JPS60155140A - ナフタレン誘導体化合物、その製造方法及びこれを含有する医薬及び化粧料組成物 - Google Patents
ナフタレン誘導体化合物、その製造方法及びこれを含有する医薬及び化粧料組成物Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はナフタレン誘導体、その製造方法及び医薬及び
化粧料の分野におけるその応用に関する。
化粧料の分野におけるその応用に関する。
この新規ナフタレン誘導体は嘔レチノイドｌの名称で公
知の化せ物の分類中に入る；それらの最もよく知られ友
代表的なものはトランス及びシスレチノイン酸（トレチ
ノイン及びインドレチノイン）及びエトレチネートであ
る。
知の化せ物の分類中に入る；それらの最もよく知られ友
代表的なものはトランス及びシスレチノイン酸（トレチ
ノイン及びインドレチノイン）及びエトレチネートであ
る。
レチノイドに比べて本発明によるす７タレンコ。
ｔ−二置換誘導体はその構造に由来して光及び酸素に対
してより良好な安定性を示し、また更に角化（分化−増
殖）の障害と関連した皮膚疾患また抗炎症成分を用いる
皮膚その他の疾患の局所的及び組織的処置において強化
された活性ならびに抗炎症活性を示す。
してより良好な安定性を示し、また更に角化（分化−増
殖）の障害と関連した皮膚疾患また抗炎症成分を用いる
皮膚その他の疾患の局所的及び組織的処置において強化
された活性ならびに抗炎症活性を示す。
本発明の新規なナフタレンコ、を二置換誘導体は下記一
般式（■）： 〔式中ｎは／又はλであり、Ｒ１，ＴＬ２．Ｒ５及びＲ
４は同一であるか又は異なるものでありかつ水素原子又
はメチル基を表わし、Ｒ５は１ど（ＯＨ）ｍ−Ｒ６基７ Ｉｔ）−ｏ：＝Ｎ基１ｉｉ） −ニー”ａ 又ｕ １ｖ
）ｉ −、ｔ ＊ サシリニル基を表わす（これらの式
においてｍはＯ又は／であり、Ｒ６は（、）水素原子（
ｂ）は低級アルキル基（ｅ）−ＯＲ２基（Ｒ，は水素原
子、低級アルキル基、−０−Ｒ１ｏ基１ （ｍ＝／７）ときｒ′及びｒ“は水素原子、低級アルキ
ル基、モノ−又はポリヒドロキシアルキル基、場合によ
り置換されているアリール基を表わすか又はｒ′と「“
が−緒になって複素環を形成している）を表わし、Ｒ７
は水素原子又は低級アルキル基全表わし、Ｒ８は水素原
子または、低級アルキル基金表わすか、または−ＩＲ−
Ｒ，８基を含む該カルゼニル化会物に対応するアセター
ル基を形成する基を表わす）〕によυ表わされる。
般式（■）： 〔式中ｎは／又はλであり、Ｒ１，ＴＬ２．Ｒ５及びＲ
４は同一であるか又は異なるものでありかつ水素原子又
はメチル基を表わし、Ｒ５は１ど（ＯＨ）ｍ−Ｒ６基７ Ｉｔ）−ｏ：＝Ｎ基１ｉｉ） −ニー”ａ 又ｕ １ｖ
）ｉ −、ｔ ＊ サシリニル基を表わす（これらの式
においてｍはＯ又は／であり、Ｒ６は（、）水素原子（
ｂ）は低級アルキル基（ｅ）−ＯＲ２基（Ｒ，は水素原
子、低級アルキル基、−０−Ｒ１ｏ基１ （ｍ＝／７）ときｒ′及びｒ“は水素原子、低級アルキ
ル基、モノ−又はポリヒドロキシアルキル基、場合によ
り置換されているアリール基を表わすか又はｒ′と「“
が−緒になって複素環を形成している）を表わし、Ｒ７
は水素原子又は低級アルキル基全表わし、Ｒ８は水素原
子または、低級アルキル基金表わすか、または−ＩＲ−
Ｒ，８基を含む該カルゼニル化会物に対応するアセター
ル基を形成する基を表わす）〕によυ表わされる。
低級アルキル基という用語は炭素数ｌ乃至を個のアルキ
ル基とくにメチル基、エチル基、イソプロピル基、ブチ
ル基及びｔｅｒｔブチル基を意味する。
ル基とくにメチル基、エチル基、イソプロピル基、ブチ
ル基及びｔｅｒｔブチル基を意味する。
モノヒドロキシアルキル基という用語は炭素数２又は３
個のモノヒドロキシアルキル基、とくにコーヒドロキシ
エチル基及びコーヒドにキシプルピル基を意味する。
個のモノヒドロキシアルキル基、とくにコーヒドロキシ
エチル基及びコーヒドにキシプルピル基を意味する。
ポリヒドロキシアルキル基という用語は炭素数がＪ乃至
６個でかつヒドロキシル基数が２乃至！個の基０例えば
２．３−ジヒドロキシプロピル基。
６個でかつヒドロキシル基数が２乃至！個の基０例えば
２．３−ジヒドロキシプロピル基。
コｒ ’ ＊ ” −トリヒドロキシブチル基又はコ、
３゜４！、、ｔ−テトラヒドロキシペンチル基を意味す
る。
３゜４！、、ｔ−テトラヒドロキシペンチル基を意味す
る。
アリール基という用語は場合によりハロゲン原子、ヒド
ロキシル基又はニトロ基により置換されているフェニル
基を意味スる。
ロキシル基又はニトロ基により置換されているフェニル
基を意味スる。
アラルキル基という用語は例えばベンジル基又はフェネ
チル基を意味する。
チル基を意味する。
ｒ′及びｒ“基が一緒になって袂素環全形成していると
きは、この基はピペリジノ基、ピペラジノ基。
きは、この基はピペリジノ基、ピペラジノ基。
モルホリノ基又はピロリジノ基であることができる。
Ｒ８基が水素原子又は低級アルキル基金表わすときはア
セタールはジメチル−又はジエチルアセタールのごとき
低級ジアルキルアセタールである。
セタールはジメチル−又はジエチルアセタールのごとき
低級ジアルキルアセタールである。
一般式（Ｉ）の化合物としては例えば次のものケあげる
ことができる：ｔ−（ｊ、ｔ、７．Ｊ’−テトラヒドロ
−ｚ、ｚ、ｒ、ｔｒ−テトラメチルーコーナフチル）−
２ナフタレンメタノール；ａ−メチル−ｘ−（ｔ、＋、
７．ｒ−テトラヒドロー！ｊ、Ｉ、、ｆ−テトラメチル
ーコーナンチル）−コナフタレンメタノール；α−メチ
ル−ｊ−（ｊ。
ことができる：ｔ−（ｊ、ｔ、７．Ｊ’−テトラヒドロ
−ｚ、ｚ、ｒ、ｔｒ−テトラメチルーコーナフチル）−
２ナフタレンメタノール；ａ−メチル−ｘ−（ｔ、＋、
７．ｒ−テトラヒドロー！ｊ、Ｉ、、ｆ−テトラメチル
ーコーナンチル）−コナフタレンメタノール；α−メチ
ル−ｊ−（ｊ。
Ｊ、７．Ｊ−テトラヒドロ−’ ＃ ’ ｌ ’ 、ｆ
−テトラメチル−２ナフチル２−一す７タレンーメタノ
ール＊ ” −ｎ−プロピル−ｊ−（夕、Ｊ、７゜ｔ−
テトラヒドロ−ｊ、ｊ、ｒ、１−テトラメチルーコナフ
チル）〜コナ７タレンメタノール；メチル ７−（ｔ、
Ｊ、７．ｒ−テトラヒドロ−ｚ、、ｔ、ｔ、ｔ−テトラ
メチル−コーナ７チルンーコーナフタチルメチルエーテ
ル；エチル Ｊ−（ｔ、ａ、７．ｒ−テトラヒドロ−！
、ｊ、ｒ。
−テトラメチル−２ナフチル２−一す７タレンーメタノ
ール＊ ” −ｎ−プロピル−ｊ−（夕、Ｊ、７゜ｔ−
テトラヒドロ−ｊ、ｊ、ｒ、１−テトラメチルーコナフ
チル）〜コナ７タレンメタノール；メチル ７−（ｔ、
Ｊ、７．ｒ−テトラヒドロ−ｚ、、ｔ、ｔ、ｔ−テトラ
メチル−コーナ７チルンーコーナフタチルメチルエーテ
ル；エチル Ｊ−（ｔ、ａ、７．ｒ−テトラヒドロ−！
、ｊ、ｒ。
！−テトラメチルーコナンチル２−コナ７チルメチルエ
ーテルｅ ｔ −（ｊ 、に、７．ｔ−テトラヒドロ−
１，！、Ｉ、ｔ−テトラメチルーコナフチル）−コナフ
トール；メチル ４−（ｊ、Ｊ、７゜ｒ−テトラヒト誼
−ｒ、ｚ、ｒ、ｒ−テトラメチルー−ナフチル）−２す
７チルケトン；エチルｔ（ｊ、ｔ、７．１’−ｆトラヒ
ト” −’ ｌ ’ ｌ ’Ｉｆ）９メｆル〜コナ７チ
ル）−２ナフチルケトン：Ｊ−（ｊ、４，７．ｒ−テト
ラヒドロ−！ｚ、ｒ、ｒ−テトラメチルー２す７チル）
−コナントアルデヒド；ｊ−（ｊ、Ｊ、７．Ｊ−テトラ
ヒドロ＝！、ｊ、Ｉ、ｊ−テトラメチル−２ナフチルフ
ーコナ７テルメチルアセテー）：４−（ｊ。
ーテルｅ ｔ −（ｊ 、に、７．ｔ−テトラヒドロ−
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ト” −’ ｌ ’ ｌ ’Ｉｆ）９メｆル〜コナ７チ
ル）−２ナフチルケトン：Ｊ−（ｊ、４，７．ｒ−テト
ラヒドロ−！ｚ、ｒ、ｒ−テトラメチルー２す７チル）
−コナントアルデヒド；ｊ−（ｊ、Ｊ、７．Ｊ−テトラ
ヒドロ＝！、ｊ、Ｉ、ｊ−テトラメチル−２ナフチルフ
ーコナ７テルメチルアセテー）：４−（ｊ。
Ａ、７．１−テトラヒドロ−！、！Ｆ、ｆ、ｆ−テトラ
メチルーコーナフチル）−コナ７チルメチルゾロピオネ
ート；α−メチル−Ｊ−（ｊ、Ｊ、７゜ｒ−テトラヒト
ｏ−ｓ、！、ｒ、Ｉ−ｆトラメｆルーコナ７チル）−コ
ーナフチルーメチルアセテート：α−メチル−＆−（、
ｔ、Ａ、７．Ｊ’−７）２ヒドロ−１，！、♂、♂−テ
トラメチルーーす７チルノ一２ナフチルメチルプ日ビオ
ネート及びコーメチル−４−（ｊ、４，７．ｆ−テトラ
メチル−ｚ、ｚ、ｔ、ｒ−テトラメチル−２−ナフチル
）−コナフタレン 本発明による一般式（Ｉ）の化会物の中、特に好ましい
化会物はＲ，、Ｒ２，Ｒ，及びＲ４の基がメチル基を表
わしｎはＪ テロ 、り Ｒ５カｊ） （ＯＨ）ｍ−０
６基Ｃ式中７ ｍ ｈ Ｏ又は／でありＲ７は水素原子を表わし、Ｒ６
は水素原子又はＯＲ，基（Ｒ，は水素原子全表わす）１
−表わす）金表わすかまたは１ｌ）−π−Ｒ８基ＩＲｓ
は水素原子を表わす）を表わすものである。
メチルーコーナフチル）−コナ７チルメチルゾロピオネ
ート；α−メチル−Ｊ−（ｊ、Ｊ、７゜ｒ−テトラヒト
ｏ−ｓ、！、ｒ、Ｉ−ｆトラメｆルーコナ７チル）−コ
ーナフチルーメチルアセテート：α−メチル−＆−（、
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トラメチルーーす７チルノ一２ナフチルメチルプ日ビオ
ネート及びコーメチル−４−（ｊ、４，７．ｆ−テトラ
メチル−ｚ、ｚ、ｔ、ｒ−テトラメチル−２−ナフチル
）−コナフタレン 本発明による一般式（Ｉ）の化会物の中、特に好ましい
化会物はＲ，、Ｒ２，Ｒ，及びＲ４の基がメチル基を表
わしｎはＪ テロ 、り Ｒ５カｊ） （ＯＨ）ｍ−０
６基Ｃ式中７ ｍ ｈ Ｏ又は／でありＲ７は水素原子を表わし、Ｒ６
は水素原子又はＯＲ，基（Ｒ，は水素原子全表わす）１
−表わす）金表わすかまたは１ｌ）−π−Ｒ８基ＩＲｓ
は水素原子を表わす）を表わすものである。
これらの化付物としてはとくに４−（ｊ、４゜７、ざ−
テトラヒドローｚ、ｓ、ｔｒ、ｒテトラメチルーコナフ
チル）−コーナ７タレンメタノール；Ａ−Ｃ！、Ａ、７
．１−テトラに一ドｏ−ｚ、Ｊ′。
テトラヒドローｚ、ｓ、ｔｒ、ｒテトラメチルーコナフ
チル）−コーナ７タレンメタノール；Ａ−Ｃ！、Ａ、７
．１−テトラに一ドｏ−ｚ、Ｊ′。
ｒ、ｔ−テトラメチルーコナ７チル）−２−ナフトール
；ぶ−（Ｊ−，４，７，ざ−テトラヒドロ−ｊ、、ｔ、
ｒ、ｒ−テトラメチルーコーナフチルノーコナフトアル
デヒド及びコーメチル−７−（ｊ。
；ぶ−（Ｊ−，４，７，ざ−テトラヒドロ−ｊ、、ｔ、
ｒ、ｒ−テトラメチルーコーナフチルノーコナフトアル
デヒド及びコーメチル−７−（ｊ。
４．７．Ｊ−テトラヒドロ−！、ｊ、ｌ’、ｌ’−テト
ラメチル−２−ナフチル〕−２−ナフタレン金あげるこ
とができる。
ラメチル−２−ナフチル〕−２−ナフタレン金あげるこ
とができる。
本発明による化合物は一般式（ｌＩ）で表わされるノ・
ロゲン比化合物と一般式（ｕＤで表わされるナフタレン
のハロゲン化誘導体との間のカップリング反応によって
製造される： （式中、Ｒ４乃至Ｒ５及びｎは一般式（１）について述
べ九ものと同一の意義を有するものであり、Ｘ及びＹは
０１ 、 Ｏｒ 、 Ｆ又はＮｉ表わす）。
ロゲン比化合物と一般式（ｕＤで表わされるナフタレン
のハロゲン化誘導体との間のカップリング反応によって
製造される： （式中、Ｒ４乃至Ｒ５及びｎは一般式（１）について述
べ九ものと同一の意義を有するものであり、Ｘ及びＹは
０１ 、 Ｏｒ 、 Ｆ又はＮｉ表わす）。
このカップリング反応においては一般式（ＩＩ）のハロ
ゲン化化合物は文献中に記載の公知の方法に従ってその
マグネシウム、リチウム又は亜鉛化合物に転化し、つい
で反応触媒として遷移金属又はその錯体の１種を用いて
一般式面のナフタレンハロゲン化誘導体とカップリング
させる。
ゲン化化合物は文献中に記載の公知の方法に従ってその
マグネシウム、リチウム又は亜鉛化合物に転化し、つい
で反応触媒として遷移金属又はその錯体の１種を用いて
一般式面のナフタレンハロゲン化誘導体とカップリング
させる。
触媒としてはとくにニッケル又はパラジウムの誘導体ま
たとくに種々のホスフィンとＮｉ ＩＩＬ Ｎｉ０７２
）との錯体をあげることができる。
たとくに種々のホスフィンとＮｉ ＩＩＬ Ｎｉ０７２
）との錯体をあげることができる。
カップリング反応は通常−１０乃至＋ＪＯ’Ｃの温゛度
において無水溶媒たとえばジメチルホルムアミド又はテ
トラヒドロフラン中で行なわれる。
において無水溶媒たとえばジメチルホルムアミド又はテ
トラヒドロフラン中で行なわれる。
得られ文生成物は再結晶又はシリカカラム上でのクロマ
トグラフィーによって精製すること力；できる。
トグラフィーによって精製すること力；できる。
一般式（Ｕ）のノ・ロゲン化化合物とカップリング反応
させるための一般式面のナフタレンノ・ロゲン化誘導体
の選択は後の反応によって種々のＲ５基を導き得るよう
にすべきことは惰うまでもない。
させるための一般式面のナフタレンノ・ロゲン化誘導体
の選択は後の反応によって種々のＲ５基を導き得るよう
にすべきことは惰うまでもない。
この目的のためとくに好適なナフタレンのノ・ロゲン化
訪導体は乙−プロムーコナ７タレンメタノールのｔ−ブ
チルジメチルシリルエーテル又は６−プロムーコーナフ
トールのｔ−ブチルジメチルシリルエーテルで４＝）る
。
訪導体は乙−プロムーコナ７タレンメタノールのｔ−ブ
チルジメチルシリルエーテル又は６−プロムーコーナフ
トールのｔ−ブチルジメチルシリルエーテルで４＝）る
。
一般式（ＩＩ）のノ・ロゲン化化会物は大部分が公知で
あり米国特許第３４Ｌり７７３１号明細書には、とくに
ｎ＝２のものすなわちコークロルー又はコープロム−ｚ
、Ａ、７．ｒ−テトラヒドロ−！、ｊ。
あり米国特許第３４Ｌり７７３１号明細書には、とくに
ｎ＝２のものすなわちコークロルー又はコープロム−ｚ
、Ａ、７．ｒ−テトラヒドロ−！、ｊ。
ｌ ｔ−テトラメチル−ナフタレンが記載されている。
本発明の化合物が塩の形であるときは無機酸又は有機酸
との塩、とくに塩酸塩、臭化水素酸塩又はクエン酸塩で
ある。
との塩、とくに塩酸塩、臭化水素酸塩又はクエン酸塩で
ある。
本発明罠よれば、更に、前記一般式（Ｉ）の化合物及び
／又はそれらの塩からなる医薬が提供される。
／又はそれらの塩からなる医薬が提供される。
本発明の化合物は裸のラットにおける１＼テープストリ
ツピングＩ （’ ｔａｐｅ ｓｔｒｉｐｐｉｎｇ Ｉ
）による。
ツピングＩ （’ ｔａｐｅ ｓｔｒｉｐｐｉｎｇ Ｉ
）による。
誘発後のオルニチンデカルゼキシラーゼの抑制に験にお
いて良好な活性を示す。この試験は細胞増殖現象に及ば
ずレチノイドの作用の尺度として認められている。
いて良好な活性を示す。この試験は細胞増殖現象に及ば
ずレチノイドの作用の尺度として認められている。
本発明の化合物は角化（分化、増殖）障害に関連した皮
膚疾患ならびに炎症性成分による皮膚その他の疾患とく
に 一尋常性１面Ｌｔ性又は多形性心猜、老人性・・日照性
表癒及び医薬性又は職業病性斂癒 −乾癖が拡大した及び（又Ｆｉ）悪化し次状態。
膚疾患ならびに炎症性成分による皮膚その他の疾患とく
に 一尋常性１面Ｌｔ性又は多形性心猜、老人性・・日照性
表癒及び医薬性又は職業病性斂癒 −乾癖が拡大した及び（又Ｆｉ）悪化し次状態。
角化についてのその他の障害とくに魚鱗癖及び魚鱗病状
症状。
症状。
−り虹ｉｅｒ氏病
−μ腑角化症
−白色角化症（ｔｅｕｅｏｐｌａｓｉｅｓ）及び白色角
化症症状、扁平苔ｔＭ （ｔｉｃｈｅｎ ｃｌａｎ）
。
化症症状、扁平苔ｔＭ （ｔｉｃｈｅｎ ｃｌａｎ）
。
−重度の又は拡界した。あるいは良性又は悪性のあらゆ
る皮膚病性増殖 更に若干のリューマチ性疾患とくに乾癖性すュマチにも
有効である。従って本発明は、更に上記に定義したとお
りの一般式（１）の化合物及び（又は）その塩の少なく
とも１種を含んでいる医薬組成物に関する。
る皮膚病性増殖 更に若干のリューマチ性疾患とくに乾癖性すュマチにも
有効である。従って本発明は、更に上記に定義したとお
りの一般式（１）の化合物及び（又は）その塩の少なく
とも１種を含んでいる医薬組成物に関する。
従って本発明によればとくに上記疾患の処置に使用し得
る新規の医薬組成物であって許容し得る医薬用担体中に
一般式（Ｉ）の化什物の少なくとも１種を含んでいるこ
とを特徴とする医薬組成物が提供される。
る新規の医薬組成物であって許容し得る医薬用担体中に
一般式（Ｉ）の化什物の少なくとも１種を含んでいるこ
とを特徴とする医薬組成物が提供される。
前述のとおり１本発明による複素環誘導体は従来のレチ
ノイドに比べて光及び酸素に対する安定性が改善されて
いるが、これは本質的には、容易に異性化される二重結
合が存在しないことに基づくものである。
ノイドに比べて光及び酸素に対する安定性が改善されて
いるが、これは本質的には、容易に異性化される二重結
合が存在しないことに基づくものである。
更にウサギについて行なわれた刺激試験は一般式（１）
の化合物はリチノイン酸より刺激性が少ないことを示し
た。
の化合物はリチノイン酸より刺激性が少ないことを示し
た。
本発明による化合物は通常、−日当り約２μｔＡａｔ〜
、２１１Ｆ／ｋｆ好ましくは／ ０．／ ００μｔ／ｋ
ｇ を投与される。
、２１１Ｆ／ｋｆ好ましくは／ ０．／ ００μｔ／ｋ
ｇ を投与される。
医薬組成Ｖ担体としては従来の担体のすべて全使用する
ことができ、有効化合物は担体中に酵解した状態または
分散した状態で存在している。
ことができ、有効化合物は担体中に酵解した状態または
分散した状態で存在している。
投薬は経口、非経口又は局所的投与により行なわれる。
経口投与する医薬は錠剤、カプセル、糖衣錠、シロップ
、懸濁液、溶液、粉末、顆粒又は乳濁液の形とすること
ができる。非経口的には投与する組成物は潅流又は注入
用溶液の形とすることができる。
、懸濁液、溶液、粉末、顆粒又は乳濁液の形とすること
ができる。非経口的には投与する組成物は潅流又は注入
用溶液の形とすることができる。
局所に適用するための１本発明による化合物全活性成分
とする医薬組成物は軟膏、チンキ、クリーム、ｓｉ、ロ
ーション、ケル、ホマーＦ’、 粉末。
とする医薬組成物は軟膏、チンキ、クリーム、ｓｉ、ロ
ーション、ケル、ホマーＦ’、 粉末。
貼薬（ｔｌｍｂｒｅ）又は含浸タンポン、スプレー或い
は懸濁液の形とすることができる。
は懸濁液の形とすることができる。
局所投与用組成物は一般式（１）の化合物を０６０００
２〜約！重量％含んでいることが好ましい。
２〜約！重量％含んでいることが好ましい。
これら局所投与用組成物は臨床医の指示に従って無水の
形とするかあるいは水性の形にすることができ、他の成
分を含むこともできる。
形とするかあるいは水性の形にすることができ、他の成
分を含むこともできる。
本発明による一般式（１）の化合物及び（又はンその塩
は更に化粧料分野におかて、とくに身体及び毛髪の衛生
の維持、またとくに梅漬０毛髪再生。
は更に化粧料分野におかて、とくに身体及び毛髪の衛生
の維持、またとくに梅漬０毛髪再生。
脱毛防止、皮膚又は毛髪の脂ぎった外観の改善。
日光の有害な作用に対する保護或いはまた生理学的に乾
燥した皮膚の処理などに使用し得る。
燥した皮膚の処理などに使用し得る。
従って本発明によれば、更に許容し得る担体中に一般式
（Ｉ）の化合物の少なくとも７種を含んでいることを特
徴とする化粧料組成物が提供される；こ、の組成物はと
くにローション、ゲル、石鹸又はンヤンゾーの形ｆ；ｃ
鳴している。
（Ｉ）の化合物の少なくとも７種を含んでいることを特
徴とする化粧料組成物が提供される；こ、の組成物はと
くにローション、ゲル、石鹸又はンヤンゾーの形ｆ；ｃ
鳴している。
化粧料組成物中の一般式（１）の化合物の濃度は０．０
００ ｊ乃至、２１量饅好ましくはｏ、ｉ乃至／重ｔｑ
６でおる。
００ ｊ乃至、２１量饅好ましくはｏ、ｉ乃至／重ｔｑ
６でおる。
本発明による医薬及び化粧料組成物は不活性添加剤又は
場合にょシ薬力学的に又は化粧料的ＶＣ活性な添加剤と
くにチアモルホリノン及びその誘導体又は尿素などの水
利剤（ｈｙｄｒａｔｉｎｇ ａｇｅｎｔ） 。
場合にょシ薬力学的に又は化粧料的ＶＣ活性な添加剤と
くにチアモルホリノン及びその誘導体又は尿素などの水
利剤（ｈｙｄｒａｔｉｎｇ ａｇｅｎｔ） 。
Ｓ−カルボキンメチル−７ステイン、Ｓ−ベンジ／Ｉ／
−シス７７ ミン及びその肪導体、ナオキシロンなど
の抗脂漏剤、エリスロマイシン、ネオマイシン及びテト
ラサイクリンなどの抗生物質、１ミノキシジル’ （’
Ｍｉｎｏｘｉｄｉｌ Ｉ） （２、ｕ−ジアミノ−６−
ピペリジノ−ビリミジンー３−オキシド）及びその誘導
体などの毛髪再生促進剤；ジアゾキシド（Ｄｉａｇｏｘ
ｉｄｅ）、フートイン（Ｐｈｅｎｙｔｏｉｎ）及びヨ尺
化オキサプロパニウム（ｏｘａｐｒｏｐａｎｌｕｍ）
；ステロイド系及び非ステロイド系抗炎症剤；カロチノ
イドとくにβ−カロチン；アントラリン及びその誘導体
！、ざ、ｌｉ、１４Ａ−エイコサテトラエン酸、及び！
、ｌ。
−シス７７ ミン及びその肪導体、ナオキシロンなど
の抗脂漏剤、エリスロマイシン、ネオマイシン及びテト
ラサイクリンなどの抗生物質、１ミノキシジル’ （’
Ｍｉｎｏｘｉｄｉｌ Ｉ） （２、ｕ−ジアミノ−６−
ピペリジノ−ビリミジンー３−オキシド）及びその誘導
体などの毛髪再生促進剤；ジアゾキシド（Ｄｉａｇｏｘ
ｉｄｅ）、フートイン（Ｐｈｅｎｙｔｏｉｎ）及びヨ尺
化オキサプロパニウム（ｏｘａｐｒｏｐａｎｌｕｍ）
；ステロイド系及び非ステロイド系抗炎症剤；カロチノ
イドとくにβ−カロチン；アントラリン及びその誘導体
！、ざ、ｌｉ、１４Ａ−エイコサテトラエン酸、及び！
、ｌ。
ｌｉ−エイコサトリエンばなとの抗乾癖剤を含むことが
できる。
できる。
本発明にＬる組成物はまた風味改良剤、防腐剤、安定剤
、水分調節剤、ｐＨ調節剤、滲透圧改良剤、乳化剤、Ａ
及びＢ紫外ｉＦ光剤、α−トコフェロール、ブチルヒド
ロキシアニソール又はブチルヒドロキシトルエンなどの
酸化防止剤も含むことができる。
、水分調節剤、ｐＨ調節剤、滲透圧改良剤、乳化剤、Ａ
及びＢ紫外ｉＦ光剤、α−トコフェロール、ブチルヒド
ロキシアニソール又はブチルヒドロキシトルエンなどの
酸化防止剤も含むことができる。
以下の実施例は一般式（Ｉ）の化合物の製造を示す。
実施？Ｑ ／
メタノール
ａ）ｔ−ブロム−２−す７・タレンメタノールのｔ−ブ
チル−ジメチルシリルエーテルの調製ジクロルメタン（
／ｊｄ）とテトラヒドロ７ラン（１３ｍ１）との混合物
中のｔ−ブロム−２−ナフタレンメタノール（／、７２
／ ｆ ； ７．２６ ｍｍｏｔ）、ピリジン（０，
７ｔＯ−）、４’−ジメチル−アミノピリジン（ｉｑｏ
ｒｑ）及びｔ−ブナルジメテル７リルクロライド（／、
＋ ２７ 、 ／、７当童〕の溶液を霊素気中１，２Ｑ
℃において１６時間攪拌し、続いて２時間還流させた。
チル−ジメチルシリルエーテルの調製ジクロルメタン（
／ｊｄ）とテトラヒドロ７ラン（１３ｍ１）との混合物
中のｔ−ブロム−２−ナフタレンメタノール（／、７２
／ ｆ ； ７．２６ ｍｍｏｔ）、ピリジン（０，
７ｔＯ−）、４’−ジメチル−アミノピリジン（ｉｑｏ
ｒｑ）及びｔ−ブナルジメテル７リルクロライド（／、
＋ ２７ 、 ／、７当童〕の溶液を霊素気中１，２Ｑ
℃において１６時間攪拌し、続いて２時間還流させた。
溶媒を減圧下で蒸発させ、残渣をへブタン（２／Ｊｖ／
・Ｖ）エーテル（、’／３ Ｖ／Ｖ ）混合物／ｊ−に
３回溶解させた得られた溶液をシリカカラム（ｊ Ｘ
／ Ｏｃｍ ） ｆ用いて減圧下で濾過した；溶出には
同一のへブタン−エーテル混合物を用いた。減圧下３０
℃において溶媒を蒸発させ次に残渣を強真空下り０′Ｃ
において７７２時間乾燥させ７′Ｃ，かくして油状物が
得られこの油状物は冷却すると結晶化した。６−プロム
ーコーナフタレンメタノールのｔ−ブチル−ジメチル−
シリルエーテルは純粋であり、融点７≠−７ｔ℃であつ
几。
・Ｖ）エーテル（、’／３ Ｖ／Ｖ ）混合物／ｊ−に
３回溶解させた得られた溶液をシリカカラム（ｊ Ｘ
／ Ｏｃｍ ） ｆ用いて減圧下で濾過した；溶出には
同一のへブタン−エーテル混合物を用いた。減圧下３０
℃において溶媒を蒸発させ次に残渣を強真空下り０′Ｃ
において７７２時間乾燥させ７′Ｃ，かくして油状物が
得られこの油状物は冷却すると結晶化した。６−プロム
ーコーナフタレンメタノールのｔ−ブチル−ジメチル−
シリルエーテルは純粋であり、融点７≠−７ｔ℃であつ
几。
収量： ２．１１ Ｊ ｆ （りｕ ％ ） ＲＦ：
０．１ ！ （ｍｅｒｃｋシリカ板；溶離液はジエチル
エーテルｊＱチ、ヘキサン１０％の混合物）。
０．１ ！ （ｍｅｒｃｋシリカ板；溶離液はジエチル
エーテルｊＱチ、ヘキサン１０％の混合物）。
ｂ） ４− （ｊ、ｔ、７，１−ｆ ｌ−５ヒトｏ −
ｚ、ｓ、ｒ、ｒ−テトラメチル−λ−ナフチル）λ−ナ
フタレンメタノールのす一ブチルージメチルシリル・エ
ーテルの調製 ｓ、ｔ、７．ｌｒ−テトラヒドロ−ｊ、 ｊ、 ｆ、ざ
−テトラメチルーコーフロムーナフタレン／、ｊ ｊ
４ ｆ（３３３ｍｍｏｔ）ｋテトラヒドロ７ラン （Ｔ
ＨＦ ）（ｉｏｔｓｔ）に溶解し、マグネシウム粉末
ｏ、ｉ≠７ｆ（ｉ、ｉ当量）を添加した。窒素雰囲気中
において１０℃で２時間加熱しｆｃ、得られた溶液をコ
Ｏ℃Ｏ１θ７ ｊ ｍｍｏＬ）を和え友、室温において
１時間攪拌し７ｔ、ヘゾタンｔｔ％、ジクロルメタンｌ
Ｏ％、エーテル２チの混合物を溶離液として用いて減圧
下にシリカカラム（３ｘｉｏ儒）に通送して濾過して無
機質残渣を除去し友、溶媒を蒸発させ、残渣をイソオク
タメタＯ％及びジクロメタン１０％の混合物を溶離液と
して用いてシリカ（Ｗａｔｅｒｓ％Ｐｒｅｐ ｊ ０１
． ／塔）上でクロマトグラフィーにかけ次。溶媒の蒸
発及び強真空下、り０℃において１時間の乾燥を行って
純粋な、冷却すると結晶化 ′する所望の生成物を得７
’ｊｅ収量： ／、ｊ ４４ ／ ｔ（６７％）、ＲＦ
：０．２０ （Ｍｅｒｃｋシリカ板；溶離液ジエチルエ
ーテル１０％会ヘキサン−１０％の混合物）。
ｚ、ｓ、ｒ、ｒ−テトラメチル−λ−ナフチル）λ−ナ
フタレンメタノールのす一ブチルージメチルシリル・エ
ーテルの調製 ｓ、ｔ、７．ｌｒ−テトラヒドロ−ｊ、 ｊ、 ｆ、ざ
−テトラメチルーコーフロムーナフタレン／、ｊ ｊ
４ ｆ（３３３ｍｍｏｔ）ｋテトラヒドロ７ラン （Ｔ
ＨＦ ）（ｉｏｔｓｔ）に溶解し、マグネシウム粉末
ｏ、ｉ≠７ｆ（ｉ、ｉ当量）を添加した。窒素雰囲気中
において１０℃で２時間加熱しｆｃ、得られた溶液をコ
Ｏ℃Ｏ１θ７ ｊ ｍｍｏＬ）を和え友、室温において
１時間攪拌し７ｔ、ヘゾタンｔｔ％、ジクロルメタンｌ
Ｏ％、エーテル２チの混合物を溶離液として用いて減圧
下にシリカカラム（３ｘｉｏ儒）に通送して濾過して無
機質残渣を除去し友、溶媒を蒸発させ、残渣をイソオク
タメタＯ％及びジクロメタン１０％の混合物を溶離液と
して用いてシリカ（Ｗａｔｅｒｓ％Ｐｒｅｐ ｊ ０１
． ／塔）上でクロマトグラフィーにかけ次。溶媒の蒸
発及び強真空下、り０℃において１時間の乾燥を行って
純粋な、冷却すると結晶化 ′する所望の生成物を得７
’ｊｅ収量： ／、ｊ ４４ ／ ｔ（６７％）、ＲＦ
：０．２０ （Ｍｅｒｃｋシリカ板；溶離液ジエチルエ
ーテル１０％会ヘキサン−１０％の混合物）。
Ｃ）上記で得られた生成物／、≠２２ｔ（３，／ ／
ｒｒｗｎｏＬ）をＴＨＦ （ｊｄ）に溶解した。メタリ
ノールλＱ−及び弗化セシウム７００〜（弘、６４ ｍ
ｍｏｔ） ｋ加えた。還流させながら２Ｖ時間加熱した
。エーテル１ｏｏ−と水ｉｏｏｍｔとの混合物中に注入
しｆｃ。
ｒｒｗｎｏＬ）をＴＨＦ （ｊｄ）に溶解した。メタリ
ノールλＱ−及び弗化セシウム７００〜（弘、６４ ｍ
ｍｏｔ） ｋ加えた。還流させながら２Ｖ時間加熱した
。エーテル１ｏｏ−と水ｉｏｏｍｔとの混合物中に注入
しｆｃ。
エーテル相？回収し、水（，２Ｘ１００ｒｎ７！ンで洗
浄した。乾燥及び溶媒蒸発後、残渣をジクロルメタン１
ｏＴＲｔに溶解した。減圧下にシリカカラム（ｊ Ｘ
／ Ｏｃｍ ）に通送して濾過した。最初、ヘキサン（
２００ｍｂ）で洗浄し、ヘキサン相欠除去し。
浄した。乾燥及び溶媒蒸発後、残渣をジクロルメタン１
ｏＴＲｔに溶解した。減圧下にシリカカラム（ｊ Ｘ
／ Ｏｃｍ ）に通送して濾過した。最初、ヘキサン（
２００ｍｂ）で洗浄し、ヘキサン相欠除去し。
次にジクロにメタンタＯ％、エーテル７０％の混合物（
１００ｙｄ）で洗浄しこれを乾燥させた。溶媒の蒸発後
に結晶質の生成物が得られこれ５ｔ強真空下ｔＱ℃にお
いてｌ／時間乾燥させた。かくして純粋な生成物／、０
３２ ｔが得られた（り６チ〕。
１００ｙｄ）で洗浄しこれを乾燥させた。溶媒の蒸発後
に結晶質の生成物が得られこれ５ｔ強真空下ｔＱ℃にお
いてｌ／時間乾燥させた。かくして純粋な生成物／、０
３２ ｔが得られた（り６チ〕。
融点／ ７ ｊ ′ｃ、 ＲＦ： ０．ｊ ！ （Ｍｅ
ｒｃｋシリカ板：溶離液ジエチルエーテル３０％とヘキ
サンｊＯ％との混合物）。
ｒｃｋシリカ板：溶離液ジエチルエーテル３０％とヘキ
サンｊＯ％との混合物）。
実施例コ
実施例／（Ｃ）で得られた化合物２ Ｊ ７ Ｗ （０
，７４１ｍｍｏｌ） ’ｌ（ジクロメタン／Ｑ−に溶解
しｆｃ、クロルクロム醒ピリジニウム３ｒコ■（λ、４
Ｌ当量）紮加えコＯ℃において１時間攪拌し次。溶離液
としてジクロメタン７ＱチエーチルＩＱ％の混合物を用
いて減圧下にシリカカラム（３Ｘ ／ Ｏｃｍ ）に通
送して濾過した。生成物は調製用ＨＰＬＣ（高圧液相ク
ロマトグラフィー）（シリカカラム）によシ精製した。
，７４１ｍｍｏｌ） ’ｌ（ジクロメタン／Ｑ−に溶解
しｆｃ、クロルクロム醒ピリジニウム３ｒコ■（λ、４
Ｌ当量）紮加えコＯ℃において１時間攪拌し次。溶離液
としてジクロメタン７ＱチエーチルＩＱ％の混合物を用
いて減圧下にシリカカラム（３Ｘ ／ Ｏｃｍ ）に通
送して濾過した。生成物は調製用ＨＰＬＣ（高圧液相ク
ロマトグラフィー）（シリカカラム）によシ精製した。
融点１２．２℃の生成物ｌり／ ｍｙ （７ｔチ）が得
られた。 ＲＦ：０．７ （Ｍｅｒｃｋシリカ板；溶離
液ジエチルエーテル５０ ％ｓヘキサン６０％の混合物
）。
られた。 ＲＦ：０．７ （Ｍｅｒｃｋシリカ板；溶離
液ジエチルエーテル５０ ％ｓヘキサン６０％の混合物
）。
遣」Ｅ鯉且
−
実施例／ （ｂ）と同一の方法に従って２−メチル−６
−ブロムナフタレン（２，２／ ｆ 、 ／ ０ｒｒｒ
ｎｏ％及び！、ｔ、７Ｊ−テトラヒドローｓ、ｓ、ｒ、
ｒ−テトラメチル−λ−ブロムナフタレン（３，２０ｆ
／ ２ ｍｍｏｌ）とを反応させ、カラムクロマトグ
ラフィー（ヘキサンｆ、ジクロメタン／ンにょシ精製し
て、融点７７３−１７５℃のλ〜メチル−７−（！、ｔ
、７．１？−テトラヒドローｔ、、ｓ、ｔ、ｔ−テトラ
メチル）ナフタレン（２，３Ｊ’ ？ 、 ７２チ）？
得た。
−ブロムナフタレン（２，２／ ｆ 、 ／ ０ｒｒｒ
ｎｏ％及び！、ｔ、７Ｊ−テトラヒドローｓ、ｓ、ｒ、
ｒ−テトラメチル−λ−ブロムナフタレン（３，２０ｆ
／ ２ ｍｍｏｌ）とを反応させ、カラムクロマトグ
ラフィー（ヘキサンｆ、ジクロメタン／ンにょシ精製し
て、融点７７３−１７５℃のλ〜メチル−７−（！、ｔ
、７．１？−テトラヒドローｔ、、ｓ、ｔ、ｔ−テトラ
メチル）ナフタレン（２，３Ｊ’ ？ 、 ７２チ）？
得た。
実施例グ
グージメチルアミノ−ビリジン４０〜（Ｏ，Ｓｒｔｗｎ
ｏＬ） ｆ含有するジメチルホルムアミドλ！コ中の６
−ブロム−２−ナフトール（Ｊ ｆ 、 ／ ３Ｊｍｍ
ｏ ｔ）の溶液に、ｔ−ブナルージメチル−シリル響ク
ロライドλ、／ ／ ｆ （／≠ｍｍｏＬ）を添加した
。室温において≠を時間攪拌した。硫酸でｐＨ２まで酸
性化した水中に注入しジエチルエーテルで抽出した。有
機相を水洗し、乾燥させ、ついで真空下で濃縮し７ｔ、
刀・くして得られた橙色油状物を減圧下で、短かい７リ
カカラム（３×７０．）に通送して濾過した（溶離液と
してヘキサンを使用した）。
ｏＬ） ｆ含有するジメチルホルムアミドλ！コ中の６
−ブロム−２−ナフトール（Ｊ ｆ 、 ／ ３Ｊｍｍ
ｏ ｔ）の溶液に、ｔ−ブナルージメチル−シリル響ク
ロライドλ、／ ／ ｆ （／≠ｍｍｏＬ）を添加した
。室温において≠を時間攪拌した。硫酸でｐＨ２まで酸
性化した水中に注入しジエチルエーテルで抽出した。有
機相を水洗し、乾燥させ、ついで真空下で濃縮し７ｔ、
刀・くして得られた橙色油状物を減圧下で、短かい７リ
カカラム（３×７０．）に通送して濾過した（溶離液と
してヘキサンを使用した）。
かくして得られた淡黄色油状物は結晶化した。真空下で
乾燥させ、〃・くして融点６．２℃のｔ−プロムーコー
ナフトールのｔ−ブチル−ジメチルシリル−エーテル１
（３，≠２．７５％）を得た。
乾燥させ、〃・くして融点６．２℃のｔ−プロムーコー
ナフトールのｔ−ブチル−ジメチルシリル−エーテル１
（３，≠２．７５％）を得た。
調製
実施例／（ｂ）と同一の法に従って、ｊ、６よ７．ｒ−
テトラヒドロ−ｊ 、ｊ 、ｆ 、ｔ−テトラメチル−
２−ブロム−ナフタレン（／ ｔ 、 Ｊ、７ ｊ ｍ
ｍｏＬ）とｔ−ゾロムーλ−ナフトールの１−ブナルー
ジメチルシリル−エーテル（／、００ ｆ ３ ｍｍｏ
ｔ）とから融点／／ｊ−／ ／ Ｉ ℃ノ４− （３，
ｔ、７．Ｊ’−テトラヒトｔｆｆ −ｊ。
テトラヒドロ−ｊ 、ｊ 、ｆ 、ｔ−テトラメチル−
２−ブロム−ナフタレン（／ ｔ 、 Ｊ、７ ｊ ｍ
ｍｏＬ）とｔ−ゾロムーλ−ナフトールの１−ブナルー
ジメチルシリル−エーテル（／、００ ｆ ３ ｍｍｏ
ｔ）とから融点／／ｊ−／ ／ Ｉ ℃ノ４− （３，
ｔ、７．Ｊ’−テトラヒトｔｆｆ −ｊ。
５３ｒ−テトラメテルーコーナフチル）−２−ナフトー
ルのｔ−ブナルージメチル−７リルーエーテｋｌ、１０
０９（収率ｆ−２％）ｋ得ｆｃ、 ＲＦ二０，３ｓ（Ｍ
ｅｒｃｋンリカ板；溶離液としてヘキサンタージクロル
メタン／の混合物を使用）。
ルのｔ−ブナルージメチル−７リルーエーテｋｌ、１０
０９（収率ｆ−２％）ｋ得ｆｃ、 ＲＦ二０，３ｓ（Ｍ
ｅｒｃｋンリカ板；溶離液としてヘキサンタージクロル
メタン／の混合物を使用）。
Ｃ）実施例／（Ｃ）と同一の法に従って、Ａ−（ｊ。
ｔ、７Ｊ−テトラヒドロ−ｚ、ｓ、ｒ、ｒ−テトラメチ
ルーコナフトールのｔ−ブチル−ジメチル７リルエーテ
ルＯ１弘Ｐ ｆ （／、／ ｍｍｏｌ、）から、融点Ｉ
Ｏ’１℃” −” ａ’ｓ７ｊ’ −７ドア ヒトｏ
−ｓ、ｓ、ｒ、ｒ −テトラメチルーコナフテル）−２
−ナフトール０Ｊｔｊｆ（７００％）を得た。
ルーコナフトールのｔ−ブチル−ジメチル７リルエーテ
ルＯ１弘Ｐ ｆ （／、／ ｍｍｏｌ、）から、融点Ｉ
Ｏ’１℃” −” ａ’ｓ７ｊ’ −７ドア ヒトｏ
−ｓ、ｓ、ｒ、ｒ −テトラメチルーコナフテル）−２
−ナフトール０Ｊｔｊｆ（７００％）を得た。
組成物の調製例
Ａ、経口用
調製例１０．２１錠剤
実施例λの化合物 ０．００ ／ ｆ
澱粉 ０．／ ／ ４’
燐酸二カルシウム ０．０λＱ
７リカθ、０２０
ラクトース Ｑ、０３０
タルク ０，０ ／ ０
ステアリン酸マグネシウム ０．００ ！ ？調製例２
０ｊｆのカプセル粉末の処方 実施例λの化合物 ０．００ ／ ｆ とうもろこし澱粉 ０．７ ！ ０ ステアリン酸マグ坏ンウム θ、２ｊＯサッカロースタ
加えて ０．３０’ＯＳ’この粉末をゼラチンと二酸化
チタンとからなるカプセルに収容する。
０ｊｆのカプセル粉末の処方 実施例λの化合物 ０．００ ／ ｆ とうもろこし澱粉 ０．７ ！ ０ ステアリン酸マグ坏ンウム θ、２ｊＯサッカロースタ
加えて ０．３０’ＯＳ’この粉末をゼラチンと二酸化
チタンとからなるカプセルに収容する。
実施例３の化合物 ｏ、ｏ ０５ ｇ
グリセリン ０．２００
ザツカロース ｏ、ｏ ｓ 。
ボリエテレングリコールグθｏ ｏ、ｏｓ。
浄水を０口えて ｏ、ｔｉ−ｏ 。
この懸濁液をゼラチン、グリセリン、二酸化チタン及び
水からなるカプセルに収容する。
水からなるカプセルに収容する。
調製例弘 ｊ−アンゾール入可飲懸濁液実施例２の化合
物 Ｑ、００ ／ ｆ グリセリン Ｏｊ ００ ｆ ソルビトール（７０％） ０．ｊ ００サツカリン酸ナ
トリウム ０．０ ／ ０パラヒドロキシ安息香酸メチ
ル ０．０４ｔ０ ？香料 必貿量 浄水？加えて ５，０００ ｍｌ Ｂｏ局所用 実施例λの化合物 ０．００ ／ ｒ ステアリルアルコール ３．０・ＯＯ シラノン ｓ、ｏ ｏ 。
物 Ｑ、００ ／ ｆ グリセリン Ｏｊ ００ ｆ ソルビトール（７０％） ０．ｊ ００サツカリン酸ナ
トリウム ０．０ ／ ０パラヒドロキシ安息香酸メチ
ル ０．０４ｔ０ ？香料 必貿量 浄水？加えて ５，０００ ｍｌ Ｂｏ局所用 実施例λの化合物 ０．００ ／ ｒ ステアリルアルコール ３．０・ＯＯ シラノン ｓ、ｏ ｏ 。
ワセリン ／ ＬＯ００
蒸留水Ｘ加えて ／ ００．０００ ？実施例／の化合
物 ｏ、ｏ ｓ ｏ ｙセチルアルコール ３，０００ ステアリルアルコール ３．グｏｏｙ ２θモルのエチレンオ キッドを付加した セチルアルコール ０．１．３０ λＯモルのエチレン オキ１シトを付Ｄ口した ステアリルアルコール １．グア０ グリセリンモノステアレ ート２．０００ ワセリン油 ／ ３．０００ グリセリン ７０，０００ 防腐剤 必 要 薫 蒸留水を加えて ７００．００ Ｏｆ 実施例≠の化合物 ０．０２０ ｆ ミリスチン酸イソプロ ピル ｒ ｔ、’７ ｏ ｂ 流動ワセリン油 タ、／ ００ ＤＷＧＵＳＳＡ社から％Ａｅｒ− ｏｓＩＩＩ２００の 名称で市販のシリカ タ、／ Ｉ Ｏ 調製例ｒ アニオン系水中油クリーム 実施例コの化合物 ０．０ ／ Ｏｆ ドデシル硫酸ナトリウム θ、、ｒ ｏ 。
物 ｏ、ｏ ｓ ｏ ｙセチルアルコール ３，０００ ステアリルアルコール ３．グｏｏｙ ２θモルのエチレンオ キッドを付加した セチルアルコール ０．１．３０ λＯモルのエチレン オキ１シトを付Ｄ口した ステアリルアルコール １．グア０ グリセリンモノステアレ ート２．０００ ワセリン油 ／ ３．０００ グリセリン ７０，０００ 防腐剤 必 要 薫 蒸留水を加えて ７００．００ Ｏｆ 実施例≠の化合物 ０．０２０ ｆ ミリスチン酸イソプロ ピル ｒ ｔ、’７ ｏ ｂ 流動ワセリン油 タ、／ ００ ＤＷＧＵＳＳＡ社から％Ａｅｒ− ｏｓＩＩＩ２００の 名称で市販のシリカ タ、／ Ｉ Ｏ 調製例ｒ アニオン系水中油クリーム 実施例コの化合物 ０．０ ／ Ｏｆ ドデシル硫酸ナトリウム θ、、ｒ ｏ 。
グリセロール λ、ｏ ｏ 。
ステアリルアルコール ２０．０００
Ｄｙｎａｍｉｔ Ｎｏｄｅ１社から
％Ｍｉｇｌｙｏｌ Ｉ ｒ ／２の
名称で市販のカプリ
ソー／カプリル酸
トリグリセリド ２０．０００
防腐剤 必 要 量
脱塩水を加えて ／ ００．０００ ｒ調製例タ グ二
と− 実施例弘の化合物 ｏ、ｏ ｏ ｓ″１Ｈｅｒｃｕｌｅ
ｓ社からｓｔ Ｋ ｌ −ｕｃｅｌ＃ＨＦの名称で 市販のヒドロキシプ ロピルセルロース λ、ＯＯＯ 水／エタノール（ｓ。
と− 実施例弘の化合物 ｏ、ｏ ｏ ｓ″１Ｈｅｒｃｕｌｅ
ｓ社からｓｔ Ｋ ｌ −ｕｃｅｌ＃ＨＦの名称で 市販のヒドロキシプ ロピルセルロース λ、ＯＯＯ 水／エタノール（ｓ。
：ｓｏ）？加えて ／ ００．０００ ｆｌ第１頁の続
き ■Ｉｎｔ、ＣＩ、’ 識別記号 庁内整理番号０発 明
者 ジャックφウスタシエ フランス国。
き ■Ｉｎｔ、ＣＩ、’ 識別記号 庁内整理番号０発 明
者 ジャックφウスタシエ フランス国。
デ、４２
０発 明 者 マルテイーヌ・ブーツ フランス国。
リエ ２
クラース、アヴエニュ・アルポンス・ボーアンテイベ、
アヴエニュ・ラマルテイーヌ。
アヴエニュ・ラマルテイーヌ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ｌ 一般式（Ｉ）： 〔式中ｎは／又はコであ！り ｌ’Ｌ、 、 Ｒ２，Ｒ
３及びＲ４＃ｉ同一であるか又は異なっており、かつ、
水素原子又はメチル基を表わし、Ｒ５けｉ） −（ＯＨ
）ｍ−Ｒ６基。 ７ θ 基を表わす（これらの式において８ｍは０又はｌであ＃
）Ｒ６は（ａ）水素原子、（ｂ）低級アルキル基、（Ｃ
）−〇Ｒ２Ｒ２基中式中Ｒ２素原子、低級アルキル基。 −０４，。基（Ｒ４゜は炭素数ｌ乃至−０個のアルキ１ ｒ／ （ｍ ＝ ／のときｒ′及びｒ“が水素原子、低級アル
キル基、モノ−又はポリヒドロキアルキル基、場合によ
シ置換されているアリ一ル基を表わすかまたはｒ′とｒ
“が−緒になって複素環を形成している）を表わし、Ｒ
７は水素原子又は低級アルキル基を表わし、 ＦＬ８は
水素原子または低級アルキル基金衣わ対応するアセター
ル基を形成する基を表わすう〕で表わされるナフタレン
誘導体化合物ま友はその塩。 ２ 低級アルキル基は炭素数が／乃至ｔでありかつメチ
ル基、エチル基、インプロピル基、ブチル基及びｔｅｒ
ｔ−ブチル基からなる群から選ばれる。 特許請求の範囲第７項記載の化会物。 ３、 モノヒドロキシアルキル基は炭素数が２又は３で
１）かつコーヒドロキシエチル基又は２−ヒドロキシプ
ロピル基からなる群から選ばれる。 特許請求の範囲第７項記載の化合物。 弘 ポリヒドロキシアルキル基は炭素数が３乃至ｚ、ま
た、ヒドロキシル基数が２乃至３であシかつコ、３−ジ
ヒドロキシプロピル基、コ、３１弘−トリヒド四キシブ
チル基及びコ、３．ＩＩ、！〜テトラヒドロキシペンチ
ル基からなる群から選ばれる。特許請求の範囲第１項記
載の化合物。 よ アリール基は場会によりノ・ロゲン原子、ヒト四キ
シル基又はニトロ基により置換されているフェニル基で
ある。特許請求の範囲第１項記載の化合物。 Ａ、ｒ’及びｒ”の基は一緒になって、ピペリジノ基、
ピペラジノ基１モルホリノ基又はピロリジノ基からなる
群から選ばれた複素環を特徴する特許請求の範囲第１項
記載の化合物。 ７ Ｒ８が水素原子又は低級アルキル基を表わすとき、
アセタール基はジメチル−又はジエチルアセタール基で
ある。特許請求の範囲第１項記載の化合物。 ｌｒ、ｔ−（ｊ、ｔ、７．１−テトラヒドロ−！。 ｚ、ｒ、ｒ−テトラメチルーコーナフチル）−２−ナフ
タレン−メタノール；α−メチル−４−（ｊ、ｔ、７．
１−テトラヒドロ−！、ｊ、ｒ、♂−テトラメチルーコ
ーナフチル）−ノーナフタレンメタノール；α−エチル
−４−（ｊ、４，７゜ｇ−テトラヒドロ−ｚ、ｚ、ｒ、
♂−テトラメチル−コーナ７チル）−コーナ７タレンメ
タノール；α−ｎ−プロピル−４−（ｊ、Ａ、７．ｒ−
テトラヒドロ−ｚ、ｚ、ｒ、ｔ−テトラメチル−一−ナ
フチル）−コーナ７タレンメタノール；メチル−ｔ−（
！、ｔ、７．ｔ−テトラヒドロー！、！。 ｒ、ｒ−テトラメチルーコーナフチル）−２ナフチル−
メチル−エーテル：＆−（ｊ、＆、７．Ｊ’−テトラヒ
ドロー、ｔ、ｚ、ｒ、ｒ−テトラメチルーコーナフチル
）−コナフトール；メチルー乙−（ｊ、ｊ、７．ｒ−テ
トラヒＦ’ｏ−ｊ、ｔ、ｆ。 ｔ−テトラメチルーコーナフチル）−コナフチルケトン
；エチル−４−（、ｔ、ぶ、７．ｔ−テトラヒドロ−ｚ
、ｚ、ｒ、ｒ−テトラメチル−２−す７チル）−２ナフ
チルケトン；エチル７−（、ｔ。 ｔ、７．ｒ−ｆトラヒトｏ−ｊ、ｊ、Ｉ、Ｉ−テトラメ
チルーコーナフチル）−２御ナフチルケトン：４−（ｔ
、４，７．ｌｒ−テトラヒドロ−！。 ｒ、ｒ、ｒ−テトラメチルーコーナフチル）−コナフト
アルデヒド：７−（ｔ、＆、７．ｆ−テトラヒドローｒ
、ｓ、ｒ、ｒ−テトラメチルーコーナフチル）−２す７
チルーメチルアセテート；ｔ−（、ｔ、７，７．ｒ−テ
トラヒドロ−ｚ、ｚ、ｒ。 ｒ−テトラメチルーコナフチルメチルプロビオネート；
α−メチル−Ｊ−（、ｔ、４，７．ｒ−テトラヒドロ−
ｒ、ｚ、ｒ、ｒ−テトラメチルーコーナフチル）−コー
ナフチルーメチル−アセテート；ｃｌ−）Ｉｆｈ−Ａ−
Ｃ！、Ａ、７．１−ｆト’）ヒドロ−！、タ、ｔ、ｓ’
−テトラメチル−コーナ７チル）−コナフチルメチルゾ
ロピオネート及び−一メチル−４−＜！、ｔ、７．１−
テトラヒドローｚ、、ｔ、ｔ、ｒ−テトラメチルーコー
ナフチル）−コナフタレンからなる群から選ばれる特許
請求の範囲第１項乃至第７項の何れかに記載の化合物。 ｇ Ｒ，、Ｒ２，Ｒ５及びＲ４はメチル基を表わしｎは
コであシそしてＲ５はｌ） −（ＯＨ）ｍ−Ｒ６基（式
中ｍ。 ７ はＯ又は／であシ、Ｒ７は水素原子を表わしまたＲ６は
水素原子又は−０ＦＬ、基を表わしＲ２は水素原子を表
わすかまたはＩＩ）−ｏ−ＦＬ８基（Ｒ８は水素原子全
表わ１ す）を表わす、特許請求の範囲第７項記載の化合物。 ｉｏ、一般式（ＩＤ ： の化合物のマグネシウム、リチウム又は亜鉛化付物と一
般式［相］： のす７タレンのハロゲン化化合物（上記式中、Ｒ４〜Ｒ
−後記の意義全ＮＬ、ＸおよびＹはＯｌ、Ｂｒ。 Ｆまたは工を表わす〕とを、無水溶剤中において。 反応触媒としての遷移金属またはその錯体の存在下でカ
ップリング反応させることを特徴とする。 一般式（■）： 〔式中ｎは／又はコでありＲ１，Ｒ２，Ｒ３及びＲ４は
同一であるか又は異なっており、かつ、水素原子又はメ
チル基を表わし、Ｒ５はｌ ） −（ＯＨ）ｍ−Ｒ６基
。 ７ あシＲ６は（、）水素原子、（ｂ）低級アルキル基、
（ｃ） −０ＦＬｑ基（式中Ｒ２は水素原子、低級アル
キル基、 −０−Ｒ１゜１ 基（Ｒ，１ｏは炭素数／乃至２０個のアルキル基）又ｒ
−゛ ノー又はポリヒドロキアルキル基、場会により置換され
ているアリール基を表わすかまたはｒ′とｒＩ／が一緒
になって複素環を形成している）を表わし。 Ｒ７は水素原子又は低級アルキル基を表わし、Ｒ８は水
素原子または低級アルキル基を表わすかまたは−０−Ｒ
８基を含む該カルボニル化合物に対応するアδ セタール基を形成する基を表わす）〕で表わされるナフ
タレン誘導体化置物の製造方法。 ／／、カップリング反応は一２０℃乃至＋３０℃におい
て行なわれる特許請求の範囲第７０項記載の方法。 ｌ、Ｌ 一般式（■）： 〔式中ｎ ｉｆ ／又ＦｉＪでありＲ，、Ｒ，２，Ｒ３
及びＲ４は同一であるか又は異なっており、かつ、水素
原子又ｔｌｊ１． メ−Ｆ−Ａ４’ｔ［ｔ） Ｌ、 Ｒ
，５ハ１）−（？Ｈ）ｍ−Ｉｔ、６基。 ７ １１）−０＝：Ｎ基＋ｉｉ） −〇−Ｒ８基又はＩＶ）
、ｔキサシリニル基１ を表わす（これらの式において、ｍはＯ又は／でありＦ
Ｌ６は（、）水素原子、（ｂ）低級アルキル基、 （ｃ
） −ＯＲ？基（式中Ｒ２は水素原子、低級アルキル基
−ｊ？−）Ｌ１０のときｒ′及びｒ＃が水素原子、低
級アルキル基、モノ−又はポリヒドロキアルキル基、場
酋により置換されているアリール基を表わすかまたはｒ
′とｒ′′が一緒になって複素礫會形成している）を表
わし。 Ｒ７は水素原子又は低級アルキル基金表わし、Ｒ８は水
素原子または低級アルキル基を表わすかまたは一υＲ８
基を含む該カルボニル化合物に対応するアセタール基を
形成する基を表わすン〕で表わされるナフタレン誘導体
化置物またはその塩の少なくとも７種を、経口、非経口
または局所投与するのに適する媒体中に含有させてなる
。医薬組成物、。 ／Ｊ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４がメチル基を表わし。 ｎはコであり、Ｒ５が１ ） −（？Ｈ）ｍ−Ｒ６基（
式中ｍは７ θ又は／であり、Ｒ７は水素原子を表わし、Ｒ６は水素
原子又は−０Ｒ２基’ｉ Ｒ９ｉ’；を水素原子を表わ
す）を表わすかまたはｌ＋）−９’−”８基（Ｒ８は水
素原子を表わす）を表わす一般式（１）の化合物を含ん
でいる特許請求の範囲第１２項記載の組成物。 ｌ弘 一般式（１）の化合物又はそれらの塩のうらの一
種を一日に約２μｇ／ｋｇ乃至コｍｇ／ｋｇの割付で投
与する特許請求の範囲Ｎ７２項又は第１３項に記載の組
成物。 ／Ｊ： 局所投与に適した形ｔＶしておシがっ一般式（
Ｉ）の化合物１（ｏ、ｏ ｏ ｏ 、を乃至！重ｉチ含
んでいる。特許請求の範囲第１コ項又は第７３項記載の
紹放物。 ／Ｊ、一般式（Ｉ）： 〔式中ｎは／又はコであ＃）Ｒ１，Ｒ２、Ｒ，及びＲ４
は同一であるか又は異なっており、かつ、水素原子又は
メチル基を表わし、Ｒ５はｌ ） −（ＯＨ）ｍ−Ｒ６
基、１１）Ｌ７ 表わす（これらの式にお−て９ｍはＯ又は／でありＲ６
は（ａ）水素原子、（ｂ）低級アルキル基、（ｃ） −
０Ｒ９基（式中Ｒ，Ｆｉ水素原子、低級アルキル基、
−０４１０１ のときｒ′及びｒ“が水素原子、低級アルキル基、モノ
−又はポリヒドロキアルキル基、揚会により置換されて
いるアリール基を表わすかまたはｒ′とｒ“が−緒罠な
って複素環を形成している）を表わし。 Ｒ７は水素原子又は低級アルキル基金表わし、Ｒ８は水
素原子または低級アルキル基を表わすかまたは−ＩＲ−
Ｒ８基を含む該カル−ニル化合物に対応するアセタール
基金形成する基を表わす）〕で表わされるナフタレン誘
導体化合物またはその塩の少なくとも７種を化粧料担体
中に含有させてなる化粧料組成物。 ／２一般式（Ｉ）の化せ物の濃度は、θ、θθθ！乃至
コ重量％、好ましくは０．０ ／乃至７重１に係である
。特許請求の範囲第１を項記載の組成物。 ｌＬ は−ジョン、ケル、クリーム、石鹸又はシャンプ
ーの形を有している。４？許請求の範囲第１を項又は第
７７項記載の組成物。 ／ｆｉ 水和剤、抗脂漏剤、抗生物質１毛髪再生助剤、
抗炎症剤、カロチノイド、抗乾癖剤、風味剤。 防腐剤、安定剤、水分調節剤、ｐＨ調節剤、滲透圧改質
剤、乳化剤、Ａ及びＢ紫外線フィルタ及び酸化防止剤か
らなる群から選ばれた添加剤の少なくとも７種金含んで
いる。特許請求の範囲第１２項乃至第ｉｔ項の何れかに
記載の組成物。
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| FR8318917 | 1983-11-28 |
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|---|---|
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| JPH0583528B2 JPH0583528B2 (ja) | 1993-11-26 |
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|---|---|---|---|
| JP59248831A Expired - Fee Related JPH0678275B2 (ja) | 1983-11-28 | 1984-11-27 | ポリ置換ナフタレン化合物、その製造方法およびこれを含有する医薬および化粧料組成物 |
| JP59248830A Granted JPS60155140A (ja) | 1983-11-28 | 1984-11-27 | ナフタレン誘導体化合物、その製造方法及びこれを含有する医薬及び化粧料組成物 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59248831A Expired - Fee Related JPH0678275B2 (ja) | 1983-11-28 | 1984-11-27 | ポリ置換ナフタレン化合物、その製造方法およびこれを含有する医薬および化粧料組成物 |
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