施形態が限定されるものではない。また、前述した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のもの、いわゆる均等の範囲のものが含まれる。さらに、前述した構成要素は適宜組み合わせることが可能である。さらに、前述した実施形態の要旨を逸脱しない範囲で構成要素の種々の省略、置換又は変更を行うことができる。

　１　車両用ガラス
　１０、１２、１４　ガラス基体
　１６　中間層
　１８　遮光層
　２０　遠赤外線透過部材
　３０　基材
　３１　遠赤外線透過膜
　３２　酸化ニッケル層
　３４　保護膜
　３６　高屈折率層
　３８　低屈折率層
　４０　密着膜

Claims

　遠赤外線を透過する基材上に、ＮｉＯとＮｉとの混合ターゲットを用い、Ａｒガスと酸素ガスの混合雰囲気下でスパッタリングして酸化ニッケル層を１層以上含む遠赤外線透過膜を形成する、遠赤外線透過部材の製造方法において、
　前記混合ターゲット中のＮｉＯの含有率が、前記混合ターゲットの全体に対して３０質量％以上１００質量％未満であり、前記混合雰囲気中の酸素ガスの体積流量比率が、Ａｒガスと酸素ガスの合計体積流量に対して１％以上５０％未満である、遠赤外線透過部材の製造方法。
　前記混合ターゲット中のＮｉＯの含有率が、前記混合ターゲットの全体に対して、５０質量％以上９５％質量％以下である、請求項１記載の遠赤外線透過部材の製造方法。
　前記混合ターゲット中のＮｉＯの含有率が、前記混合ターゲットの全体に対して、７０質量％以上９０質量％以下である、請求項１又は請求項２に記載の遠赤外線透過部材の製造方法。
　前記スパッタリングがＤＣパルススパッタ法、ＡＣスパッタ法、又はＢｉ－ｐｏｌａｒパルススパッタ法である、請求項１から請求項３いずれか１項に記載の遠赤外線透過部材の製造方法。
　前記基材を１００℃以上３００℃未満の温度に加熱する、請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の遠赤外線透過部材の製造方法。
　前記遠赤外線透過膜の基材と反対側の表面を、１００℃以上３００℃未満の温度でアニール処理する、請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の遠赤外線透過部材の製造方法。
　前記基材は、Ｓｉ、Ｇｅ、ＺｎＳ、及びカルコゲナイトガラスの群より選ばれる少なくとも１種の材料を含む、請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の遠赤外線透過部材の製造方法。
　前記遠赤外線透過部材は、車両に搭載される、請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の遠赤外線透過部材の製造方法。
　前記遠赤外線透過部材は、車両の窓部材に配置される、請求項８に記載の遠赤外線透過部材の製造方法。
　前記遠赤外線透過部材は、車両のピラー用外装部材に配置される、請求項８又は９に記載の遠赤外線透過部材の製造方法。
　前記遠赤外線透過部材は、車両用外装部材の遮光領域内に配置される、請求項８から請求項１０のいずれか１項に記載の遠赤外線透過部材の製造方法。
　遠赤外線を透過する基材と、前記基材上に形成された機能膜とを含み、
　前記機能膜が、ニッケルのＫ吸収端のＸ線吸収微細構造（ＸＡＮＥＳ）スペクトルのピークトップエネルギーが８３４７．１ｅＶ以下である酸化ニッケル層を１層以上含む
　ことを特徴とする、遠赤外線透過部材。
　遠赤外線を透過する基材と、前記基材上に形成された機能膜とを含み、
　前記機能膜が、１０μｍの波長の光に対する消衰係数が、０．０２５以下である酸化ニッケル層を１層以上含む
　ことを特徴とする、遠赤外線透過部材。
　前記酸化ニッケル層のニッケルと酸素の元素比率（Ｏ／Ｎｉ）が１．０以上１．３未満である、請求項１２又は請求項１３に記載の遠赤外線透過部材。
　前記酸化ニッケル層の膜密度が５．０ｇ／ｃｍ^３以上６．０ｇ／ｃｍ^３以下である、請求項１２～１４のいずれか１項に記載の遠赤外線透過部材。