CN109716180B - 日照遮蔽构件 - Google Patents

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Abstract

得到一种日照遮蔽构件，其不会损害日照透过率、具有良好的可见光线透过率、从正面观察时及从斜向观察时不会呈现红色感。一种日照遮蔽构件，在透明基材上层叠有第1电介质膜、第1金属膜、第2电介质膜、第2金属膜、第3电介质膜、第3金属膜及第4电介质膜，该第1电介质膜由含有折射率为2.4以上的层的2层以上的电介质层形成，该第1电介质膜整体的折射率在1.8～2.0的范围内，该第2电介质膜的光学膜厚为165～201nm，该第3电介质膜的光学膜厚为147～182nm，该第4电介质膜的光学膜厚为75～120nm，该第1金属膜、第2金属膜及第3金属膜的几何学膜厚合计为30～40nm，该第2金属膜的几何学膜厚相对于该第1金属膜及该第3金属膜各自的几何学膜厚在1.01～1.55的范围内。

Description

日照遮蔽构件
技术领域
本发明涉及具有遮蔽日照功能的层叠体，特别涉及具有3层Ag膜的日照遮蔽构件。
背景技术
就设置于建筑物、车辆的开口部的窗而言，出于减少使用室内的空调的目的而广泛使用能遮蔽入射到室内的日照的日照遮蔽构件。已知建筑物的窗所利用的日照遮蔽构件是在玻璃板表面形成有金属膜的低辐射玻璃。另外已知，车窗所利用的日照遮蔽构件是形成有与上述同样的金属膜的玻璃等。
作为上述的日照遮蔽构件，广泛使用在基材上层叠Ag膜和夹持该Ag膜的透明电介质膜而成的层叠体。特别是使用了2层Ag膜的层叠体(例如在玻璃板上依次有第1透明电介质膜、Ag膜、第2透明电介质膜、Ag膜及第3透明电介质膜的层叠体)具有高的日照遮蔽功能，因此正在研究各种日照遮蔽构件。
上述的日照遮蔽构件具有Ag膜的总膜厚越增加则日照遮蔽功能越提高的倾向。以往从兼顾成本和所要求的性能的角度出发，上述的具有2个Ag膜的层叠体是合适的，但是近年越来越要求进一步提高日照遮蔽功能，已经在研究具有3个Ag膜的层叠体。
例如，专利文献1提出了一种具有3层红外反射金属膜、3层防反射膜的控制日照透过量的覆层。该文献中，作为防反射膜，列举了锌、钛、铪、锆、铌、铋、铟、锡及它们的混合物的氧化物；作为红外反射金属膜，列举了金、银、铝或它们的混合物、合金。并公开了如下主旨：得到的覆层的可见光线透过率能够达到60％以上，外观能够达到无彩色(±|3|以下的a＊及b＊)，300～2150nm的全日照能量反射率能够达到20～50％，以及片电阻能够达到
Figure GDA0001993678860000011
例如，专利文献2提出了能够用于车窗的太阳光控制涂层。该文献中，通过在具有3层Ag红外线反射金属膜的太阳光控制涂层中，按照从玻璃板侧起第1红外线反射金属膜、第2红外线反射金属膜、第3红外线反射金属膜的顺序减小厚度，从而确保期望的可见光线透过率且抑制了紫外线透过率、红外线透过率。例如，例1中公开了一种层叠体，其为使用了高透过玻璃的夹层玻璃的构成，可见光线透过率为70％以上，总太阳光反射率为30～50％左右，透过光及反射光均几乎无彩色。另外，关于第2红外线反射金属膜的厚度为最厚的例3，公开了如下主旨：可见光线透过率为例1程度且反射光可以是无彩色。但是专利文献2中虽然改变视野角、光源来测定了透过光、反射光的色调，但未测定从斜向观察时的透过色调。
例如，专利文献3与专利文献2同样地公开了一种玻璃板侧的金属功能层最厚且最上层的金属功能层最薄的层叠体。在该文献的实施例中公开了一种层叠玻璃窗单元，为使用钠钙玻璃的夹层玻璃的构成，可见光线透过率为73％左右，可见光线反射率为12％左右，0°和60°下的反射光色调的红色感得到抑制。另外还分别公开了如下主旨：最上层的金属功能层最厚且玻璃板侧的金属功能层最薄的情况下，可见光线透过率降低；以及，在将所有的金属功能层的厚度设为相同时，0°和60°下的反射光之差变大。但是，专利文献3中未对日照遮蔽功能进行实测，作为日照遮蔽构件具有何种程度的效果尚不明确。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特表2005-516818号公报
专利文献2:日本特表2010-536707号公报
专利文献3:日本特表2013-502366号公报
发明内容
发明要解决的问题
如上所述，近年出于在建筑物、车辆窗中使用具有高的日照遮蔽功能的日照遮蔽构件的目的，正在研究使用了3层Ag膜的金属膜。在用于建筑物用的窗的情况下，对高的日照遮蔽功能和良好的采光性的需求高，对制成复层玻璃、夹层玻璃时可见光线透过率为60～70％以上的玻璃的要求高。另外，在用于车窗的情况下，为了不损害司机的可视性，在作为挡风玻璃使用时，需要可见光线透过率为70％以上。
另外，提高日照遮蔽功能则会提高近红外区域的反射率，会影响到相当于红色的波长区域、即700nm附近的反射率，从而使透过色调、反射色调带有红色感。特别是作为建筑用的窗使用时，希望有稳定的外观色调，因此优选避免透过色调、反射色调带有红色。另外，对于车辆用途，也要求人从正面观察时及从斜向观察时不会呈现红色感这样的良好的外观品质。
使用了Ag膜的日照遮蔽构件处于通常Ag膜的总厚度越大则日照遮蔽功能越提高、但另一方面可见光线透过率下降这一权衡关系之下，难以同时实现提高可见光线透过率和提高日照遮蔽功能。
在此，上述的专利文献2公开了制成夹层玻璃时的日照遮蔽功能高、可见光线透过率为71～72％左右、从正面观察时不会呈现红色感的良好的太阳光控制涂层。但是，对于从斜向观察时的红色感未进行充分研究。另外，该文献中使用高透过玻璃作为透明基材来提高可见光线透过率，预先根据作为透明基材使用的玻璃的种类而存在要求性能变得不充分的可能性。另外，专利文献3公开了可见光线透过率高、从斜向观察时不会呈现红色感的层叠体，但如上所述，没有公开日照遮蔽功能，具有何种程度的效果尚不明确。
因此，本发明的目的在于，得到不会损害日照透过率、具有良好的可见光线透过率、从正面观察时及从斜向观察时不会呈现红色感的新的日照遮蔽构件。
用于解决问题的方案
本发明人们对上述技术问题进行了深入研究，结果首次获知：在所具有的3层Ag膜中，当将位于中间的第2层Ag膜的厚度设为最厚时，能够不损害日照遮蔽功能并提高可见光线透过率。另外获知，通过将第1层和第3层Ag膜的厚度相对于第2层Ag膜的厚度设在特定的范围内，即使Ag膜的总厚度为同等程度也能提高可见光线透过率。另外获知，如果不将第2层～第4层电介质膜设定在特定的范围内，则从斜向观察时透过光、反射光呈现红色感。另外获知，如果不使用含有高折射率的膜的2层以上的膜作为构成第1层电介质膜的膜、进而不将第1层的折射率设定在特定的范围内，则由于可见光线反射率变高而损害可见光线透过率。
即，本发明为一种日照遮蔽构件，其为在透明基材上依次层叠有第1电介质膜、第1金属膜、第2电介质膜、第2金属膜、第3电介质膜、第3金属膜及第4电介质膜的日照遮蔽构件，其特征在于，该第1电介质膜由含有折射率为2.4以上的层的2层以上的电介质层形成，该第1电介质膜整体的折射率在1.8～2.0的范围内，该第2电介质膜的光学膜厚为165～201nm，该第3电介质膜的光学膜厚为147～182nm，该第4电介质膜的光学膜厚为75～120nm，该第1金属膜、第2金属膜及第3金属膜的几何学膜厚合计为30～40nm，该第2金属膜的几何学膜厚相对于该第1金属膜及该第3金属膜各自的几何学膜厚在1.01～1.55的范围内。
发明的效果
根据以上，利用本发明能够得到不会损害日照透过率、具有良好的可见光线透过率、从正面观察时及从斜向观察时不会呈现红色感的新的日照遮蔽构件。
附图说明
图1是示出本发明的一实施方式的剖面示意图。
图2是对本发明的实施方式及比较方式的可见光线透过率和日照透过率作图而得的图。
图3是对本发明的实施方式及比较方式的10度的透过色调a＊和60度的透过色调a＊作图而得的图。
图4是对本发明的实施方式及比较方式的10度的膜面反射色调a＊和60度的膜面反射色调a＊作图而得的图。
图5是对本发明的实施方式及比较方式的10度的基材面反射色调a＊和60度的基材面反射色调a＊作图而得的图。
具体实施方式
1：术语说明
以下对本说明书的术语进行说明。
(各种波长的光)
本说明书中的“可见光线”是指波长在380nm～780nm的范围的光。另外，本说明书中的“日照遮蔽”是指抑制波长在300nm～2500nm的范围的光的能量透过。另外，本说明书中通过“日照透过率”来评价“日照遮蔽功能”。
(透过率、反射率、色调)
关于可见光线透过率、可见光线反射率、日照透过率、日照反射率、可见光线的透过色调及反射色调，可以使用自记录分光光度计(日立制作所制、U-4000)、带手动平台的使用了绝对反射测定单元的分光光度计(日本分光制、V-670及ARSN-733)、分光色度计(柯尼卡美能达制、CM-2600d)等来测定。另外，关于反射率、反射色调，对尚未形成层叠膜的透明基材面侧和已形成层叠膜的膜面侧分别计算。上述中，可见光线透过率、可见光线反射率、日照透过率及日照反射率可以通过依据或参考JIS R3106(1998)的方法的方法来计算。另外，透过色调及反射色调可以通过依据或参考JIS Z8781-4的方法来计算CIE L＊a＊b＊色彩空间的a＊。
(折射率)
本说明书中的“折射率”是指波长550nm下的值。另外，折射率可以如下计算：首先按照与日照遮蔽构件同样的条件制作单层，用自记录分光光度计(日立制作所制、U-4000)测定所得到的可见光线透过率和可见光线反射率(膜面)，通过光学模拟(Reflectance-transmittance法)由得到的值来计算出折射率。
(几何学膜厚)
几何学膜厚与通常所使用的膜厚意思相同，仅仅表示膜、层的厚度。几何学膜厚可以如下计算：由按照与日照遮蔽构件同样的成膜条件制作的单层的膜厚与基材的输送速度之积求出制作该单层时的成膜速度，使用该成膜速度计算该层或膜的膜厚。
(光学膜厚)
光学膜厚是由几何学膜厚与折射率之积表示的值，可以由按照与日照遮蔽构件同样的成膜条件制作的单层的、波长550nm下的折射率与膜厚之积来计算。
(层叠膜)
本说明书中的“层叠膜”是指透明基材上的膜整体。另外，“膜”是指1个以上的层层叠而成的产物，“层”是可以通过边界来区分的最小单位，构成层的成分可以是1种也可以是多种，另外层内的成分的分布可以是均匀的也可以是不均匀的。另外，“透明基材上”等的“上”可以与透明基材接触，也可以夹着其它任意的膜、层。另外，例如在如图1所示的日照遮蔽构件中，有时也将玻璃板G侧设为“下”、将保护层44侧设为“上”、将图1的保护层44那样位于最上侧的层记作“最上层”。
2：日照遮蔽构件
本发明为一种日照遮蔽构件，其为在透明基材上依次层叠有第1电介质膜、第1金属膜、第2电介质膜、第2金属膜、第3电介质膜、第3金属膜及第4电介质膜的日照遮蔽构件，其特征在于，该第1电介质膜由含有折射率为2.4以上的层的2层以上的电介质层形成，该第1电介质膜整体的折射率在1.8～2.0的范围内，该第2电介质膜的光学膜厚为165～201nm，该第3电介质膜的光学膜厚为147～182nm，该第4电介质膜的光学膜厚为75～120nm，该第1金属膜、第2金属膜及第3金属膜的几何学膜厚合计为30～40nm，该第2金属膜的几何学膜厚相对于该第1金属膜及该第3金属膜各自的几何学膜厚在1.01～1.55的范围内。
以下参照图1对本发明的日照遮蔽构件进行说明。需要说明的是，本发明不受图1限定。
(日照遮蔽构件55)
日照遮蔽构件55是指：上述的第1电介质膜10～第4电介质膜40的层叠膜50和形成有该层叠膜50的透明基材。本发明中，透明基材的厚度为2mm时，能够使该日照遮蔽构件55的可见光线透过率为74％以上、日照透过率为38％以下、从正面观察时和从斜向观察时透过色调、基材面反射色调及膜面反射色调的a＊均小于+3。
另外，日照遮蔽构件55能够使基材面及膜面的可见光线反射率为12％以下。当降低可见光线反射率时，能够抑制眩光(glare)，因此优选。
(透明基材)
透明基材为形成层叠膜50的板状的基材，本说明书中，“透明基材”可以为厚度2mm时的可见光线透过率为80％以上的基材。需要说明的是，图1中使用玻璃板G作为透明基材，但不限于此，也可以使用透明树脂板等。
在使用玻璃板G作为透明基材时，玻璃板G没有特别限定，例如可使用通常使用的钠钙玻璃、无碱玻璃、高透光玻璃(high transmission glass)、风冷钢化玻璃(air-quenchtempered glass)、化学强化玻璃(chemically strengthened glass)、硼硅酸盐玻璃、低膨胀玻璃(low expansion glass)、零膨胀微晶玻璃(Zero Expansion Glass)、低膨胀结晶化玻璃(low-expansion crystallized glass)、零膨胀结晶化玻璃(zero-expansioncrystallized glass)等。另外，使用透明树脂板的情况下，可列举例如聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂、聚萘二甲酸乙二醇酯树脂、聚醚砜树脂、聚碳酸酯树脂、聚氯乙烯树脂等。
(金属膜)
金属膜从透明基材侧起依次设为第1金属膜1、第2金属膜2及第3金属膜3。首先，本发明通过将金属膜厚度的合计值设为30～40nm来实现良好的日照透过率。厚度的合计值超过40nm时，日照透过率虽然良好但可见光线透过率下降，另外从斜向观察时的反射色调容易呈现红色感。另外，小于30nm时，日照遮蔽功能容易变得不充分。
进而，本发明通过将第2金属膜2设为最厚、且将相对于其它金属膜的厚度之比设定在1.01～1.55的范围内，由此不会损害日照透过率且提高可见光线透过率。小于1.01和超过1.55时，存在可见光线透过率变得不充分的情况。
金属膜优选使用含有90～100wt％的Ag的金属膜。另外，Ag膜容易由于热、氧等劣化，因此出于提高耐热性、化学耐久性的目的，可以在膜中含有Pd、Au、Pt、Ti、Al、Cu、Cr、Mo、Nb、Nd、Bi及Ni等。
第1金属膜1、第2金属膜2及第3金属膜3优选分别形成在第1电介质膜10、第2电介质膜20及第3电介质膜30的紧上方。在后述的各电介质膜10、20、30的优选构成中，最上层具有种子层13、23、33，因此可以通过在该种子层13、23、33的紧上方形成具有Ag的金属膜来提高Ag膜的结晶性、提高日照遮蔽功能。
(阻断膜4)
上述的各金属膜优选在紧上方形成阻断膜4。在金属膜上形成各电介质膜时，如果在露出状态的金属膜的紧上方形成各电介质膜20、30、40，则该金属膜有时会由于氧等而劣化，因此出于保护该金属膜的目的而设置阻断膜4。作为阻断膜4，优选Zn、Sn、Ti、Al、NiCr、Cr、Zn合金及Sn合金等。另外，该阻断膜4如果使用最终通过氧化、氮化而迅速变得透明的膜，则不会使可见光线透过率损失超过必要限度，因此是优选的。膜厚没有特别限定，通常以几何学膜厚计为1～5nm左右即可。另外，为了不损害可见光线透过率，优选使厚度尽量薄。另外，在阻断膜4和位于其上的电介质膜之间可以夹有其它膜，但优选在各阻断膜4的紧上方分别设置第2电介质膜20、第3电介质膜30及第4电介质膜40。
(第1电介质膜10)
第1电介质膜10是设置在透明基材上的电介质的膜，由含有折射率为2.4以上的层的2层以上的电介质层形成，该第1电介质膜整体的折射率在1.8～2.0的范围内。不含折射率为2.4以上的层且膜整体的折射率未达到1.8～2.0的范围内的情况下，有时可见光线透过率变得不充分。另外，第1电介质膜10优选设置在透明基材的紧上方。
为了得到上述的第1电介质膜，优选将光学膜厚设为105～140nm。如果在上述的膜厚范围之外，则有时无法使整体的折射率在1.8～2.0的范围内。另外，优选具有由含Ti的氧化物形成的防反射层12，且使该防反射层12的光学膜厚为5～70nm。另外，该第1电介质膜10优选从该透明基材上依次具有由含Si的氧化物形成的钝化层11、上述由含Ti的氧化物形成的防反射层12及由含Zn的氧化物形成的种子层13。
如上所述，上述的钝化层11优选使用含Si的氧化物的电介质。例如，在使用玻璃板G作为透明基材时，当玻璃板G被置于加热环境时，碱成分等有可能从玻璃板G扩散到金属膜中。因此，通过将该钝化层11设置在透明基材上、优选透明基材的紧上方，由此能够抑制金属膜的劣化。另外，作为上述的含Si的氧化物的电介质，可使用例如SiO2。
作为钝化层11，可使用含Si的电介质，该电介质可以为相对于该钝化层11的电介质整体含有0.1～30wt％的Al、Zr及Ti等的合金。作为该电介质，可列举例如Si或上述Si合金的氧化物、氮化物、氧氮化物，特别是，Si与Al的合金氧化物能够抑制成膜时的放电且由于结构致密而作为钝化层的阻挡性优异，因此优选。使用Si和Al的合金氧化物时，为了使第1电介质膜的折射率在1.8～2.0的范围内，优选以光学膜厚计设为10～110nm。
如上所述，上述的防反射层12优选使用含Ti的电介质，更优选使用含Ti的氧化物。另外，含Ti的氧化物容易实现折射率为2.4以上、廉价且机械强度优异、还具有遮蔽紫外线的功能，且由于不易与各种气体、水分反应而不易劣化，因此优选将该防反射层12作为第1电介质膜所具有的折射率2.4以上的层。通过设置如上所述的防反射层12，能够降低可见光线反射率。另外，为了使第1电介质膜10整体的折射率在1.8～2.0的范围内，可以将防反射层12的光学膜厚的下限值更优选设为14nm以上。另外，除了Ti氧化物以外，只要能够使折射率为2.4以上则可以使用Nb氧化物、Zr氧化物、Ta氧化物及它们的混合氧化物等。
作为上述的“含Ti的氧化物”，可列举例如TiO2、相对于Ti含有0.1～30wt％的Si、Al、Zn、In、Sn、Nb、Zr或Ta的Ti合金氧化物。另外，作为上述的Nb氧化物，可列举Nb2O5；作为Zr氧化物，可列举ZrO2；作为Ta氧化物，可列举Ta2O5。
如上所述，上述的种子层13优选使用由含Zn的氧化物形成的电介质。在使用Ag膜作为上述的金属膜时，该种子层13在形成该Ag膜时会促进Ag的晶体生长。通过生长Ag晶体，能够进一步提高各种光学特性。
作为种子层13，能使用含Zn的电介质，该电介质可以是相对于电介质整体含有1～45wt％的Al、Ga及Sn等的合金。作为该电介质，可列举例如Zn或上述Zn合金的氧化物，特别优选ZnO等Zn的氧化物。另外，该种子层13优选以光学膜厚计设为5～20nm。小于5nm时，促进Ag晶体生长的效果容易变得不充分；另外，超过20nm时，种子层13中有时存在晶界，存在各种气体、水分从该晶界浸入而使金属膜劣化的情况。
上述第1电介质膜1优选从该透明基材上依次具有由含Si的氧化物形成的钝化层11、上述由含Ti的氧化物形成的防反射层12及由含Zn的氧化物形成的种子层13。如上所述，通过在透明基材侧设置钝化层11，可防止从基材侧浸入会导致金属层劣化的各种气体、水分；另外，通过设置种子层13，可促进第1金属层1的晶体生长。进而，通过在钝化层11与种子层13之间设置防反射层12，可使第1电介质膜1整体的折射率在期望的范围内、得到目标光学特性。
(第2电介质膜20、第3电介质膜30)
第2电介质膜20是光学膜厚达到165～201nm的范围内的电介质膜，主要影响可见光线的透过率、反射率、透过色调、反射色调。特别是本发明的日照遮蔽构件55的情况下，如果小于165nm则可见光线透过率上升，另一方面特别是从正面观察时的反射色调会呈现红色感。另外，当超过201nm时，有时可见光线反射率变高、结果透过率降低。
第3电介质膜30是光学膜厚达到147～182nm的范围内的电介质膜，与第2电介质膜20同样主要影响可见光线的透过率、反射率、透过色调、反射色调。特别是本发明的日照遮蔽构件55的情况下，如果小于147nm则由于可见光线反射率变高而可见光线透过率容易降低；超过182nm时，可见光线透过率上升，另一方面从正面观察时及从斜向观察时的反射色调会呈现红色感。
第2电介质膜20及第3电介质膜30只要使用具有与各金属膜的折射率不同的折射率的电介质则没有特别限定。例如可使用ZnO、ZnAlO、ZnSnO、ZnGaO、In2O3、InSnO、InZnO、Si3N4及SiAlN等折射率在2.0左右的电介质。需要说明的是，关于上述的合金氧化物、合金氮化物，也包含并非所记载的成分比的情况。例如“ZnSnO”未必是Zn：Sn：O为1：1：1。已知上述的电介质中、作为由含有Zn及Sn的氧化物形成的电介质的ZnSnO具有致密的膜结构，对于导致金属膜劣化的气体、水分的阻挡性优异，因此可优选使用。
另外，上述的第2电介质膜20及第3电介质膜30与第1电介质膜10同样优选具有种子层23、33。具有种子层23、33的情况下，方便起见将如上所述的电介质膜20、30作为防反射层22、32，在该防反射层22、32上设置该种子层23、33，在该种子层23、33的紧上方设置第2金属膜2、第3金属膜3。另外，种子层23、33可以使用与上述的第1电介质膜10的种子层13同样的种子层。
(第4电介质膜40)
第4电介质膜40为光学膜厚达到75～120nm的范围内的电介质膜，主要影响透过色调、反射色调。特别是本发明的日照遮蔽构件55的情况下，小于75nm则反射色调会呈现红色感。另外，超过120nm则可见光线透过率降低。
第4电介质膜40与上述第2电介质膜20等同样地可以使用具有与各金属膜的折射率不同的折射率的电介质，没有特别限定。另外，与第2电介质膜20及第3电介质膜30同样地，优选使用由含Zn及Sn的氧化物形成的电介质。
另外，第4电介质膜40是含有本发明的日照遮蔽构件55的最上层的膜，优选具有保护层44作为最上层。保护层44为通过防止来自层叠膜50的表面的氧等来抑制内部的金属膜劣化的层。例如可使用SiO2、SiAlO等电介质。
另外，上述第4电介质膜40具有由含Ti的电介质形成的层，优选该第4电介质膜整体的平均折射率为1.85～2.05。由含Ti的电介质形成的层可提高层叠膜50的机械耐久性、或者通过防反射效果提高可见光透过率，因此是优选的。更优选的是，也可以使用TiO2。但是，另一方面，由含Ti的电介质形成的层容易使折射率为2.4以上，折射率过高则透过色调、反射色调容易呈现红色感。因此，为了使第4电介质膜40整体的平均折射率在1.85～2.05的范围内，优选将上述的保护层44、其它电介质的层组合使用。
另外，图1中将电介质层从下方起记载为防反射层42、防反射层42及保护层44。通常认为，当如图1所示将防反射层42制成为在膜厚方向分成2部分的2层结构时，层中所产生的龟裂、裂纹不易传播而可期待机械强度提高、化学耐久性提高，因此是优选的。
3：日照遮蔽构件的制造方法
本发明的日照遮蔽构件55的层叠膜50可通过溅射法、电子束蒸镀法、离子镀法等来形成。另外，在容易确保生产率、均匀性方面溅射法是适合的。以下记载使用溅射法进行形成的方法。需要说明的是，本发明不限于以下的制造方法。
利用溅射法的层叠膜50的形成，是边将透明基材输送到设置有成为各层的材料的溅射用靶的装置内边进行的。装置内设置有进行层形成的真空室，在真空室内设置有上述的靶的状态下导入溅射时所使用的气氛气体，对该靶施加负电位而使装置内产生等离子体，由此进行溅射。
另外，得到期望膜厚的方法根据溅射装置的形式而不同，因此没有特别限定，广泛使用的是通过调整对靶的输入电力、导入气体条件来改变层的形成速度而制成为期望膜厚的方法；以及通过调节基板的输送速度而制成为期望膜厚的方法等。
在形成上述电介质膜10、20、30、40时，所使用的靶可以使用陶瓷靶、金属靶中的任一者。任一者的情况下，对所使用的气氛气体的气体条件均没有特别限定，例如可以从Ar气体、O2气体及N2气体等中适当确定与目标层相应的气体种类、混合比。另外，作为导入真空室的气体，可以含有除Ar气体、O2气体、N2气体以外的任意的第3成分。
另外，在形成第2电介质膜20、第3电介质膜30、第4电介质膜40时，为了能够使位于上述各电介质膜的紧下方的各阻断膜4通过氧化、氮化、氧氮化而变透明，优选在O2气体、N2气体、CO2气体等反应性气体气氛中成膜。
在形成金属层1、2、3时，使用Ag靶或Ag合金靶作为所使用的靶。作为此时所导入的气氛气体，优选使用Ar气体，但只要是不损害Ag的光学特性的程度，则也可以混合不同种类的气体。
形成阻断膜4时，所使用的靶可以适当选择，所导入的气氛气体则可以使用Ar等不活泼气体。另外，此时阻断膜4设为可在通常的后续工序中能氧化、氮化的程度的膜厚。
等离子体发生源使用直流电源、交流电源及交流和直流叠加而成的电源等中的任一者，在形成电介质的层时容易发生异常放电的情况下，优选使用对直流电源叠加脉冲的电源或交流电源。
4：实施方式
本发明的日照遮蔽构件55优选使用玻璃板G作为透明基材、并另外组合玻璃板制成夹层玻璃。特别是能够使可见光线透过率为74％以上，因此可以认为即使制成夹层玻璃也不会大幅损害可视性。另外，通过以单板的形式来使用或组装到多层玻璃中，从而作为建筑物用的窗材是有用的。
以下记载日照遮蔽构件55的优选实施方式，在透明基材的厚度为2mm时，能够使该日照遮蔽构件55的可见光线透过率为74％以上、日照透过率为38％以下、从正面观察时和从斜向观察时透过色调、基材面反射色调及膜面反射色调的a＊均不足+3。
(实施方式1)
以下记载实施方式1的构成。另外，表1中记载层叠膜50的各层的膜厚。表1的编号对应于图1的符号，电介质膜的膜厚记载的是光学膜厚(nm)，金属膜和阻断膜的膜厚记载的是几何学膜厚(nm)。
需要说明的是，如上所述，“ZnSnO”、“ZnAlO”等合金氧化物未必是Zn：Sn：O＝1∶1∶1的化合物。另外，膜厚为0时，表示未形成该层。另外，SiAlO层为相对于Si含有10wt％的Al的层、ZnAlO层为相对于Zn含有2wt％的Al的层，以及、ZnSnO层为相对于Zn含有50wt％的Sn的层。另外，阻断膜4的“Ti膜4”记载的是形成阻断膜4时的膜，并且在该阻断膜4上形成电介质膜时会被氧化。
钠钙玻璃板G(厚2mm)/SiAlO层11/TiO2层12/ZnAlO层13/Ag膜1/Ti膜4/ZnSnO层22/ZnAlO层23/Ag膜2/Ti膜4/ZnSnO层32/ZnAlO层33/Ag膜3/Ti膜4/ZnSnO层42/TiO2层42/SiAlO层44
[表1]
(11) (12) (13) (1) (4) (22) (23) (2) (4) (32) (33) (3) (4) (42) (42) (44)
例1 45.5 44.4 19.9 11.5 0.2 0 187.4 12.5 0.2 0 169.5 10.5 0.2 81.9 4.9 22.8
例2 45.5 49.3 19.9 11.5 0.2 163.8 19.9 12.5 0.2 145.4 19.9 10.5 0.2 79.9 4.9 19.7
例3 45.5 51.7 19.9 11.5 0.2 172.0 19.9 12.5 0.2 149.5 19.9 10.5 0.2 79.9 4.9 19.7
例4 37.9 49.3 19.9 11.5 0.2 163.8 19.9 12.5 0.2 145.4 19.9 10.5 0.2 79.9 9.9 19.7
例5 53.1 49.3 19.9 11.5 0.2 163.8 19.9 12.5 0.2 145.4 19.9 10.5 0.2 79.9 4.9 19.7
例6 45.5 49.3 19.9 11.5 0.2 163.8 19.9 12.5 0.2 145.4 19.9 10.5 0.2 49.1 19.7 19.7
例7 45.5 49.3 19.9 11.5 0.2 163.8 19.9 14.0 0.2 145.4 19.9 10.5 0.2 79.9 4.9 19.7
例8 45.5 49.3 19.9 11.5 0.2 163.8 19.9 15.0 0.2 145.4 19.9 10.5 0.2 79.9 4.9 19.7
例9 45.5 49.3 19.9 11.5 0.2 163.8 19.9 12.0 0.2 145.4 19.9 10.5 0.2 79.9 4.9 19.7
例10 45.5 12.3 57.8 11.5 0.2 163.8 19.9 12.5 0.2 145.4 19.9 10.5 0.2 79.9 4.9 19.7
另外，将上述例1～10的第1电介质膜10和第4电介质膜40的整体的平均折射率、金属膜1、2、3的合计膜厚、第2金属膜2相对于第1金属膜1的比率及第2金属膜2相对于第3金属膜3的比率示于以下表2。需要说明的是，TiO2层的折射率为2.46，ZnSnO层的折射率为2.05，ZnAlO层的折射率为1.99，SiAlO层的折射率为1.52。
[表2]
Figure GDA0001993678860000141
关于实施方式1的例1～例10，将各光学特性示于以下表3。表3的“膜面”表示层叠膜50侧的反射，“基材面”表示玻璃板G侧的反射。另外，“10度”和“60度”表示在将垂直于面的线设为0度时倾斜10度、60度的方向的透过色调、反射色调。
[表3]
Figure GDA0001993678860000151
根据以上，实施方式1在透明基材的厚度为2mm时能够实现日照遮蔽构件55的可见光线透过率为74％以上、日照透过率为38％以下、从正面观察时和从斜向观察时透过色调、基材面反射色调及膜面反射色调的a＊均不足+3。
(比较方式1)
将使用与上述的实施方式1同样的层但改变了膜厚的比1～比9示于表4。另外，与上述的表2同样地在表5中示出第1电介质膜10和第4电介质膜40的整体的平均折射率、金属膜1、2、3的合计膜厚、第2金属膜2相对于第1金属膜1的比率及第2金属膜2相对于第3金属膜3的比率。另外，将表4的各种光学特性示于表6。
[表4]
(11) (12) (13) (1) (4) (22) (23) (2) (4) (32) (33) (3) (4) (42) (42) (44)
比1 45.5 49.3 19.9 11.5 0.2 163.8 19.9 12.5 0.2 145.4 19.9 10.5 0.2 14.3 37.0 19.7
比2 45.5 49.3 19.9 11.5 0.2 163.8 19.9 12.5 0.2 124.9 19.9 10.5 0.2 79.9 4.9 19.7
比3 45.5 49.3 19.9 11.5 0.2 163.8 19.9 12.5 0.2 165.9 19.9 10.5 0.2 79.9 4.9 19.7
比4 45.5 49.3 19.9 11.5 0.2 143.3 19.9 12.5 0.2 145.4 19.9 10.5 0.2 79.9 4.9 19.7
比5 45.5 49.3 19.9 11.5 0.2 184.3 19.9 12.5 0.2 145.4 19.9 10.5 0.2 79.9 4.9 19.7
比6 45.5 49.3 19.9 11.5 0.2 184.3 19.9 12.5 0.2 131.7 19.9 10.5 0.2 79.9 4.9 19.7
比7 45.5 49.3 19.9 11.5 0.2 194.5 19.9 12.5 0.2 121.5 19.9 10.5 0.2 79.9 4.9 19.7
比8 45.5 49.3 19.9 11.5 0.2 204.8 19.9 12.5 0.2 111.3 19.9 10.5 0.2 79.9 4.9 19.7
比9 45.5 49.3 19.9 11.5 0.2 215.0 19.9 12.5 0.2 101.0 19.9 10.5 0.2 79.9 4.9 19.7
[表5]
Figure GDA0001993678860000161
[表6]
Figure GDA0001993678860000162
根据以上，比较方式1中可看到不满足可见光线透过率为74％的例子、日照透过率超过38％的例子。另外，存在即使上述的透过率充分但透过色调、反射色调带有红色感的例子，不符合本申请发明的目的。
(比较方式2)
以下记载比较方式2。()内记载膜厚。另外，电介质膜记载的是光学膜厚(nm)，金属膜和阻断膜记载的是几何学膜厚(nm)。需要说明的是，SiAlO层为相对于Si中含有10wt％的Al的层、ZnAlO层为相对于Zn含有2wt％的Al的层，以及ZnSnO层为相对于Zn含有50wt％的Sn的层。另外，阻断膜4的“Ti膜4”记载的是形成阻断膜4时的膜，并且在该阻断膜4上形成电介质膜时会被氧化。
钠钙玻璃板G(厚2mm)/ZnSnO层(61.8)/ZnAlO层(20.1)/Ag膜(13.1)/Ti膜(0.2)/ZnAlO层(20.5)/ZnSnO层(126.6)/ZnAlO层(20.5)/Ag膜(12.6)/Ti膜(0.2)/ZnAlO层(18.6)/ZnSnO层(114.7)/ZnAlO层(18.6)/Ag膜(11.9)/Ti膜(0.2)/ZnAlO层(20.1)/ZnSnO层(62)/SiAlO层(151.7)
上述比较方式2中，金属膜的合计膜厚为37.6nm，第2金属膜2相对于第1金属膜1的比率为0.96，第2金属膜2相对于第3金属膜3的比率为1.07，第1电介质膜10的整体的平均折射率为2.03，以及、第4电介质膜40的整体的平均折射率为1.67。
将该比较方式2的各种光学特性示于表7。
[表7]
Figure GDA0001993678860000171
比较方式2是第1电介质膜10中不含折射率为2.4以上的层的方式，可见光线透过率显著不足。
另外，分别地，图2示出对实施方式及比较方式的可见光线透过率和日照透过率作图而得的图；图3示出对10度的透过色调a＊和60度的透过色调a＊作图而得的图；图4示出对10度的膜面反射色调a＊和60度的膜面反射色调a＊作图而得的图；图5示出对10度的基材面反射色调a＊和60度的基材面反射色调a＊作图而得的图。
根据图3，实施方式及比较方式在从正面观察时及从斜向观察时均能够降低透过色调的红色感。另外，图2中表明比1、3、4的可见光线透过率及日照透过率与实施例相当，但根据图4、5可知，比1、3、4的膜面反射色调、基材面反射色调带有红色感。因此可以说，根据图2～图5，实施方式的可见光线透过率及日照透过率显示出期望的值，而且降低了透过色调、反射色调的从正面观察时及从斜向观察时的红色感，比较方式不满足实施方式的光学特性、外观。
附图标记说明
G：玻璃板、1：第1金属膜、2：第2金属膜、3：第3金属膜、4：阻断膜、10：第1电介质膜、11：钝化层、12：防反射层、13：种子层、20：第2电介质膜、22：防反射层、23：种子层、30：第3电介质膜、32：防反射层、33：种子层、40：第4电介质膜、42：防反射层、44：保护层、50：层叠膜、55：日照遮蔽构件

Claims (7)

1.一种日照遮蔽构件，其为在透明基材上依次层叠有第1电介质膜、第1金属膜、第2电介质膜、第2金属膜、第3电介质膜、第3金属膜及第4电介质膜的日照遮蔽构件，其特征在于，
该第1电介质膜由含有折射率为2.4以上的层的2层以上的电介质层形成，该第1电介质膜整体的折射率在1.8～2.0的范围内，
该第2电介质膜的光学膜厚为165～201nm，
该第3电介质膜的光学膜厚为147～182nm，
该第4电介质膜的光学膜厚为75～120nm，
该第1金属膜、第2金属膜及第3金属膜的几何学膜厚合计为30～40nm，
该第2金属膜的几何学膜厚相对于该第1金属膜及该第3金属膜各自的几何学膜厚在1.01～1.55的范围内。
2.根据权利要求1所述的日照遮蔽构件，其特征在于，所述第1电介质膜具有由含Ti的氧化物形成的防反射层，该防反射层的光学膜厚为5～70nm。
3.根据权利要求1或权利要求2所述的日照遮蔽构件，其特征在于，所述第2电介质膜、第3电介质膜及第4电介质膜分别具有由含Zn及Sn的氧化物形成的电介质。
4.根据权利要求2所述的日照遮蔽构件，其特征在于，所述第1电介质膜从该透明基材上起依次具有由含Si的氧化物形成的钝化层、所述由含Ti的氧化物形成的防反射层及由含Zn的氧化物形成的种子层。
5.根据权利要求1或权利要求4中任一项所述的日照遮蔽构件，其特征在于，所述第1电介质膜的光学膜厚为105～140nm。
6.根据权利要求1或权利要求2或权利要求4中任一项所述的日照遮蔽构件，其特征在于，所述第4电介质膜具有由含Ti的氧化物形成的电介质的层，该第4电介质膜整体的平均折射率为1.85～2.05。
7.根据权利要求1或权利要求2或权利要求4中任一项所述的日照遮蔽构件，其特征在于，当所述日照遮蔽构件的透明基板为厚2mm的玻璃板时，在自该玻璃板的相对于玻璃表面的垂直方向倾斜10°及60°的位置中，基于CIE L＊a＊b＊色彩空间得到的透过光及反射光的a＊不足+3。
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