JP2012253383A - レーザ装置管理システム - Google Patents
レーザ装置管理システム Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012253383A JP2012253383A JP2012190116A JP2012190116A JP2012253383A JP 2012253383 A JP2012253383 A JP 2012253383A JP 2012190116 A JP2012190116 A JP 2012190116A JP 2012190116 A JP2012190116 A JP 2012190116A JP 2012253383 A JP2012253383 A JP 2012253383A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- laser device
- terminal
- display
- monitoring terminal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/0014—Monitoring arrangements not otherwise provided for
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04B—TRANSMISSION
- H04B10/00—Transmission systems employing electromagnetic waves other than radio-waves, e.g. infrared, visible or ultraviolet light, or employing corpuscular radiation, e.g. quantum communication
- H04B10/50—Transmitters
- H04B10/501—Structural aspects
- H04B10/503—Laser transmitters
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/0014—Measuring characteristics or properties thereof
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Lasers (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Optical Communication System (AREA)
- Selective Calling Equipment (AREA)
Abstract
【解決手段】 レーザ装置2を制御しているレーザ制御装置10は、例えば一定の放電パルス数発生など予め設定された特定のイベントが発生する毎に、当該レーザ装置2の状態を示す状態情報をレーザ装置2から取得して、監視端末20へ送信する。監視端末20は、受信した状態情報を通信回線50を介してサーバ装置30へ転送する。サーバ装置30では、転送された状態情報を基に、自己内のデータベースを変更すると共に出力情報を生成する。この出力情報は、通信回線50を介して表示端末40に入力され、ここで表示される。
【選択図】 図1
Description
前記監視端末は、前記レーザ装置に関係する予め設定されたイベントが発生したときに、当該レーザ装置の状態を示す状態情報を、当該レーザ装置から取得して前記サーバ装置へ送信する処理手段を具備し、
前記サーバ装置は、前記処理手段から送信された前記状態情報を前記データベースに保存する保存手段と、前記データベースの内容に基づく出力情報を生成して前記出力端末へ送信する生成手段とを具備することを特徴とする。
(1)一定時間経過、一定運転時間経過、一定放電パルス数の発振
(2)エラーまたはワーニングの発生
(3)メイテナンス作業の完了(操作記録)、ガス交換などのレーザ装置固有の定期作業の完了
が含まれている。
以上説明したように、請求項1に係る発明によれば、例えば、一定時間経過、一定放電パルス数の発振などの特定のイベント発生毎に、保守情報が、サーバ装置30へ送信され、ここで蓄積され、さらに表示端末40に表示される。従って、遠隔地においても、定期的にレーザ装置の状態を示す情報をデータ収集することができることとなり、レーザ装置の状態を定期的にかつ正確に把握することができる。
前記監視端末は、レーザ発振する露光用のレーザ装置に関係する予め設定されたイベントが発生したときに、当該レーザ装置の状態を示す状態情報を、当該レーザ装置から取得して前記通信回線へ送信する処理手段を備え、
前記表示端末は、前記通信回線を介して受信した前記サーバ装置からのデータベースの内容に基づく出力情報を出力する出力手段を具備することを特徴とする。
サーバ装置30では、ネットワーク50を介して転送されてきた保守情報を受信すると、データベース更新処理機能212によって、当該保守情報を基にデータベース33を更新すると共に(処理P303)、装置状況判定機能223によって、データベース33に蓄積された保守情報を基にレーザ装置の状態を診断する(処理P304)。
例えば、保守情報取得命令などのコマンドの発行、パラメータの設定、レーザ状態の参照の指示を行う。前記保守情報取得命令は、詳細については後述するが、レーザ装置2に関係するイベントを発生させる場合に用いられる命令であり、マニュアルログ取得命令である。
品質情報には、光品位、放電電圧およびレーザ光の波長をそれぞれ示す情報が含まれる
保守部品稼働状況を示す情報には、保守部品の交換後の放電(あるいは発振)パルス数やレーザ装置の稼働時間をそれぞれ示す情報が含まれる。
次に、オペレータは、上記処理P1で保守情報が書き込まれた外部記憶媒体を監視端末10上の外部記憶装22置に挿入し(処理P2)(図9のS3参照)、その後、監視端末10の入力装置24を操作してデータ収集用プログラムを起動させる。
図11は、第2の実施形態に係るレーザ装置管理システムの構成図を示している。
図13は、第3の実施形態に係るレーザ装置管理システムの構成図を示している。
第4の実施形態に係るレーザ装置管理システムは、図11に示した第2の実施形態と同様の構成になっている。
図17は、第5の実施形態に係るレーザ装置管理システムの構成図を示している。
第6の実施形態に係るレーザ装置管理システムは、図11に示した第2の実施形態と同様の構成になっている。
第7の実施形態に係るレーザ装置管理システムは、図11に示した第2の実施形態と同様の構成になっている。
図22は、第8の実施形態に係るレーザ装置管理システムの構成図を示している。
図23は、第9の実施形態に係るレーザ装置管理システムの構成図を示している。
この第10の実施形態では、異なるバージョンの複数のプログラム間で上位互換性が維持されない場合のレーザ装置管理システムを想定している。
10 レーザ制御装置
20 監視端末
30 サーバ装置
40 表示端末
50 ネットワーク
80 LAN(ローカルエリアネットワーク)
90 監視及び表示端末
211、215、216 通信プログラム
212 データベース更新処理機能
213 表示データ作成及び通信機能
214 通信及び表示プログラム
221 監視端末通信プログラム
222 表示端末通信及び表示プログラム
223 装置状況判定機能
224 警告通知機能
231 暗号化処理機能
232 復号化処理機能
233、234 暗号化及び復号化処理機能
241、242 アクセス制御機能
250 プログラム配布機能
251 配布プログラム実行機能
252A 監視端末プログラム
252B 表示端末プログラム
253 配布プログラム実行機能
261、262 プログラム及びパラメータダウンロード機能
263 プログラム及びパラメータ転送機能
264A プログラム及びパラメータ配布機能
510 装置ID/装置プログラムバージョンID対応表
520 プログラム選択機能
530 機能選択機能
540−1〜540−N 表示データ作成及び通信機能
550−1〜550−N 監視端末プログラム
Claims (17)
- レーザ発振する露光用のレーザ装置の状態を監視する監視端末と、データベースを有するサーバ装置と、前記データベースの内容に基づく出力情報をオペレータに対して画面表示する表示手段を有する表示端末とが通信回線を介して接続され、
前記通信回線を介して、少なくとも、前記監視端末と表示端末と前記サーバ装置との間でデータ通信を実施し、前記レーザ装置を管理するレーザ装置管理システムであって、
前記レーザ装置を制御するとともに、当該レーザ装置から当該レーザ装置の状態を示す状態情報を取得するレーザ制御装置が設けられ、
前記監視端末は、
前記レーザ装置に関係するイベントが発生したときに、当該レーザ装置の前記状態情報として、動作電圧および動作ガス圧を、当該レーザ装置から前記レーザ制御装置を介して取得して前記サーバ装置へ送信する処理手段を具備し、
前記サーバ装置は、
前記監視端末から送信された前記動作電圧および動作ガス圧を前記データベースに保存する保存手段と、
前記データベースの内容に基づき、前記イベントが発生したレーザ装置の前記動作電圧および動作ガス圧の出力情報を生成して前記表示端末へ送信する生成手段と
を具備し、
前記表示端末は、
前記イベントが発生したレーザ装置の前記動作電圧および動作ガス圧の出力情報を画面表示する表示手段と、
前記イベントが発生したレーザ装置の前記動作電圧または動作ガス圧のパラメータ値を設定する設定手段と、
前記設定された前記動作電圧または動作ガス圧のパラメータ値を前記サーバ装置に前記通信回線を介して送信する処理手段と
を具備し、
前記サーバ装置は、
前記表示端末から送信された前記動作電圧または動作ガス圧のパラメータ値を前記監視端末に前記通信回線を介して送信する送信手段を具備し、
前記監視端末は、
前記サーバ装置から送信された前記動作電圧または動作ガス圧のパラメータ値を前記レーザ制御装置に転送する転送手段を具備し、
前記レーザ制御装置は、
前記監視端末から転送された前記動作電圧または動作ガス圧のパラメータ値に応じて前記レーザ装置の前記動作電圧または動作ガス圧を変更する制御手段
を具備する
ことを特徴とするレーザ装置管理システム。 - 複数のレーザ装置を管理するレーザ装置管理システムであって、
前記レーザ装置に関係するイベントが発生したときに、当該イベントが発生したレーザ装置の識別情報が、前記レーザ制御装置から前記監視端末、前記サーバ装置を経由して前記表示端末に送られ、
前記表示端末で、前記イベントが発生したレーザ装置の前記動作電圧または動作ガス圧のパラメータ値が設定されると、前記イベントが発生したレーザ装置の識別情報が、前記表示端末から、前記サーバ装置を経由して前記監視端末に送られ、前記監視端末から、前記動作電圧または動作ガス圧のパラメータ値が、前記識別情報で示されるレーザ装置を制御するレーザ制御装置に転送される
ことを特徴とする請求項1記載のレーザ装置管理システム。 - 前記レーザ制御装置から前記レーザ装置の状態情報が外部記憶媒体を介して前記監視端末に転送されること
ことを特徴とする請求項1又は2記載のレーザ装置管理システム。 - 前記レーザ制御装置と前記監視端末とが通信回線によって接続され、
前記レーザ制御装置から前記レーザ装置の状態情報が前記通信回線を介して前記監視端末に転送されること
ことを特徴とする請求項1又は2記載のレーザ装置管理システム。 - 前記監視端末と前記表示端末が同一の監視・表示端末として構成され、
前記レーザ制御装置と前記監視・表示端末とが通信回線によって接続され、
前記レーザ制御装置から前記レーザ装置の状態情報が前記通信回線を介して前記監視・表示端末に転送されること
ことを特徴とする請求項1又は2記載のレーザ装置管理システム。 - 前記監視端末、前記サーバ装置、前記表示端末は、送信すべきデータを暗号化する暗号化処理手段をそれぞれ具備するとともに、受信したデータを復号化する復号化処理手段をそれぞれ具備すること
ことを特徴とする請求項1又は2記載のレーザ装置管理システム。 - 前記通信回線に複数の監視端末と複数の表示端末が接続され、
前記サーバ装置は、複数の監視端末からのアクセスを制御するとともに、複数の表示端末からのアクセスを制御するアクセス制御手段を具備する
ことを特徴とする請求項1又は2記載のレーザ装置管理システム。 - 前記サーバ装置は、前記監視端末で実行すべき監視端末プログラムおよび前記表示端末で実行すべき表示端末プログラムを格納する記憶手段を備え、
前記監視端末は、前記サーバ装置から送信された前記監視端末プログラムを実行する監視端末プログラム実行手段を備えるとともに、
前記表示端末は、前記サーバ装置から送信された前記表示端末プログラムを実行する表示端末プログラム実行手段を備える
ことを特徴とする請求項1又は2記載のレーザ装置管理システム。 - 前記サーバ装置は、前記レーザ制御装置で実行すべき装置プログラムを格納する記憶手段を備え、
前記監視端末は、前記サーバ装置から送信された前記装置プログラムを前記レーザ制御装置に転送する転送手段を備え、
前記レーザ制御装置は、前記監視端末から転送された前記装置プログラムを実行する装置プログラム実行手段を備える
ことを特徴とする請求項1又は2記載のレーザ装置管理システム。 - 前記監視端末は、
前記レーザ装置で所定の放電パルス数に達するごとに、当該レーザ装置の前記状態情報として、動作電圧および動作ガス圧を、当該レーザ装置から前記レーザ制御装置を介して取得して前記サーバ装置へ送信する処理手段を具備する
ことを特徴とする請求項1又は2記載のレーザ装置管理システム。 - 前記監視端末と前記サーバ装置は、
同一の工場内に設けられること
ことを特徴とする請求項1又は2記載のレーザ装置管理システム。 - 前記監視端末と露光機が通信回線によって接続されている
ことを特徴とする請求項1又は2記載のレーザ装置管理システム。 - 複数のレーザ装置を管理するレーザ装置管理システムであって、
前記サーバ装置は、前記監視端末で実行すべき監視端末プログラムを、前記レーザ装置の識別情報に対応して複数種類格納するとともに、前記表示端末で実行すべき表示端末プログラムを、前記レーザ装置の識別情報に対応して複数種類格納する記憶手段と、
前記複数種類の監視端末プログラムの中から、前記レーザ装置の識別情報に対応する監視端末プラグラムを選択して、当該識別情報で示されるレーザ装置を監視する監視端末に送信するとともに、前記複数種類の表示端末プログラムの中から、前記レーザ装置の識別情報に対応する表示端末プログラムを選択して、当該識別情報で示されるレーザ装置に関する表示を行う表示端末に送信する配布手段とを備え、
前記監視端末は、前記サーバ装置から送信された前記監視端末プログラムを実行する監視端末プログラム実行手段を備えるとともに、
前記表示端末は、前記サーバ装置から送信された前記表示端末プログラムを実行する表示端末プログラム実行手段を備える
ことを特徴とする請求項1又は2記載のレーザ装置管理システム。 - 前記サーバ装置の生成手段は、
前記データベースに保存されている状態情報のうち、過去一定時間の状態情報に基づいて、前記レーザ装置の状態を診断し、該診断結果を示す出力情報を生成して前記表示端末へ送信する
ことを特徴とする請求項1又は2記載のレーザ装置管理システム。 - 前記サーバ装置の生成手段は、
前記データベースに保存されている最新の状態情報と予め設定された診断基準とに基づいて、前記レーザ装置の状態を診断し、該診断結果を示す出力情報を生成して前記表示端末へ送信する
ことを特徴とする請求項1又は2記載のレーザ装置管理システム。 - 前記監視端末の処理手段は、
前記レーザ装置がガスレーザ装置であった場合に、当該ガスレーザ装置における放電パルスの回数を示す情報を状態情報として取得して、前記サーバ装置へ送信し、
前記サーバ装置の前記生成手段は、
前記データベースに記憶されている最新の放電パルスの回数を示す情報に基づいて、前記ガスレーザ装置の状態の異常を予測し、該予測結果を示す出力情報を生成して前記表示端末へ送信する
ことを特徴とする請求項1又は2記載のレーザ装置管理システム。 - 前記監視端末の処理手段は、
前記レーザ装置がガスレーザをレーザ発振するガスレーザ装置であった場合に、当該ガスレーザ装置に使用されている部品の寿命に影響を与える当該ガスレーザ装置の放電パルスの回数を含む稼働状況を示す情報を、前記状態情報として取得して前記サーバ装置へ送信し、
前記サーバ装置の生成手段は、
前記データベースに記憶されている状態情報に基づいて、前記部品の寿命を予測し、該予測結果を示す出力情報を生成して前記表示端末へ送信する
ことを特徴とする請求項1又は2記載のレーザ装置管理システム。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US09/557,789 US6697695B1 (en) | 2000-04-25 | 2000-04-25 | Laser device management system |
US09/557789 | 2000-04-25 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011256587A Division JP2012080112A (ja) | 2000-04-25 | 2011-11-24 | レーザ装置管理システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012253383A true JP2012253383A (ja) | 2012-12-20 |
JP5454978B2 JP5454978B2 (ja) | 2014-03-26 |
Family
ID=24226882
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001126047A Pending JP2002043219A (ja) | 2000-04-25 | 2001-04-24 | レーザ装置管理システム |
JP2011256587A Pending JP2012080112A (ja) | 2000-04-25 | 2011-11-24 | レーザ装置管理システム |
JP2012190116A Expired - Fee Related JP5454978B2 (ja) | 2000-04-25 | 2012-08-30 | レーザ装置管理システム |
Family Applications Before (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001126047A Pending JP2002043219A (ja) | 2000-04-25 | 2001-04-24 | レーザ装置管理システム |
JP2011256587A Pending JP2012080112A (ja) | 2000-04-25 | 2011-11-24 | レーザ装置管理システム |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6697695B1 (ja) |
EP (1) | EP1150401B1 (ja) |
JP (3) | JP2002043219A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020031301A1 (ja) * | 2018-08-08 | 2020-02-13 | ギガフォトン株式会社 | リソグラフィシステムのメインテナンス管理方法、メインテナンス管理装置、及びコンピュータ可読媒体 |
WO2022018795A1 (ja) * | 2020-07-20 | 2022-01-27 | ギガフォトン株式会社 | 訓練データ作成方法、機械学習方法、消耗品管理装置及びコンピュータ可読媒体 |
Families Citing this family (35)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1257924A4 (en) * | 2000-02-16 | 2007-06-20 | Cymer Inc | PROCESS MONITORING SYSTEM FOR LITHOGRAPHY LASER |
CN100373357C (zh) * | 2000-10-18 | 2008-03-05 | 索尼公司 | 信息处理装置及信息处理方法、维护信息管理系统、以及记录媒体 |
JP4280003B2 (ja) * | 2001-05-31 | 2009-06-17 | 株式会社日立製作所 | 遠隔保守方法および産業用機器 |
US6700916B1 (en) | 2001-09-26 | 2004-03-02 | Lambda Physik Ag | E-diagnostic, laser simulator, automated testing and deconvolution of spectra for lithographic exposure radiation generating systems such as excimer or molecular fluorine laser or EUV source systems |
JP2003208210A (ja) * | 2002-01-16 | 2003-07-25 | Fuji Mach Mfg Co Ltd | 生産機械 |
JPWO2004107071A1 (ja) * | 2003-05-29 | 2006-07-20 | 松下電器産業株式会社 | 異常処理システム |
DE102004015888A1 (de) * | 2004-03-31 | 2005-11-03 | Siemens Ag | Störmeldesystem und Verfahren zur Übertragung von Störmeldungen |
JP2005346702A (ja) * | 2004-05-04 | 2005-12-15 | Heidelberger Druckmas Ag | 識別表示装置を備える診断システム |
JP2006024765A (ja) * | 2004-07-08 | 2006-01-26 | Komatsu Ltd | レーザ装置管理システム |
JP5252673B2 (ja) * | 2005-05-20 | 2013-07-31 | サイバーレーザー株式会社 | レーザ装置の不具合診断方法および不具合修理方法 |
JP2007088946A (ja) * | 2005-09-22 | 2007-04-05 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 通信ネットワークシステム |
US8014887B2 (en) * | 2006-03-22 | 2011-09-06 | Hitachi Kokusai Electric Inc. | Substrate processing apparatus |
EP1884222A1 (de) * | 2006-07-31 | 2008-02-06 | WaveLight AG | Verfahren und Einrichtung zur Fernüberwachung und Fehlerdiagnose eines ophtalmologischen Behandlungssystems |
KR101392915B1 (ko) * | 2007-01-18 | 2014-05-12 | 엘지전자 주식회사 | 이벤트를 이용한 장치관리 |
WO2008088125A1 (en) * | 2007-01-18 | 2008-07-24 | Lg Electronics Inc. | Device management using event |
KR100856579B1 (ko) * | 2007-01-18 | 2008-09-04 | 홍운식 | 웨이퍼의 노광 에너지 정보를 축적하는 시스템에 의해 누적된 웨이퍼의 노광 에너지 정보를 이용한 노광용 마스크의 관리방법 |
JP5303214B2 (ja) * | 2007-08-03 | 2013-10-02 | 任天堂株式会社 | 携帯無線ゲーム機サーバー、携帯無線ゲーム機クライアント、およびこれらを使用するシステム |
JP5385639B2 (ja) * | 2009-03-06 | 2014-01-08 | キヤノン株式会社 | 情報処理システム、情報処理方法およびプログラム |
EP2771802A4 (en) * | 2011-10-24 | 2016-05-25 | Schneider Electric Ind Sas | SYSTEM AND METHOD FOR MANAGING INDUSTRIAL PROCESSES |
WO2014017562A1 (ja) | 2012-07-26 | 2014-01-30 | ギガフォトン株式会社 | レーザ装置及びレーザ装置の制御方法 |
WO2014030645A1 (ja) | 2012-08-23 | 2014-02-27 | ギガフォトン株式会社 | 光源装置及びデータ処理方法 |
WO2014038584A1 (ja) | 2012-09-07 | 2014-03-13 | ギガフォトン株式会社 | レーザ装置及びレーザ装置の制御方法 |
CN103519890B (zh) * | 2013-08-22 | 2015-08-05 | 浙江工业大学 | 一种在线式激光美容祛斑仪控制系统 |
WO2015068205A1 (ja) * | 2013-11-05 | 2015-05-14 | ギガフォトン株式会社 | レーザ装置及び非一過性のコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
WO2017068619A1 (ja) * | 2015-10-19 | 2017-04-27 | ギガフォトン株式会社 | レーザ装置管理システム |
JP2017167310A (ja) * | 2016-03-16 | 2017-09-21 | 株式会社ニコン | 評価装置及び評価方法、表示装置及び表示方法、露光装置及び露光方法、露光システム、デバイス製造装置、並びに、コンピュータプログラム |
CN110622373B (zh) * | 2017-06-12 | 2022-08-12 | 极光先进雷射株式会社 | 激光装置和激光装置管理系统、以及激光装置的管理方法 |
CN108746999B (zh) * | 2018-05-21 | 2020-08-28 | 广汽本田汽车有限公司 | 一种激光头聚焦透镜保护镜片表面洁净度的监测方法 |
JP7428667B2 (ja) * | 2019-02-07 | 2024-02-06 | ギガフォトン株式会社 | 機械学習方法、消耗品管理装置、及びコンピュータ可読媒体 |
CN109793572A (zh) * | 2019-03-29 | 2019-05-24 | 丁云凤 | 一种基于核光四联的祛斑系统 |
CN114846408A (zh) * | 2019-12-18 | 2022-08-02 | 西默有限公司 | 气体放电光源中的预测装置 |
JP7447158B2 (ja) * | 2020-02-12 | 2024-03-11 | ギガフォトン株式会社 | 情報処理装置、情報処理方法、及び半導体製造システム |
JP2021005109A (ja) * | 2020-10-01 | 2021-01-14 | 株式会社ニコン | 評価装置及び評価方法、表示装置及び表示方法、露光装置及び露光方法、露光システム、デバイス製造装置、並びに、コンピュータプログラム |
CN116021160B (zh) * | 2022-12-29 | 2023-10-27 | 中国电力科学研究院有限公司 | 通过计量现场手持设备控制激光蚀刻设备的方法及系统 |
CN116506009B (zh) * | 2023-06-21 | 2023-09-19 | 深圳市知酷信息技术有限公司 | 一种基于5g网络的激光光纤通信用的性能监测系统 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63269588A (ja) * | 1987-04-28 | 1988-11-07 | Toshiba Corp | レ−ザビ−ムのモニタリング装置 |
JPH07142801A (ja) * | 1993-11-12 | 1995-06-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | レーザ装置 |
JPH08505006A (ja) * | 1992-11-13 | 1996-05-28 | サイマー レーザー テクノロジーズ | パワー・レーザー・システム |
JPH09223833A (ja) * | 1996-02-12 | 1997-08-26 | Cymer Inc | 部品の耐用期間の終焉を予測可能なレーザーシステム及びその予測方法 |
JPH09246673A (ja) * | 1996-03-07 | 1997-09-19 | Tadahiro Omi | エキシマレーザー発振装置及びステッパー装置 |
JPH10275951A (ja) * | 1997-03-28 | 1998-10-13 | Nikon Corp | レーザ光源の寿命判定方法 |
JPH1115520A (ja) * | 1997-06-24 | 1999-01-22 | Canon Inc | 産業用機器の遠隔保守システム |
JPH11135426A (ja) * | 1998-08-17 | 1999-05-21 | Nikon Corp | 回路パターンの製造方法 |
JP2002015986A (ja) * | 2000-02-16 | 2002-01-18 | Cymer Inc | リソグラフィ・レーザ用プロセス監視システム |
Family Cites Families (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61133681A (ja) * | 1984-12-04 | 1986-06-20 | Amada Co Ltd | 気体レ−ザ光出力制御装置のモニタ−装置 |
JP2536900B2 (ja) * | 1988-04-22 | 1996-09-25 | ファナック株式会社 | Ncレ―ザ装置 |
JPH02166899A (ja) * | 1988-12-20 | 1990-06-27 | Komatsu Ltd | ローカルエリアネットワークの異常検出装置 |
JPH02241071A (ja) * | 1989-03-15 | 1990-09-25 | Fanuc Ltd | Ncレーザ装置 |
US5005180A (en) * | 1989-09-01 | 1991-04-02 | Schneider (Usa) Inc. | Laser catheter system |
JP3336436B2 (ja) * | 1991-04-02 | 2002-10-21 | 株式会社ニコン | リソグラフィシステム、情報収集装置、露光装置、及び半導体デバイス製造方法 |
JP2716622B2 (ja) * | 1992-04-13 | 1998-02-18 | ファナック株式会社 | レーザ発振器の制御装置 |
US5463650A (en) * | 1992-07-17 | 1995-10-31 | Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho | Apparatus for controlling output of an excimer laser device |
JP2631080B2 (ja) * | 1993-10-05 | 1997-07-16 | 株式会社小松製作所 | レーザ装置の出力制御装置 |
US5663076A (en) * | 1995-08-08 | 1997-09-02 | Lsi Logic Corporation | Automating photolithography in the fabrication of integrated circuits |
KR19980702629A (ko) * | 1995-09-27 | 1998-08-05 | 안자끼 사토루 | 레이저장치 |
US5764505A (en) * | 1996-01-23 | 1998-06-09 | Cymer, Inc. | Gas discharge laser control systems using multiple CPU's with shared memory on a common bus |
US5657334A (en) * | 1996-02-15 | 1997-08-12 | Cymer, Inc. | External high voltage control for a laser system |
US5805442A (en) * | 1996-05-30 | 1998-09-08 | Control Technology Corporation | Distributed interface architecture for programmable industrial control systems |
US5779799A (en) * | 1996-06-21 | 1998-07-14 | Micron Technology, Inc. | Substrate coating apparatus |
JPH10161707A (ja) * | 1996-11-29 | 1998-06-19 | Sukiyan Technol:Kk | Faシステムの制御方法 |
US5991324A (en) * | 1998-03-11 | 1999-11-23 | Cymer, Inc. | Reliable. modular, production quality narrow-band KRF excimer laser |
JP3578886B2 (ja) * | 1997-05-02 | 2004-10-20 | 東京エレクトロン株式会社 | プロセス制御システムとそのプロセスデータ転送制御方法 |
US6282454B1 (en) * | 1997-09-10 | 2001-08-28 | Schneider Automation Inc. | Web interface to a programmable controller |
KR19990065486A (ko) * | 1998-01-14 | 1999-08-05 | 윤종용 | 반도체 제조설비 관리시스템의 공정조건 관리방법 |
US6199018B1 (en) * | 1998-03-04 | 2001-03-06 | Emerson Electric Co. | Distributed diagnostic system |
US6201996B1 (en) * | 1998-05-29 | 2001-03-13 | Control Technology Corporationa | Object-oriented programmable industrial controller with distributed interface architecture |
JP2000100720A (ja) * | 1999-07-14 | 2000-04-07 | Nikon Corp | リソグラフィシステム、露光装置、及びこれらを利用した半導体デバイス製造方泡並びにマシンコントローラ |
JP4139015B2 (ja) * | 1999-09-21 | 2008-08-27 | 株式会社小松製作所 | パルスレーザ制御システム |
JP2003523091A (ja) * | 2000-02-11 | 2003-07-29 | ラムダ フィジーク アーゲー | 安定化した平均パルスエネルギーを有するガス放電レーザー |
US6408260B1 (en) * | 2000-02-16 | 2002-06-18 | Cymer, Inc. | Laser lithography quality alarm system |
US6564171B1 (en) * | 2000-09-14 | 2003-05-13 | Advanced Micro Devices Inc. | Method and apparatus for parsing event logs to determine tool operability |
-
2000
- 2000-04-25 US US09/557,789 patent/US6697695B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2001
- 2001-04-20 EP EP01109716A patent/EP1150401B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-04-24 JP JP2001126047A patent/JP2002043219A/ja active Pending
-
2011
- 2011-11-24 JP JP2011256587A patent/JP2012080112A/ja active Pending
-
2012
- 2012-08-30 JP JP2012190116A patent/JP5454978B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63269588A (ja) * | 1987-04-28 | 1988-11-07 | Toshiba Corp | レ−ザビ−ムのモニタリング装置 |
JPH08505006A (ja) * | 1992-11-13 | 1996-05-28 | サイマー レーザー テクノロジーズ | パワー・レーザー・システム |
JPH07142801A (ja) * | 1993-11-12 | 1995-06-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | レーザ装置 |
JPH09223833A (ja) * | 1996-02-12 | 1997-08-26 | Cymer Inc | 部品の耐用期間の終焉を予測可能なレーザーシステム及びその予測方法 |
JPH09246673A (ja) * | 1996-03-07 | 1997-09-19 | Tadahiro Omi | エキシマレーザー発振装置及びステッパー装置 |
JPH10275951A (ja) * | 1997-03-28 | 1998-10-13 | Nikon Corp | レーザ光源の寿命判定方法 |
JPH1115520A (ja) * | 1997-06-24 | 1999-01-22 | Canon Inc | 産業用機器の遠隔保守システム |
JPH11135426A (ja) * | 1998-08-17 | 1999-05-21 | Nikon Corp | 回路パターンの製造方法 |
JP2002015986A (ja) * | 2000-02-16 | 2002-01-18 | Cymer Inc | リソグラフィ・レーザ用プロセス監視システム |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020031301A1 (ja) * | 2018-08-08 | 2020-02-13 | ギガフォトン株式会社 | リソグラフィシステムのメインテナンス管理方法、メインテナンス管理装置、及びコンピュータ可読媒体 |
JPWO2020031301A1 (ja) * | 2018-08-08 | 2021-08-02 | ギガフォトン株式会社 | リソグラフィシステムのメインテナンス管理方法、メインテナンス管理装置、及びコンピュータ可読媒体 |
US11353801B2 (en) | 2018-08-08 | 2022-06-07 | Gigaphoton Inc. | Maintenance management method for lithography system, maintenance management apparatus, and computer readable medium |
JP7258028B2 (ja) | 2018-08-08 | 2023-04-14 | ギガフォトン株式会社 | リソグラフィシステムのメインテナンス管理方法、メインテナンス管理装置、及びコンピュータ可読媒体 |
WO2022018795A1 (ja) * | 2020-07-20 | 2022-01-27 | ギガフォトン株式会社 | 訓練データ作成方法、機械学習方法、消耗品管理装置及びコンピュータ可読媒体 |
JP7432733B2 (ja) | 2020-07-20 | 2024-02-16 | ギガフォトン株式会社 | 訓練データ作成方法、機械学習方法、消耗品管理装置及びコンピュータ可読媒体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012080112A (ja) | 2012-04-19 |
JP2002043219A (ja) | 2002-02-08 |
EP1150401B1 (en) | 2010-11-03 |
JP5454978B2 (ja) | 2014-03-26 |
EP1150401A2 (en) | 2001-10-31 |
EP1150401A3 (en) | 2005-07-13 |
US6697695B1 (en) | 2004-02-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5454978B2 (ja) | レーザ装置管理システム | |
US11642183B2 (en) | Systems and methods for fleet management of robotic surgical systems | |
US10432801B2 (en) | Device management system, device management method, and recording medium | |
JP3919294B2 (ja) | 産業用機器の遠隔保守システムおよび方法 | |
KR100294714B1 (ko) | 원격보수시스템,이를구성하는감시장치및원격보수방법 | |
US20070242815A1 (en) | Method for exchanging information between devices in case of a change in network configuration and home network system therefore | |
US20120246297A1 (en) | Agent based monitoring for saas it service management | |
US20090076874A1 (en) | Method and Tool for Optimized System Maintenance | |
KR20130025814A (ko) | 가전 제어 서버 및 가전 제어 방법 | |
KR100477578B1 (ko) | 홈네트워크의 정보 단말기 원격 관리 시스템 및 그 방법 | |
JP2008147489A (ja) | 群管理システム、サーバ装置、およびプログラム | |
JP2007080171A (ja) | 機器管理装置、機器管理方法、プログラム及び記録媒体 | |
JP2005165402A (ja) | 設備管理装置および遠隔設備管理システム | |
KR101067205B1 (ko) | 원격 검침 시스템에서 전력량계 및 그 관리 방법 | |
JP2006239930A (ja) | 証明書管理機能を備えた印刷装置 | |
JP7225958B2 (ja) | 制御装置および制御システム | |
JP2003259468A (ja) | 設備機器の監視装置及び監視システム | |
JP2001195119A (ja) | 家庭内機器のリモートメンテナンスシステム | |
JP2003029819A (ja) | 保守装置、メンテナンスシステムおよびメンテナンス方法 | |
KR101556781B1 (ko) | 네트웍 장비 예측 장애 및 수명 정보 서비스 시스템 | |
JP2005044355A (ja) | リモート装置管理ソフトウエアオンリーソリューション | |
JP2011159127A (ja) | 管理装置、管理システム、管理方法、プログラム及び記録媒体 | |
KR20130110442A (ko) | Snmp를 이용한 중앙 집중형 plc 관리 시스템 및 방법 | |
JP2012048556A (ja) | リモートセキュリティ診断システム | |
JP5654080B2 (ja) | ネットワークシステムおよびネットワークシステムのネットワーク機器保守方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20120830 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120830 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20121106 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121025 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20131127 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20131203 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20131225 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5454978 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |