JPH1135815A - ポリカーボネート組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フ
ルオレンから得られるポリカーボネートの好ましい特性
を保持しつつ、安全性や熱安定性の改善されたポリカー
ボネート組成物を提供する。 【解決手段】 全芳香族ジヒドロキシ成分の５〜９５モ
ル％が９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェ
ニル）フルオレン、９５〜５モル％が下記一般式［１］ ［式中、Ｒ¹〜Ｒ⁴は夫々独立して水素原子、炭素原子数
１〜９の芳香族基を含んでもよい炭化水素基又はハロゲ
ンであり、Ｗは単結合、炭素原子数１〜２０の芳香族基
を含んでもよい炭化水素基、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ₂、Ｃ
Ｏ又はＣＯＯ基である］で表されるジヒドロキシ成分か
らなるポリカーボネート共重合体に、リン酸、亜リン
酸、ホスホン酸、亜ホスホン酸及びこれらのエステルよ
りなる群から選択された少くとも１種のリン化合物が、
該共重合体に対して０．０００１〜０．０５重量％の割
合で配合されたポリカーボネート組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ポリカーボネート
組成物に関する。更に詳しくは優れた透明性や耐熱性を
有し、高屈折率で且つ安全性や熱安定性の改善されたポ
リカーボネート組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、２，２−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）プロパンにカーボネート前駆体物質を反応させ
て得られるポリカーボネートは透明性、耐熱性、機械的
特性、寸法安定性が優れているがゆえにエンジニアリン
グプラスチックとして多くの分野に広く使用されてい
る。特に透明性に優れることから光学材料としての用途
も多い。しかしながら、近年成形品の軽薄短小化に伴
い、熱源により接近して使用するレンズのように耐熱性
に優れ且つ高屈折率を有する新しい材料が望まれてい
る。また、より熱安定性に優れ、より安全性の高い樹脂
が求められている。

【０００３】一方、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）フルオレンにカーボネート前駆体を反応させて得
られるポリカーボネートは公知であり、高屈折率で耐熱
性が良好なことも知られている。しかしながら、上記
９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンか
ら得られたポリカーボネートは、特に皮膚の弱い人にと
っては、成形時にかぶれを起す場合のあることが明らか
になった。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、９，
９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンから得
られるポリカーボネートの好ましい特性即ち優れた透明
性や耐熱性及び高屈折率を保持しつつ、成形時において
かぶれを起さない安全性や熱安定性の改善されたポリカ
ーボネート組成物を提供するにある。

【０００５】本発明者は、この課題を達成せんとして鋭
意研究を重ねた結果、特定位にメチル基を置換した９，
９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フル
オレンを使用し、更に特定量の他のジヒドロキシ成分を
併用して得られるポリカーボネート共重合体に、特定の
リン化合物を配合したポリカーボネート組成物が上記課
題を達成し得ることを見出し、本発明に到達した。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、全芳香族ジヒ
ドロキシ成分の５〜９５モル％が９，９−ビス（４−ヒ
ドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９５〜５
モル％が下記一般式［１］

【０００７】

【化６】

【０００８】［式中、Ｒ¹〜Ｒ⁴は夫々独立して水素原
子、炭素原子数１〜９の芳香族基を含んでもよい炭化水
素基又はハロゲンであり、Ｗは単結合、炭素原子数１〜
２０の芳香族基を含んでもよい炭化水素基、Ｏ、Ｓ、Ｓ
Ｏ、ＳＯ₂、ＣＯ又はＣＯＯ基である］で表されるジヒ
ドロキシ成分からなるポリカーボネート共重合体に、リ
ン酸、亜リン酸、ホスホン酸、亜ホスホン酸及びこれら
のエステルよりなる群から選択された少くとも１種のリ
ン化合物が、該共重合体に対して０．０００１〜０．０
５重量％の割合で配合されたポリカーボネート組成物に
係るものである。

【０００９】本発明のポリカーボネート共重合体は、そ
れを構成する芳香族ジヒドロキシ成分として９，９−ビ
ス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン
が全芳香族ジヒドロキシ成分の少くとも５〜９５モル
％、好ましくは７〜８５モル％、更に好ましくは１０〜
７５モル％であるのが有利である。５モル％未満の場
合、本発明の目的である耐熱用材料として不満足な性質
となり好ましくない。

【００１０】本発明のポリカーボネート共重合体におい
て用いられる他のジヒドロキシ成分としては、通常ポリ
カーボネートのジヒドロキシ成分として使用されている
ものであればよく、例えばハイドロキノン、レゾルシノ
ール、４，４′−ビフェノール、１，１−ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキ
シ−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）ブタン、１，１−ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリ
メチルシクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）ペンタン、４，４′−（ｐ−フェニレンジイ
ソプロピリデン）ジフェノール、４，４′−（ｍ−フェ
ニレンジイソプロピリデン）ジフェノール、１，１−ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）−４−イソプロピルシク
ロヘキサン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）オキシ
ド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス
（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）スルフィド、
ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホキシド、ビス
（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３−ブロ
モ−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）ケトン、４−ヒドロキシフェニル安
息香酸−４′−ヒドロキシフェニルエステル、２，２−
ビス（３−ブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン
等が挙げられ、なかでも２，２−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）プロパン、４，４′−（ｍ−フェニレンジイ
ソプロピリデン）ジフェノールが好ましい。

【００１１】ポリカーボネート共重合体はそのポリマー
０．７ｇを１００ｍｌの塩化メチレンに溶解し、２０℃
で測定した比粘度が０．１７〜０．９５のものが好まし
く、０．２５〜０．７１の範囲のものがより好ましい。
比粘度が０．１７未満では成形品が脆くなり、０．９５
より高くなると溶融粘度及び溶液粘度が高くなり、取り
扱いが困難になるので好ましくない。

【００１２】本発明のポリカーボネート共重合体は、通
常のポリカーボネートを製造するそれ自体公知の反応手
段、例えば芳香族ジヒドロキシ成分にホスゲンや炭酸ジ
エステル等のカーボネート前駆物質を反応させる方法に
より製造される。次にこれらの製造方法について基本的
な手段を簡単に説明する。カーボネート前駆物質として
例えばホスゲンを使用する反応では、通常酸結合剤及び
溶媒の存在下に反応を行う。酸結合剤としては例えば水
酸化ナトリウムや水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸
化物又はピリジン等のアミン化合物が用いられる。溶媒
としては例えば塩化メチレンやクロロベンゼン等のハロ
ゲン化炭化水素が用いられる。また、反応促進のために
例えば第三級アミンや第四級アンモニウム塩等の触媒を
用いることもできる。その際、反応温度は通常０〜４０
℃であり、反応時間は数分〜５時間である。

【００１３】カーボネート前駆物質として炭酸ジエステ
ルを用いるエステル交換反応は、不活性ガス雰囲気下所
定割合の芳香族ジヒドロキシ成分を炭酸ジエステルと加
熱しながら撹拌して、生成するアルコール又はフェノー
ル類を留出させる方法により行われる。反応温度は生成
するアルコール又はフェノール類の沸点等により異なる
が、通常１２０〜３００℃の範囲である。反応はその初
期から減圧にして生成するアルコール又はフェノール類
を留出させながら反応を完結させる。また、反応を促進
するために通常エステル交換反応に使用される触媒を使
用することもできる。前記エステル交換反応に使用され
る炭酸ジエステルとしては、例えばジフェニルカーボネ
ート、ジナフチルカーボネート、ビス（ジフェニル）カ
ーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネ
ート、ジブチルカーボネート等が挙げられる。これらの
うち特にジフェニルカーボネートが好ましい。

【００１４】本発明のポリカーボネート共重合体は、そ
の重合反応において、末端停止剤として通常使用される
単官能フェノール類を使用することができる。殊にカー
ボネート前駆物質としてホスゲンを使用する反応の場
合、単官能フェノール類は末端停止剤として分子量調節
のために一般的に使用され、また得られたポリカーボネ
ート共重合体は、末端が単官能フェノール類に基づく基
によって封鎖されているので、そうでないものと比べて
熱安定性に優れている。かかる単官能フェノール類とし
ては、ポリカーボネートの末端停止剤として使用される
ものであればよく、一般にはフェノール又は低級アルキ
ル置換フェノールであって、下記一般式で表される単官
能フェノール類を示すことができる。

【００１５】

【化７】

【００１６】［式中、Ａは水素原子又は炭素数１〜９、
好ましくは１〜８の脂肪族炭化水素基であり、ｒは１〜
５、好ましくは１〜３の整数である］。かかる単官能フ
ェノール類の具体例としては例えばフェノール、ｐ−ｔ
ｅｒｔ−ブチルフェノール、ｐ−クミルフェノール及び
イソオクチルフェノールが挙げられる。

【００１７】また、他の単官能フェノール類としては、
長鎖のアルキル基又は脂肪族ポリエステル基を置換基と
して有するフェノール類又は安息香酸クロライド類、又
は長鎖のアルキルカルボン酸クロライド類を使用するこ
とができ、これらを用いてポリカーボネート共重合体の
末端を封鎖すると、これらは末端停止剤又は分子量調節
剤として機能するのみならず、樹脂の溶融流動性が改良
され、成形加工が容易になるばかりでなく、基板として
の物性も改良される。特に樹脂の吸水率を低くする効果
があり、好ましく使用される。これらは下記一般式［Ｉ
−ａ］〜［Ｉ−ｈ］で表される。

【００１８】

【化８】

【００１９】

【化９】

【００２０】

【化１０】

【００２１】

【化１１】

【００２２】

【化１２】

【００２３】

【化１３】

【００２４】

【化１４】

【００２５】

【化１５】

【００２６】［各式中、Ｘは−Ｒ−Ｏ−、−Ｒ−ＣＯ−
Ｏ−又は−Ｒ−Ｏ−ＣＯ−である、ここでＲは単結合又
は炭素数１〜１０、好ましくは１〜５の二価の脂肪族炭
化水素基を示し、Ｔは単結合又は上記Ｘと同様の結合を
示し、ｎは１０〜５０の整数を示す。Ｑはハロゲン原子
又は炭素数１〜１０、好ましくは１〜５の一価の脂肪族
炭化水素基を示し、ｐは０〜４の整数を示し、Ｙは炭素
数１〜１０、好ましくは１〜５の二価の脂肪族炭化水素
基を示し、Ｗ¹は水素原子、−ＣＯ−Ｒ¹⁷、−ＣＯ−Ｏ
−Ｒ¹⁸又はＲ¹⁹である、ここでＲ¹⁷、Ｒ¹⁸及びＲ¹⁹は夫
々炭素数１〜１０、好ましくは１〜５の一価の脂肪族炭
化水素基、炭素数４〜８、好ましくは５〜６の一価の脂
環族炭化水素基又は炭素数６〜１５、好ましくは６〜１
２の一価の芳香族炭化水素基を示す。ａは４〜２０、好
ましくは５〜１０の整数を示し、ｍは１〜１００、好ま
しくは３〜６０、特に好ましくは４〜５０の整数を示
し、Ｚは単結合又は炭素数１〜１０、好ましくは１〜５
の二価の脂肪族炭化水素基を示し、Ｗ²は水素原子、炭
素数１〜１０、好ましくは１〜５の一価の脂肪族炭化水
素基、炭素数４〜８、好ましくは５〜６の一価の脂環族
炭化水素基又は炭素数６〜１５、好ましくは６〜１２の
一価の芳香族炭化水素基を示す］

【００２７】これらのうち好ましいのは［Ｉ−ａ］及び
［Ｉ−ｂ］の置換フェノール類である。この［Ｉ−ａ］
の置換フェノール類としてはｎが１０〜３０、特に１０
〜２６のものが好ましく、その具体例としては例えばデ
シルフェノール、ドデシルフェノール、テトデシルフェ
ノール、ヘキサデシルフェノール、オクタデシルフェノ
ール、エイコシルフェノール、ドコシルフェノール及び
トリアコンチルフェノール等を挙げることができる。

【００２８】また、［Ｉ−ｂ］の置換フェノール類とし
てはＸが−Ｒ−ＣＯ−Ｏ−であり、Ｒが単結合である化
合物が適当であり、ｎが１０〜３０、特に１０〜２６の
ものが好適であって、その具体例としては例えばヒドロ
キシ安息香酸デシル、ヒドロキシ安息香酸ドデシル、ヒ
ドロキシ安息香酸テトラデシル、ヒドロキシ安息香酸ヘ
キサデシル、ヒドロキシ安息香酸エイコシル、ヒドロキ
シ安息香酸ドコシル及びヒドロキシ安息香酸トリアコン
チルが挙げられる。

【００２９】前記一般式［Ｉ−ａ］〜［Ｉ−ｇ］で示さ
れる置換フェノール類又は置換安息香酸クロライドにお
いて置換基の位置は、ｐ位又はｏ位が一般的に好まし
く、その両者の混合物が好ましい。

【００３０】前記単官能フェノール類は、得られたポリ
カーボネート共重合体の全末端に対して少くとも５モル
％、好ましくは少くとも１０モル％末端に導入されるこ
とが望ましく、また単官能フェノール類は単独で又は２
種以上混合して使用してもよい。

【００３１】また、本発明のポリカーボネート共重合体
において９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフ
ェニル）フルオレンが、全芳香族ヒドロキシ成分の６０
モル％以上である場合は、樹脂の流動性が低下すること
があり、そのため前記一般式［Ｉ−ａ］〜［Ｉ−ｇ］で
示される置換フェノール類又は置換安息香酸クロライド
類を末端停止剤として使用することが好ましい。

【００３２】本発明のポリカーボネート共重合体は、そ
のガラス転移点が１５５℃以上が好ましく、１６０℃以
上がより好ましく、１６５℃以上が更に好ましい。

【００３３】本発明において、前記ポリカーボネート共
重合体にリン酸、亜リン酸、ホスホン酸、亜ホスホン酸
及びこれらのエステルよりなる群から選択された少くと
も１種のリン化合物が、その共重合体に対して０．００
０１〜０．０５重量％の割合で配合される。このリン化
合物を配合することにより、ポリカーボネート樹脂組成
物の熱安定性が向上し、成形時における分子量の低下や
色相の悪化が防止される。かかるリン化合物としてはリ
ン酸、亜リン酸、ホスホン酸、亜ホスホン酸及びこれら
のエステルよりなる群から選択される少くとも１種のリ
ン化合物であり、好ましくは下記一般式

【００３４】

【化１６】

【００３５】

【化１７】

【００３６】

【化１８】

【００３７】

【化１９】

【００３８】よりなる群から選択された少くとも１種の
リン化合物である。式中、Ｒ⁵〜Ｒ¹⁶は夫々独立して水
素原子、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブ
チル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキ
シル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ドデシ
ル、ヘキサデシル、オクタデシル等の炭素数１〜２０の
アルキル基、フェニル、トリル、ナフチル等の炭素数６
〜１５のアリール基又はベンジル、フェネチル等の炭素
数７〜１８のアラルキル基を表している。また１つの化
合物中に２つのアルキル基が存在する場合は、その２つ
のアルキル基は互いに結合して環を形成していてもよ
い。

【００３９】上記［２］式で示されるリン化合物として
は例えばトリフェニルホスファイト、トリスノニルフェ
ニルホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブ
チルフェニル）ホスファイト、トリデシルホスファイ
ト、トリオクチルホスファイト、トリオクタデシルホス
ファイト、ジデシルモノフェニルホスファイト、ジオク
チルモノフェニルホスファイト、ジイソプロピルモノフ
ェニルホスファイト、モノブチルジフェニルホスファイ
ト、モノデシルジフェニルホスファイト、モノオクチル
ジフェニルホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ
−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトール
ジホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−
ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、ビ
ス（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファ
イト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）
ペンタエリスリトールジホスファイト、ジステアリルペ
ンタエリスリトールジホスファイト等が挙げられ、上記
［３］式で示されるリン化合物としては例えばトリブチ
ルホスフェート、トリメチルホスフェート、トリフェニ
ルホスフェート、トリエチルホスフェート、ジフェニル
モノオルソキセニルホスフェート、ジブチルホスフェー
ト、ジオクチルホスフェート、ジイソプロピルホスフェ
ート等が挙げられ、上記［４］式で示されるリン化合物
としてはテトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフ
ェニル）−４，４−ジフェニレンホスホナイト等が挙げ
られ、また上記［５］式で示される化合物としてはベン
ゼンホスホン酸ジメチル、ベンゼンホスホン酸ジエチ
ル、ベンゼンホスホン酸ジプロピル等が挙げれる。なか
でもジステアリルペンタエリスリトールジホスファイ
ト、トリエチルホスフェート、ベンゼンホスホン酸ジメ
チルが好ましく使用される。かかるリン化合物の配合量
は、ポリカーボネート共重合体に対して０．０００１〜
０．０５重量％であり、０．０００５〜０．０２重量％
が好ましく、０．００１〜０．０１重量％が特に好まし
い。配合量が０．０００１重量％未満では上記効果が得
られ難く、０．０５重量％を超えると、逆にポリカーボ
ネート組成物の熱安定性に悪影響を与え、また耐加水分
解性も低下するので好ましくない。

【００４０】本発明のポリカーボネート組成物には、酸
化防止の目的で通常知られた酸化防止剤を添加すること
ができる。その例としてはフェノール系酸化防止剤を示
すことができ、具体的には例えばトリエチレングリコー
ル−ビス［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，６−
ヘキサンジオール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ
−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー
ト］、ペンタエリスリトール−テトラキス［３−（３，
５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート］、オクタデシル−３−（３，５−ジ−
ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオ
ネート、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス
（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベン
ジル）ベンゼン、Ｎ，Ｎ−ヘキサメチレンビス（３，５
−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシン
ナマイド）、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒド
ロキシ−ベンジルホスホネート−ジエチルエステル、ト
リス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）イソシアヌレート、３，９−ビス｛１，１−
ジメチル−２−［β−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒ
ドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］
エチル｝−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ
（５，５）ウンデカン等が挙げられる。これら酸化防止
剤の好ましい添加量の範囲はポリカーボネート共重合体
に対して０．０００１〜０．０５重量％である。

【００４１】更に本発明のポリカーボネート組成物に
は、必要に応じて一価又は多価アルコールの高級脂肪酸
エステルを加えることもできる。この一価又は多価アル
コールの高級脂肪酸エステルを配合することにより、ポ
リカーボネート組成物の成形時の金型からの離型性が改
良され、ディスク基板の成形においては、離型荷重が少
く、離型不良によるディスク基板の変形、ピットずれを
防止できる。また、ポリカーボネート組成物の溶融流動
性が改善される利点もある。

【００４２】かかる高級脂肪酸エステルとしては、炭素
原子数１〜２０の一価又は多価アルコールと炭素原子数
１０〜３０の飽和脂肪酸との部分エステル又は全エステ
ルであるのが好ましい。また、かかる一価又は多価アル
コールと飽和脂肪酸との部分エステル又は全エステルと
してはステアリン酸モノグリセリド、ステアリン酸モノ
ソルビテート、ベヘニン酸モノグリセリド、ペンタエリ
スリトールモノステアレート、ペンタエリスリトールテ
トラステアレート、プロピレングリコールモノステアレ
ート、ステアリルステアレート、パルミチルパルミテー
ト、ブチルステアレート、メチルラウレート、イソプロ
ピルパルミテート、２−エチルヘキシルステアレート等
が挙げられ、なかでもステアリン酸モノグリセリド、ペ
ンタエリスリトールテトラステアレートが好ましく用い
られる。かかるアルコールと高級脂肪酸とのエステルの
配合量は、ポリカーボネート共重合体に対して０．０１
〜２重量％であり、０．０１５〜０．５重量％が好まし
く、０．０２〜０．２重量％がより好ましい。配合量が
０．０１重量％未満では上記効果が得られず、２重量％
を越えると金型表面の汚れの原因となるので好ましくな
い。

【００４３】本発明のポリカーボネート組成物には、更
に光安定剤、着色剤、帯電防止剤、難燃剤、充填剤、滑
剤等の添加剤を透明性を損なわない範囲で加えることが
できる。また、他のポリカーボネート樹脂、熱可塑性樹
脂を本発明の目的を損なわない範囲で少割合添加するこ
ともできる。

【００４４】本発明のポリカーボネート組成物を製造す
るには、任意の方法が採用される。例えばポリカーボネ
ート溶液にブレンドする方法又はタンブラー、Ｖ型ブレ
ンダー、ナウターミキサー、バンバリーミキサー、混練
ロール、押出機等で混合する方法が適宜用いられる。こ
のポリカーボネート組成物は例えば射出成形法、圧縮成
形法、押出成形法、溶液キャスティング法等任意の方法
により成形される。

【００４５】

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を更に説明す
る。なお、実施例中の部及び％は重量部及び重量％であ
り、評価は下記の方法によった。 （１）比粘度：ポリマー０．７ｇを１００ｍｌの塩化メ
チレンに溶解し２０℃の温度で測定した。 （２）ガラス転移点（Ｔｇ）：デュポン社製９１０型Ｄ
ＳＣにより測定した。 （３）全光線透過率：ＡＳＴＭ Ｄ−１００３に従って
日本電色シグマ８０を用いて測定した。 （４）熱安定性：試料のペレットを１２０℃で５時間乾
燥した後射出成形機［住友重機（株）製ＳＧ−１５０］
を用い、シリンダー温度３４０℃で１０分間滞留させた
ものとさせないものの試験片（縦７０ｍｍ、横５０ｍ
ｍ，厚み２ｍｍ）を夫々作成し、その比粘度の変化（△
η_SP）及び色相の変化（△Ｅ）を測定した。色相の変化
は、ＪＩＳ Ｚ−８７３０に従い、日本電色（株）モデ
ルＺ−１００１ＤＰを用い、夫々のＬ、ａ、ｂ値を測定
して、次式により算出した。

【００４６】

【数１】

【００４７】［式中、Ｌ、ａ、ｂは滞留させないもの、
Ｌ′、ａ′、ｂ′は１０分間滞留させたもの］

【００４８】［実施例１］温度計、撹拌機及び還流冷却
器付き反応器にイオン交換水２４６２３部及び４８％水
酸化ナトリウム水溶液４１５３部を仕込み、これに９，
９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フル
オレン（以下“ビスクレゾールフルオレン”と略称する
ことがある）６３５部、２，２−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）プロパン３４４４部及びハイドロサルファイ
ト８部を溶解した後、塩化メチレン１８１８８部を加え
た後撹拌下１５〜２５℃でホスゲン１９９４部を６０分
を要して吹込んだ。ホスゲン吹込み終了後ｐ−ｔｅｒｔ
−ブチルフェノール１００．７部を塩化メチレン１３３
０部に溶解した溶液及び４８％水酸化ナトリウム水溶液
６９２．１部を加え、乳化させた後トリエチルアミン
５．８部を加えて２８〜３３℃で１時間撹拌して反応を
終了した。反応終了後生成物を塩化メチレンで希釈して
水洗した後塩酸酸性にして水洗し、水相の導電率がイオ
ン交換水と殆ど同じになったところで、ニーダーにて塩
化メチレンを蒸発して、ビスクレゾールフルオレンとビ
スフェノールＡの比がモル比で１０：９０である無色の
ポリマー４２８４．５部（収率９５％）を得た。このポ
リマーの比粘度は０．３３９、Ｔｇは１６５℃であっ
た。このポリマーにとリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブ
チルフェニル）ホスファイトを０．００３％、トリメチ
ルホスフェートを０．００５％、ステアリン酸モノグリ
セリドを０．０４５％加えてペレット化し、住友重機
（株）製射出成形機を用いて７０ｍｍ×５０ｍｍ×２ｍ
ｍの見本板に射出成形した。このものの全光線透過率は
８９％、△η_SPは０．００２、△Ｅは０．１で良好な熱
安定性を示した。

【００４９】［実施例２］実施例１のビスクレゾールフ
ルオレンの使用量を１２６９部、ビスフェノールＡの使
用量を３０６１部とする以外は実施例１と同様にして、
ビスクレゾールフルオレンとビスフェノールＡの比がモ
ル比で２０：８０であるポリマー４４３２部（収率９３
％）を得た。このポリマーの比粘度は０．３３５、Ｔｇ
は１７５℃であった。このポリマーにベンゼンホスホン
酸ジメチルを０．０１％、ステアリン酸モノグリセリド
を０．０４５％加えてペレット化し、実施例１と同様に
成形し、評価したところ、全光線透過率は８９％、△η
_SPは０．００３、△Ｅは０．２で良好な熱安定性を示し
た。

【００５０】［実施例３］実施例１のビスクレゾールフ
ルオレンの使用量を３１７１．４部、ビスフェノールＡ
の使用量を１９１３部とする以外は実施例１と同様にし
てビスクレゾールフルオレンとビスフェノールＡの比が
モル比で５０：５０であるポリマー５３００部（収率９
６％）を得た。このポリマーの比粘度は０．３２０、Ｔ
ｇは２０５℃であった。このポリマーにジステアリルペ
ンタエリスリトールジホスファイトを０．００３％、ト
リエチルホスフェートを０．００５％、ステアリン酸モ
ノグリセリドを０．０４５％加えてペレット化し、実施
例１と同様に成形し、評価したところ、全光線透過率は
８９％、△η_SPは０．００２、△Ｅは０．２で良好な熱
安定性を示した。

【００５１】［実施例４］ビスクレゾールフルオレンの
使用量を４４４０部、ビスフェノールＡの使用量を１１
４７．８部とし、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノールに代
えて炭素原子数２３のアルキルフェノール（オルソ置換
体７０％、パラ置換体３０％）を２３９部使用する以外
は実施例１と同様にしてビスクレゾールフルオレンとビ
スフェノールＡの比がモル比で７５：２５であるポリマ
ーを得た。このポリマーの比粘度は０．３０９、Ｔｇは
２０８℃であった。このポリマーにトリス（２，４−ジ
−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイトを０．００
３％、トリメチルホスフェートを０．００５％、ステア
リン酸モノグリセリドを０．０５％加えてペレット化
し、実施例１と同様に成形し、評価したところ全光線透
過率は８９％、△η_SPは０．００３、△Ｅは０．３と良
好な熱安定性を示した。

【００５２】［比較例１］実施例１において、トリス
（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイ
ト及びトリメチルホスフェートを加えない以外は実施例
１と同様にして見本板を成形し、評価した。この見本板
の全光線透過率は８９％であったが、△η_SPは０．００
８、△Ｅは１．５と大きく、熱安定性が不足していた。

【００５３】［比較例２］ビスフェノールＡより得られ
た比粘度が０．３４６、Ｔｇが１４８℃であるポリカー
ボネートを使用し、トリス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブ
チルフェニル）ホスファイト及びトリメチルホスフェー
トを加えない以外は実施例１と同様に成形し、評価した
ところ全光線透過率は８９％、△η_SPは０．００５、△
Ｅは０．６と熱安定性が不足していた。

【００５４】［比較例３］実施例２において、ビスクレ
ゾールフルオレンに代えてビスフェノールフルオレンを
１１７６部使用する以外は実施例２と同様にしてポリマ
ー４２５２部（収率９１％）を得た。このポリマーの比
粘度は０．３３４、Ｔｇは１８３℃であった。このもの
に実施例２と同様の添加剤を同様に添加し、成形し、評
価した結果全光線透過率は８９％、△η_SPは０．００
６、△Ｅは０．９と熱安定性が不足していた。また、こ
のものの成形時のみ成形従事者の中で皮膚にかぶれを起
こす者があった。

【００５５】

【発明の効果】本発明のポリカーボネート組成物は、優
れた透明性や耐熱性を有し、且つ安全性や熱安定性が著
しくの改善されているので種々の成形品として利用する
ことができる。例えば電気電子部品、光学ディスク、光
学レンズ、ヘッドランプレンズ、液晶パネル、光カー
ド、シート、フィルム、光ファイバー、コネクター、蒸
着プラスチック反射鏡、ディスプレー等の光学部品の構
造材料又は機能材料用途に適した光学用成形品として好
適に用いられる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｃ０８Ｋ 5/524 Ｃ０８Ｋ 5/524 5/5317 5/5317

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 全芳香族ジヒドロキシ成分の５〜９５モ
   ル％が９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェ
   ニル）フルオレン、９５〜５モル％が下記一般式［１］ 【化１】 ［式中、Ｒ¹〜Ｒ⁴は夫々独立して水素原子、炭素原子数
   １〜９の芳香族基を含んでもよい炭化水素基又はハロゲ
   ンであり、Ｗは単結合、炭素原子数１〜２０の芳香族基
   を含んでもよい炭化水素基、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ₂、Ｃ
   Ｏ又はＣＯＯ基である］で表されるジヒドロキシ成分か
   らなるポリカーボネート共重合体に、リン酸、亜リン
   酸、ホスホン酸、亜ホスホン酸及びこれらのエステルよ
   りなる群から選択された少くとも１種のリン化合物が、
   該共重合体に対して０．０００１〜０．０５重量％の割
   合で配合されたポリカーボネート組成物。
2. 【請求項２】 該リン化合物が、下記一般式［２］〜
   ［５］ 【化２】 【化３】 【化４】 【化５】 ［式中、Ｒ⁵〜Ｒ¹⁶は夫々独立して水素原子、炭素数１
   〜２０のアルキル基、炭素数６〜１５のアリール基又は
   炭素数７〜１８のアラルキル基である］よりなる群から
   選択された少くとも１種のリン化合物である請求項１記
   載のポリカーボネート組成物。
3. 【請求項３】 ヒンダードフェノール系酸化防止剤を
   ０．００１〜０．１重量％、ベンゾトリアゾール系又は
   ベンゾフェノン系紫外線吸収剤を０．０５〜２．０重量
   ％の割合で配合された請求項１又は２記載のポリカーボ
   ネート組成物。
4. 【請求項４】 一般式［１］で表される化合物が、２，
   ２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンである請
   求項１〜３いずれか１項記載のポリカーボネート組成
   物。
5. 【請求項５】 ポリカーボネート共重合体が、その０．
   ７ｇを塩化メチレン１００ｍｌに溶解した溶液の２０℃
   において測定された比粘度が０．１７〜０．９５の範囲
   である請求項１記載のポリカーボネート組成物。