JPH11260784A - 基板洗浄具及び基板洗浄方法 - Google Patents

基板洗浄具及び基板洗浄方法

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JPH11260784A
JPH11260784A JP10344935A JP34493598A JPH11260784A JP H11260784 A JPH11260784 A JP H11260784A JP 10344935 A JP10344935 A JP 10344935A JP 34493598 A JP34493598 A JP 34493598A JP H11260784 A JPH11260784 A JP H11260784A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 パ−ティクルが付着しにくく、しかも洗浄が
容易な基板洗浄具を提供すること。 【解決手段】 洗浄液供給管2の回りに気密かつ回転自
在に回転筒3を嵌合し、回転筒3の出口側開口部を多数
の通流孔42を備えた水流分散板41で覆い、さらに水
流拡散板41の外側に樹脂シ−ト43を、回転筒3の出
口側開口部に塞ぎかつ外側に膨らむように設ける。回転
筒3内に供給された洗浄液は水流拡散板41を介して樹
脂シ−ト43内に通流していき、樹脂シ−ト43及び回
転筒3内部に貯留され、回転筒3内が洗浄液の貯留によ
り加圧されると、洗浄液が樹脂シ−ト43の微細な孔か
ら吹き出していく。樹脂シ−ト43により基板を擦って
基板の洗浄が行われるが、樹脂シ−ト43の材質及び洗
浄液を吹き出させる構成により、樹脂シ−ト43にはパ
−ティクルが付着しにくい。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板の洗浄に用い
られる基板洗浄具及び基板洗浄方法に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体デバイスの製造プロセスにおいて
は、半導体デバイスが形成される半導体ウエハ(以下
「ウエハ」という)の表面の清浄度を高く維持する必要
がある。このため各々の製造プロセスや処理プロセスの
前後には必要に応じてウエハ表面を洗浄しているが、例
えば成膜工程や研磨工程の後にも例えば図12に示す洗
浄装置を用いてウエハ表面の洗浄が行われている。
【0003】前記洗浄装置について簡単に説明すると、
この装置はウエハWの外周全体を保持すると共に、水平
方向に回転可能なウエハ保持部10と、ウエハWの表面
に洗浄液を供給するためのノズル11と、ウエハWの表
面に所定の圧力で接触されるブラシ12と、ウエハ保持
部10とウエハWの周囲を包囲し、垂直方向に移動可能
なカップ14とを備えて構成されている。このような洗
浄装置では、ウエハWとブラシ部17とを鉛直な軸のま
わりに回転させ、ウエハWの表面にノズル11及びブラ
シ12を介して洗浄液を供給すると共に、当該ブラシ1
2をウエハWの表面に押し当ててウエハWとブラシ12
とを相対的に摺動させることにより、ウエハW表面の粒
子汚染物を除去している。
【0004】ここで前記ブラシ12について図13
(a)の断面図及び図13(b)の底面図を用いて説明
すると、このブラシ12は、回転軸15により例えば4
本の支持杆15aを介して鉛直な軸のまわりに回転可能
に構成された筒状の本体16の下端側にブラシ部17を
取り付けて構成されている。このブラシ部17は発泡P
VA(ポリビニルアルコ−ル)からなる複数の円柱状の
ブラシ体17aの上部側を支持板17bで支持して構成
されており、前記支持板17bの外面は本体16の内壁
面の下部側に固定されている。これにより各ブラシ体1
7aは上面が本体16内に露出すると共に、下面が本体
16の下側に突出するようになっている。
【0005】またブラシ部17の上面のほぼ回転中心に
は前記回転軸15の一端側が取り付けられており、さら
に本体16の上部側には、本体16内部に洗浄液例えば
純水を供給するための供給管18が、先端側が支持杆1
5aの上方側に位置して本体16内部に開口するように
設けられている。こうしてブラシ12は回転軸15の回
転により本体16及びブラシ部17が回転し、ここに供
給管18から洗浄液が供給されて当該液がブラシ体17
aの発泡体の内部を通過してウエハW表面に供給される
ようになっている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上述のブ
ラシ12では、洗浄の際にウエハの粒子汚染物等のパ−
ティクルがブラシ体17aの表面に付着したり、当該付
着したパ−ティクルが洗浄処理時のウエハWとブラシ体
17aとの摺動等によって、ブラシ体17aを構成する
発泡体内部の孔部に入り込んでしまうことがある。
【0007】このようにブラシ体17aにパ−ティクル
が付着すると、何らかのタイミングで当該パ−ティクル
ブラシ体17aから剥がれ落ちてウエハWに転写され、
洗浄後のウエハWにパ−ティクルが残存するおそれがあ
った。
【0008】本発明はこのような事情の下になされたも
のであり、その目的は、パ−ティクルが付着しにくく、
しかも洗浄が容易な基板洗浄具を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】このため本発明の基板洗
浄具は、洗浄液を基板に供給するための洗浄液供給路部
材と、この洗浄液供給路部材の出口を塞いで外側に膨ら
むように設けられ、多数の微細な孔を有する、基板を擦
するための樹脂シ−トと、を備え、前記洗浄液は、樹脂
シ−トの内側で加圧されて当該樹脂シ−トの微細な孔か
ら吹き出すことを特徴とする。ここで基板洗浄具は、洗
浄液供給路部材は洗浄液供給管と、この洗浄液供給管に
気密にかつ回転自在に嵌合された回転筒とを備え、樹脂
シ−トはこの回転筒の出口側に設けられ、前記回転筒を
回転させるための駆動部を設けるように構成してもよ
い。
【0010】このような基板洗浄具では、樹脂シ−ト表
面とパ−ティクルとの密着力が小さいので当該表面自体
にパ−ティクルが付着しにくい。また洗浄液を樹脂シ−
トの内部から吹き出させて洗浄を行っているので、樹脂
シ−トの微細な孔には常に内部から外部へ向かう液流が
あり、これにより樹脂シ−トの内部にパ−ティクルが入
り込みにくい。このため基板の洗浄の際に、樹脂シ−ト
に付着したパ−ティクルが基板に転写され、基板が汚染
されてしまうという現象の発生が抑えられる。また基板
洗浄具を洗浄する場合にはパ−ティクルが落ちやすいの
で洗浄が容易になり、洗浄に要する時間を短縮すること
ができる。
【0011】また前記基板洗浄具は、洗浄液供給路部材
を通る洗浄液に超音波を発振してこの洗浄液を振動させ
る超音波発振部を備えるように構成してもよく、この場
合には、洗浄液を超音波振動させた状態で基板表面に供
給できるので、洗浄力や分散力をより大きくすることが
できる。
【0012】さらに前記洗浄液供給路部材の出口側に
は、樹脂シ−トの内側に洗浄液の流路を塞ぐように、多
数の孔を備えた水流分散板を設けるようにしてもよい。
この場合には、樹脂シ−トの内部を大きな圧力で均等に
加圧することができ、これにより洗浄力を大きくするこ
とができる。
【0013】さらにまた洗浄液供給路部材の出口側に
は、樹脂シ−トの内側に洗浄液の流路を塞ぐように透水
性の弾性体を設けるようにしてもよい。この場合には前
記弾性体が樹脂シ−トの芯材になり、洗浄液の樹脂シ−
トへの供給量が少なくても樹脂シ−トの内部が所定の圧
力になるため、洗浄液の消費量を低減することができ
る。
【0014】さらにまた洗浄液供給路部材を基板に対し
て接離させるための駆動部を備え、洗浄液により内側が
加圧された樹脂シ−トを前記駆動部により基板に押圧さ
せ、この押圧量を変えることにより樹脂シ−トの基板へ
の荷重を調整するようにしてもよく、この場合には前記
荷重の調整を広い範囲で容易に行うことができる。また
この場合樹脂シ−トを基板に押圧させてから洗浄液を樹
脂シ−トの内側で加圧し、樹脂シ−トの基板への押圧量
と樹脂シ−トの内圧とにより、樹脂シ−トの基板への荷
重を調整するようにしてもよい。さらに樹脂シ−トの高
さを一定にした後、洗浄液を樹脂シ−トの内側で加圧し
て、これにより基板に押圧させ、樹脂シ−トの内圧によ
り樹脂シ−トの基板への荷重を調整するようにしてもよ
い。
【0015】さらにまた前記樹脂シ−トは例えばフッ素
樹脂やポリオレフィン樹脂により構成することが好まし
く、このようにすると表面の摩擦係数が小さいのでパ−
ティクルがより付着しにくくなると共に、薬液に対する
耐候性が強いので洗浄力の大きい薬液を用いることがで
き、洗浄力を高めることができる。
【0016】
【発明の実施の形態】図1は本発明の基板洗浄具をなす
洗浄ブラシの実施の形態の一例を示す断面図であり、図
2はその斜視図である。図中2は、例えば鉛直な軸のま
わりに回転自在な基板保持部21にて水平(ほぼ水平な
状態も含む)に保持された基板例えばウエハWの表面に
洗浄液を供給するための鉛直な洗浄液供給管であり、こ
の洗浄液供給管2の回りには磁気シ−ル部22を介して
回転筒3が気密にかつ回転自在に嵌合されている。
【0017】この回転筒3は当該洗浄液供給管2が上側
の開口部から挿入される上側円筒体31と、上側円筒体
31よりも口径が大きい下側円筒体32とをこの順に上
下に連通させて構成されており、下側円筒体32の下側
の開口部が回転筒3の出口側に相当している。このよう
な回転筒3には、水流拡散板41が下側円筒体32の出
口側開口部を塞ぐように設けられている。この水流拡散
板41は例えば直径数μm〜数mm程度の大きさの通流
孔42が多数形成されて構成されており、例えば下方側
円筒体32の下縁に外側に膨らんだ状態になるように取
り付けられている。
【0018】さらに回転筒3の前記水流拡散板41の外
側には、樹脂シ−ト43が下側円筒体32の出口側開口
部を塞ぐように設けられている。つまり樹脂シ−ト43
はこの例では袋状に構成されており、当該樹脂シ−ト4
3の開口部を下側円筒体32の下部側に被せ、水流拡散
板41の外方側に所定の空間が確保されるように、下側
円筒体32の外面と樹脂シ−ト43とが気密に固定され
ている。
【0019】前記樹脂シ−ト43の材質としては、シ−
ト表面の摩擦係数が小さく、通常の圧力では洗浄液は通
過できないが、加圧状態では通過できる程度の大きさの
微細な孔を多数有する多孔質体の樹脂が用いられ、この
ような樹脂としてはフッ素樹脂等を用いることができ
る。一例を挙げると例えば膜厚が0.1mm〜数mm、
孔の大きさが0.01〜数百μm程度の例えばPTFE
(ポリテトラフルオルエチレン)製のシ−ト等が用いら
れる。
【0020】このような回転筒3は、上側開口部は洗浄
液供給管2に磁気シ−ル部22により気密に嵌合されて
いると共に、下側開口部は樹脂シ−ト43により気密に
塞がれているので内部が密閉状態になっている。そして
洗浄液供給管2から洗浄液が供給されると、後述するよ
うに洗浄液が水流拡散板41を介して樹脂シ−ト43内
に通流して樹脂シ−ト43の内部に溜まり、当該樹脂シ
−ト43の内部が洗浄液で一杯になると、樹脂シ−ト4
3が水流拡散板41の外方側に膨らんだ状態になるよう
になっている。
【0021】このような回転筒3は例えば水平方向に移
動可能に構成された水平な支持ア−ム5に、上側円筒体
31の上部側が埋設されるように取り付けられている。
この支持ア−ム5の中には、駆動部をなすモ−タ51
と、このモ−タ51の回転軸52に設けられた駆動プ−
リ53と、上側円筒体31の外面に設けられた従動プ−
リ54と、駆動プ−リ53と従動プ−リ54との間に架
け渡されたベルト55とが内蔵されていて、モ−タ51
の回転力が上側円筒体31に伝達され、これにより回転
筒3が鉛直な軸のまわりに回転されるようになってい
る。
【0022】さらに洗浄液供給管2は上側円筒体31の
上方側で水平に屈曲しており、例えば昇降可能に構成さ
れた鉛直な昇降軸56に組み合わされた支持ア−ム5の
中を通って他端側が図示しない洗浄液槽に接続されてい
る。本実施の形態では洗浄液供給管2と回転筒3とによ
り洗浄液供給路部材が構成されている。
【0023】このような洗浄ブラシでは、洗浄液供給管
2より回転筒3内に洗浄液例えば純水を供給すると、当
該洗浄液は水流拡散板41の通流孔42を介して樹脂シ
−ト43の内部に流出していく。この際樹脂シ−ト43
の孔の大きさは0.01〜数百μm程度であるので、洗
浄液は通常の圧力ではこの樹脂シ−ト43を通過できず
に当該樹脂シ−ト43の内部に閉じ込められ、当該内部
に次第に溜まって行く。こうして洗浄液は樹脂シ−ト4
3内部を満たし、次いで回転筒3の内部を満たして行
く。
【0024】ここで回転筒3内は上述のように密閉状態
にあることから、例えば磁気シ−ル部22の下面付近ま
で洗浄液で満たされると次第に内部が加圧されていく。
そして所定の圧力まで加圧されると、洗浄液は樹脂シ−
ト43の微細な孔から外部に吹き出していく。
【0025】この状態では洗浄ブラシは樹脂シ−ト43
が外側に膨らんだ状態にあり、このような洗浄ブラシを
ウエハW表面に押圧させると、図3に示すように樹脂シ
−ト43の下面はウエハW表面に押し付けられて、当該
表面に沿うように平らに変形した状態でウエハWに接触
する。そしてこの状態で洗浄ブラシをモ−タ51により
回転させると共に、ウエハWを基板保持部21により回
転させ、こうしてウエハWと洗浄ブラシの下面とを相対
的に摺動させて、ウエハWの洗浄が行われる。なお洗浄
ブラシは回転しなくてもよい。
【0026】一方水流拡散板41を設けると、ウエハW
を洗浄する際に樹脂シ−ト43がウエハW表面に合わせ
て変形しやすく、当該表面に隙間無く接触されるので、
ウエハWと樹脂シ−ト43との接触面積が大きくなると
共に、当該接触している面の洗浄力のバラツキが抑えら
れる。
【0027】このような洗浄ブラシでは、樹脂シ−ト4
3の摩擦係数が小さいという性質を利用し、樹脂シ−ト
43表面とパ−ティクルとの密着力が小さく、当該表面
自体にパ−ティクルが付着しにくい。また洗浄液を樹脂
シ−ト43の内部から吹き出させているので、洗浄処理
の際、樹脂シ−ト43の微細な孔には常に内部から外部
へ向かう液流があり、これにより樹脂シ−ト43の孔に
はパ−ティクルが外部から入り込みにくい。
【0028】このようにパ−ティクルは樹脂シ−ト43
の表面に付着しにくく、また内部にも入り込みにくいの
で、このためウエハWの洗浄の際に、樹脂シ−ト43に
付着したパ−ティクルがウエハWに転写され、ウエハW
が汚染されてしまうという現象は起こりにくい。また樹
脂シ−ト43にパ−ティクルが付着したとしても、既述
のようにパ−ティクルと樹脂シ−ト43との密着性が低
いので、洗浄ブラシの洗浄の際パ−ティクルが落ちやす
い。このため洗浄に要する時間がかなり短くて済み、洗
浄処理全体のスル−プットを向上させることができる。
【0029】またPTFEは薬液に対する耐候性が強い
ので、例えば洗浄液としてオゾン等の洗浄力の大きい薬
液を用いることができ、この場合には洗浄力を高めるこ
とができる。さらに樹脂シ−ト43の膜厚や孔の大きさ
や形状を変えることにより、樹脂シ−ト43内部の加圧
力を変化させることができるので、これにより洗浄液の
吐出量や吐出圧力を調整することができる。さらにまた
洗浄液供給管2の途中に、洗浄液供給管2内の圧力を調
整するための圧力調整弁を設け、この圧力調整弁により
洗浄液の吐出量や吐出圧力を調整するようにしてもよ
い。
【0030】続いて本発明の他の例について図4により
説明する。この例が上述の実施の形態と異なる点は、洗
浄液供給路部材を通る洗浄液に超音波を発振するように
構成したことである。例えば回転筒3内に鉛直に挿入さ
れた洗浄液供給管6の先端側には、当該洗浄液供給管6
を囲むように超音波発振部61が設けられており、この
超音波発振部61の内部には、洗浄液供給管6を囲むリ
ング状の超音波発振子62が長さ方向に複数個設けられ
ている。この場合超音波発振部61は図示しない電源部
をスイッチによりオン・オフできるように構成してもよ
いし、また超音波発振部61の超音波振動の強さを調整
できるように構成してよい。またブラシ本体の外部に超
音波発振部61を設けてもよい。
【0031】このような構成では、洗浄液供給管6を通
る洗浄液に超音波発振子62から超音波が発振され、洗
浄液は超音波により振動した状態で前記洗浄液供給管6
から吐出される。このように超音波が発振された洗浄液
を回転筒3内に供給すると、洗浄液は振動した状態で水
流拡散板41を介して樹脂シ−ト43内に分散されてい
き、振動した状態で樹脂シ−ト43から吹き出してい
く。このように洗浄液が振動した状態でウエハW表面に
供給されると、振動している洗浄液は振動していない洗
浄液に比べて洗浄力や分散力が大きいので、洗浄効果が
高められる。
【0032】次いで本発明の洗浄ブラシをウエハWの表
裏両面を洗浄するタイプの洗浄装置に適用した例につい
て図5により説明する。図中70はウエハWの下方側を
覆う筒状の回転体であり、この回転体70の下部側は上
部側に比べてわずかに縮径している。当該縮径部71の
内側にはベアリング機構72を介して垂直な筒状体73
が設けられており、この筒状体73の下端側は水平な固
定板74の上面に接続されている。また前記縮径部71
の外周囲と図示しないモ−タとの間にはベルト75が架
け渡されている。
【0033】この回転体70の上部には、例えばウエハ
Wの周縁部の6か所の位置にウエハWの外面を保持する
ための保持部材76が設けられている。この保持部材7
6は例えば内周面の途中でウエハWの端面を保持すると
共に、前記内周面がウエハWの下方側で内側に傾斜する
ように構成されている。この保持部材76は水平な回転
軸77を介して回転体70に、水平な軸のまわりに回転
可能に取り付けられると共に、図示しない重錘が設けら
れていて、回転体70が回転したときの遠心力により保
持部材76の上部側が内側に倒れてウエハWの周縁部の
挟圧力が大きくなるように構成されている。
【0034】保持部材76に保持されたウエハWの表面
には、ウエハW表面を洗浄するための第1の洗浄ブラシ
81と、ウエハW表面に洗浄液を供給するための第1の
ノズル82とが夫々ア−ム83,84に支持されて、保
持部材76に保持されたウエハWの外側の待機位置と、
ウエハWを洗浄するときの洗浄位置との間で水平方向及
び垂直方向に移動可能に構成されている。
【0035】また回転体70の内部には、ウエハWの裏
面を洗浄するための第2の洗浄ブラシ91が折り畳み式
のブラシア−ム92に支持されて設けられると共に、ウ
エハWの裏面に洗浄液を供給するための第2のノズル9
3が設けられている。これらブラシア−ム92とノズル
93は固定板74に形成された孔部74aを介して夫々
駆動部94,95に接続されている。この例では第1及
び第2の洗浄ブラシ81,91は夫々上述の洗浄ブラシ
により構成されている。
【0036】このような洗浄装置では、第1の洗浄ブラ
シ81及び第1のノズル82を待機位置に位置させた状
態で、図示しない搬送ア−ムにて保持したウエハWを保
持部材76で囲まれた領域の上方側から下降させて保持
部材76に受け渡し、当該保持部材76に保持させる。
次いでモ−タの回転力をベルトにより縮径部71に伝達
し、回転体70を鉛直な軸のまわりに回転させる一方、
洗浄ブラシ81及びノズル82をウエハWの上方側に移
動し、第1及び第2のノズル82,93からウエハWの
表面及び裏面に洗浄液を夫々供給する。
【0037】一方第1及び第2の洗浄ブラシ81,91
は、回転筒3内に洗浄液を供給して樹脂シ−ト43から
洗浄液を吹き出させると共に、ウエハWの表面及び裏面
に夫々所定の押圧力で接触させる。そして各洗浄ブラシ
81,91を鉛直な軸のまわりに回転させると共に、ア
−ム83,ブラシア−ム92によりウエハW上を水平方
向に移動させながら洗浄処理を行う。
【0038】このように本発明の洗浄ブラシをウエハW
の両面を洗浄するタイプの洗浄装置に適用した場合に
は、ウエハWの表面及び裏面を同時に洗浄することがで
きるので、従来ウエハWの両面を洗浄する場合には必要
であった反転装置が不要となり、従来装置に比べて洗浄
装置全体が小形化するうえ、洗浄処理時間が大幅に短縮
され、スル−プットが向上するなどの利点が得られる。
【0039】以上において本発明では洗浄ブラシを次の
ように構成してもよい。この洗浄ブラシが上述の洗浄ブ
ラシと異なる点は、上述の洗浄ブラシでは樹脂シ−ト4
3内の内圧を変えることによりウエハWへの押圧力を調
整していたが、この洗浄ブラシでは洗浄ブラシ自体を下
降させてウエハWを押圧することにより、前記押圧力を
調整するようにしたことである。
【0040】このような洗浄ブラシについて図6により
具体的に説明すると、この例は、洗浄ブラシを支持する
水平な支持ア−ム5の基端側に、他端側が駆動部をなす
昇降機構58に接続された昇降軸57が設けられてお
り、この昇降軸57を昇降機構58により昇降させるこ
とにより洗浄ブラシをウエハWに対して接離させ、洗浄
ブラシのウエハWへの押圧力を調整するように構成され
ている。またこの洗浄ブラシには、例えば支持ア−ム5
と昇降軸57の内部に設けられた洗浄液供給管2の途中
に、当該洗浄液供給管2内の圧力を調整するための洗浄
液供給圧調整手段である圧力調整弁22が設けられてい
る。この圧力調整弁22により樹脂シ−トの内部の加圧
力が変化され、洗浄液の吐出量や吐出圧力が調整され
る。その他の構成は上述の図1に示す洗浄ブラシと同様
である。
【0041】続いてこの洗浄ブラシの作用について説明
する。先ず洗浄ブラシの樹脂シ−ト43の内圧と洗浄ブ
ラシの押付け代の決定方法の一例について説明するが、
この例では例えば待機位置にてこれを決定する。つまり
例えば待機位置には図7に示すように、底部に排液管1
01が接続された液受け部100が設けられており、こ
の液受け部100の内部には重量計102が設けられて
いて、この重量計102の上面とウエハWの上面とは高
さ位置が揃うようになっている。そして洗浄ブラシに洗
浄液を供給している状態で重量計102にて当該洗浄ブ
ラシの荷重を測定し、この測定値に基づいて所定の荷重
(押圧力)を得るための樹脂シ−ト43の内圧と洗浄ブ
ラシの押付け代を決定する。
【0042】ここで樹脂シ−ト43の内圧は洗浄液の供
給量により決定され、供給量が多くなれば前記内圧が大
きくなって前記荷重が大きくなる。この際洗浄液供給管
2には圧力調整弁22が設けられているので、樹脂シ−
ト43の内圧はほぼ一定に維持される。また前記押付け
代とは、洗浄ブラシでウエハWを押圧する場合に、洗浄
ブラシの下端側がウエハW上面に接触した位置からさら
に洗浄ブラシを下降させたときの下降距離のことをい
い、当該下降距離が大きくなれば前記荷重が大きくなる
が、測定値から洗浄ブラシの下降量が決定される。
【0043】続いて一旦洗浄液の供給量を少なくして樹
脂シ−ト43の内圧を小さくした状態で支持ア−ム5と
昇降軸57を作動させて、洗浄ブラシを待機位置からウ
エハWを洗浄する処理位置まで移動させた後、昇降軸5
7を下降させて洗浄ブラシの下端側をウエハWの所定位
置に接触させる。次いで上述の方法にて予め決定された
押付け代分洗浄ブラシを下降させてウエハWを押圧した
後、樹脂シ−ト43の内圧が予め決定された圧力となる
ように洗浄液を供給しながら、上述の実施の形態と同様
の方法でウエハWを洗浄する。
【0044】このような洗浄ブラシでは、洗浄ブラシの
押付け代を変えることによりウエハWへの押圧力の調整
を行っているので、樹脂シ−ト43の内圧のみで押圧力
を調整する場合に比べてウエハWへの押圧力の調整を広
い範囲で容易に行うことができる。一般に例えばアルミ
膜の洗浄の場合には膜に傷がつきやすいので押圧力を小
さくし、ウエハWの裏面側の洗浄等の膜に傷がつきにく
い場合には、パ−ティクル除去率向上のため押圧力を大
きくしているので、押圧力の調整が容易であることは有
効である。また押圧力を必要に応じて調整できることか
ら、樹脂シ−ト43に圧力がかかることによる樹脂シ−
ト43への負担を必要量程度まで小さくでき、これによ
り寿命を長くできるという効果も得られる。
【0045】さらに上述の例では樹脂シ−ト43の内圧
を圧力調整弁22により一定に維持しているので押圧力
を一定に維持することができる。ここで洗浄ブラシの押
付け代と樹脂シ−ト43の内圧は上述の方法等により予
め決定され、洗浄時にこれらを連続して制御する必要は
ないので、簡易な手法で所望の押圧力を得ることがで
き、低コストで洗浄力の安定を図ることができる。
【0046】さらに樹脂シ−ト43の内圧を洗浄時には
大きくし、待機時や移動時等の非処理時には小さく設定
することにより、非処理時には洗浄液の消費量の低減
や、樹脂シ−ト43に圧力がかかることによる樹脂シ−
ト43の損傷を押さえることができるので、結果的に洗
浄液の消費量を低減し、樹脂シ−ト43の寿命を向上さ
せることができる。
【0047】このような洗浄ブラシは、昇降機構58を
設けて支持ア−ム5を昇降させる構成以外に、図8に示
すように、支持ア−ム5の先端に例えばエアシリンダ5
9を設け、このエアシリンダ59により洗浄ブラシを昇
降させる構成としてもよい。この例では上側円筒体31
と下側円筒体32は回転されない構成となっており、上
側円筒体31の上端側が支持ア−ム5の先端の下端側に
設けられたエアシリンダ59に接続されていて、当該エ
アシリンダ59により上側円筒体31が押圧されて、洗
浄ブラシが昇降するようになっている。
【0048】また上述の洗浄ブラシでは、待機時に洗浄
ブラシの押付け代と樹脂シ−ト43の内圧を決定するよ
うにしたが、これらは予め別の領域で決定しておき、待
機時には洗浄ブラシを液受け容器100内に待機させる
のみにするようにようにしてもよい。また処理時と非処
理時との間で樹脂シ−ト43内の内圧を変えないように
してもよい。
【0049】以上において洗浄ブラシ自体を下降させて
ウエハを押圧することにより前記押圧力を調整する場合
において述べたが、本発明にて昇降手段によりウエハに
対する洗浄ブラシの高さを一定にした後、洗浄ブラシ内
の内圧を変えることによりウエハへの押圧力を調整する
こともできる。
【0050】続いて洗浄ブラシの他の例を図9に基づい
て説明するが、この例が上述の洗浄ブラシと異なる点
は、洗浄ブラシの水流拡散板41と樹脂シ−ト43との
間に、透水性の弾性体例えばスポンジ44を芯材として
充填したことである。樹脂シ−ト43の上端は上述の例
と同様に下側円筒体32の外面に気密に固定されている
が、当該樹脂シ−ト43はスポンジ44の外面を被覆す
るように設けられていて、樹脂シ−ト43が水流拡散板
41の外方側に膨らんだ状態になるようにスポンジ44
の形状が設定されている。このようなスポンジ44は、
洗浄液として純水を用いる場合には例えばPVAにより
形成することができる。その他の構成は上述の図1に示
す洗浄ブラシと同様である。
【0051】この洗浄ブラシでは、洗浄液供給管2より
供給された洗浄液は、水流拡散板41を通過してスポン
ジ44内に浸透していき、スポンジ44内を透過して樹
脂シ−ト43の内部を満たし、次いで回転筒3の内部を
満たしていく。そして回転筒3内が洗浄液で所定の圧力
まで加圧された段階で洗浄液が樹脂シ−ト43の微細な
孔から外部に吹き出していき、こうして上述の例と同様
にウエハWが洗浄される。
【0052】このように樹脂シ−ト43の内部にスポン
ジ44を芯材として充填すると、樹脂シ−ト43の形状
はスポンジ44により外方に膨らむように保持されてい
るので、洗浄液の供給量が少なくても樹脂シ−ト43の
内圧をある程度の大きさにすることができる。このため
樹脂シ−ト43の内圧を所定の圧力にするための洗浄液
の量を少なくすることができ、洗浄液消費量を低減する
ことができる。
【0053】またこの例ではスポンジ44により樹脂シ
−ト43の形状が保持されているので樹脂シ−ト43が
ウエハW表面に合わせて変形しやすく、これによりウエ
ハWと樹脂シ−ト43との接触面積を大きくとれるた
め、図10に示すように水流拡散板41を設けずに、下
側円筒体32の下端側に所定形状のスポンジ44を設け
る構成としてもよい。
【0054】以上において洗浄ブラシの樹脂シ−ト43
の材質としては、上述のようにPTFE等の多孔質体の
樹脂が用いられるが、PTFE以外に、孔の大きさが数
μm〜数十μmである、耐電防止処理を行ったポリオレ
フィン樹脂等の多孔質材料も用いることができる。
【0055】またPTFEをアルコ−ルに浸漬させて親
水性にした多孔質材料も用いることができ、この場合に
は樹脂シ−ト43が親水性になるので洗浄液がシ−トの
微細な孔を通過しやすくなる。これにより樹脂シ−ト4
3内の圧力が従来と同じ程度であれば、孔から流出する
洗浄液の流量が多くなるので、これを利用して洗浄力を
調整することができる。
【0056】続いてこのような洗浄ブラシを用いた洗浄
方法の好適な例について図11により説明する。図11
(a)中103は本発明の洗浄ブラシであり、104は
純水用ノズル、105は洗浄液用ノズルであって、10
6はウエハWをほぼ水平に保持すると共に、鉛直な軸の
回りに回転させるためのウエハ保持部である。
【0057】この例では先ず図11(b)に示すよう
に、洗浄液用ノズル105及び洗浄ブラシ103により
ウエハW表面に洗浄液例えばオゾン水を供給すると共
に、洗浄ブラシ103とウエハWとを回転させて両者を
相対的に摺動させ、ウエハW表面を洗浄する。次いで図
11(c)に示すように、純水用ノズル104によりウ
エハW表面にリンス液である純水を供給しながらウエハ
Wを回転させ、こうして純水をウエハW表面に遠心力に
より行き渡らせることにより、純水により洗浄液を除去
して当該ウエハW表面のリンスを行う。
【0058】この例は従来のPVAやポリウレタン等に
より構成されたブラシでは用いることのできなかったオ
ゾン水や電解イオン水、RCA(塩酸過水、アンモニア
過水)等の洗浄力の大きい薬液を洗浄液として用いるこ
とに特徴があるが、本発明の洗浄ブラシは耐薬品性が高
いためこのような洗浄液を用いることができ、このため
洗浄効果を高めることができる。
【0059】以上において本発明は、フッ酸溶液により
酸化膜をエッチングする場合や例えばリン酸溶液によっ
て窒化膜をエッチングする場合、リン酸、酢酸、硝酸の
混合液によってアルミニウムをエッチングする場合の後
の洗浄処理に適用できる。またその他洗浄処理として
は、APM溶液(アンモニア+過酸化水素水+純水)に
よりパ−ティクルの除去を行う場合や、HPM溶液(塩
酸+過酸化水素水+純水)により金属汚染を清浄する場
合、SPM溶液(硝酸+過酸化水素水)によりレジスト
膜の有機物を除去する場合等に適用できる。
【0060】
【発明の効果】請求項1及び2の発明によれば、パ−テ
ィクルが樹脂シ−トの表面に付着したり、樹脂シ−トの
内部に入り込むことを抑えることができ、また基板洗浄
具自体の洗浄を容易に行うことができる。請求項3の発
明によれば、洗浄液を超音波振動させた状態で基板表面
に供給できるので、洗浄力や分散力をより大きくするこ
とができる。請求項4の発明によれば、樹脂シ−トの内
部を大きな圧力で均等に加圧することができ、これによ
り洗浄力を大きくすることができる。
【0061】また請求項5の発明によれば、樹脂シ−ト
内への洗浄液の供給量が少なくても樹脂シ−ト内を所定
の圧力に維持することができるので、洗浄液の消費量を
低減することができる。請求項6の発明によれば、樹脂
シ−トの押圧量により樹脂シ−トの基板に対する荷重を
調整するので、前記荷重の調整を広い範囲で容易に行う
ことができる。請求項7及び請求項8の発明によれば、
樹脂シ−トに付着するパ−ティクル量をより低減できる
と共に、洗浄力の大きい薬液を用いることができ、洗浄
力を高めることができる。
【0062】さらに請求項9及び請求項10の発明によ
れば、樹脂シ−ト内の洗浄液の加圧量を調整することに
より樹脂シ−トの基板に対する荷重を調整しているの
で、荷重の調整を容易に行うことができる。また請求項
11〜14の発明によれば、樹脂シ−トの押圧量と樹脂
シ−トの内圧により樹脂シ−トの基板に対する荷重を調
整するので、前記荷重の調整をさらに広い範囲で容易に
行うことができる。特に請求項12の発明によれば洗浄
力の安定を図ることができ、請求項13の発明によれば
洗浄液の消費量の低減や樹脂シ−トの損傷を図ることが
でき、請求項14の発明によれば基板の洗浄面に適した
洗浄を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の基板洗浄具の実施の形態の一例を示す
縦断側面図である。
【図2】前記基板洗浄具を示す斜視図である。
【図3】前記基板洗浄具の作用を説明するための縦断側
面図である。
【図4】本発明の基板洗浄具の他の例を示す縦断側面図
である。
【図5】本発明の基板洗浄具を適用した洗浄装置の一例
を示す縦断側面図である。
【図6】本発明の基板洗浄具のさらに他の例を示す縦断
側面図である。
【図7】前記基板洗浄具の押圧力の決定方法の一例を示
す断面図である。
【図8】本発明の基板洗浄具のさらに他の例を示す縦断
側面図である。
【図9】本発明の基板洗浄具のさらに他の例を示す縦断
側面図である。
【図10】本発明の基板洗浄具のさらに他の例を示す縦
断側面図である。
【図11】本発明の基板洗浄具を用いた洗浄方法の一例
を示す工程図である。
【図12】従来の洗浄装置を示す縦断側面図である。
【図13】従来の洗浄ブラシを示す縦断側面図と底面図
である。
【符号の説明】
2,6 洗浄液供給管 21 ウエハ保持部 22 圧力調整弁 3 回転筒 41 水流拡散板 42 通流孔 43 樹脂シ−ト 44 スポンジ 5 支持ア−ム 51 モ−タ 57 昇降軸 58 昇降機構 59 エアシリンダ 61 超音波発振部 W 半導体ウエハ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI B08B 3/12 B08B 3/12 Z 7/04 7/04 A

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 洗浄液を基板に供給するための洗浄液供
    給路部材と、 この洗浄液供給路部材の出口を塞いで外側に膨らむよう
    に設けられ、多数の微細な孔を有する、基板を擦するた
    めの樹脂シ−トと、を備え、 前記洗浄液は、樹脂シ−トの内側で加圧されて当該樹脂
    シ−トの微細な孔から吹き出すことを特徴とする基板洗
    浄具。
  2. 【請求項2】 洗浄液供給路部材は洗浄液供給管と、こ
    の洗浄液供給管に気密にかつ回転自在に嵌合された回転
    筒とを備え、樹脂シ−トはこの回転筒の出口側に設けら
    れ、前記回転筒を回転させるための駆動部を設けたこと
    を特徴とする請求項1記載の基板洗浄具。
  3. 【請求項3】 洗浄液供給路部材を通る洗浄液に超音波
    を発振してこの洗浄液を振動させる超音波発振部を備え
    たことを特徴とする請求項1または2記載の基板洗浄
    具。
  4. 【請求項4】 洗浄液供給路部材の出口側には、樹脂シ
    −トの内側に洗浄液の流路を塞ぐように、多数の孔を備
    えた水流分散板を設けたことを特徴とする請求項1、2
    または3記載の基板洗浄具。
  5. 【請求項5】 洗浄液供給路部材の出口側には、樹脂シ
    −トの内側に洗浄液の流路を塞ぐように透水性の弾性体
    を設けたことを特徴とする請求項1、2、3または4記
    載の基板洗浄具。
  6. 【請求項6】 洗浄液供給路部材を基板に対して接離さ
    せるための駆動部を備え、洗浄液により内側が加圧され
    た樹脂シ−トを前記駆動部により基板に押圧させ、この
    押圧量を変えることにより樹脂シ−トの基板への荷重を
    調整することを特徴とする請求項1、2、3、4または
    5記載の基板洗浄具。
  7. 【請求項7】 樹脂シ−トはフッ素樹脂からなることを
    特徴とする請求項1、2、3、4、5または6記載の基
    板洗浄具。
  8. 【請求項8】 樹脂シ−トはポリオレフィン樹脂からな
    ることを特徴とする請求項1、2、3、4、5または6
    記載の基板洗浄具。
  9. 【請求項9】 洗浄液供給路部材の途中に設けられた洗
    浄液供給圧調整手段により前記洗浄液が樹脂シ−トの内
    側で加圧されることを特徴とする請求項1,2,3,
    4,5,6,7又は8記載の基板洗浄具。
  10. 【請求項10】 洗浄液を基板に供給するための洗浄液
    供給路部材と、この洗浄液供給路部材の出口を塞いで外
    側に膨らむように設けられ、多数の微細な孔を有する、
    基板を擦するための樹脂シ−トとを備え、前記洗浄液を
    樹脂シ−トの内側で加圧して当該樹脂シ−トの微細な孔
    から吹き出させる基板洗浄具を基板に対して相対的に摺
    動させて当該基板の洗浄を行う基板洗浄方法において、 洗浄液を樹脂シ−トの内側で加圧することにより樹脂シ
    −トを基板に押圧する工程と、 前記樹脂シ−トの内側の洗浄液の加圧量にて樹脂シ−ト
    の基板への荷重を調整することを特徴とする基板洗浄方
    法。
  11. 【請求項11】 洗浄液を基板に供給するための洗浄液
    供給路部材と、この洗浄液供給路部材の出口を塞いで外
    側に膨らむように設けられ、多数の微細な孔を有する、
    基板を擦するための樹脂シ−トとを備え、前記洗浄液を
    樹脂シ−トの内側で加圧して当該樹脂シ−トの微細な孔
    から吹き出させる基板洗浄具を基板に対して相対的に摺
    動させて当該基板の洗浄を行う基板洗浄方法において、 樹脂シ−トを基板に押圧させる工程と、 洗浄液を樹脂シ−トの内側で加圧する工程と、を含み、 樹脂シ−トの基板への押圧量と樹脂シ−トの内圧とによ
    り、樹脂シ−トの基板への荷重を調整することを特徴と
    する基板洗浄方法。
  12. 【請求項12】 基板の処理中は、樹脂シ−トの内側の
    洗浄液の加圧量がほぼ一定であることを特徴とする請求
    項10又は11記載の基板洗浄方法。
  13. 【請求項13】 基板の処理時における樹脂シ−トの内
    側の洗浄液の加圧量は、未処理時よりも大きいことを特
    徴とする請求項10,11又は12記載の基板洗浄方
    法。
  14. 【請求項14】 樹脂シ−トの内側の洗浄液の加圧量
    は、基板の洗浄面に応じて可変であることを特徴とする
    請求項10又は11記載の基板洗浄方法。
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