JPH1115520A - 産業用機器の遠隔保守システム - Google Patents
産業用機器の遠隔保守システムInfo
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- JPH1115520A JPH1115520A JP16723397A JP16723397A JPH1115520A JP H1115520 A JPH1115520 A JP H1115520A JP 16723397 A JP16723397 A JP 16723397A JP 16723397 A JP16723397 A JP 16723397A JP H1115520 A JPH1115520 A JP H1115520A
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Abstract
つ確実な保守を可能とする産業用機器の遠隔保守システ
ムを提供すること。 【解決手段】 各工場102〜104に、夫々産業用機
器109の監視用のホストコンピュータ107を備え、
このホストコンピュータ107をベンダ101側の管理
用のホストコンピュータ108とインターネット105
を介して接続する。工場側のホストコンピュータ107
は、産業用機器106のトラブルの発生を検知し、その
症状を示すステータス情報をベンダ側に通知し、これに
応答してベンダ側のホストコンピュータ108は、その
症状に対応した対処を示す応答情報を工場側に通知す
る。
Description
用機器などの保守を必要とする産業用機器の遠隔保守シ
ステムに関する。
とえば半導体デバイスの製造用の機器のトラブル対応や
定期メンテナンスなどの保守は、保守要員がトラブル発
生時に電話やファクシミリで対応したり、定期的もしく
は緊急に保守要員が機器設置工場に赴いて、保守を行っ
ていた。
半導体生産投資の急増は、生産用機器の設置数の伸びに
対して保守要員が慢性的に不足した状況を作り出しつつ
ある。また、生産体制の世界的な広がりによって、より
低コストな地域を目指して生産拠点が国内、海外各所の
遠隔地に点在している。このような状況変化によって、
従来に比べてトラブル対処や定期保守に対して迅速な対
応が困難になりつつあり、これをいかに解決するかが大
きな課題となっている。また、生産拠点の拡散に伴っ
て、保守情報が各生産拠点にとどまって生産拠点を超え
た情報の共有化が希薄になり、過去のトラブルの経験が
生かしにくいという課題もある。
もので、遠隔地に設置された機器であっても地域を問わ
ず迅速且つ確実な保守を可能とする産業用機器の遠隔保
守システムを提供することを目的とする。また、該シス
テムを利用した優れた生産方法を提供することを目的と
する。
明の好ましい形態は、遠隔地の産業用機器を保守する遠
隔保守システムであって、1又は複数の産業用機器の稼
動状態を監視する監視手段と、インターネットを介して
前記監視手段との間で産業用機器の保守に関する情報を
通信しながら産業用機器の保守を管理する管理手段と、
を備えることを特徴とする遠隔保守システムである。
を保守する遠隔保守システムを構成するために、産業用
機器側に設けられる監視装置であって、1又は複数の産
業用機器のトラブルの発生を検知し、そのトラブルの症
状を示すステータス情報を取得する取得手段と、前記取
得手段により取得したステータス情報を、インターネッ
トを介して、産業用機器の保守を集中管理する管理装置
に通知すると共に、その通知に応答して前記管理装置か
らインターネットを介して送られてくる応答情報を受信
する通信手段と、を備えることを特徴とする遠隔保守シ
ステムの監視装置である。
を保守する遠隔保守システムを構成するために、ベンダ
ー側に設けられる管理装置であって、1又は複数の産業
用機器の稼動状態を監視する監視装置が設置された1又
は複数の工場の各監視手段とインターネットを介して通
信する通信手段と、前記通信手段により前記監視装置か
ら受信した産業用機器のトラブルの症状に関するステー
タス情報に基づいて、そのトラブルに対する対処法を決
定し、その決定した対処法に基づく応答情報を前記通信
手段により該当する監視装置に通知する対応手段と、を
備えることを特徴とする遠隔保守システムの管理装置で
ある。
を保守する遠隔保守方法であって、第1の産業用機器を
供給する第1のベンダーと、第2の産業用機器を供給す
る第2のベンダーと、第1及び第2の産業用機器が設置
された第1の工場と、第1及び第2の産業用機器が設置
された第2の工場の、それぞれの間でインターネットを
介して保守情報を通信し、第1のベンダーは第1及び第
2の工場にそれぞれ設置された第1の産業用機器の保守
を集中管理し、第2のベンダーは第1及び第2の工場に
それぞれ設置された第2の産業用機器の保守を集中管理
することを特徴とする遠隔保守方法である。
半導体デバイスを生産する方法や、該方法で生産された
ことを特徴とするデバイスも本発明の範疇に含まれる。
の形態を説明する。
実施の形態>図1は、本発明の好適な実施の形態に係る
産業用機器の遠隔保守システムの概要を示す図である。
101は、産業用機器を提供するベンダ(装置供給メー
カ)の事業所である。この実施の形態は、産業用機器と
して、半導体製造工場で使用する半導体製造装置、例え
ば、前工程用機器(露光装置、塗布現像装置、熱処理装
置等)や後工程用機器(組み立て装置、検査装置等)を
想定している。
しての半導体製造メーカの生産工場である。生産工場1
02〜104は、互いに異なるメーカに属する工場であ
っても良いし、同一のメーカに属する工場(例えば、前
工程用の工場、後工程用の工場等)であっても良い。
産業用機器106と、それらを結ぶLAN(イントラネ
ット)109と、各産業用機器106の稼動状況を監視
する監視装置としてのホストコンピュータ107とが設
けられている。
コンピュータ107は、世界的な規模で広がった通信手
段であるインターネット105を介してベンダ101側
の管理装置であるホストコンピュータ108に接続され
ている。ホストコンピュータ107は、このインターネ
ット105を介して、各産業用機器106の稼動状況を
示すステータス情報(例えば、トラブルが発生した産業
用機器の症状)を工場側からベンダ側に通知する他、そ
の通知に対応する応答情報(例えば、トラブルに対する
対処方法を指示する情報、対処用のプログラムやデー
タ)をベンダ側から受け取ることができる。なお、以下
では、ステータス情報及び/又は応答情報を保守情報と
いう。
間の通信および各工場内のLANでの通信には、インタ
ーネットで一般的に使用されているパケット通信プロト
コル(TCP/IP)が使用される。
8は、インターネット105を介して、ユーザの各工場
102〜104における産業用機器106の稼動状況を
時々刻々把握することができる。また、これらの稼動状
況や保守の状況などを示す保守情報は、ベンダ101の
各部門、例えば、保守部門の他、製造部門、開発部門の
コンピュータ110からも参照可能であり、これにより
保守情報を製造、開発部門へフィードバックすることが
できる。
ュータ107の動作を示すフローチャートである。ホス
トコンピュータ107は、このフローチャートに示す処
理を定期的に実行することにより、LAN109を介し
て接続された複数(n)台の産業用機器106の稼動状
況を定期的に監視する。そして、トラブルが発生してい
る場合には、ホストコンピュータ107は、トラブルの
症状その他のトラブルに関連するステータス情報を取得
して、それをインターネット105を介してベンダ10
1側に通知する。
トコンピュータ107は、監視対象の複数の産業用機器
106を第1〜第nの産業用機器として識別し管理す
る。そして、パラメータiを順次インクリメントしなが
ら(ステップS207,S208)、第iの産業用機器
の稼動状況を監視し(ステップS203)、トラブルが
発生している場合には、該当する産業用機器から、その
稼動状態に関するステータス情報を取得し(ステップS
204)、そのステータス情報をインターネット105
を介してベンダ101側に報告する(ステップS20
5)。そして、ステータス情報の報告に応答してベンダ
101側から送信されてくる応答情報に基づいて、可能
な場合(例えば、ソフトウェアの更新等によりトラブル
を解決可能な場合)には、LAN109を介してトラブ
ルに係る産業用機器を自動で保守する(ステップS20
6)。なお、トラブルの自動保守ができない場合には、
例えばディスプレイにその旨のメッセージを表示する。
タ107からの要求に応じて、トラブルの発生の有無を
ホストコンピュータ107に通知し(ステップS203
に対応)、更にそのトラブルの内容を特定して、その特
定した内容を示すステータス情報(例えば、トラブルの
内容を示すエラーコード)をホストコンピュータ107
に通知する機能を有する(ステップS204に対応)。
ュータ107がベンダ101側に通知するステータス情
報には、例えば、トラブルが発生した産業用機器の機
種、シリアルナンバー、エラーコード、トラブルの発生
した時間等が含まれる。このエラーコードとトラブルの
内容との対応関係は、例えば、インターネット105を
介してベンダ101側のホストコンピュータ108から
随時更新することができる。
ない場合には、その旨を示すエラーコードをステータス
情報に含めれば良い。この場合は、オペレータがベンダ
側に電話、ファクシミリ、電子メール等の手段により詳
細な情報を知らせることになる。
ストコンピュータ108は、各工場に設置されたホスト
コンピュータ107からの通信に対して、例えば24時
間体制で待機する。図3は、ベンダ101側のホストコ
ンピュータ108の動作を示すフローチャートである。
8は、図3のフローチャートに示す処理を定期的に実行
することにより、各工場102〜104の産業機器10
6の稼動状況を監視する。
ブルの報告(ステータス情報の通知)があるか否かを監
視し(ステップS302)、報告があった場合には、そ
の報告に係るステータス情報を取得する(ステップS3
03)。そして、ホストコンピュータ108は、このス
テータス情報に基づいて、各工場の産業用機器の保守を
管理するためのトラブルデータベース(DB)を参照
し、当該報告に係る産業用機器に関して、同一の症状が
過去に発生したことがあるか否か、すなわち、同一の症
状がトラブルデータベース(後述の501)に登録され
ているか否かを調査する(ステップS304)。
S304において“yes”)には、更に、その症状に
対する対処法がトラブルデータベースに登録されている
か否かを判断(ステップS306)し、登録されている
場合には、その登録された対処法に関する応答情報(例
えば、対処法を示すコード情報やメッセージ、対処用の
プログラムやデータ等)を、トラブルの報告に係る工場
のホストコンピュータ107にインターネット105を
介して通知する(ステップS307)。
ンピュータ107は、その応答情報に基づいて、可能な
場合には、自動で該当する産業用機器を正常な状態に復
帰させ、それが不可能な場合には、例えば、ディスプレ
イ等に当該産業用機器のオペレータに対するメッセージ
を出力する。
ンダ101側の担当者に対して、トラブル発生の事実、
トラブルの内容(ステータス情報)、対処法(応答情
報)の通知の有無、現在の状態その他の関連する情報を
報告する。この報告は、例えば、コンピュータ110の
ディスプレイに表示すると共に、ベンダ担当者のメール
アドレス宛に、ホストコンピュータ108から自動的に
報告の電子メールを送信して行なう。
トラブルに係る症状と同一の症状がトラブルデータベー
スに登録されていないと判断した場合には、当該症状を
トラブルデータベースに新規に登録した後にステップS
308を実行する。
が終ると、ホストコンピュータ108は、トラブルデー
タベースを更新する(ステップS309)。この更新に
より、例えば、対処法(応答情報)の送信の有無や、ト
ラブルの報告を受けた時間等がトラブルデータベースに
登録される。
保守部門の担当者が取り得る措置の流れの一例を示す図
である。先ず、担当者は、トラブルデータベースを参照
して、トラブルの内容を把握し、対処が必要であるか否
かを判断する(ステップS402)。そして、対処の必
要がない場合(例えば、ステップS307で適正な対処
法を該当する工場に通知している場合)には、例えばト
ラブルの再現に備えてインターネット105を介して該
当する産業用機器106の稼動状態を監視する(ステッ
プS404)。
3において“No”)には、担当者は、トラブルデータ
ベースに蓄積された情報等を参照して最適な対処方針を
選択する(ステップS403)。
ット105を介してオンラインでトラブルを解決するこ
とが考えられる(ステップS407)。この一例とし
て、トラブルの原因がソフトウェアの誤りに起因する場
合が挙げられる。この場合、該当する産業用機器のメモ
リ内のパラメータやプログラムをインターネット105
及び工場側のホストコンピュータ107を介してオンラ
インで修正することも可能である。
クシミリ、電話等の手段により、工場のオペレータに対
して、トラブルの解決方法を指示することが考えられる
(ステップS406)。
方法でも対処不能な重大なトラブルの場合には、工場を
訪問して対処することになる(ステップS405)。
ピュータ108又はコンピュータ110を操作すること
により、当該トラブルに関する情報に基づいてトラブル
データベースを更新する(ステップS409)。
タ108に備えられたトラブルデータベースに関して説
明する。LAN109を介してホストコンピュータ10
8に接続された各コンピュータ110さらにはインター
ネットを介して接続された各工場の産業用機器106の
コンソールは、専用又は汎用のブラウザソフトを内蔵し
ており、これにより、例えば図5に一例を示す様な画面
のユーザインターフェースを構成している。
一例を示す画面を参照しながら、産業用機器の機種(4
01)、シリアルナンバー(402)、トラブルの件名
(403)、発生日(404)、緊急度(405)、症
状(406)、対処法(407)、経過(408)等の
情報を入力することができる。なお、前述のように、ト
ラブルデータベースへの情報の入力は、ホストコンピュ
ータ108により自動的に実行される場合もある。
ハイパーリンク機能(410〜412)を有し、これに
よりベンダの各部門の要員や工場のオペレータは、例え
ば、各項目の更に詳細な情報にアクセスしたり、ソフト
ウェアのライブラリから最新バージョンのソフトウェア
を引出したり、工場のオペレータの参考に供する操作ガ
イド(補助情報)を引出したりすることができる。
えば保守部門、製造部門、開発部門の要員は、LAN1
09を介してホストコンピュータ108に接続されたコ
ンピュータ110を用いてトラブルデータベースにアク
セスすることができる。また、このトラブルデータベー
スには、外回りの保守要員もインターネット105を介
して携帯端末等によりアクセスすることができる。これ
によって、ベンダの各部門の情報を一元的に管理するこ
とができ、各部門において、常に最新の情報を入手する
ことができる。
をユーザ(工場)側に開放することにより、ユーザは、
過去に蓄積された様々な保守情報をインターネットを介
して入手し、自らがトラブルに対して適切な対処を採る
ことができる。このように、この実施の基体において
は、ベンダ及び複数のユーザ間で保守情報を共有化する
ことにより、保守の効率を飛躍的に高めている。
ンターネットを介してトラブルデータベースをアクセス
することにより機密情報を入手することを禁止するため
の通信セキュリティシステムを備えている。
ウォールを設けて、パスワードによる認証に加えて、ア
クセスを許可するコンピュータを予めベンダ101のホ
ストコンピュータ108に登録することにより、登録し
たコンピュータ以外のコンピュータによるアクセスを禁
止している。
リティシステムの構成を示す図である。ユーザがブラウ
ザ500を用いてベンダ101側のホストコンピュータ
108のトラブルデータベース501にアクセスする際
の通信は、暗号化されたパケット通信によって行われ
る。両ホストコンピュータ107,108は、暗号・復
号器502,504を及び通信コントローラ503,5
05を夫々備えている。暗号・復号のアルゴリズムは、
各工場(ユーザ)毎に個別に設け(ベンダ側の暗号・復
号器は複数のアルゴリズムに対応させる)、更に、この
暗号・復号のアルゴリズムを定期的に変更することによ
り、セキュリティを高めることができる。
ては、既存のインフラであるインターネット及びその通
信プロトコル、さらにはインターネットアクセス用のソ
フトウェアを活用して産業用機器の保守情報を通信する
ようにしたので、専用通信ラインの敷設や新たなソフト
ウェア開発の負担などを軽減し、迅速で低コストな遠隔
保守システムの構築を可能としている。
と、ベンダーの管理システムとを通信手段で接続して、
さまざまな保守情報を集中的に管理して情報を共有化す
ることで、生産拠点を超えて過去のトラブルの経験を生
かすことができ、トラブルに対して迅速に対応すること
ができる。特に、異なるユーザー企業間でも保守情報を
共有するようにすれば、産業全体の効率化向上にも貢献
することができる。
実施形態>図7は本発明の第2の実施形態の産業用機器
保守システムの概念図である。先の実施形態では、それ
ぞれが産業用機器を備えた複数のユーザー工場と、該産
業用機器のベンダーの管理システムとを通信手段で接続
して、該通信手段を介して各工場の産業用機器の保守情
報を通信するものであったが、本実施形態では、更に加
えて複数のベンダーの産業用機器を備えた工場と、該複
数の産業用機器のそれぞれのベンダーの管理システムと
をインターネットを利用した通信手段で接続して、該通
信手段を介して各産業用機器の保守情報を通信するもの
である。
(半導体デバイス製造メーカー)の生産工場であり、工
場の生産ラインには半導体デバイス製造用装置である露
光装置202、塗布現像装置203、熱処理装置204などが導
入されている。なお図7では生産工場201は1つだけ
描いているが、実際は複数の工場が同様にネットワーク
化されている。これらの各装置はLAN206(イントラ
ネット)で接続され、生産管理用ホストコンピュータ20
5でラインの稼動管理されている。一方、露光装置メー
カー210、塗布現像装置メーカー220、熱処理装置メーカ
ー230などベンダー(装置供給メーカー)の各事業所に
は、それぞれ供給機器の遠隔保守を行なうためのホスト
管理システム211,221,231を備えている。そして、ユー
ザーの生産工場内の各装置を管理するホストコンピュー
タ205と、各装置のベンダーの管理システム211,221,231
とは、通信手段であるインターネット200によって接続
されている。なお、各ベンダー210,220,230
では、先の図1の例で説明したように、複数のユーザー
の工場内の自分が供給した装置の保守を集中管理してい
る。
の生産機器の中のどれかにトラブルが起きると、生産ラ
インの稼動が止まってしまうが、トラブルが起きた機器
のベンダーからインターネット200を介した遠隔保守
を受けることで迅速な対応が可能で、生産ラインの休止
を最小限に抑えることができる。各ベンダーのホスト管
理システムは上記第1の実施形態で説明したようなトラ
ブルデータベースを備え、保守情報が蓄積されている。
また、生産工場と各ベンダーとの通信には異なる通信セ
キュリティシステムを備え機密の漏洩を防止している。
具体的な保守の内容や方法は、第1の実施形態と同様で
あるので詳しい説明は省略する。
ては、複数のベンダーの産業用機器を生産ラインに持つ
同一又は異なるユーザーの複数の工場と、各ベンダーの
管理システムとを通信手段で接続して保守情報を通信す
るようにしたので、生産中にある機器でトラブルが生じ
ても対応するベンダーから迅速な保守を受けることが可
能で、ラインが止まる時間を最小限に抑えて生産効率を
高めることができる。特に、異なるユーザー企業同士あ
るいは異なるベンダー企業同士でも保守情報を共有する
ようにすれば、産業全体の効率化向上にも貢献すること
ができる。
に上記説明した遠隔保守システムを利用した設備におけ
る半導体デバイスの生産方法の例を説明する。
導体チップ、液晶パネル、CCD、薄膜磁気ヘッド、マ
イクロマシン等)の製造のフローを示す。ステップ1
(回路設計)では半導体デバイスの回路設計を行なう。
ステップ2(マスク製作)では設計した回路パターンを
形成したマスクを製作する。一方、ステップ3(ウエハ
製造)ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造す
る。ステップ4(ウエハプロセス)は前工程と呼ばれ、
上記用意したマスクとウエハを用いて、リソグラフィ技
術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次のステ
ップ5(組み立て)は後工程と呼ばれ、ステップ4によ
って作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程
であり、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンディン
グ)、パッケージング工程(チップ封入)等の工程を含
む。ステップ6(検査)ではステップ5で作製された半
導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査
を行なう。こうした工程を経て半導体デバイスが完成
し、これを出荷(ステップ7)する。前工程と後工程は
それぞれ専用の別の工場で行い、これらの工場毎に上記
説明した遠隔保守システムによって保守がなされる。
を示す。ステップ11(酸化)ではウエハの表面を酸化
させる。ステップ12(CVD)ではウエハ表面に絶縁
膜を形成する。ステップ13(電極形成)ではウエハ上
に電極を蒸着によって形成する。ステップ14(イオン
打込み)ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ15
(レジスト処理)ではウエハに感光剤を塗布する。ステ
ップ16(露光)では露光装置によってマスクの回路パ
ターンをウエハに焼付露光する。ステップ17(現像)
では露光したウエハを現像する。ステップ18(エッチ
ング)では現像したレジスト像以外の部分を削り取る。
ステップ19(レジスト剥離)ではエッチングが済んで
不要となったレジストを取り除く。これらのステップを
繰り返し行なうことによって、ウエハ上に多重に回路パ
ターンを形成する。各工程で使用する生産機器は上記説
明した遠隔保守システムによって保守がなされているの
で、トラブルを未然に防ぐと共に、もしトラブルが発生
しても迅速な復旧が可能で、従来に比べて半導体デバイ
スの生産性を向上させることができる。
保守の通信手段として、世界的に網羅されたインターネ
ットを利用することにより、機器の設置地域を問わずに
少ない投資で有効な保守システムを構築することが可能
となる。
と、ベンダーの管理システムとを通信手段で接続して遠
隔保守を行なうことで、トラブルに対して迅速に対応す
ることができ、保守情報の共有化によって保守能力の向
上も期待できる。
遠隔保守システムの概要を示す図である。
のホストコンピュータの動作を示すフローチャートであ
る。
トコンピュータの動作を示す図である。
図である。
スである入力画像の一例を示す図である。
る。
遠隔保守システムの概要を示す図である。
Claims (30)
- 【請求項1】 遠隔地の産業用機器を保守する遠隔保守
システムであって、 1又は複数の産業用機器の稼動状態を監視する監視手段
と、 インターネットを介して前記監視手段との間で産業用機
器の保守に関する情報を通信しながら産業用機器の保守
を管理する管理手段と、 を備えることを特徴とする遠隔保守システム。 - 【請求項2】 請求項1記載の遠隔保守システムにおい
て、前記管理手段は、複数の工場に設置された各産業用
機器の保守を集中管理する。 - 【請求項3】 請求項2記載の遠隔保守システムにおい
て、複数の工場は同一あるいは異なるユーザーの複数工
場であって、前記管理手段はベンダー側に備えられる。 - 【請求項4】 請求項1記載の遠隔保守システムにおい
て、1工場内に複数種類の産業用機器が設置され、前記
管理手段は各産業用機器にそれぞれ対応して複数備えら
れている。 - 【請求項5】 請求項4記載の遠隔保守システムにおい
て、複数の産業用機器は異なるベンダーが供給する機器
であって、前記管理手段はそれぞれ異なるベンダー側に
備えられる。 - 【請求項6】 請求項1記載の遠隔保守システムにおい
て、前記管理手段から産業用機器に、産業用機器のソフ
トウェア又は機器操作のガイド情報をインターネットを
介して供給する手段を有する。 - 【請求項7】 請求項1に記載の遠隔保守システムにお
いて、 前記監視手段は、産業用機器のトラブルの発生を検知
し、そのトラブルの症状を特定するステータス情報を前
記管理手段に通知し、 前記管理手段は、そのステータス情報に基づいて当該産
業用機器のトラブルに対する対処法を決定し、その決定
した対処法に基づく応答情報を前記監視手段に通知す
る。 - 【請求項8】 請求項7に記載の遠隔保守システムにお
いて、前記監視手段は、前記管理手段から通知された応
答情報に基づいて産業用機器を保守する保守手段を有す
る。 - 【請求項9】 請求項7に記載の遠隔保守システムにお
いて、前記管理手段は、前記産業用機器の保守に関する
情報を登録するデータベースを有し、該データベースに
は、産業用機器を識別する情報と、その産業用機器で発
生し得るトラブルの症状と、そのトラブルに対する対処
法とが関連付けて登録されており、前記管理手段は、前
記データベースを参照して、該当するトラブルに対する
対処法を決定する。 - 【請求項10】 請求項9に記載の遠隔保守システムに
おいて、前記管理手段は、前記監視手段との間で産業用
機器の保守に関する情報をやり取りする都度、その内容
に基づいて前記データベースを更新する自動更新手段を
有する。 - 【請求項11】 請求項10に記載の遠隔保守システム
において、前記管理手段は、オペレータからの入力情報
に基づいて前記データベースを更新する手動更新手段を
更に有する。 - 【請求項12】 請求項9に記載の遠隔保守システムに
おいて、前記管理手段は、前記データベースに対してア
クセスすることを、産業用機器のユーザに許可するアク
セス許可手段を更に有する。 - 【請求項13】 請求項12に記載の遠隔保守システム
において、前記管理手段は、前記産業用機器のユーザ以
外の者に対して、前記データベースへのアクセスを禁止
する通信セキュリティ手段を更に有する。 - 【請求項14】 請求項9に記載の遠隔保守システムに
おいて、前記監視手段は、前記管理手段が有する前記デ
ータベースにアクセスするアクセス手段を有する。 - 【請求項15】 請求項1に記載の遠隔保守システムに
おいて、産業用機器は半導体製造装置である。 - 【請求項16】 請求項1に記載の遠隔保守システムに
基づいて管理される半導体製造装置を用いて半導体デバ
イスを生産する方法。 - 【請求項17】 請求項1に記載の遠隔保守システムに
基づいて管理される半導体製造装置を用いて生産される
半導体デバイス。 - 【請求項18】 遠隔地の産業用機器を保守する遠隔保
守システムを構成するために、産業用機器側に設けられ
る監視装置であって、 1又は複数の産業用機器のトラブルの発生を検知し、そ
のトラブルの症状を示すステータス情報を取得する取得
手段と、 前記取得手段により取得したステータス情報を、インタ
ーネットを介して、産業用機器の保守を集中管理する管
理装置に通知すると共に、その通知に応答して前記管理
装置からインターネットを介して送られてくる応答情報
を受信する通信手段と、 を備えることを特徴とする遠隔保守システムの監視装
置。 - 【請求項19】 請求項18に記載の監視装置におい
て、前記通信手段により前記管理装置から受信した応答
情報に基づいて、産業用機器を保守する保守手段を更に
備える。 - 【請求項20】 請求項18に記載の遠隔保守システム
において、産業用機器は半導体製造装置である。 - 【請求項21】 遠隔地の産業用機器を保守する遠隔保
守システムを構成するために、ベンダー側に設けられる
管理装置であって、 1又は複数の産業用機器の稼動状態を監視する監視装置
が設置された1又は複数の工場の各監視手段とインター
ネットを介して通信する通信手段と、 前記通信手段により前記監視装置から受信した産業用機
器のトラブルの症状に関するステータス情報に基づい
て、そのトラブルに対する対処法を決定し、その決定し
た対処法に基づく応答情報を前記通信手段により該当す
る監視装置に通知する対応手段と、 を備えることを特徴とする遠隔保守システムの管理装
置。 - 【請求項22】 請求項21に記載の管理装置におい
て、産業用機器の保守に関する情報を登録するデータベ
ースを更に備え、該データベースには、産業用機器を識
別する情報と、その産業用機器で発生し得るトラブルの
症状と、そのトラブルに対する対処法とが関連付けて登
録されており、前記対応手段は、該データベースを参照
して、該当するトラブルに対する対処法を決定する。 - 【請求項23】 請求項21に記載の遠隔保守システム
において、前記監視手段との間で産業用機器の保守に関
する情報をやり取りする都度、その内容に基づいて前記
データベースを更新する自動更新手段を更に備える。 - 【請求項24】 請求項22に記載の遠隔保守システム
において、オペレータからの入力情報に基づいて前記デ
ータベースを更新する手動更新手段を更に備える。 - 【請求項25】 請求項21に記載の遠隔保守システム
において、前記データベースに対してアクセスすること
を、産業用機器のユーザに許可するアクセス許可手段を
更に有する。 - 【請求項26】 請求項25に記載の遠隔保守システム
において、産業用機器のユーザ以外の者に対して、前記
データベースへのアクセスを禁止する通信セキュリティ
手段を更に有する。 - 【請求項27】 請求項21に記載の遠隔保守システム
において、産業用機器は半導体製造装置である。 - 【請求項28】 遠隔地の産業用機器を保守する遠隔保
守方法であって、 第1の産業用機器を供給する第1のベンダーと、第2の
産業用機器を供給する第2のベンダーと、第1及び第2
の産業用機器が設置された第1の工場と、第1及び第2
の産業用機器が設置された第2の工場の、それぞれの間
でインターネットを介して保守情報を通信し、 第1のベンダーは第1及び第2の工場にそれぞれ設置さ
れた第1の産業用機器の保守を集中管理し、 第2のベンダーは第1及び第2の工場にそれぞれ設置さ
れた第2の産業用機器の保守を集中管理することを特徴
とする遠隔保守方法。 - 【請求項29】 請求項28に記載の遠隔保守方法にお
いて、第1及び第2の工場は同一ユーザー又は異なるユ
ーザーの工場である。 - 【請求項30】 請求項29に記載の遠隔保守方法であ
って、前記産業用機器は半導体製造装置である。
Priority Applications (11)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP16723397A JP3919294B2 (ja) | 1997-06-24 | 1997-06-24 | 産業用機器の遠隔保守システムおよび方法 |
TW090112674A TWI249760B (en) | 1996-07-31 | 1997-07-21 | Remote maintenance system |
US08/902,160 US6385497B1 (en) | 1996-07-31 | 1997-07-29 | Remote maintenance system |
EP97305732A EP0822473B1 (en) | 1996-07-31 | 1997-07-30 | Remote maintenance system |
EP06075184A EP1672452A2 (en) | 1996-07-31 | 1997-07-30 | Remote maintenance system |
KR1019970036434A KR100294714B1 (ko) | 1996-07-31 | 1997-07-31 | 원격보수시스템,이를구성하는감시장치및원격보수방법 |
US09/988,572 US6892109B2 (en) | 1996-07-31 | 2001-11-20 | Remote maintenance system |
US09/988,573 US6963786B2 (en) | 1996-07-31 | 2001-11-20 | Remote maintenance system |
TW092105891A TWI246708B (en) | 1996-07-31 | 2003-03-18 | Remote maintenance system |
US11/117,455 US7062343B2 (en) | 1996-07-31 | 2005-04-29 | Remote maintenance system |
US11/438,440 US7805279B2 (en) | 1996-07-31 | 2006-05-23 | Remote maintenance system |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16723397A JP3919294B2 (ja) | 1997-06-24 | 1997-06-24 | 産業用機器の遠隔保守システムおよび方法 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPH1115520A true JPH1115520A (ja) | 1999-01-22 |
JP3919294B2 JP3919294B2 (ja) | 2007-05-23 |
Family
ID=15845929
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16723397A Expired - Fee Related JP3919294B2 (ja) | 1996-07-31 | 1997-06-24 | 産業用機器の遠隔保守システムおよび方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP2021036392A (ja) * | 2019-08-30 | 2021-03-04 | 株式会社安川電機 | データ収集システム、データ収集方法、及びプログラム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3919294B2 (ja) | 2007-05-23 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050531 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050913 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20051114 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060704 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060830 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061114 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070109 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070213 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100223 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110223 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120223 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130223 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140223 Year of fee payment: 7 |
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