JPS6278848A - 大規模半導体集積回路 - Google Patents
大規模半導体集積回路Info
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- JPS6278848A JPS6278848A JP21837085A JP21837085A JPS6278848A JP S6278848 A JPS6278848 A JP S6278848A JP 21837085 A JP21837085 A JP 21837085A JP 21837085 A JP21837085 A JP 21837085A JP S6278848 A JPS6278848 A JP S6278848A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chips
- integrated circuit
- semiconductor integrated
- chip
- scale semiconductor
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- Pending
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- Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
C産業上の利用分野〕
本発明は大規模半導体集積回路に関し、特に標準セルラ
イブラリを用いる集積回路のチップサイズの低減を図っ
た大規模半導体集積回路に関する。
イブラリを用いる集積回路のチップサイズの低減を図っ
た大規模半導体集積回路に関する。
一般に大規模半導体集積回路を構成する場合には、既存
の標準ICチップを複数個配列し、スタンダードセルと
相互に接続して構成する方式が採られている。例えば、
第3図はその一例を示しており、チップ12、チップ1
3、チップ14をスタンダードセル15とともに大規模
半導体集積回路としての大規模チップ11内に配列して
一体化し、各チップのボンディングパッド12a、13
a、14a、15aと大規模チップ11のボンディング
パッドllaとを相互に配線接続して一つの大規模半導
体集積回路を構成している。通常、この方式をスーパー
インテグレーションと称している。
の標準ICチップを複数個配列し、スタンダードセルと
相互に接続して構成する方式が採られている。例えば、
第3図はその一例を示しており、チップ12、チップ1
3、チップ14をスタンダードセル15とともに大規模
半導体集積回路としての大規模チップ11内に配列して
一体化し、各チップのボンディングパッド12a、13
a、14a、15aと大規模チップ11のボンディング
パッドllaとを相互に配線接続して一つの大規模半導
体集積回路を構成している。通常、この方式をスーパー
インテグレーションと称している。
上述した従来の方式によって構成した大規模半導体集積
回路は、単に既存のチップ12,13゜14やセル15
をそのままの状態で大規模チップ11内に配列している
ため、これらで構成される大規模半導体集積回路は、最
低でもこれらチップやセルの面積を加えた大きさとなる
。ところが、実際には各チップのボンディングパッド、
テストパターン、マスクパターン等の周辺領域は、大規
模半導体集積回路としては不要な部分であり、結局こ7
れらの不要な部分に相当する領域が集積回路のチップサ
イズを必要以上に大きくし、チ・7ブの小型化の障害に
なっている。
回路は、単に既存のチップ12,13゜14やセル15
をそのままの状態で大規模チップ11内に配列している
ため、これらで構成される大規模半導体集積回路は、最
低でもこれらチップやセルの面積を加えた大きさとなる
。ところが、実際には各チップのボンディングパッド、
テストパターン、マスクパターン等の周辺領域は、大規
模半導体集積回路としては不要な部分であり、結局こ7
れらの不要な部分に相当する領域が集積回路のチップサ
イズを必要以上に大きくし、チ・7ブの小型化の障害に
なっている。
本発明の大規模半導体集積回路は、標準セルライブラリ
を用いた大規模半導体集積回路のチップの小型化を図る
ために、複数個の標準ICチップを組合わせて配列構成
する大規模半導体集積回路において、各チップのボンデ
ィングパッド、テストパターン、マスクパターン等の周
辺領域を除去した状態で配列し、各チップ相互間や大規
模半導体集積回路としてのボンディングパッドとの間を
直接的に配線接続した構成としている。
を用いた大規模半導体集積回路のチップの小型化を図る
ために、複数個の標準ICチップを組合わせて配列構成
する大規模半導体集積回路において、各チップのボンデ
ィングパッド、テストパターン、マスクパターン等の周
辺領域を除去した状態で配列し、各チップ相互間や大規
模半導体集積回路としてのボンディングパッドとの間を
直接的に配線接続した構成としている。
〔実施例〕
次に、本発明を図面を参照して説明する。
第1図は本発明の一実施例を示す図であり、大規模半導
体集積回路1の大規模チップ2内には標準ICチップ3
,4.5と、スタンダードセル又はゲートアレイからな
るチップ6を配列し、これらで大規模半導体集積回路の
回路素子を構成している。そして、これら各チップ3〜
5及びスタンダードセル等の相互間及びこれらと前記大
規模チップ2の周囲に配設したボンディングパッド7と
の間を配線8によって直接に接続して一つの大規模半導
体集積回路1を構成している。この場合、各チップ3〜
5では夫々のボンディングパッド、テストパターン、マ
スクパターン等の周辺領域は含まれておらず、これらを
除去した配列構成となっている。
体集積回路1の大規模チップ2内には標準ICチップ3
,4.5と、スタンダードセル又はゲートアレイからな
るチップ6を配列し、これらで大規模半導体集積回路の
回路素子を構成している。そして、これら各チップ3〜
5及びスタンダードセル等の相互間及びこれらと前記大
規模チップ2の周囲に配設したボンディングパッド7と
の間を配線8によって直接に接続して一つの大規模半導
体集積回路1を構成している。この場合、各チップ3〜
5では夫々のボンディングパッド、テストパターン、マ
スクパターン等の周辺領域は含まれておらず、これらを
除去した配列構成となっている。
前記配列を構成する方法を説明する。
先ず、第2図のように、使用する標準ICチップ3,4
.5及びスタンダードセル等6の大規模チップ2Aに対
する各配置及び接続配線を既存のCADツールを用いて
自動的に行う。次いで、各チップ3〜5のボンディング
バンド3a、4a。
.5及びスタンダードセル等6の大規模チップ2Aに対
する各配置及び接続配線を既存のCADツールを用いて
自動的に行う。次いで、各チップ3〜5のボンディング
バンド3a、4a。
5a、テストパターン、マスクパターン等の周辺領域の
内側に仮想の外部端子9を設定してこれらを仮想線(図
では鎖線で示す)で結び、この仮想線で囲まれる夫々の
領域10 (図では斜線で示す)をブロックとし、これ
らブロックを第2図の構成から除去する。そして、これ
らブロックの形状及び内部配線はそのままにしてブロッ
ク間の接続配線をデザインルールに従って圧縮(コンパ
クション)する。この作業は既存のCADツールによる
自動コンパクションプログラムによって処理される。こ
れにより第1図の配列構成が得られる。
内側に仮想の外部端子9を設定してこれらを仮想線(図
では鎖線で示す)で結び、この仮想線で囲まれる夫々の
領域10 (図では斜線で示す)をブロックとし、これ
らブロックを第2図の構成から除去する。そして、これ
らブロックの形状及び内部配線はそのままにしてブロッ
ク間の接続配線をデザインルールに従って圧縮(コンパ
クション)する。この作業は既存のCADツールによる
自動コンパクションプログラムによって処理される。こ
れにより第1図の配列構成が得られる。
したがって、このように構成した大規模半導体集積回路
1では、各標準ICチップ3〜5の周辺領域を除去して
その分天規模チップ2のサイズを圧縮でき、大規模半導
体集積回路1全体としてのチップサイズを縮小化できる
。因に、前記第1図と第2図を比較してみると縮小化の
程度が明らかである。この縮小効果は標準ICチップの
数が多ければ、これに略比例して高くなる。
1では、各標準ICチップ3〜5の周辺領域を除去して
その分天規模チップ2のサイズを圧縮でき、大規模半導
体集積回路1全体としてのチップサイズを縮小化できる
。因に、前記第1図と第2図を比較してみると縮小化の
程度が明らかである。この縮小効果は標準ICチップの
数が多ければ、これに略比例して高くなる。
なお、本実施例のように標準ICチップとスタンダード
セル又はゲートアレイを組合わせた回路では、従来のス
ーパーインテグレーション方式と同様に設計のターンア
ラウンドタイム(TAT)もフルカスタム方式に比較し
て短縮することもできる。
セル又はゲートアレイを組合わせた回路では、従来のス
ーパーインテグレーション方式と同様に設計のターンア
ラウンドタイム(TAT)もフルカスタム方式に比較し
て短縮することもできる。
以上説明したように本発明は、複数個の標準ICチップ
を組合わせて配列構成して大規模半導体集積回路を構成
するに際し、各チップのボンディングパッド、テストパ
ターン、マスクパターン等の周辺領域を除去した状態で
配列し、各チップ相互間や大規模半導体集積回路として
のボンディングパッドとの間を直接的に配線接続してい
るので、大規模半導体集積回路に不要な各チップの周辺
領域を除去した配列構成を得ることができ、これにより
周辺領域に相当する面積の縮小を図り、大規模半導体集
積回路のチップサイズの縮小を達成することができる。
を組合わせて配列構成して大規模半導体集積回路を構成
するに際し、各チップのボンディングパッド、テストパ
ターン、マスクパターン等の周辺領域を除去した状態で
配列し、各チップ相互間や大規模半導体集積回路として
のボンディングパッドとの間を直接的に配線接続してい
るので、大規模半導体集積回路に不要な各チップの周辺
領域を除去した配列構成を得ることができ、これにより
周辺領域に相当する面積の縮小を図り、大規模半導体集
積回路のチップサイズの縮小を達成することができる。
また、このチップサイズの縮小効果により、コスト/パ
フォーマンスの向上、信頬性向上、大規模集積化等の効
果を得ることもできる。
フォーマンスの向上、信頬性向上、大規模集積化等の効
果を得ることもできる。
第1図は本発明の一実施例の配列構成を示す平面図、第
2図は本発明を構成する方法を説明するための平面図、
第3図は従来方法を説明するための模式的な平面図であ
る。 1・・・大規模半導体集積回路、2・・・大規模チップ
、3〜5・・・標準ICチップ、6・・・スタンダード
セル、7・・・ボンディングパッド、8・・・接続配線
、9・・・仮想外部端子、10・・・周辺領域、11・
・・大規模チップ、12〜14・・・標準ICチップ、
15・・・スタンダードセル。
2図は本発明を構成する方法を説明するための平面図、
第3図は従来方法を説明するための模式的な平面図であ
る。 1・・・大規模半導体集積回路、2・・・大規模チップ
、3〜5・・・標準ICチップ、6・・・スタンダード
セル、7・・・ボンディングパッド、8・・・接続配線
、9・・・仮想外部端子、10・・・周辺領域、11・
・・大規模チップ、12〜14・・・標準ICチップ、
15・・・スタンダードセル。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、複数個の標準ICチップを組合わせて配列構成する
大規模半導体集積回路において、前記各標準ICチップ
は、夫々におけるボンディングパッド、テストパターン
、マスクパターン等の周辺領域を除去した状態で配列し
、チップ相互間や大規模半導体集積回路としてのボンデ
ィングパッドとの間を直接的に配線接続したことを特徴
とする大規模半導体集積回路。 2、標準ICチップ及びスタンダードセル又はゲートア
レイを組合わせて配列構成してなる特許請求の範囲第1
項記載の大規模半導体集積回路。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21837085A JPS6278848A (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | 大規模半導体集積回路 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21837085A JPS6278848A (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | 大規模半導体集積回路 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6278848A true JPS6278848A (ja) | 1987-04-11 |
Family
ID=16718829
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21837085A Pending JPS6278848A (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | 大規模半導体集積回路 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6278848A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62101047A (ja) * | 1985-10-28 | 1987-05-11 | Toshiba Corp | ハ−ドマクロセルを有するlsi |
US5111271A (en) * | 1989-06-26 | 1992-05-05 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor device using standard cell system |
-
1985
- 1985-09-30 JP JP21837085A patent/JPS6278848A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62101047A (ja) * | 1985-10-28 | 1987-05-11 | Toshiba Corp | ハ−ドマクロセルを有するlsi |
US5111271A (en) * | 1989-06-26 | 1992-05-05 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor device using standard cell system |
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