JPS61222148A - 1チツプマイクロコンピユ−タの製造方法 - Google Patents

1チツプマイクロコンピユ−タの製造方法

Info

Publication number
JPS61222148A
JPS61222148A JP60045808A JP4580885A JPS61222148A JP S61222148 A JPS61222148 A JP S61222148A JP 60045808 A JP60045808 A JP 60045808A JP 4580885 A JP4580885 A JP 4580885A JP S61222148 A JPS61222148 A JP S61222148A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chip
area
pattern
mass
bonding pads
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP60045808A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0367342B2 (ja
Inventor
Hitoshi Takahashi
仁 高橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP60045808A priority Critical patent/JPS61222148A/ja
Priority to US06/836,752 priority patent/US4833620A/en
Priority to EP86400480A priority patent/EP0194205B1/en
Priority to KR1019860001628A priority patent/KR900008017B1/ko
Priority to DE8686400480T priority patent/DE3675038D1/de
Publication of JPS61222148A publication Critical patent/JPS61222148A/ja
Publication of JPH0367342B2 publication Critical patent/JPH0367342B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/70Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
    • H01L21/71Manufacture of specific parts of devices defined in group H01L21/70
    • H01L21/768Applying interconnections to be used for carrying current between separate components within a device comprising conductors and dielectrics
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/52Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
    • H01L23/522Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames including external interconnections consisting of a multilayer structure of conductive and insulating layers inseparably formed on the semiconductor body
    • H01L23/528Geometry or layout of the interconnection structure
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S257/00Active solid-state devices, e.g. transistors, solid-state diodes
    • Y10S257/923Active solid-state devices, e.g. transistors, solid-state diodes with means to optimize electrical conductor current carrying capacity, e.g. particular conductor aspect ratio

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は産業用或いは民生用の各種機器に組み込まれて
利用される1チツプ型のマイクロコンピュータに関する
もので、特にその中に組み込まれるプログラムを評価す
るのに使用される評価用チップを設計する方法に関する
ものである。
近年、きわめて多様な分野の機器にマイクロコンピュー
タが組み込まれ、複雑な制御を行うのに利用されている
。この目的に使用されるマイクロコンピュータはALU
、  レジスタ群、クロックジェネレータ、プログラム
カウンタ、IPLA、ROM、RAM、入力/出力ポー
1−等の機能要素を1個のチップに集積した1チツプ型
のものが殆どである。
これ等の機能要素のうち、ROMと呼ばれる要素は通常
0.5〜4KB或いはそれ以上の記憶容量を持つ読み出
し専用の記憶装置であって、マイクロコンピュータが組
み込まれる機器に所定の機能を付与するためのプログラ
ムを固定的に記憶するものである。このプログラムはマ
イクロコンピュータを動作させるものであり、ROMに
固定する前に、組み込む機器に所定の機能を付与するも
のであることを確認することが必要である。これはRO
MがマスクROMであってもプログラマブルROMであ
っても変わらない。
プログラムの良否を含むマイクロコンピュータの試験評
価のために、評価用チップと呼ばれるマイクロコンピュ
ータを用意することが通常行われる。この評価用チップ
は、これから製造しようとするマイクロコンピュータの
チップ即ち量産用チップと同一の回路を存し、ROMの
部分だけを外部の記憶装置で代行し得る如く構成したも
のであって、外部記憶装置にプログラムを格納し、マイ
クロコンピュータの評価を行うのに使用される。
ROMの部分を外部記憶装置で代行させるには、評価用
チップにアドレス信号とデータ信号を出し入れするため
のアドレス出カバソファとデータ人カバソファを設けて
おくことが必要である。
用意すべきデータ入カバソファのビット数は通常8ビツ
ト単一であるが、アドレス出カバソファのビット数はR
OMの記憶容量によって異なり、例えばIKBでは10
ビツトである。なお、前記外部記憶装置では読み出しの
みが行われるので、コントロール信号の授受は不要であ
る。
従って、評価用チップの設計では、量産用チップに含ま
れるROM以外の機能要素と同一回路の機能要素を配置
し、これに前記2種のバッファを追加することが行われ
る。この場合、チップ内の回路をパッケージのピンに接
続するためのボンディングパッドの数は追加された2個
の回路の分だけ増えることになる。
マイクロコンピュータに限らず集積回路装置では、ボン
ディングバソ1はチップの周辺に等間隔に配置すること
が要求される。従って、包含される回路が類似している
が必要なボンディングパッド数は異なる集積回路を何種
類か設計する場合に、回路部分では共通なパターンが利
用できるが、ボンディングパッドに接続する部分の配線
パターンだけは個々に設計しなければならないという事
情がある。
マイクロコンピュータの評価用チップと量産用チップの
大部分は同一の回路で形成されるにもかかわらず、ボン
ディングパッドへの接続配線が異なるというだけの理由
で夫々の製造用マスクを別個に設計するのは、単に能率
が悪いというだけでなく、誤りの発生が増えるという不
都合を伴う。
〔従来の技術〕
量産用チップのパターンを改造して評価用チップのパタ
ーンを作成すること、或いはその逆、は従来から行われ
ている。例えば、まず量産用チッソド部分を拡張してボ
ンディングパッド数を増し、更に拡張領域にバッファ群
のパターンを追加すると共に、ボンディングパッドへの
接続を含む配線パターンを新規に設計することによって
評価用チップのパターンを得るというような方法である
〔発明が解決しようとする問題点〕
然し乍らこの方法では新規に設計する部分が多く、特に
ボンディングパッドへの配線のように輻較したパターン
を新しく作成するのでは、誤り発生の可能性は依然とし
て大であり、工数低減の効果も少ない。
〔問題点を解決するための手段〕
上記問題点は特許請求の範囲の項に記された本発明のマ
イクロコンピュータの設計方法によって解決されるが、
本発明は、後述の実施例に従って要約すると、量産用チ
ップを設計した後、該チップ領域とそれを外囲する領域
から成る新しいチップ領域を設定して、該外囲領域に評
価用チップが必要とする数のボンデイン〉゛パッドを略
等間隔にQ IMl l  11 卒m1...−1”
 1マn +J r”、 4Q −r 1.% J+ 
D n hz 19代えて、同じ領域に外部メモリイン
ターフェイス用回路を設け、該回路内の入出カバ、:、
ファとボンディングパッドを接続する配線及び量産用チ
ップのボンディングパッドに相当する端子と新規チ・ノ
ブのボンディングパッドとを接続する配線を最上層の配
線パターンとして作成するlチップマイクロコンピュー
タの製造方法である。
〔作 用〕
本発明のマイクロコンピュータ評価用チップの設計では
、回路パターンの変更個所は評価用チップで不要なRO
Mを外部記憶装置用のインターフェイスに替える点だけ
であり、ボンディングパッドの再配列は、該インターフ
ェイスに接続されるものを除き、量産用チップのボンデ
ィングパッドに相当する端子と新規に用意されたボンデ
ィングパッドとの間を接続するだけの作業となるので、
パターン設計が容易であり、工数の低減と誤り発生の解
消が達成される。
〔実施例〕
第1図は本発明の基本的な実施例を模式的に示す平面図
である。
第1図(a)は評価用チップ設計の基になる量産用チッ
プを示す図であり、ボンディングパッド8はチップ周辺
に等間隔に配列されている。第1図(b)に示す本発明
の実施例に於いては評価用チ・ノブ1は、ROM領域以
外の素子パターン及び配線パターンをそのまま引き継い
だ領域2と、それを外囲する領域3から構成され、RO
MfiI域4には図示のようにアドレス出力バッファ5
とデータ入力バッファ6が形成される。ボンディングパ
ッド7はこれ等の回路を外部装置に接続するのに必要な
数だけ増したものが外囲領域3に略等間隔に設けられて
いる。
第1図(b)から明らかな如く、前記外付はメモリ用の
入出力回路から外部に接続される配線は増設されたボン
ディングパッドに接続されており、図示されていない無
変更部分では、量産用チップのボンディングパッドに相
当する端子8′までの配線は、量産用チップと同一に形
成されているので、これと新チップのボッディングパッ
ド7を接続することによって外部への引き出しを実現し
ている。なお、本実施例ではROM容量はIKBで・ア
ドレス信号は10ビツトになっている。
これ等のバッファの外部接続配線と、新/旧パッド間の
接続配線は、量産用チップから見れば追加的に設けられ
るものであり、量産用チ、、ブの配線変更はROMの削
除に伴って発生する必要最小限の範囲にとどめられてい
る。
第2図は該実施例をより具体的に示す図面であり、RA
M、  レジスタ群、IPLA、スタック。
クロックジェネレータ等の配置例が示されている。
本発明を多層配線の1チップマイクロコンピュータに適
用する場合には、新規に設計されるアドレス出力バッフ
ァ及びデータ人力バッファの内部配線を、その他の回路
ブロックの内部配線が含まれる配線パターンの修正作業
として設計し、これ等バッファとボンディングパッド間
の接続及び新旧2種のボンディングパッド間の接続は回
路ブロック間の接続配線が含まれる上層配線にパターン
2層配線では後者の配線層が最上層であるが、3層或い
はそれ以上の多層配線の場合も、ボンディングパッドへ
の接続配線を追加する層として最上層を選ぶのが有利で
ある。
上記実施例ではいずれもアドレス出力バッファ及びデー
タ人力バッファの外部接続用パッドは夫々集中的に配置
されているが、これを他のパッドの間に分散して配置す
ることも可能である。この場合、量産用チップのボンデ
ィングパッドに相当する部分と、チップのボンディング
パッドとは最近接のもの同士を接続することが可能にな
る。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明のマイクロコンピュータ評
価用チップ設計法は量産用チ・ノブのパターンを最大限
に活用し、専ら追加配線によってボンディングパッドへ
の接続を変更するものであるから、量産用チップを設計
した後、僅かな工数を追加するだけで、誤りなく評価用
チップを設計することが可能である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明を、量産用チップと評価用チップの対比
によって示す図、 第2図は本発明による評価用チップ内の配置を示す図で
あって、 図に於いて、 1はマイクロコンピュータの評価用チップ2は量産用チ
ップに相当する領域 3は外囲領域 4はROM配置用領域 5はアドレス出カバソファ 6はデータ人力バッファ 7はボンディングパッド 8は量産用チップのボンディングパッド8′は量産用チ
ップのボンディングパッドに相当する端子である。 (a) 察 1 因

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)1チップマイクロコンピュータの量産用チップの
    製造に使用されるマスクパターンを準備した後、該マス
    クパターン中のROM領域のパターンを外部メモリイン
    ターフェイス用回路のパターンに変更し、且つ、前記マ
    スクパターン中の配線形成に使用されるパターンに、該
    パターン中に存在する第1のボンディングパッド列の外
    側に第2のボンディングパッド列を形成するのに使用さ
    れるパターンを追加し、更に前記第1、第2のボンディ
    ングパッド間の接続を形成するのに使用されるパターン
    と、前記外部メモリインターフェイス用回路と前記第2
    のボンディングパッド間の接続を形成するのに使用され
    るパターンとを追加することによって評価用チップのマ
    スクパターンを構成することを特徴とする1チップマイ
    クロコンピュータの製造方法。
  2. (2)前記第1、第2のボンディングパッド間の接続を
    形成するのに使用されるパターンと、前記外部メモリイ
    ンターフェイス用回路と前記第2のボンディングパッド
    間の接続を形成するのに使用されるパターンとを、多層
    配線の最上層配線を形成するのに使用されるパターンに
    追加することを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
    1チップマイクロコンピュータの製造方法。
JP60045808A 1985-03-08 1985-03-08 1チツプマイクロコンピユ−タの製造方法 Granted JPS61222148A (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60045808A JPS61222148A (ja) 1985-03-08 1985-03-08 1チツプマイクロコンピユ−タの製造方法
US06/836,752 US4833620A (en) 1985-03-08 1986-03-06 Method for fabricating a 1-chip microcomputer
EP86400480A EP0194205B1 (en) 1985-03-08 1986-03-07 A method for fabricating a 1-chip microcomputer
KR1019860001628A KR900008017B1 (ko) 1985-03-08 1986-03-07 1칩 마이크로 컴퓨터의 제조방법
DE8686400480T DE3675038D1 (de) 1985-03-08 1986-03-07 Verfahren zum herstellen eines einzelchip-mikrocomputers.

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60045808A JPS61222148A (ja) 1985-03-08 1985-03-08 1チツプマイクロコンピユ−タの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS61222148A true JPS61222148A (ja) 1986-10-02
JPH0367342B2 JPH0367342B2 (ja) 1991-10-22

Family

ID=12729555

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60045808A Granted JPS61222148A (ja) 1985-03-08 1985-03-08 1チツプマイクロコンピユ−タの製造方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4833620A (ja)
EP (1) EP0194205B1 (ja)
JP (1) JPS61222148A (ja)
KR (1) KR900008017B1 (ja)
DE (1) DE3675038D1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02197160A (ja) * 1989-01-26 1990-08-03 Nec Corp Lsi基板

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2214334B (en) * 1988-01-05 1992-05-06 Texas Instruments Ltd Integrated circuit
US5270944A (en) * 1988-06-09 1993-12-14 Hitachi, Ltd. Semiconductor integrated circuit device and process for manufacturing the same
US5182719A (en) * 1988-06-09 1993-01-26 Hitachi, Ltd. Method of fabricating a second semiconductor integrated circuit device from a first semiconductor integrated circuit device
FR2649504B1 (fr) * 1989-07-07 1991-09-27 Sgs Thomson Microelectronics Circuit integre a microprocesseur et horloge interne programmable
US4936334A (en) * 1989-09-29 1990-06-26 Allied-Signal Inc. Differential pressure shuttle valve
US5119158A (en) * 1989-11-21 1992-06-02 Nec Corporation Gate array semiconductor integrated circuit device
JP2531827B2 (ja) * 1990-04-25 1996-09-04 株式会社東芝 半導体装置及びその製造方法
US5493723A (en) * 1990-11-06 1996-02-20 National Semiconductor Corporation Processor with in-system emulation circuitry which uses the same group of terminals to output program counter bits
JP2925337B2 (ja) * 1990-12-27 1999-07-28 株式会社東芝 半導体装置
CA2106025A1 (en) * 1992-09-14 1994-03-15 Jack S. Kilby Packaged integrated circuits
US6223146B1 (en) * 1994-06-29 2001-04-24 Kelsey-Hayes Company Method and apparatus for manufacturing a programmed electronic control unit for use in an anti-lock braking (ABS) system
US6820246B2 (en) * 2001-02-28 2004-11-16 Sanyo Electric Co., Ltd. Pattern layout method of semiconductor device
US6948105B2 (en) * 2001-05-12 2005-09-20 Advantest Corp. Method of evaluating core based system-on-a-chip (SoC) and structure of SoC incorporating same
KR101883152B1 (ko) 2011-08-04 2018-08-01 삼성전자 주식회사 반도체 장치

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3273507D1 (en) * 1981-03-20 1986-11-06 Fujitsu Ltd A one chip microcomputer
JPS57212563A (en) * 1981-06-25 1982-12-27 Fujitsu Ltd Address reading circuit for one-chip microcomputer
JPS59146352A (ja) * 1983-02-09 1984-08-22 Nec Corp シングル・チップ・マイクロコンピュータ
DE3481958D1 (de) * 1983-05-24 1990-05-17 Toshiba Kawasaki Kk Integrierte halbleiterschaltungsanordnung.
JPS6089955A (ja) * 1983-10-21 1985-05-20 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
JPS6151695A (ja) * 1984-08-22 1986-03-14 Hitachi Ltd 半導体集積回路装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02197160A (ja) * 1989-01-26 1990-08-03 Nec Corp Lsi基板

Also Published As

Publication number Publication date
EP0194205A3 (en) 1987-10-07
EP0194205B1 (en) 1990-10-24
US4833620A (en) 1989-05-23
DE3675038D1 (de) 1990-11-29
KR860007743A (ko) 1986-10-17
KR900008017B1 (ko) 1990-10-29
EP0194205A2 (en) 1986-09-10
JPH0367342B2 (ja) 1991-10-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS61222148A (ja) 1チツプマイクロコンピユ−タの製造方法
US6806730B2 (en) Method and system for use of an embedded field programmable gate array interconnect for flexible I/O connectivity
JPH05308136A (ja) マスタスライス集積回路
JPH0743742B2 (ja) 自動配線方法
US5952684A (en) Chip layout of semiconductor integrated circuit
EP0633529A1 (en) Emulation system for microcomputer
JPH03259561A (ja) 半導体装置
JPH06224300A (ja) 半導体集積回路の設計方法および評価用半導体集積回路
JPS6120349A (ja) Lsi集合体
JPH03227039A (ja) 半導体集積回路
JPH0424957A (ja) マイクロコンピュータデバイスの製造方法
US6360354B1 (en) Automatic arrangement of wiring patterns in semiconductor device
JPS58182841A (ja) モノリシツク集積回路
JPH04361538A (ja) 大規模集積回路
JPH0530227B2 (ja)
JPS59208476A (ja) 半導体集積回路装置
JPH04246857A (ja) 半導体集積回路装置
JPS6126940Y2 (ja)
JP3048046B2 (ja) 半導体集積回路の配線方法
JPS6089955A (ja) 半導体装置
JP2868350B2 (ja) 半導体集積回路の検証方法
JP2957436B2 (ja) ゲートアレイ
JPS6278848A (ja) 大規模半導体集積回路
JPH04280119A (ja) プログラム可能な論理装置の製造方法
JPH05144944A (ja) 半導体集積回路及びその製造方法