JPS59135456A - 製版用ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
製版用ハロゲン化銀写真感光材料Info
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- JPS59135456A JPS59135456A JP58009612A JP961283A JPS59135456A JP S59135456 A JPS59135456 A JP S59135456A JP 58009612 A JP58009612 A JP 58009612A JP 961283 A JP961283 A JP 961283A JP S59135456 A JPS59135456 A JP S59135456A
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- JP
- Japan
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- starch
- photosensitive
- silver halide
- emulsion layer
- silver
- Prior art date
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/54—Absorbers, e.g. of opaque materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
- G03C1/06—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with non-macromolecular additives
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/7614—Cover layers; Backing layers; Base or auxiliary layers characterised by means for lubricating, for rendering anti-abrasive or for preventing adhesion
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/15—Lithographic emulsion
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/162—Protective or antiabrasion layer
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- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は製版用ハロゲン化銀写真感光材料(以ド、「製
版用感材」と記す)に関し、特に減力処理性能が著しく
1情い製版用感材とその減力処理方法に関するものであ
る。
版用感材」と記す)に関し、特に減力処理性能が著しく
1情い製版用感材とその減力処理方法に関するものであ
る。
製版用感材は、印刷工業等の分野に於て#淡画像を網点
画I象に変換したり線画像を撮影するなどの写真製版工
程に用いる感材である。
画I象に変換したり線画像を撮影するなどの写真製版工
程に用いる感材である。
通常これらの製版用感拐を用いて印刷用原版を得るにあ
たっては、印刷特性に適合した画像の微妙な調子再現や
芸術的な表現を満足させる為に、該製版用感材に対して
減力処理と呼ばれる処理を施して網点面積を減少させた
り線画の巾を拡大又は縮少させるなど画像を部分的に又
は全[fli的に做修正する工程?経ることが多い。
たっては、印刷特性に適合した画像の微妙な調子再現や
芸術的な表現を満足させる為に、該製版用感材に対して
減力処理と呼ばれる処理を施して網点面積を減少させた
り線画の巾を拡大又は縮少させるなど画像を部分的に又
は全[fli的に做修正する工程?経ることが多い。
この為、製版用感材に於ては減力処理適性を有している
か否かが極めて重要な性能の1つとなる。
か否かが極めて重要な性能の1つとなる。
露光・現1等処理を経て網点画像又は線画像を形成した
製版用感材を減力処理するには、該網点又は線l[!]
i1#を形成している金4銀を減力液と接触させる方法
が用いられている。減力液としては多くのものが知られ
ており、たとえばミーズ著ザ・セオリー・オブ・ザ・フ
ォトグラフィック・プロセス(Mees 、 The
’l’heory of thephotograph
ic process )第731〜73り負(/り
sit年、Macmi l fan社刊行)には過マン
ガン酸塩、第2鉄塩、第2セリウム塩、赤血塩、取りロ
ム酸塩、過硫酸塩などの減力成分を用いた減力液が記載
さnている。
製版用感材を減力処理するには、該網点又は線l[!]
i1#を形成している金4銀を減力液と接触させる方法
が用いられている。減力液としては多くのものが知られ
ており、たとえばミーズ著ザ・セオリー・オブ・ザ・フ
ォトグラフィック・プロセス(Mees 、 The
’l’heory of thephotograph
ic process )第731〜73り負(/り
sit年、Macmi l fan社刊行)には過マン
ガン酸塩、第2鉄塩、第2セリウム塩、赤血塩、取りロ
ム酸塩、過硫酸塩などの減力成分を用いた減力液が記載
さnている。
ところが減力処理とは結局、銀画像を酸化し、溶解する
ことであるから網点画像を減力処理する楊行、減力処理
によυ網点面積を減少せしめると、それと併行して網点
の黒化濃度の減少が生ずる。
ことであるから網点画像を減力処理する楊行、減力処理
によυ網点面積を減少せしめると、それと併行して網点
の黒化濃度の減少が生ずる。
従って減力処理により修正可能なml囲は網点面積の減
少時に発生する網点/個当りの黒化濃度の減少の置台に
よって制限されることになる。換言すれば、網点画像の
修正可能な範囲のメジャーは、網点/個当りの黒化濃度
を一足値以上に保って網点面積をいくら減少せしめ得た
かによって表わすことが出来る。
少時に発生する網点/個当りの黒化濃度の減少の置台に
よって制限されることになる。換言すれば、網点画像の
修正可能な範囲のメジャーは、網点/個当りの黒化濃度
を一足値以上に保って網点面積をいくら減少せしめ得た
かによって表わすことが出来る。
本明細書に於ては、減力処理により写真製版工程で必要
とされるぎりぎりの値しこ葦で網点の黒化濃度が減少し
た時に、網点面積が処理前の網点面積に対してどれ位減
少したかを1減力巾」なる用語で表わすことにする。こ
の減力I+]が広いほど減力処理適性が、司くなること
はいうまでもない、3減力処理適性を向上させる技術と
しては、例えば特開昭6.l−1,Ilt/り号公報に
記載された減力処理時にメルカプト化合9勿を′よむ減
力法が矧られているが、特殊な減力液となり、減力速度
などが一般に訣われている減力液と異なって使いにくく
なる。
とされるぎりぎりの値しこ葦で網点の黒化濃度が減少し
た時に、網点面積が処理前の網点面積に対してどれ位減
少したかを1減力巾」なる用語で表わすことにする。こ
の減力I+]が広いほど減力処理適性が、司くなること
はいうまでもない、3減力処理適性を向上させる技術と
しては、例えば特開昭6.l−1,Ilt/り号公報に
記載された減力処理時にメルカプト化合9勿を′よむ減
力法が矧られているが、特殊な減力液となり、減力速度
などが一般に訣われている減力液と異なって使いにくく
なる。
ところで、ゼラチン−ハロゲン化銀乳剤に対し、ゼラチ
ン以外の天然又は合成高分子化合物、例えはポ1J−N
−ビニルラクタム類、澱粉、デキストリン、ラミナリ/
、マンナンヒドロキシエチル化セルロース等を添加する
ことにより該乳剤のカバーリングパワーを増加させうろ
ことが知られている(米1ホ1特許第3 、Dsf 、
rlA号、同第3゜003、了7g号、仏画特許第1.
コA/ 、f≠6号、ベルギー国特許第61/、/、2
2号及び同第t//、A、z3号など)aこのようにし
てカバーリング・パワーを増大させれば減力中を広くす
ることができるが、かかる高分子量の添加剤をカバーリ
ングパワーが改善できる程の量1吏用すると乳剤膜が軟
化してしまい、必要な機械的膜強度が得られなかった。
ン以外の天然又は合成高分子化合物、例えはポ1J−N
−ビニルラクタム類、澱粉、デキストリン、ラミナリ/
、マンナンヒドロキシエチル化セルロース等を添加する
ことにより該乳剤のカバーリングパワーを増加させうろ
ことが知られている(米1ホ1特許第3 、Dsf 、
rlA号、同第3゜003、了7g号、仏画特許第1.
コA/ 、f≠6号、ベルギー国特許第61/、/、2
2号及び同第t//、A、z3号など)aこのようにし
てカバーリング・パワーを増大させれば減力中を広くす
ることができるが、かかる高分子量の添加剤をカバーリ
ングパワーが改善できる程の量1吏用すると乳剤膜が軟
化してしまい、必要な機械的膜強度が得られなかった。
減力■〕を広くして減力処理適性を改善する技術の中で
最も有効な方法は画像を形成する銀量を多くすることで
ある。何故なら前述したように減力処理とは減力液によ
り銀画像を酸化し溶解することであるから、一般に銀画
像を形成している銀の単位面積当りの址が多ければ多い
程減力処理によりlI!ii像を修正でさる範囲は広く
なるからである。
最も有効な方法は画像を形成する銀量を多くすることで
ある。何故なら前述したように減力処理とは減力液によ
り銀画像を酸化し溶解することであるから、一般に銀画
像を形成している銀の単位面積当りの址が多ければ多い
程減力処理によりlI!ii像を修正でさる範囲は広く
なるからである。
従って製版用感材に用いるノ・ロゲン化銀の単位面積当
りの塗布量を多くすれば減力1Jは大きくなるのである
が、周知の如く銀は極めて高価かつ貴重なものでめる〃
・ら、いたずらに塗布銀量を多くすることは製版用感材
のコストの点からも省資源的見地からも好ましくない。
りの塗布量を多くすれば減力1Jは大きくなるのである
が、周知の如く銀は極めて高価かつ貴重なものでめる〃
・ら、いたずらに塗布銀量を多くすることは製版用感材
のコストの点からも省資源的見地からも好ましくない。
従って、出来るだけ少ない銀を用いて、必要な特性を有
す0製版用感材を製造することは当業界の重要な課題の
1つである。
す0製版用感材を製造することは当業界の重要な課題の
1つである。
従うて本発明の目的は第lに塗布銀量を多くす、るとい
゛9手段に依らずに減力処理適性が改善された製版用感
拐を提供するにあり、第2にかかる製版用感材を用いた
減力中の広い秀れた減力処理方法を提供するにある。
゛9手段に依らずに減力処理適性が改善された製版用感
拐を提供するにあり、第2にかかる製版用感材を用いた
減力中の広い秀れた減力処理方法を提供するにある。
本発明者等は刀・かる課題を改善する方策を槙々検削し
た結果非感光性上部層の硬化度と・・ロケ/化銀乳剤層
の硬化度を独立にコントロールすることのできる硬膜技
術(塗布層別硬膜技術うを応用し、非感光性上部層の硬
化度を犬さくすることにより減力中が広くなり、減力処
理適性が著しく改善されることを見い出し特許出願した
が(特願昭5t−ipo、ggり号)、その後の研究の
結果、かかる製版用感材の感光性ハロゲン化銀乳剤層に
澱粉、化工澱粉及び/又は澱粉を原料として微生物発酵
法によって作られた高分子多糖類を卯えることにより減
力処理適性が一段と向上することを発見し本発明を兇成
した。
た結果非感光性上部層の硬化度と・・ロケ/化銀乳剤層
の硬化度を独立にコントロールすることのできる硬膜技
術(塗布層別硬膜技術うを応用し、非感光性上部層の硬
化度を犬さくすることにより減力中が広くなり、減力処
理適性が著しく改善されることを見い出し特許出願した
が(特願昭5t−ipo、ggり号)、その後の研究の
結果、かかる製版用感材の感光性ハロゲン化銀乳剤層に
澱粉、化工澱粉及び/又は澱粉を原料として微生物発酵
法によって作られた高分子多糖類を卯えることにより減
力処理適性が一段と向上することを発見し本発明を兇成
した。
すなわち本発明は支持体上に少なくとも7層の感光性ハ
ロゲン化銀乳剤層及び該乳剤層の上部に少なくとも7層
の非感光性上部層を有して成る製版用感材に於て、非感
光性上部層の少なくとも7層の融解時間を感光性ハロゲ
ン化銀乳剤層よりも大きくし、かつ該乳剤層に澱粉、化
工澱粉及び/又はデキストランを含有せしめてなる製版
用感材とこの製版用感材を露光・現1象処理したあと減
力処理する減力処理方法である。
ロゲン化銀乳剤層及び該乳剤層の上部に少なくとも7層
の非感光性上部層を有して成る製版用感材に於て、非感
光性上部層の少なくとも7層の融解時間を感光性ハロゲ
ン化銀乳剤層よりも大きくし、かつ該乳剤層に澱粉、化
工澱粉及び/又はデキストランを含有せしめてなる製版
用感材とこの製版用感材を露光・現1象処理したあと減
力処理する減力処理方法である。
本発明のように非感光性上部層の融解時間を乳剤層のそ
れよりも大きくした時(こ始めて澱粉、化工澱粉、澱粉
を原料として微生物発酵法によって作られた高分子多糖
類を乳剤層に相当量添加しても膜強度が劣化しないとい
う効果が奏せられるし、更に本発明の製版用感材には澱
粉、化工澱粉、澱粉を原料として微生物発酵法によって
作られた高分子多糖類のカバーリング・)ξワー増万1
1の効果から予想される程度を越えた威力中の増加が見
られる。とのよつな本発明の効果は他の高分子量の添〃
口剤(1+IIえばポリ−N−ビニルラクタム類、ポリ
−N−ビニルピロリドン、セルロース誘導体ナト)では
得られない澱粉、化工澱粉、あるいは澱粉を原料として
倣生・吻発酵伝によって作られた高分−J−多糖類に固
有なものである。
れよりも大きくした時(こ始めて澱粉、化工澱粉、澱粉
を原料として微生物発酵法によって作られた高分子多糖
類を乳剤層に相当量添加しても膜強度が劣化しないとい
う効果が奏せられるし、更に本発明の製版用感材には澱
粉、化工澱粉、澱粉を原料として微生物発酵法によって
作られた高分子多糖類のカバーリング・)ξワー増万1
1の効果から予想される程度を越えた威力中の増加が見
られる。とのよつな本発明の効果は他の高分子量の添〃
口剤(1+IIえばポリ−N−ビニルラクタム類、ポリ
−N−ビニルピロリドン、セルロース誘導体ナト)では
得られない澱粉、化工澱粉、あるいは澱粉を原料として
倣生・吻発酵伝によって作られた高分−J−多糖類に固
有なものである。
更に本発明によれは組撮影の場合のスクリーンレンジ(
網階J?4)が長くなるという当栗者にとっても予測の
できない符異な効果が#しれる。
網階J?4)が長くなるという当栗者にとっても予測の
できない符異な効果が#しれる。
本発明で使用しう乙澱粉にFi特別なili!I限はな
く、コーンスターチ、馬鈴薯澱粉、1喜澱粉、小麦澱粉
、コメ澱粉、タピオカ澱粉、サゴ澱粉などの独々の原料
から作られたものを用い得る。本発明で使用しうる化工
#紛には澱粉の誘導体、澱粉の加水分解物、澱粉の加水
分J昨物の誘導体が含1れる。
く、コーンスターチ、馬鈴薯澱粉、1喜澱粉、小麦澱粉
、コメ澱粉、タピオカ澱粉、サゴ澱粉などの独々の原料
から作られたものを用い得る。本発明で使用しうる化工
#紛には澱粉の誘導体、澱粉の加水分解物、澱粉の加水
分J昨物の誘導体が含1れる。
澱粉の誘導体としては酢酸澱粉、カルボ゛キシメチル澱
粉、ヒドロキシアルキル化澱粉、リン酸澱粉、カチオン
澱粉、アルキル澱粉エーテルなどがある。
粉、ヒドロキシアルキル化澱粉、リン酸澱粉、カチオン
澱粉、アルキル澱粉エーテルなどがある。
澱粉の加水分解物とは澱粉を酵素、酸、アルカリおよび
/または熱などにより澱粉の分子鎖を切断して分子量ヲ
低トさせたもので薄手糊澱粉、白色デキストリン、ブリ
ティシュガム、可溶性澱粉等がその例である。澱粉の加
水分解物の誘導体とは上記澱粉の誘導体を別氷分解する
か又は上記澱粉の別水分屏9勿金ヒドロキシアルキルエ
ーテル化、カルボ費−シメチル化、アセチル化などの処
理を経て誘導体としたものをいう。化工澱粉としてのヒ
ドロキシアルキル化(特にエチル化又はプロピル化)澱
粉もしくはその加水分解物又は澱粉の加水分解物をヒド
ロキシアルキル(特にエチル又1.−1プロピル)エー
テル化したものが本発明にとって特に好ましい。これら
の澱粉又は化工澱粉については二国二部監修[澱粉科学
ハフドブツクJ(/277年、朝食書店発行〕、几・W
、Kerr ・2nd ed、、Academic
press inc、。
/または熱などにより澱粉の分子鎖を切断して分子量ヲ
低トさせたもので薄手糊澱粉、白色デキストリン、ブリ
ティシュガム、可溶性澱粉等がその例である。澱粉の加
水分解物の誘導体とは上記澱粉の誘導体を別氷分解する
か又は上記澱粉の別水分屏9勿金ヒドロキシアルキルエ
ーテル化、カルボ費−シメチル化、アセチル化などの処
理を経て誘導体としたものをいう。化工澱粉としてのヒ
ドロキシアルキル化(特にエチル化又はプロピル化)澱
粉もしくはその加水分解物又は澱粉の加水分解物をヒド
ロキシアルキル(特にエチル又1.−1プロピル)エー
テル化したものが本発明にとって特に好ましい。これら
の澱粉又は化工澱粉については二国二部監修[澱粉科学
ハフドブツクJ(/277年、朝食書店発行〕、几・W
、Kerr ・2nd ed、、Academic
press inc、。
New York (/ ?sO)、J 、A、L(
adley。
adley。
“5tarch add Its 1)eriv
atives ” 。
atives ” 。
Vol l & 11.3 rd ed、、Chap
man &Hall l、Ld、、 1.and
on (/りj3)などの成書を参考にすることがで
きる。
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on (/りj3)などの成書を参考にすることがで
きる。
また、本発明に欧州する澱粉を原料として微生物発酵法
によって作られた高分子多糖類としては非結晶性で水に
4容性のものが好ましく、例えばグルコースがα−/、
A結合でつながりた高分子多糖類であるデキストランや
グルコースの3量体であるマルトトリオースがα−ノ、
z紹ばでつながった高分子多糖類であるプルラ/(住友
化学■製)などがある、 本発明の高分子量添加剤は感光」ノ・ロケン化銀乳剤層
に使用されている親水性コロイドバインダー(特にゼラ
チンラに対して0.0/〜/重量部・好捷しくはO8/
〜0.1重量部の割合で用いられる。塗布片で表わせば
0.θ/〜3.θ///m。
によって作られた高分子多糖類としては非結晶性で水に
4容性のものが好ましく、例えばグルコースがα−/、
A結合でつながりた高分子多糖類であるデキストランや
グルコースの3量体であるマルトトリオースがα−ノ、
z紹ばでつながった高分子多糖類であるプルラ/(住友
化学■製)などがある、 本発明の高分子量添加剤は感光」ノ・ロケン化銀乳剤層
に使用されている親水性コロイドバインダー(特にゼラ
チンラに対して0.0/〜/重量部・好捷しくはO8/
〜0.1重量部の割合で用いられる。塗布片で表わせば
0.θ/〜3.θ///m。
本発明における非感光性上部層は感光性ハロゲン化銀乳
剤層の上部全面にわたって設けられる本質的に親水性コ
ロイドからなる層でろ楡。かかる非感光性上部ノーは7
層のみでもよく、場曾によっては2層又はそれ以上設け
られていてもよい。
剤層の上部全面にわたって設けられる本質的に親水性コ
ロイドからなる層でろ楡。かかる非感光性上部ノーは7
層のみでもよく、場曾によっては2層又はそれ以上設け
られていてもよい。
本発明において、非感光性上部層の少なくとも1層の融
解時間が乳剤層の融解時間よりも太さいということは、
V非感光性上部層が乳剤層よりもより強く硬化されてい
ることを意味する。
解時間が乳剤層の融解時間よりも太さいということは、
V非感光性上部層が乳剤層よりもより強く硬化されてい
ることを意味する。
硬化した層の硬化度を評価する方法としては、当業界で
は、硬化層をある溶成で膨潤させた時の膨潤匿、あるい
は、竹重をかけた針状のスタイラスを用いて引掻き、傷
の生ずるイWr重であられす引掻強度などがよく知られ
ているが、本発明の目的の評価のためには、硬化膜をあ
る一部温匪に保った溶液中に漬け、膜が融解しはじめる
までの時間すなわち融解時間(melting L i
me :MT) f用いて評価するのが最も有効である
。融解時間の測足には、750Cに保っだo 、 J
NN a 0I4felt夜中で行うのが最もよい(但
し必ずしもこれに限るわけではない)。
は、硬化層をある溶成で膨潤させた時の膨潤匿、あるい
は、竹重をかけた針状のスタイラスを用いて引掻き、傷
の生ずるイWr重であられす引掻強度などがよく知られ
ているが、本発明の目的の評価のためには、硬化膜をあ
る一部温匪に保った溶液中に漬け、膜が融解しはじめる
までの時間すなわち融解時間(melting L i
me :MT) f用いて評価するのが最も有効である
。融解時間の測足には、750Cに保っだo 、 J
NN a 0I4felt夜中で行うのが最もよい(但
し必ずしもこれに限るわけではない)。
本発明に於て、非感光性上部層の少r’r、 くとも7
層の融解時間を感光性ハロゲン化銀乳剤層のそれより犬
にする為には、層別硬化技術を用いて、該非感光性上部
層の硬化度を感光・注ハロゲン化舐乳剤層のそれより選
択的に犬にすればよい。その際、非感光性上部ノーの少
なくとも7層の融解時間が乳剤層のそれよりも、前記測
足方法によりSO抄以上、特に70θ秒以上大きくなる
。L′、)に)AfJ<的な硬膜全行なうことが好まし
い。
層の融解時間を感光性ハロゲン化銀乳剤層のそれより犬
にする為には、層別硬化技術を用いて、該非感光性上部
層の硬化度を感光・注ハロゲン化舐乳剤層のそれより選
択的に犬にすればよい。その際、非感光性上部ノーの少
なくとも7層の融解時間が乳剤層のそれよりも、前記測
足方法によりSO抄以上、特に70θ秒以上大きくなる
。L′、)に)AfJ<的な硬膜全行なうことが好まし
い。
少なくとも1つの非感光1生上部層全選択的に硬化す0
為には、例えば荷分IIf; 弘λ−/71/λ−号に
示きれるような非感光性上部層の主たつバイ7ダーとし
て用いろセラナノと拡散性の低分子硬化剤全塗設の81
5に塗蒲特性を損わぬ程1庭に反応させた後値設するな
どの方法があり、てらには、米国を除6干第≠、207
,10り号に示されるような、硬膜剤を介してゼラチン
と架橋反応しワる官能話を41するポリマーを用いるこ
とも目工能でりる。
為には、例えば荷分IIf; 弘λ−/71/λ−号に
示きれるような非感光性上部層の主たつバイ7ダーとし
て用いろセラナノと拡散性の低分子硬化剤全塗設の81
5に塗蒲特性を損わぬ程1庭に反応させた後値設するな
どの方法があり、てらには、米国を除6干第≠、207
,10り号に示されるような、硬膜剤を介してゼラチン
と架橋反応しワる官能話を41するポリマーを用いるこ
とも目工能でりる。
さらには、9:f開昭5t−6x、r≠/号、英1刊肋
゛許第/、3コλ、り71号、米国特許第3.t7/
、ZjA号、等の特許、及びI)jvi、 Burne
ssJ 、 Pouradier ” ’l”he
’l”heory of LbePhotog
rapbic 、process ” u L
tl ed+(T 、L−1,James ed、)
、 1Jacrni 1lau NewYorlc
、 /977 、 ppyv 、 や(〕、ノ
ノ +Campbell。
゛許第/、3コλ、り71号、米国特許第3.t7/
、ZjA号、等の特許、及びI)jvi、 Burne
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“、[’olymeric Am1ne and
八m+noniu+n5alts ” (E 、J
’ 、 GoeLnals ed、)pergamo
n press、 New York /り7り。
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ppJ、2/〜332.などの成曹でよく知られている
ゼラチンと反応するt、r A= J! * 44する
ポリマー(,1為分−pイー比斤])は1・、6分子で
ある力(故、こ1酎1広敢、生であるので+:発明の目
的をコ童ツメするのに好−ましいものである。
ゼラチンと反応するt、r A= J! * 44する
ポリマー(,1為分−pイー比斤])は1・、6分子で
ある力(故、こ1酎1広敢、生であるので+:発明の目
的をコ童ツメするのに好−ましいものである。
この16分」−硬化111]としては次に示す−j役y
−<、 (I入Cm)及び(lII)のものが好ましく
、を涛に一般式1)のものが好ましい。
−<、 (I入Cm)及び(lII)のものが好ましく
、を涛に一般式1)のものが好ましい。
式中Aはその石に示したモノマ一単位と共=−a町:止
沈エチレン1生不飽和七ツマ−を衣わす。
沈エチレン1生不飽和七ツマ−を衣わす。
また式中几、は水素原子または/からt′個の炭素原子
を有する低級アルキル基金表わす。Q(・・よのと同じ
ものを表わす〕又は6から70個の炭素原子を有するア
リーレン基のいずれかである。LIL□ は−co2−1−CON−(但し几□は上述のものと同
じものを表わす〕結合のうち少なくとも一つ宮む3から
75個の炭素原子を有する二価の基、■も□ めるいは−〇−1−N−1−CO−1−8U−1几、 t −[喝C02(1も、は上述のものと同じものヶ表わす
)結合のうち少くとも一つ含む/から72個の炭素原子
を有する二価の基のいずれかである。几2はビニル基あ
るいi−Lその前躯体となる′呂′能基を表わし、 −
ckt=ci−i2、−CH2CH2Xのいずれかであ
る。Xは求核基によって置換されうる基、′fたは總基
によってIIXの形で脱踊・しうる基を表わす。
を有する低級アルキル基金表わす。Q(・・よのと同じ
ものを表わす〕又は6から70個の炭素原子を有するア
リーレン基のいずれかである。LIL□ は−co2−1−CON−(但し几□は上述のものと同
じものを表わす〕結合のうち少なくとも一つ宮む3から
75個の炭素原子を有する二価の基、■も□ めるいは−〇−1−N−1−CO−1−8U−1几、 t −[喝C02(1も、は上述のものと同じものヶ表わす
)結合のうち少くとも一つ含む/から72個の炭素原子
を有する二価の基のいずれかである。几2はビニル基あ
るいi−Lその前躯体となる′呂′能基を表わし、 −
ckt=ci−i2、−CH2CH2Xのいずれかであ
る。Xは求核基によって置換されうる基、′fたは總基
によってIIXの形で脱踊・しうる基を表わす。
式中X1yはモル百分率を表わし、Xはθノ上いしタタ
、yはlないし100の値をとる。
、yはlないし100の値をとる。
=t(1)の八で表わされるエチレン性不飽和モノマー
の列rよ、エチレン、プロピレン、l−ブテン、イソブ
チ/、スチレン、クロロメチルスチレン、ヒトロキ7メ
チルスチレン、ビニルベンゼンスルホン敵ソーダ、ビニ
ルベンジルスルホ71反ソーダ、N、N、N−1リメチ
ルーN−ビニルベンジルアンモニウムクロクイド、N、
N−ジメチル−N−ベンジル−N−ビニルベンシルアメ
モニウムクロライト、α−メチルスチレン、ビニルトル
エン、≠−ビニルピリジン、λ−ビニルヒリジン、ペン
ジルビニルピリジニウムクロッイド、N−ビニルアセト
アミド、N−ビニルピロリドン、/−ビニル−2−メチ
ルイミダン゛−ル、月目肋族酸のモノエチレン性不飽和
ニスデル(例えば酢酸ビニル、酢酸アクリル)、エチレ
ン性不飽和のモノカルボン酸もしくはジカルボン酸およ
びその塩(し1」えばアクリル酸、メタクリル改、イタ
コン酸、マレイノ酸、アクリル酵ノータ、アクリル改カ
リウム、メタクリル酸ソーダ)、無水マレイン酸、エチ
レン1主不飽和のモノカルボン酸もしくCよジカルホ/
敵のエステル(例えば11−ブチルアクリレート、1]
−へキシルアクリレート、ヒドロキシエナルアクリレー
ト、シアンエチルアクリレート、t< 、 N−ジエチ
ルアミツェナルアクリレート、メチルメタクリレート、
【1−ブチルアクリレート、ベンジルメタクリレート、
ヒドロキシエチルメタクリレート、クロロエチルメタク
リレート、メトギシエチルメタクリノート、N、N−ジ
エチルアミノエチルメタクリレート、N、N、N−1リ
エチル−N−、、’タクリロイルオキシエチルアンモニ
ウムp−トルエンスルホナート、N、N−ジエチル−N
−メチル−N、−メタクリロイルオキシエチルアンモニ
ウムp−トルエンスルホナート、イタコノ酸ジメチル、
マレイノ酸モノベンジルエステル)、エチレン性不飽和
のモノカルボン酸もしくrまジカルボン酸のアミド(例
えばアクリルアミド N。
の列rよ、エチレン、プロピレン、l−ブテン、イソブ
チ/、スチレン、クロロメチルスチレン、ヒトロキ7メ
チルスチレン、ビニルベンゼンスルホン敵ソーダ、ビニ
ルベンジルスルホ71反ソーダ、N、N、N−1リメチ
ルーN−ビニルベンジルアンモニウムクロクイド、N、
N−ジメチル−N−ベンジル−N−ビニルベンシルアメ
モニウムクロライト、α−メチルスチレン、ビニルトル
エン、≠−ビニルピリジン、λ−ビニルヒリジン、ペン
ジルビニルピリジニウムクロッイド、N−ビニルアセト
アミド、N−ビニルピロリドン、/−ビニル−2−メチ
ルイミダン゛−ル、月目肋族酸のモノエチレン性不飽和
ニスデル(例えば酢酸ビニル、酢酸アクリル)、エチレ
ン性不飽和のモノカルボン酸もしくはジカルボン酸およ
びその塩(し1」えばアクリル酸、メタクリル改、イタ
コン酸、マレイノ酸、アクリル酵ノータ、アクリル改カ
リウム、メタクリル酸ソーダ)、無水マレイン酸、エチ
レン1主不飽和のモノカルボン酸もしくCよジカルホ/
敵のエステル(例えば11−ブチルアクリレート、1]
−へキシルアクリレート、ヒドロキシエナルアクリレー
ト、シアンエチルアクリレート、t< 、 N−ジエチ
ルアミツェナルアクリレート、メチルメタクリレート、
【1−ブチルアクリレート、ベンジルメタクリレート、
ヒドロキシエチルメタクリレート、クロロエチルメタク
リレート、メトギシエチルメタクリノート、N、N−ジ
エチルアミノエチルメタクリレート、N、N、N−1リ
エチル−N−、、’タクリロイルオキシエチルアンモニ
ウムp−トルエンスルホナート、N、N−ジエチル−N
−メチル−N、−メタクリロイルオキシエチルアンモニ
ウムp−トルエンスルホナート、イタコノ酸ジメチル、
マレイノ酸モノベンジルエステル)、エチレン性不飽和
のモノカルボン酸もしくrまジカルボン酸のアミド(例
えばアクリルアミド N。
N−ジメチルアクリルアミド、N−メチロールアクリル
アミド、N−(N、N−ジメチルアミンプロピル)アク
リルアミド、N、N、N−トリメチル−N−(N−アク
リロイルプロピル)アンモニウムp−トルエンスルホナ
ート、コーアクリルアミド−2−)チルグロノ/スルホ
ン酸ソーダ、アクリロイルモルホリノ、メタクリルアミ
ド、N。
アミド、N−(N、N−ジメチルアミンプロピル)アク
リルアミド、N、N、N−トリメチル−N−(N−アク
リロイルプロピル)アンモニウムp−トルエンスルホナ
ート、コーアクリルアミド−2−)チルグロノ/スルホ
ン酸ソーダ、アクリロイルモルホリノ、メタクリルアミ
ド、N。
N−ジメチル−N′−アクリロイルプロノξンジアミン
プロピオナートベタイン、N、N−ジメチルN/−メタ
クリロイルプロパノジアミンアセテートベタイン)。
プロピオナートベタイン、N、N−ジメチルN/−メタ
クリロイルプロパノジアミンアセテートベタイン)。
又、本発明の重曾体を架橋されたラテックスとして用い
る場付には、Aとして上記のエチレン性不飽和モノマー
以外に、少くとも共重合oJ能なエチVノ性不飽和基ン
21固以上もつモノマー(例えばジビニルベンゼン、メ
チレノビスアクリルアミド、エチレングリコールジアク
リレート、トリメチレングリコールジアクリレート、エ
チレングリコールジメタクリレート、トリメチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート等)を用いる。
る場付には、Aとして上記のエチレン性不飽和モノマー
以外に、少くとも共重合oJ能なエチVノ性不飽和基ン
21固以上もつモノマー(例えばジビニルベンゼン、メ
チレノビスアクリルアミド、エチレングリコールジアク
リレート、トリメチレングリコールジアクリレート、エ
チレングリコールジメタクリレート、トリメチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート等)を用いる。
式(1)中の1も□の例にはメチル基、エチル基、ブチ
ル基、n−ヘキシル基が含まれる。
ル基、n−ヘキシル基が含まれる。
Qには矢のような基が含まれる。
II3
−CU2−1−CONH−1−CO’ N −1Lには
次のような基が含まれる。
次のような基が含まれる。
−c: H2C02CF■2−
−(、:HC(J CH2C)12−2 2
−CHC1−1Co C1−I C)12−2
2 2 2 fC1−1−) C02CH□Cl(25 +Cl−12+□。C02CH2CH2−−C1−1,
N1(COCH2− −CHNHCOCH2CH2− +CH2す、NHCOCH2CH□− +Ck12−)5NHCOCH2CH2−+CH2−)
18N)ICOCH2CH2−−CH,OCR□− −CHCH0CI(CHCH2− 2222 −CuC1−12CH2− −CHCHCH2CH2− −S OCH2CH2− 一〇二(2SOCH2CH2− 一8O□CL(2Cli 2− −8O2C112C)12So2C)12C+−12−
−802C■] 2 CIL 2 S o 2 C
1−L 2 CトICH2−U)l −8u3C1−12CH2CH2− −S 03Cl(□C02Cl−I□C)i 2−−8
(J 3CH□C)(2CtJ 2C)i C1−
1□−C)(CH− 一8o 2 N1−IC)1 2 CO2□
2−8U21NHCH□Cl−12C(J 2C
H2Cl−12−−NHCO凶HCH□CH□− −CH・ N HCON HCHCf−12−2 −Nl(C(J2C4−1シcn□− −CIi N11C(J CH(、’H2−222 式(1)中のR2には次の工9な基が宮まJ’Lる。
2 2 2 fC1−1−) C02CH□Cl(25 +Cl−12+□。C02CH2CH2−−C1−1,
N1(COCH2− −CHNHCOCH2CH2− +CH2す、NHCOCH2CH□− +Ck12−)5NHCOCH2CH2−+CH2−)
18N)ICOCH2CH2−−CH,OCR□− −CHCH0CI(CHCH2− 2222 −CuC1−12CH2− −CHCHCH2CH2− −S OCH2CH2− 一〇二(2SOCH2CH2− 一8O□CL(2Cli 2− −8O2C112C)12So2C)12C+−12−
−802C■] 2 CIL 2 S o 2 C
1−L 2 CトICH2−U)l −8u3C1−12CH2CH2− −S 03Cl(□C02Cl−I□C)i 2−−8
(J 3CH□C)(2CtJ 2C)i C1−
1□−C)(CH− 一8o 2 N1−IC)1 2 CO2□
2−8U21NHCH□Cl−12C(J 2C
H2Cl−12−−NHCO凶HCH□CH□− −CH・ N HCON HCHCf−12−2 −Nl(C(J2C4−1シcn□− −CIi N11C(J CH(、’H2−222 式(1)中のR2には次の工9な基が宮まJ’Lる。
−ctt−釘I2、−CH2CH2α、−CH2CM
213 r。
213 r。
−C1(CH01(、−CH2CH202CCH3、2
−ct−t2ct−i2o 2CCF’ 3、−CH2
CH202CCHCi2、九分子硬化剤の他の好ましい
例は米国特許ψ。
CH202CCHCi2、九分子硬化剤の他の好ましい
例は米国特許ψ。
IAI、≠07号に記載されており、次式tll)で表
わされる繰り返し単位を有している。
わされる繰り返し単位を有している。
式中人はその右に示したモノマ一単位と共重汗口丁能な
エチレン性不飽和モノマ一単位めるいはモノマーの混合
物である。
エチレン性不飽和モノマ一単位めるいはモノマーの混合
物である。
式中X、yはモル百分率を表わし、Xば/θないしりj
パーセント、yばjないしりOノミ−セントの1直をと
る。几は水累原子またはlかも6個の炭素原子を有する
アルキル基;几′は−CH=CH2、あるいは−CH2
C1(2Xである。Xは求核基によって直換されつる基
、または堪基によって11Xの形で脱離しンる基を表わ
す。
パーセント、yばjないしりOノミ−セントの1直をと
る。几は水累原子またはlかも6個の炭素原子を有する
アルキル基;几′は−CH=CH2、あるいは−CH2
C1(2Xである。Xは求核基によって直換されつる基
、または堪基によって11Xの形で脱離しンる基を表わ
す。
L′はアルキレン(さらに好ましくはIから6個の炭素
原子を有するアルキレノ例えばメチレン、エチレン、イ
ソブチレノ、等から選ばれる連結基)、乙から72個の
炭素原子を有するアリーレン(例えばフェニレン、トリ
レ/、ナツタレノ等カラ選ばれる連結基)、あるいは、
−COZ−2あるいは−COZlも、−1〔ここでR3
は1から61固の炭素原子を有するアルキレン、あるい
は乙から7λ個の炭素原子を有するアリーレン、Zは酸
素原子あるいはN l−1である〕から選ばれる連結基
である。
原子を有するアルキレノ例えばメチレン、エチレン、イ
ソブチレノ、等から選ばれる連結基)、乙から72個の
炭素原子を有するアリーレン(例えばフェニレン、トリ
レ/、ナツタレノ等カラ選ばれる連結基)、あるいは、
−COZ−2あるいは−COZlも、−1〔ここでR3
は1から61固の炭素原子を有するアルキレン、あるい
は乙から7λ個の炭素原子を有するアリーレン、Zは酸
素原子あるいはN l−1である〕から選ばれる連結基
である。
式中(II)のAの例としては式CI)のAと同じもの
が含まれる。式(I)のitO例としては式(I)のR
よと同じ例が含まれる。式(n)のR′の例としては式
CI)のkL2と同じ例が含まれる。
が含まれる。式(I)のitO例としては式(I)のR
よと同じ例が含まれる。式(n)のR′の例としては式
CI)のkL2と同じ例が含まれる。
更に他の好ましい高分子硬化剤は英国時計/。
j3≠、≠Sj号に記載されているように、次式(II
I)で表わされる繰り返し単位を有している。
I)で表わされる繰り返し単位を有している。
+A−)X(−CH2−C+ (III
)1 (L)、n 式中Aはその右に示したモノマ一単位と共重合可能なエ
チレノ性不飽和モノマ一単位をあられし;几は水素原子
せたばlから2個の炭素原子を有するアルキル基、Lば
/から20個の炭素原子を有する二価の連結基(更に好
ましくは−CON l(−又は−CO−結合のうち少な
くとも1つを沈む炭素数/−/2の二価基);Xは活性
エステル基;”sYはモル巨分率をあられし、XはOか
らりjlyはjから100の値をとり、rnは0あるい
は/である。
)1 (L)、n 式中Aはその右に示したモノマ一単位と共重合可能なエ
チレノ性不飽和モノマ一単位をあられし;几は水素原子
せたばlから2個の炭素原子を有するアルキル基、Lば
/から20個の炭素原子を有する二価の連結基(更に好
ましくは−CON l(−又は−CO−結合のうち少な
くとも1つを沈む炭素数/−/2の二価基);Xは活性
エステル基;”sYはモル巨分率をあられし、XはOか
らりjlyはjから100の値をとり、rnは0あるい
は/である。
式(111)のへの例としては式(1)のへの例と同じ
ものが含まれる。
ものが含まれる。
式(1)の几には式CI)の凡□の例と同じものが含ま
れ、上記されている。
れ、上記されている。
式(DI )のLには仄のような基が含まれる。
−CONHC,H−1−CoN11CII2C112−
1−coNnci−t2cFt2ci−i2−1−CO
NHCH2CH2CH2CH2CH2−1−COCH2
CH2UCUCH2C1(2−1−CONI(C1−I
C0NHC1−12−1−CONHCHC0NI−
fcl(□CO,N)LCH2−1−COCH2−1−
CONHCH2NHCOCH2CH2SCH2CH2−
1−CONHCIL20COCH2C1−1□−など。
1−coNnci−t2cFt2ci−i2−1−CO
NHCH2CH2CH2CH2CH2−1−COCH2
CH2UCUCH2C1(2−1−CONI(C1−I
C0NHC1−12−1−CONHCHC0NI−
fcl(□CO,N)LCH2−1−COCH2−1−
CONHCH2NHCOCH2CH2SCH2CH2−
1−CONHCIL20COCH2C1−1□−など。
式(lII)のXには次のような基が含まれる。
0
Q U
O2
α
NO2α
α
α
−CO2CM□CN −CO2CH2Cす
2C2H5−C(J2C112C(JNH2−Co2C
H2COC1(3−CO21N=cl−LCH3−C(
J□N−C(C■13)2−C02C1−12C112
1J r −CO2CJI2
Ci1□CN次に本発明に使用し得る化付物の具体例を
示すが、これらに限定されるものではない。
2C2H5−C(J2C112C(JNH2−Co2C
H2COC1(3−CO21N=cl−LCH3−C(
J□N−C(C■13)2−C02C1−12C112
1J r −CO2CJI2
Ci1□CN次に本発明に使用し得る化付物の具体例を
示すが、これらに限定されるものではない。
))−、!; +CHCH+
そCHl CONIIC(CII3)2CH2SO3Na1”4
(−CI−1□CH−)−x(:CHl C(JOM P−タ +C)(2CH+x
モCHC(JOM 但し、Mは水素原子、ナトリウム原子、カリウム原子で
あり、x、 yはそれぞれ各ユニットの仕込のモル6
分率であり上記にかぎられるものではなくXばOないし
り7、yは/ないし10θの値をとりうる。
そCHl CONIIC(CII3)2CH2SO3Na1”4
(−CI−1□CH−)−x(:CHl C(JOM P−タ +C)(2CH+x
モCHC(JOM 但し、Mは水素原子、ナトリウム原子、カリウム原子で
あり、x、 yはそれぞれ各ユニットの仕込のモル6
分率であり上記にかぎられるものではなくXばOないし
り7、yは/ないし10θの値をとりうる。
以下に本発明に用いられる高分子硬化剤の合成法につい
ては特願昭67−/lA2グ2≠号明細書等に記述があ
る。
ては特願昭67−/lA2グ2≠号明細書等に記述があ
る。
非感光性上部層の硬化には先に述べた高分子硬化剤を単
独で用いても良いが、拡散性の低分子硬化剤と併用して
も良い。この場省には低分子硬化剤が乳剤層へも拡散し
てゆき乳剤ノ鰻を硬化させるが、非感光性上部層は低分
子硬化剤と耐拡散性の高分子硬化剤の両者によって硬化
されるので選択的な硬化が達成される。これらの拡散性
の低分子硬化剤としては各棟の有機または無機の硬化剤
(単独または組合せて)があり、代表的な例としては、
ムコクロル酸、ホルムアルデヒド、トリメチロールメラ
ミ/、グリオキザール、ユ、3−ジヒドロキシー/、4
’−ジオキサン、コ、3−ジヒドロキシー5−メチル−
7,≠−ジオキサ/、サクシンアルデヒド、グルタルア
ルデヒドの如きアルデヒド系化会物;ジビニルスルホ/
、メチレノビスマンイミド、/、3.j−トリアクリロ
イル−へキサヒドロ−3−トリアジン、/、3.!;−
トリビニルスルホニルーへキサヒドロ−8−トリアジン
、ビス(ビニルスルホニルメチル)エーテル、/;J−
ビス(ビニルスルホニル)−−f’ロノξノール−λ、
ヒス(α−ビニルスルホニルアセトアミド)エタン、/
、、2−ビス(ビニルスルホニル)エタン、/l/l−
ビス(ビニルスルホニル)メタンの如き活性ビニル系化
会吻;コ、≠−ジクロロ−6−ヒドロキシ−5−)リア
ジンの如キγ占性7、。ゲ、化合物; 2 r ’A
、 lr −) l)エチレ/イミノ−s−トリアジノ
の如さエチレンイミン系化合物;など当業界でよく知ら
れているゼラチン硬化剤を挙げることができる。
独で用いても良いが、拡散性の低分子硬化剤と併用して
も良い。この場省には低分子硬化剤が乳剤層へも拡散し
てゆき乳剤ノ鰻を硬化させるが、非感光性上部層は低分
子硬化剤と耐拡散性の高分子硬化剤の両者によって硬化
されるので選択的な硬化が達成される。これらの拡散性
の低分子硬化剤としては各棟の有機または無機の硬化剤
(単独または組合せて)があり、代表的な例としては、
ムコクロル酸、ホルムアルデヒド、トリメチロールメラ
ミ/、グリオキザール、ユ、3−ジヒドロキシー/、4
’−ジオキサン、コ、3−ジヒドロキシー5−メチル−
7,≠−ジオキサ/、サクシンアルデヒド、グルタルア
ルデヒドの如きアルデヒド系化会物;ジビニルスルホ/
、メチレノビスマンイミド、/、3.j−トリアクリロ
イル−へキサヒドロ−3−トリアジン、/、3.!;−
トリビニルスルホニルーへキサヒドロ−8−トリアジン
、ビス(ビニルスルホニルメチル)エーテル、/;J−
ビス(ビニルスルホニル)−−f’ロノξノール−λ、
ヒス(α−ビニルスルホニルアセトアミド)エタン、/
、、2−ビス(ビニルスルホニル)エタン、/l/l−
ビス(ビニルスルホニル)メタンの如き活性ビニル系化
会吻;コ、≠−ジクロロ−6−ヒドロキシ−5−)リア
ジンの如キγ占性7、。ゲ、化合物; 2 r ’A
、 lr −) l)エチレ/イミノ−s−トリアジノ
の如さエチレンイミン系化合物;など当業界でよく知ら
れているゼラチン硬化剤を挙げることができる。
高分子硬化剤の添加方法としては、水または有機溶媒に
とかした硬化剤を硬化度をコントロールしたい層に直接
添加する。拡散性の硬化剤をVL用する場合には、高分
子硬化剤を添加した非感光性上部ノーへ添力lしても良
いが、他の非感光性上部層へ添加し、全層へ拡散させて
も良い。削拡散性の高分子硬化剤の添ツノ0童は、高分
子硬化剤の反応基の旬で規定して添加する。
とかした硬化剤を硬化度をコントロールしたい層に直接
添加する。拡散性の硬化剤をVL用する場合には、高分
子硬化剤を添加した非感光性上部ノーへ添力lしても良
いが、他の非感光性上部層へ添加し、全層へ拡散させて
も良い。削拡散性の高分子硬化剤の添ツノ0童は、高分
子硬化剤の反応基の旬で規定して添加する。
また、塗布層別に硬化度をコントロールする他の方法と
して低分子硬化剤を用いて、添ツノ1]方法や乾燥条件
をコントロールして拡散性を制御してもよい。例えばビ
ニルスルホノ基を有する低分子量の硬化剤を表面保強層
用塗布液中にのみ富有せしめ、多層同萌塗布後、急速乾
燥することにより層別に硬化度をコントロールできる。
して低分子硬化剤を用いて、添ツノ1]方法や乾燥条件
をコントロールして拡散性を制御してもよい。例えばビ
ニルスルホノ基を有する低分子量の硬化剤を表面保強層
用塗布液中にのみ富有せしめ、多層同萌塗布後、急速乾
燥することにより層別に硬化度をコントロールできる。
このようにして非感光性上部層の少なくとも1層をその
融解時間が感光性ノ・ロゲノ化銀乳剤層の融解時間より
も大きくなるように選択的に硬化せしめることによって
、減力液が銀画像を酸化し溶解する速度に異方性をもた
せることができるようになる。すなわち非感光性上部層
の少なくとも7層が銀+m 1Mの形成される感光性ノ
・ロゲン化銀乳剤層よりも強く硬化されているため、減
力液は銀画像の画像濃度の低下をもたらす方向(乳剤層
に対して垂直の方向)からよりも銀画像の1l−ijl
i像面積の減少をもたらす方向(乳剤層に対して水平の
方向)からより多く銀画像を攻撃することになる。
融解時間が感光性ノ・ロゲノ化銀乳剤層の融解時間より
も大きくなるように選択的に硬化せしめることによって
、減力液が銀画像を酸化し溶解する速度に異方性をもた
せることができるようになる。すなわち非感光性上部層
の少なくとも7層が銀+m 1Mの形成される感光性ノ
・ロゲン化銀乳剤層よりも強く硬化されているため、減
力液は銀画像の画像濃度の低下をもたらす方向(乳剤層
に対して垂直の方向)からよりも銀画像の1l−ijl
i像面積の減少をもたらす方向(乳剤層に対して水平の
方向)からより多く銀画像を攻撃することになる。
本発明に於ける製版用感材とは、前記の如く、印刷工業
分野に於て、網点画像や線画像を写真製版法により印刷
する際に用いる感刊であり、その種類・性能は特に限定
されないが、最も一般的な感祠は、云わゆるリスフィル
ムの如き硬調感材である。
分野に於て、網点画像や線画像を写真製版法により印刷
する際に用いる感刊であり、その種類・性能は特に限定
されないが、最も一般的な感祠は、云わゆるリスフィル
ムの如き硬調感材である。
従って本発明の製版感材の感光性ハロゲン化銀乳剤層に
用いられる・・ロゲン化鋼としては特に限定はなく、馬
具化銀、塩沃臭化銀、沃臭化銀、臭化銀、等を用いるこ
とができるが特に、堪化銀全少くとも60モル%(好ま
しくQよ7lモル1以上)會み、沃化銀を0〜jモル乃
含む4臭化銀もしくは塩沃臭化銀が好ましい。ハロゲン
化銀粒子の形態、晶癖、サイズ分布等に特に制限はない
が粒径0.7μ以下のものが好ましい。
用いられる・・ロゲン化鋼としては特に限定はなく、馬
具化銀、塩沃臭化銀、沃臭化銀、臭化銀、等を用いるこ
とができるが特に、堪化銀全少くとも60モル%(好ま
しくQよ7lモル1以上)會み、沃化銀を0〜jモル乃
含む4臭化銀もしくは塩沃臭化銀が好ましい。ハロゲン
化銀粒子の形態、晶癖、サイズ分布等に特に制限はない
が粒径0.7μ以下のものが好ましい。
ハロゲン化原乳剤は塩化金酸塩、三塩化金などのような
金化合物、ロジウム、イリジウムの如き貴金属の塩、銀
塩と反応して硫酸銀を形成するイオウ化合物、第一スズ
塩、アミン類の如き還元性物質で粒子を粗大化しないで
感度を上昇させることが出来る。
金化合物、ロジウム、イリジウムの如き貴金属の塩、銀
塩と反応して硫酸銀を形成するイオウ化合物、第一スズ
塩、アミン類の如き還元性物質で粒子を粗大化しないで
感度を上昇させることが出来る。
又、ロジウム、イリジウムの如き貴金属の塩、赤面f−
A等鉄化合物を7・ロゲン化銀粒子の物理熟成時、又は
核生成時に存在せしめることも出来る。
A等鉄化合物を7・ロゲン化銀粒子の物理熟成時、又は
核生成時に存在せしめることも出来る。
本発明に用いられる親水性コロイドバインダーとしては
、ゼラチンを用いるのが有利であるが、それ以外の親水
性コロイドも用いることができる。
、ゼラチンを用いるのが有利であるが、それ以外の親水
性コロイドも用いることができる。
たとえはゼラチン誘導体、ゼラチンと他の旨分子とのグ
ラフトポリマー、アルジミン、カゼイン等の蛋白質;ヒ
ドロキシエチルセルロース、カルボ′キシメチルセルロ
ース、セルローズ硫酸エステル類専の妬きセルロース誘
導体、アルギン酸ノーf、d!l)ビニルアルコール、
ポリビニルアルコール部分アセタール、ポリ−N−ビニ
ルピロリドン、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポ
リアクリルアミド、ポリビニルイミダゾール、ポリビニ
ルピラゾール等の単一あるいは共重合体の如き多棟の合
成親水性菌分子物質を用いることができる。
ラフトポリマー、アルジミン、カゼイン等の蛋白質;ヒ
ドロキシエチルセルロース、カルボ′キシメチルセルロ
ース、セルローズ硫酸エステル類専の妬きセルロース誘
導体、アルギン酸ノーf、d!l)ビニルアルコール、
ポリビニルアルコール部分アセタール、ポリ−N−ビニ
ルピロリドン、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポ
リアクリルアミド、ポリビニルイミダゾール、ポリビニ
ルピラゾール等の単一あるいは共重合体の如き多棟の合
成親水性菌分子物質を用いることができる。
中でもゼラチンが特に好′ましい。
ゼラチンとしては石灰処理ゼラチンのほか酸処理ゼラチ
ンや Bull、Soc、Sci、)’hot。
ンや Bull、Soc、Sci、)’hot。
Japan、 15./乙、3ob(/ Y、A A
)に6己載されたような酵素処理ゼラチノ?用いても
よく、又ゼラチンの加水分解物や酵素分解物も用いるこ
とができる。
)に6己載されたような酵素処理ゼラチノ?用いても
よく、又ゼラチンの加水分解物や酵素分解物も用いるこ
とができる。
ハロゲン化銀乳剤層又はその他の層には、米国時計3.
t//、り71号、同j 、Ill/ 、り72号、同
3 、/4t、2 、!t1号、同3,325゜216
号、四3 、 j ’A 7 、4 j 0−yEj、
% 公dB u j−s33/等に記載されていリアル
キルアクリレート、アルキルメタアクリレート、アクリ
ル酸、クリシジルアクリレート等のホモ又はコポリマー
からなるポリマーラテックスを、写具伺料の寸度安定性
の向上、膜物性の改良などの目的で宮・汀せしめること
が出来る。
t//、り71号、同j 、Ill/ 、り72号、同
3 、/4t、2 、!t1号、同3,325゜216
号、四3 、 j ’A 7 、4 j 0−yEj、
% 公dB u j−s33/等に記載されていリアル
キルアクリレート、アルキルメタアクリレート、アクリ
ル酸、クリシジルアクリレート等のホモ又はコポリマー
からなるポリマーラテックスを、写具伺料の寸度安定性
の向上、膜物性の改良などの目的で宮・汀せしめること
が出来る。
本発明に用いられる写真乳剤には、ノア二ノ、メロシア
ニン、カルホシアニン等のゾアニノ色素類の単独もしく
は組合せ使用、又はそれらとスチリル染料号の組合せ使
用により、オルソ又はパフクロに分光増感や強色増感を
行なうことができる。
ニン、カルホシアニン等のゾアニノ色素類の単独もしく
は組合せ使用、又はそれらとスチリル染料号の組合せ使
用により、オルソ又はパフクロに分光増感や強色増感を
行なうことができる。
中でも、背、顧昭!;0−.207,23、同5o−7
3r33及び米国時計3,5t7.≠jg号に記載の増
感色累は好ましく用いられる。
3r33及び米国時計3,5t7.≠jg号に記載の増
感色累は好ましく用いられる。
写真乳剤にはカブリ防止剤としては、弘−ヒドロキシ−
乙−メチル−/、3.3a、7−チトラアザインデン、
3−メチルベンゾチアゾール、/−フェニル−j−メル
カプトテトラノ゛−ルをはしめ多くの複素環化@物、含
水銀化合物、メルカプト化合物なとの他特開餡弘ターg
io、:z≠、同jO−t301.、同jO−/り≠2
7、米国時計3゜150、A3り号に記載されているよ
うな当業界でよく知られたカブリ防止剤はいづれも用い
ることが出来る。
乙−メチル−/、3.3a、7−チトラアザインデン、
3−メチルベンゾチアゾール、/−フェニル−j−メル
カプトテトラノ゛−ルをはしめ多くの複素環化@物、含
水銀化合物、メルカプト化合物なとの他特開餡弘ターg
io、:z≠、同jO−t301.、同jO−/り≠2
7、米国時計3゜150、A3り号に記載されているよ
うな当業界でよく知られたカブリ防止剤はいづれも用い
ることが出来る。
本発明のハロゲン化銀乳剤層には、塗布助剤、写真特性
の改良、等の目的で界面活性剤を添加することが出来る
。
の改良、等の目的で界面活性剤を添加することが出来る
。
界面活性剤としては、サポニンの如き天然界面活性剤、
アルキレンオキサイド系、クリシドール系などのノニオ
ン界面活性剤、カルボ゛ン酸、スルホ/酸(例えば米国
特許3.≠is 、を弘り号記載の界面活性剤)、燐酸
、硫酸エステル基、燐酸エステル基などの酸性基を含む
アニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸類
、アミノアルコールの硫酸又は燐酸エステル等の両性界
面活性剤が好ましく用いられる。
アルキレンオキサイド系、クリシドール系などのノニオ
ン界面活性剤、カルボ゛ン酸、スルホ/酸(例えば米国
特許3.≠is 、を弘り号記載の界面活性剤)、燐酸
、硫酸エステル基、燐酸エステル基などの酸性基を含む
アニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸類
、アミノアルコールの硫酸又は燐酸エステル等の両性界
面活性剤が好ましく用いられる。
本発明に用いるポリアルキレフオキシド化合物は、炭素
数λ〜弘のアルキレンオキシド、たとえばエチレンオキ
シド、プロピレアー/、、2−オキシド、ブチレン−/
、2−オキシドなど、好1しくはエチレンオキシドの、
少くとも10単位から成るポリアルキレノオキシドと、
水、脂肪族アルコール、芳香族アルコール、脂肪酸、M
機アミン、ヘギシトール訪導体などの活性水素原子を少
くとも/個有する化合物との縮曾物あるいは二種以上の
ポ・リアルキレンオキシドのブロックコポリマーなどを
包含する。すなわち、ポリアルキレンオキシト化合物と
して、具体的には ポリアルキレノグリコール類 ポリアルキレングリコールアルキルエーテル類〃
〃 アリールエーテル類〃〃(アルキルアリー
ル) エステル類 ホリアルキレンクリコールエステル類 ポリアルキレ/グリコール脂肪酸アミド類ポリアルキレ
ングリコールアミン類 ポリアルキレングリコール・ブロック共重合体ポリアル
キレングリコールグラフト重合物などを用いることがで
きる。
数λ〜弘のアルキレンオキシド、たとえばエチレンオキ
シド、プロピレアー/、、2−オキシド、ブチレン−/
、2−オキシドなど、好1しくはエチレンオキシドの、
少くとも10単位から成るポリアルキレノオキシドと、
水、脂肪族アルコール、芳香族アルコール、脂肪酸、M
機アミン、ヘギシトール訪導体などの活性水素原子を少
くとも/個有する化合物との縮曾物あるいは二種以上の
ポ・リアルキレンオキシドのブロックコポリマーなどを
包含する。すなわち、ポリアルキレンオキシト化合物と
して、具体的には ポリアルキレノグリコール類 ポリアルキレングリコールアルキルエーテル類〃
〃 アリールエーテル類〃〃(アルキルアリー
ル) エステル類 ホリアルキレンクリコールエステル類 ポリアルキレ/グリコール脂肪酸アミド類ポリアルキレ
ングリコールアミン類 ポリアルキレングリコール・ブロック共重合体ポリアル
キレングリコールグラフト重合物などを用いることがで
きる。
本発明で好ましく用いられるポリアルキレ/オキシド化
合物の具体例をめげると次の如くである。
合物の具体例をめげると次の如くである。
ポリアルキレンオキシド化合物例
/、 l−10(CH2CH2(J)9H−CH0(
CH2C110)、5H 1225 3、CHC1−1=cHc8H□60(CH2CH20
)、5H17 よ C■(C00(C1(2CH20)8oH1123 乙、 C□ 1l−123CONH(CH2C1(
2’U ) 、5HLC141■29N(CH2)(
CH2C11゜0)24H5! H(CHC1−10
) ((J(CH2(J)b(C12CM20)。H2
a CH3 a+b十C=50 b:a十〇−10:り 本発明のハロゲン化乳剤層に於けるハロゲン化銀対親水
性コロイドバインダーとの重量比はハロゲン化銀に対し
て親水性コロイドバインダーが//2以下であることが
好ましい。
CH2C110)、5H 1225 3、CHC1−1=cHc8H□60(CH2CH20
)、5H17 よ C■(C00(C1(2CH20)8oH1123 乙、 C□ 1l−123CONH(CH2C1(
2’U ) 、5HLC141■29N(CH2)(
CH2C11゜0)24H5! H(CHC1−10
) ((J(CH2(J)b(C12CM20)。H2
a CH3 a+b十C=50 b:a十〇−10:り 本発明のハロゲン化乳剤層に於けるハロゲン化銀対親水
性コロイドバインダーとの重量比はハロゲン化銀に対し
て親水性コロイドバインダーが//2以下であることが
好ましい。
本発明に於て、ハロゲノ化鱗乳剤層は7層とは限らず2
層又はそれ以上でもよい。
層又はそれ以上でもよい。
例えばハロケン化銀乳剤層が2層がら成る時にはλ層合
計でのハロゲン化銀二親水性コロイドポリマーが//2
以ドでめり、かつ上層の感光性乳剤層の方が上層の乳剤
層に比べてより多くの親水性コロイドバインダーを含有
することがより好ましい。
計でのハロゲン化銀二親水性コロイドポリマーが//2
以ドでめり、かつ上層の感光性乳剤層の方が上層の乳剤
層に比べてより多くの親水性コロイドバインダーを含有
することがより好ましい。
父、ハロゲン化銀の塗布量は銀量換算でl平方メートル
当すi、o−t、oy、特に/、jf−≠。
当すi、o−t、oy、特に/、jf−≠。
ogであることが好−ましい。
本発明の効果は、塗布銀量が少ない場会に特に顕著にな
る。
る。
本発明の非感光性上部層には、前記の如き親水性コロイ
ドバインダー(たとえばゼラチン)の他に、界面活性剤
、帯准防止剤、マット剤、滑り剤、コロイダルシリカ、
ゼラチン町塑化剤、ポリマーラテックス(例えば特願昭
!;7−/lA2≠6≠号に記されたもの)号を用いる
ことが出来る。
ドバインダー(たとえばゼラチン)の他に、界面活性剤
、帯准防止剤、マット剤、滑り剤、コロイダルシリカ、
ゼラチン町塑化剤、ポリマーラテックス(例えば特願昭
!;7−/lA2≠6≠号に記されたもの)号を用いる
ことが出来る。
マント剤としてはポリメチルメタアクリレート、二酸化
ケイ素の0.1−10μ、特に/〜jμ程度の粒子が好
ましい。
ケイ素の0.1−10μ、特に/〜jμ程度の粒子が好
ましい。
本発明の製版用感材の支持体としては、ポリエチレンテ
レフタレートフィルムの如キポリエステルフイルム及び
セルローストリアセテートフィルムの如きセルロースエ
ステルフイルムカ好マL、<用いられる。
レフタレートフィルムの如キポリエステルフイルム及び
セルローストリアセテートフィルムの如きセルロースエ
ステルフイルムカ好マL、<用いられる。
本発明に於ては1IiIi像を得るだめの露光は通常の
方法を用いて行なえばよい。すなわち、自然光(日光)
、タングステン電灯、螢光灯、水銀灯、キセノン、アー
ク灯、炭素アーク灯、キセノンフラッシュ灯、陰極線管
フライングスポットなど公知の多種の光源をいずれでも
用いることができる。
方法を用いて行なえばよい。すなわち、自然光(日光)
、タングステン電灯、螢光灯、水銀灯、キセノン、アー
ク灯、炭素アーク灯、キセノンフラッシュ灯、陰極線管
フライングスポットなど公知の多種の光源をいずれでも
用いることができる。
露光時間は通常カメラで用いられる// / 000秒
から7秒の露光時間はもちろん、171000秒より短
い露光、たとえばキセノン閃光灯や陰極線管を用いた/
/10 −//10 抄の露光を用いることもできる
し、1秒より長い露光を用いることもできる。必要に応
じて色フィルターで露光に用いられる光の分光組成を調
節することができる。露光にレーザー光を用いることも
できる。
から7秒の露光時間はもちろん、171000秒より短
い露光、たとえばキセノン閃光灯や陰極線管を用いた/
/10 −//10 抄の露光を用いることもできる
し、1秒より長い露光を用いることもできる。必要に応
じて色フィルターで露光に用いられる光の分光組成を調
節することができる。露光にレーザー光を用いることも
できる。
本発明の製版用感材の現像処理方法に関しては特に制限
はなく、一般に製版用感材の処理に用いられているもの
はいづれも用いることが出来る。
はなく、一般に製版用感材の処理に用いられているもの
はいづれも用いることが出来る。
処理温[は普通/ざ 0Cからso 0Cの間に選ば
れるがX /I 0Cより低い温度または夕0 °Cを
こえるr黒度としてもよい。
れるがX /I 0Cより低い温度または夕0 °Cを
こえるr黒度としてもよい。
現像液は、知られている現像主薬を含むことができる。
現像主薬としては、ジヒドロキシベンゼン類(たとえば
ハイドロキノン)、3−ピラゾリドン褪(たとえば/−
フェニル−3−ピラゾリドア)、アミンフェノール類(
たとえばN−メチル−p−アミンフェノール)、l−フ
ェニル−3−ビラゾリン類、アスコルビン酸、及び米国
特許≠。
ハイドロキノン)、3−ピラゾリドン褪(たとえば/−
フェニル−3−ピラゾリドア)、アミンフェノール類(
たとえばN−メチル−p−アミンフェノール)、l−フ
ェニル−3−ビラゾリン類、アスコルビン酸、及び米国
特許≠。
O乙7,172号に記載の/、、2,3.≠−テトラヒ
ドロキノリン壌とインドレノ環とが縮合したような俵素
項化合吻類などを単独もしくは組合せて用いることがで
きる。現像液には一般にこの他公知の保恒剤、アルカリ
剤、pH緩4fiii剤、カブリ防止剤などを言み、さ
らに必要に応じ溶解助剤、色調剤、現像促進剤、界面活
性剤、消泡剤、硬水軟化剤、硬膜剤、粘性付与剤などを
含んでもよい。
ドロキノリン壌とインドレノ環とが縮合したような俵素
項化合吻類などを単独もしくは組合せて用いることがで
きる。現像液には一般にこの他公知の保恒剤、アルカリ
剤、pH緩4fiii剤、カブリ防止剤などを言み、さ
らに必要に応じ溶解助剤、色調剤、現像促進剤、界面活
性剤、消泡剤、硬水軟化剤、硬膜剤、粘性付与剤などを
含んでもよい。
本発明に特に好ましく用いら扛る云わゆるリス用現稼液
であるが、これは基本的にはオルト又はノξラジヒドロ
キシベンゼン、゛アルカリ剤、少量の遊離の即値酸塩及
び亜硫酸イオンバッファー等から構成される。現像主薬
としてのオルト又はパラジヒドロキシベンゼ/は写真の
分野でよく知られているものから適宜選択できる。その
具体例を挙げればハイドロキノ/、クロロハイドロキノ
ン、ブロモハイドロキノン、イノプロピルハイトロキノ
ン、トルヒドロロキノン、メチルハイドロキノン、コ、
3−ジクロロハイドロキノン、2.j−ジメチルハイド
ロキノンなどがある。
であるが、これは基本的にはオルト又はノξラジヒドロ
キシベンゼン、゛アルカリ剤、少量の遊離の即値酸塩及
び亜硫酸イオンバッファー等から構成される。現像主薬
としてのオルト又はパラジヒドロキシベンゼ/は写真の
分野でよく知られているものから適宜選択できる。その
具体例を挙げればハイドロキノ/、クロロハイドロキノ
ン、ブロモハイドロキノン、イノプロピルハイトロキノ
ン、トルヒドロロキノン、メチルハイドロキノン、コ、
3−ジクロロハイドロキノン、2.j−ジメチルハイド
ロキノンなどがある。
この中、特にハイドロキノンが実用的である。
これらの現像主薬は単独、又は混合して用いられる。現
像主薬の添カロ量は現像液/l当りl〜10Oy、好ま
しくは5〜ioyである。亜硫酸イカ/バッファーは現
1象液中の即値酸塙謎匪をほぼ一足に保つに有効な量で
用いられ、ホルマリン化(LliC酸水累ナトリウム付
カロ物の如きアルデヒド亜硫酸水累アルカリ付加物、ア
セトン岨硫酸水索ナトIJウム付別物の叩きケトン−亜
硫酸水素アルカリ付加物、ソジウムービス(λ−ヒドロ
キシエチル)アミノメタンスルホネートの如きカルボニ
ル車亜硫酸−アミン縮合生成物などが挙げられる。亜硫
酸イオンバッファーの使用量は現像Q/l当す/3〜/
305/である。
像主薬の添カロ量は現像液/l当りl〜10Oy、好ま
しくは5〜ioyである。亜硫酸イカ/バッファーは現
1象液中の即値酸塙謎匪をほぼ一足に保つに有効な量で
用いられ、ホルマリン化(LliC酸水累ナトリウム付
カロ物の如きアルデヒド亜硫酸水累アルカリ付加物、ア
セトン岨硫酸水索ナトIJウム付別物の叩きケトン−亜
硫酸水素アルカリ付加物、ソジウムービス(λ−ヒドロ
キシエチル)アミノメタンスルホネートの如きカルボニ
ル車亜硫酸−アミン縮合生成物などが挙げられる。亜硫
酸イオンバッファーの使用量は現像Q/l当す/3〜/
305/である。
本発明に用いら扛る現像液には亜硫酸ナトリウムなどの
亜硫酸アルカリ塩を加えて遊離即硫酸イオン濃度を制御
することができる。亜硫酸塩の添加量は、現像液/l自
自適通常5g以下一般的であり、堝、に、3g以下が好
ましいが、もちろんjゾよジ多くてもよい。
亜硫酸アルカリ塩を加えて遊離即硫酸イオン濃度を制御
することができる。亜硫酸塩の添加量は、現像液/l自
自適通常5g以下一般的であり、堝、に、3g以下が好
ましいが、もちろんjゾよジ多くてもよい。
多くの@旨、ハロゲン化アルカリ(特に、臭化すトリウ
ム、臭化カリウムの如き臭化物)を現像調節剤として含
有することが好ましい。ハロゲン化アルカリは現像液/
l当り0.07〜70g、好ましくはO6/〜sy添加
することが好ましい。
ム、臭化カリウムの如き臭化物)を現像調節剤として含
有することが好ましい。ハロゲン化アルカリは現像液/
l当り0.07〜70g、好ましくはO6/〜sy添加
することが好ましい。
現1象液中のp Hをり以上(特にpH7,7〜//、
j)にする為に、アルカリ剤が添加される。
j)にする為に、アルカリ剤が添加される。
通常の現1ダ液にはアルカリ剤として炭酸ナトリウムあ
るいは炭酸カリウムが用いられ、またその添加量も撞々
なものがある。
るいは炭酸カリウムが用いられ、またその添加量も撞々
なものがある。
足着故としては一般に用いられる組成のものを用いるこ
とができる。
とができる。
定着剤としては、チオ硫酸塩、チオシアン酸塩のほか、
定着剤としての効果が知られているTh(d硫黄化付物
を用いることができる。
定着剤としての効果が知られているTh(d硫黄化付物
を用いることができる。
定着液には硬膜剤として水浴性アルミニウム堰を含んで
もよい。色素i!IIを形成させる場合には、常法が適
用できる。
もよい。色素i!IIを形成させる場合には、常法が適
用できる。
現像処理方法としては、手作業によってもよく、父、自
動現像機を用いて行ってもよい。自動現4Mr磯で処理
する場よ、搬送の方法(例えばローラー搬送、ベルト搬
送)とかに特に制限はなく、当業界で用いられている搬
送型自動現像機を用いることが出来る。この他、処理液
組成、現像方法については、米国特許3,023,77
2号、同3゜07g、02’l−号、同3,122.O
lt号、同3.1≠り、551号、同3 、/!A 、
173号、同3.22≠、356号、同3 、j73
、り/4C号などの記載を参考にすることが出来る。
動現像機を用いて行ってもよい。自動現4Mr磯で処理
する場よ、搬送の方法(例えばローラー搬送、ベルト搬
送)とかに特に制限はなく、当業界で用いられている搬
送型自動現像機を用いることが出来る。この他、処理液
組成、現像方法については、米国特許3,023,77
2号、同3゜07g、02’l−号、同3,122.O
lt号、同3.1≠り、551号、同3 、/!A 、
173号、同3.22≠、356号、同3 、j73
、り/4C号などの記載を参考にすることが出来る。
本発明の製版用感材のハロゲン化銀乳剤層、その他の層
、支持体及び処理方法等についてはさらに、リサーチ・
ディスクロージャー誌/71.巻λλ〜2g貞(lり7
g年/、2月)の記載を参考にすることが出来る。
、支持体及び処理方法等についてはさらに、リサーチ・
ディスクロージャー誌/71.巻λλ〜2g貞(lり7
g年/、2月)の記載を参考にすることが出来る。
本発明に用いられる減力液に関しては、特に制限はなく
、例えば前記のミーズ著「ザ・セオリー・オヴ・ザ・フ
ォトグラフィック・プロセス」にi己載されたものが有
効に用いられる。
、例えば前記のミーズ著「ザ・セオリー・オヴ・ザ・フ
ォトグラフィック・プロセス」にi己載されたものが有
効に用いられる。
即ち、過マンガン酸」盆、過硫酸場、第二鉄塩、第二銅
基、第二セリウム塩、赤血塩、亜クロム酸基等の減力成
分を単独又は1井川し、べらに必要によυ硫酸等の無(
幾酸、アルコール類を含有せしめた減力液、あるいは、
赤血塩、エチレンジアミノテトラ酢酸第二鉄扁専の減力
成分とチオt1仁酸塙、ロダン塩、チオ尿¥あるいeよ
その誘導体等の7・ロゲン化銀M剤、さらに必要により
(pf識専の無俵酸を含4jせしめた減力液が用いられ
る。
基、第二セリウム塩、赤血塩、亜クロム酸基等の減力成
分を単独又は1井川し、べらに必要によυ硫酸等の無(
幾酸、アルコール類を含有せしめた減力液、あるいは、
赤血塩、エチレンジアミノテトラ酢酸第二鉄扁専の減力
成分とチオt1仁酸塙、ロダン塩、チオ尿¥あるいeよ
その誘導体等の7・ロゲン化銀M剤、さらに必要により
(pf識専の無俵酸を含4jせしめた減力液が用いられ
る。
本発明に用いられる減力液には、さらに必要により荷開
昭62−乙g弘/9−号公報に記されたようなメルカプ
ト基を有する化合物を含有せしめることが出来る。
昭62−乙g弘/9−号公報に記されたようなメルカプ
ト基を有する化合物を含有せしめることが出来る。
本発明の威力処理に用いる減力液の組成、処理条件(温
度、時間等)には特に制限はなく、当業者が適宜、決定
することが出来る。
度、時間等)には特に制限はなく、当業者が適宜、決定
することが出来る。
坂カフ俟及び減方方云にレーしては1ylees。
“The Theory of the ph
otographicProcess ” p 73
I 〜p 73り(/り5ヶ年、MacMrIIan
社)の他ド記特許の記載を参考にすることが出来る。
otographicProcess ” p 73
I 〜p 73り(/り5ヶ年、MacMrIIan
社)の他ド記特許の記載を参考にすることが出来る。
特開昭!r/−/4t0733、同j2−乙r≠/り、
同!3−/≠り0/、同!4t−//り23乙、同j≠
−//り、237、同6!−,224t、f、同jJ’
−,2,2弘≠、同6!−/7/23、四6!−77+
<z+、同5s−lri34I−ti−0以[に実力也
りllを挙げて本発明をさらに具体的に説明する。
同!3−/≠り0/、同!4t−//り23乙、同j≠
−//り、237、同6!−,224t、f、同jJ’
−,2,2弘≠、同6!−/7/23、四6!−77+
<z+、同5s−lri34I−ti−0以[に実力也
りllを挙げて本発明をさらに具体的に説明する。
実施例
ざOモルチの塩化銀、/り、jモルチの臭化顧、および
0.5モルチの沃化銀からなるハロゲン化銀乳剤を常法
により金増感およびイオウ増感して調製した。またこの
乳剤に含まれるゼラチンは、ハロゲン化銀に対し75重
量係でめった。この乳剤に3−カルボ゛キシメチル−5
7(λ−(3−エチルーチアゾリニリデン)エチリデン
〕ローダニン(分光増感剤)、弘−ヒドロキシ−/、3
.3a、7−チトラザイ/デン(安定剤)、エチレンオ
キサイド基を50個含んでいるポリオキシエチVンノニ
ルフェニルエーテル、米国s許[J l s、2!、t
、20号の製造側処方3に記載のポリマーラテックスを
加えたits ’ + 2−ビス(ビニルスルホニルア
セトアミド)エタン(硬膜剤)を全乾燥ゼラチン当り(
即ち後述する非感光性上部層の分も含めた全乾燥ゼラチ
ン当り)−2,6wL%になるようeこ添加し、更に本
発明の化合物を第1表に示したように添ツノ[」シて感
光性ハロゲン化銀乳剤層用塗布液を作った。
0.5モルチの沃化銀からなるハロゲン化銀乳剤を常法
により金増感およびイオウ増感して調製した。またこの
乳剤に含まれるゼラチンは、ハロゲン化銀に対し75重
量係でめった。この乳剤に3−カルボ゛キシメチル−5
7(λ−(3−エチルーチアゾリニリデン)エチリデン
〕ローダニン(分光増感剤)、弘−ヒドロキシ−/、3
.3a、7−チトラザイ/デン(安定剤)、エチレンオ
キサイド基を50個含んでいるポリオキシエチVンノニ
ルフェニルエーテル、米国s許[J l s、2!、t
、20号の製造側処方3に記載のポリマーラテックスを
加えたits ’ + 2−ビス(ビニルスルホニルア
セトアミド)エタン(硬膜剤)を全乾燥ゼラチン当り(
即ち後述する非感光性上部層の分も含めた全乾燥ゼラチ
ン当り)−2,6wL%になるようeこ添加し、更に本
発明の化合物を第1表に示したように添ツノ[」シて感
光性ハロゲン化銀乳剤層用塗布液を作った。
一方、これと併行してj%ゼラチノ溶液に上記と同じポ
リマーラテックス、ドテシルベンゼンスルホン酸すl−
IJウム(界面活性剤)、平均粒子サイズ3.0〜≠、
0μのポリメチルメタクリレートラテックス(マット剤
)を加えた後、第7表に示す通りに高分子硬化剤P−λ
を加え、非感光性上部層用塗布液を作った。
リマーラテックス、ドテシルベンゼンスルホン酸すl−
IJウム(界面活性剤)、平均粒子サイズ3.0〜≠、
0μのポリメチルメタクリレートラテックス(マット剤
)を加えた後、第7表に示す通りに高分子硬化剤P−λ
を加え、非感光性上部層用塗布液を作った。
次に前記感光性ノ・ロゲン化銀乳剤層用圭布欣と非感光
性上部層用塗布液を一!層同1.テ塗布法によジポリエ
ステルテレフタレート支持体上に塗布した。
性上部層用塗布液を一!層同1.テ塗布法によジポリエ
ステルテレフタレート支持体上に塗布した。
同塗布朔量ば3.og/yyi2、非感光性上部j―の
す2燥膜厚は/、θμである。
す2燥膜厚は/、θμである。
これら試料に、次の方法により網点1回像を形成した。
すなわ−リ、市販の不ノJ用グレイ・コンタクトスクリ
ーン(750線/イノチ)を試料に密看せしめ、これに
段差が0.7の1@段ウエノヂを通して白色タフゲステ
ン光をio秒間露光した後、谷試料をF記の現像欣を用
いて27 °Cでio。
ーン(750線/イノチ)を試料に密看せしめ、これに
段差が0.7の1@段ウエノヂを通して白色タフゲステ
ン光をio秒間露光した後、谷試料をF記の現像欣を用
いて27 °Cでio。
秒間現像を行ない、通富の方法によって、定着、水洗、
転線した。
転線した。
現像液組成
得られた網点ストリップスをド記セリウム系減力液(2
θ0C)K浸漬し、水洗した。
θ0C)K浸漬し、水洗した。
γ威力欣
このようにして得られた網点ストリップスの網点面積の
変化と網点/個当りの籏度の変化をミクロテン/トメ−
ターにて測定し、網点面積3θ%の網点が減力処理した
後、網点個々の濃度でノ。
変化と網点/個当りの籏度の変化をミクロテン/トメ−
ターにて測定し、網点面積3θ%の網点が減力処理した
後、網点個々の濃度でノ。
jとなる時の網点面積を求め、両者の差を求めて減力中
1直とした。
1直とした。
また、これらの試料について、111述の方法により非
感光性上部)・−と感光性ハロゲガ化銀乳剤層の融解時
+n3を測定して得られた幀呆と、室温での水によゐ膨
潤の値全第7表に示す。
感光性上部)・−と感光性ハロゲガ化銀乳剤層の融解時
+n3を測定して得られた幀呆と、室温での水によゐ膨
潤の値全第7表に示す。
第1表の結果から次のことが明らかである。第/Vこ本
発明の試料j及び乙はヒドロキシゾロピル澱粉を含むが
故に、これを含有しない比較試料弘よりも大きな減力中
を有する。第ノに本発明の試料j及び乙は非感光性上部
層を乳剤層より強く層別硬膜しCあるが故に、層別硬膜
ケ行なっていない比較試料コ及び3よりも多くのヒドロ
キシプロピル鰭粉を添加しても膨6′Aが少なく強い膜
強度を持ち、更に減力中が極めて犬でるる。第3に本発
明の上記の効果は可溶注戎扮、テキストリ/、デキスト
ラン父はゾルラン(F+:、友化学■製、PFグレード
、平均分子量7万)を用いたときにも同イ求に現われる
ものであり、従って澱粉、化工澱粉及び/又は澱粉を原
料として微生物発酵法により作られる高分子多糖類とい
う範囲にわたって上記の効果が得られることが理解され
る。
発明の試料j及び乙はヒドロキシゾロピル澱粉を含むが
故に、これを含有しない比較試料弘よりも大きな減力中
を有する。第ノに本発明の試料j及び乙は非感光性上部
層を乳剤層より強く層別硬膜しCあるが故に、層別硬膜
ケ行なっていない比較試料コ及び3よりも多くのヒドロ
キシプロピル鰭粉を添加しても膨6′Aが少なく強い膜
強度を持ち、更に減力中が極めて犬でるる。第3に本発
明の上記の効果は可溶注戎扮、テキストリ/、デキスト
ラン父はゾルラン(F+:、友化学■製、PFグレード
、平均分子量7万)を用いたときにも同イ求に現われる
ものであり、従って澱粉、化工澱粉及び/又は澱粉を原
料として微生物発酵法により作られる高分子多糖類とい
う範囲にわたって上記の効果が得られることが理解され
る。
更に実験によればヒドロキシプロピル、澱粉ニ代えて本
発明の化付物以外のゼラチン一部代替用ポリマー、例え
ばポリ−N−ビニルラクタム類、ポリ−N−ビニルピロ
リドン、セルロース誘導体、ポリアクリル酸、ポリアク
リルアミド、ポリビニルアルコール類を用いたところ、
これらはゼラチンとの相溶性が悪く、最大でも試料5の
ヒドロキシプロピル澱粉の添加量の数分のl〜数十分の
ノ程度しか添加できないため、減力中の増大はほとんど
期待できないことがわかった。従って上記本発明の効果
は本発明の化合物(すなわち澱粉、化工澱粉及び澱粉を
原料として微生シ吻発酵法によって作られた高分子多糖
類にの与相異的に得られるものであることが明らかであ
る。
発明の化付物以外のゼラチン一部代替用ポリマー、例え
ばポリ−N−ビニルラクタム類、ポリ−N−ビニルピロ
リドン、セルロース誘導体、ポリアクリル酸、ポリアク
リルアミド、ポリビニルアルコール類を用いたところ、
これらはゼラチンとの相溶性が悪く、最大でも試料5の
ヒドロキシプロピル澱粉の添加量の数分のl〜数十分の
ノ程度しか添加できないため、減力中の増大はほとんど
期待できないことがわかった。従って上記本発明の効果
は本発明の化合物(すなわち澱粉、化工澱粉及び澱粉を
原料として微生シ吻発酵法によって作られた高分子多糖
類にの与相異的に得られるものであることが明らかであ
る。
また、本発明の試料j〜/≠は比敦試利≠に比較してj
係網点〜りjチ網点の間の網階調が約/θ%長くなり、
製版用感材としてより優れた特性を持つことがわかった
。
係網点〜りjチ網点の間の網階調が約/θ%長くなり、
製版用感材としてより優れた特性を持つことがわかった
。
実施例 2
実施1+lJ/の各試料をF記減力i?/−(1!’
e h、DTA系減力i)(コO0C)に浸漬して、
水洗、乾燥した。
e h、DTA系減力i)(コO0C)に浸漬して、
水洗、乾燥した。
前記セリウム系減力液での結果と合7ノせて、減力の結
果を第、2衆に示す。
果を第、2衆に示す。
減力液
第λ表
第2表から明らかなように、本発明では減力性能の向上
が著しく、シかも実施例1で用いたセリウム系減力液だ
けでな(Ll”e−ElJTA系減力液のいずれにも安
定した減力性能7示し、1威力時間の長さも適当である
ことがわかる。
が著しく、シかも実施例1で用いたセリウム系減力液だ
けでな(Ll”e−ElJTA系減力液のいずれにも安
定した減力性能7示し、1威力時間の長さも適当である
ことがわかる。
Claims (1)
- l)支持体上に少なくとも1層の感光性ノ・ロゲノ化銀
乳剤層及び該乳剤層の上部に少なくとも7層の非感光性
上部層を有して成る製版用ノ・ロゲン化銀写真感元材料
に於て、非感光性上層部層の少なくとも7層の融解時間
が感光性ノ・ロゲン化銀乳剤層よシも大きく、かつ該乳
剤層に澱粉、化工澱粉及び/又は#紛を原料として微生
物発酵法によって作られた胃分子多糖類が含有されてい
ることを特徴とする製版用ノ・ロゲン化銀写真感光材料
2)支持体上に少なくとも7層の感光性ノ・ロゲノ化銀
乳剤層及び該乳剤層の上部に少なくとも1層の非感光性
上部層含有して成る製版用ノ・ロゲン化銀写真感光材料
に於て、非感光性上部層の少なくとも7層の融解時間を
感光性/・ロゲン化銀乳剤層よりも大きくせしめ、かつ
該乳剤層に澱粉、化工澱粉及び/又は澱粉を原料として
微生物発酵法によって作られた高分子多糖類を含有せし
めてなる製版用ハロゲン化銀写真感光材料を露光・現像
処理して得られた原画像を減力処理することを特徴とす
る製版用ハロゲン化銀写真感光刊料の減力処理方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58009612A JPS59135456A (ja) | 1983-01-24 | 1983-01-24 | 製版用ハロゲン化銀写真感光材料 |
EP84100728A EP0114699A3 (en) | 1983-01-24 | 1984-01-24 | Silver halide photographic material for photomechanical process and method for reduction processing the same |
US07/021,570 US4746594A (en) | 1983-01-24 | 1987-03-02 | Silver halide photographic material for photomechanical process and reductive processing method using the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58009612A JPS59135456A (ja) | 1983-01-24 | 1983-01-24 | 製版用ハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59135456A true JPS59135456A (ja) | 1984-08-03 |
JPH0235970B2 JPH0235970B2 (ja) | 1990-08-14 |
Family
ID=11725115
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58009612A Granted JPS59135456A (ja) | 1983-01-24 | 1983-01-24 | 製版用ハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4746594A (ja) |
EP (1) | EP0114699A3 (ja) |
JP (1) | JPS59135456A (ja) |
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JPS6290644A (ja) * | 1985-10-17 | 1987-04-25 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
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JPH03258884A (ja) * | 1990-03-07 | 1991-11-19 | Honshu Paper Co Ltd | 澱粉糊液の老化防止方法 |
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EP0965880B1 (en) | 1998-06-19 | 2003-03-05 | Tulalip Consultoria Comercial Sociedade Unipessoal S.A. | Photographic element having improved speed to Dmin ratio and manufacturing process thereof |
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ITSV20010032A1 (it) * | 2001-10-02 | 2003-04-02 | Ferrania Spa | Elemento fotografico con sensitometria e resistenza meccanica migliorate |
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DE1128288B (de) * | 1961-01-06 | 1962-04-19 | Gevaert Photo Prod Nv | Verfahren zur Herstellung photographischer Mattschichten |
US3253926A (en) * | 1962-01-08 | 1966-05-31 | Paul Desire Van Pee | Light-sensitive silver halide material containing hydrophobic starch derivatives |
DE1218880B (de) * | 1962-03-22 | 1966-06-08 | Gevaert Photo Prod Nv | Photographisches Material mit mindestens einer Schicht, die feinverteilte Koernchen enthaelt |
FR1376094A (fr) * | 1962-11-29 | 1964-10-23 | Gevaert Photo Prod Nv | Matériel photographique |
DE1208994B (de) * | 1962-12-21 | 1966-01-13 | Agfa Ag | Verfahren zum Herstellen von photographischen Schichten mit matter Oberflaeche |
IT1147083B (it) * | 1980-05-26 | 1986-11-19 | Minnesota Mining & Mfg | Elementi fotografici aventi migliorate caratteristiche superficiali composizione di stesa e procedimento per ottenere detti elementi |
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IT1210583B (it) * | 1981-10-23 | 1989-09-14 | Minnesota Mining & Mfg | Elementi fotografici con migliorate caratteristiche di superficie |
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-
1983
- 1983-01-24 JP JP58009612A patent/JPS59135456A/ja active Granted
-
1984
- 1984-01-24 EP EP84100728A patent/EP0114699A3/en not_active Withdrawn
-
1987
- 1987-03-02 US US07/021,570 patent/US4746594A/en not_active Expired - Fee Related
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---|---|
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EP0114699A3 (en) | 1987-01-21 |
US4746594A (en) | 1988-05-24 |
JPH0235970B2 (ja) | 1990-08-14 |
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