JP7258028B2 - リソグラフィシステムのメインテナンス管理方法、メインテナンス管理装置、及びコンピュータ可読媒体 - Google Patents

リソグラフィシステムのメインテナンス管理方法、メインテナンス管理装置、及びコンピュータ可読媒体 Download PDF

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Description

本開示は、リソグラフィシステムのメインテナンス管理方法、メインテナンス管理装置、及びコンピュータ可読媒体に関する。
半導体集積回路の微細化、高集積化につれて、半導体露光装置においては解像力の向上が要請されている。半導体露光装置を以下、単に「露光装置」という。このため露光用光源から出力される光の短波長化が進められている。露光用光源には、従来の水銀ランプに代わってガスレーザ装置が用いられている。現在、露光用のガスレーザ装置としては、波長２４８ｎｍの紫外線を出力するＫｒＦエキシマレーザ装置ならびに、波長１９３ｎｍの紫外線を出力するＡｒＦエキシマレーザ装置が用いられている。
現在の露光技術としては、露光装置側の投影レンズとウエハ間の間隙を液体で満たして、当該間隙の屈折率を変えることによって、露光用光源の見かけの波長を短波長化する液浸露光が実用化されている。ＡｒＦエキシマレーザ装置を露光用光源として用いて液浸露光が行われた場合は、ウエハには等価における波長１３４ｎｍの紫外光が照射される。この技術をＡｒＦ液浸露光という。ＡｒＦ液浸露光はＡｒＦ液浸リソグラフィとも呼ばれる。
ＫｒＦ、ＡｒＦエキシマレーザ装置の自然発振におけるスペクトル線幅は約３５０～４００ｐｍと広いため、露光装置側の投影レンズによってウエハ上に縮小投影されるレーザ光（紫外線光）の色収差が発生して解像力が低下する。そこで色収差が無視できる程度となるまでガスレーザ装置から出力されるレーザ光のスペクトル線幅を狭帯域化する必要がある。スペクトル線幅はスペクトル幅とも呼ばれる。このためガスレーザ装置のレーザ共振器内には狭帯域化素子を有する狭帯域化部（Line Narrow Module）が設けられ、この狭帯域化部によりスペクトル幅の狭帯域化が実現されている。なお、狭帯域化素子はエタロンやグレーティング等であってもよい。このようにスペクトル幅が狭帯域化されたレーザ装置を狭帯域化レーザ装置という。
米国特許出願公開第２００７／０２５２９６６号明細書 特開２０１３－１７９１０９号公報 特開２００９－２１７７１８号公報 特開２０１１－１９７８９４号公報 米国特許第６６９７６９５号明細書 米国特許出願公開第２０１６／０２５４６３４号明細書 米国特許出願公開第２００３／００１３２１３号明細書
概要
本開示の１つの観点に係るリソグラフィシステムのメインテナンス管理方法は、レジストの塗布、露光、及び現像を行うリソグラフィシステムを構成する１組単位の装置群であるリソグラフィセル毎に稼動情報を整理してリソグラフィセル毎の稼動情報を保存することと、リソグラフィセル毎に装置群の各装置におけるメインテナンスの対象となる消耗品に関するメインテナンス情報を整理してリソグラフィセル毎の消耗品に関するメインテナンス情報を保存することと、リソグラフィセル毎の稼動情報及びリソグラフィセル毎の消耗品に関するメインテナンス情報に基づいて、リソグラフィセル毎の消耗品の標準メインテナンス時期を計算することと、リソグラフィセル毎の消耗品の標準メインテナンス時期と、リソグラフィセル毎の消耗品を交換することによるダウンタイムの情報と、リソグラフィセル毎の又は２つ以上のリソグラフィセルを含む製造ライン毎のダウンタイムによる損失コスト情報に基づいて、リソグラフィセル毎の又は製造ライン毎のメインテナンススケジュール計画を作成することと、メインテナンススケジュール計画の作成結果を出力することと、を含むメインテナンス管理方法である。
本開示の他の１つの観点に係るリソグラフィシステムのメインテナンス管理装置は、レジストの塗布、露光、及び現像を行うリソグラフィシステムを構成する１組単位の装置群であるリソグラフィセル毎に稼動情報を整理してリソグラフィセル毎の稼動情報を保存する処理を行う稼動情報処理部と、リソグラフィセル毎に装置群の各装置におけるメインテナンスの対象となる消耗品に関するメインテナンス情報を整理してリソグラフィセル毎の消耗品に関するメインテナンス情報を保存する処理を行うメインテナンス情報処理部と、リソグラフィセル毎の稼動情報及びリソグラフィセル毎の消耗品に関するメインテナンス情報に基づいて、リソグラフィセル毎の消耗品の標準メインテナンス時期を計算する標準メインテナンス時期計算部と、リソグラフィセル毎の消耗品の標準メインテナンス時期と、リソグラフィセル毎の消耗品を交換することによるダウンタイムの情報と、リソグラフィセル毎の又は２つ以上のリソグラフィセルを含む製造ライン毎のダウンタイムによる損失コスト情報に基づいて、リソグラフィセル毎の又は製造ライン毎のメインテナンススケジュール計画を作成するメインテナンススケジュール計画部と、メインテナンススケジュール計画の作成結果を出力するデータ出力部と、を含むメインテナンス管理装置である。
本開示の他の１つの観点に係るプログラムが記録された非一過性のコンピュータ可読媒体は、プロセッサにより実行された場合に、プロセッサに、レジストの塗布、露光、及び現像を行うリソグラフィシステムを構成する１組単位の装置群であるリソグラフィセル毎に稼動情報を整理してリソグラフィセル毎の稼動情報を保存する機能と、リソグラフィセル毎に装置群の各装置におけるメインテナンスの対象となる消耗品に関するメインテナンス情報を整理してリソグラフィセル毎の消耗品に関するメインテナンス情報を保存する機能と、リソグラフィセル毎の稼動情報及びリソグラフィセル毎の消耗品に関するメインテナンス情報に基づいて、リソグラフィセル毎の消耗品の標準メインテナンス時期を計算する機能と、リソグラフィセル毎の消耗品の標準メインテナンス時期と、リソグラフィセル毎の消耗品を交換することによるダウンタイムの情報と、リソグラフィセル毎の又は２つ以上のリソグラフィセルを含む製造ライン毎のダウンタイムによる損失コスト情報に基づいて、リソグラフィセルル毎の又は製造ライン毎のメインテナンススケジュール計画を作成する機能と、メインテナンススケジュール計画の作成結果を出力する機能と、を実現させるための命令を含むプログラムが記録された非一過性のコンピュータ可読媒体である。
本開示のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の図面を参照して以下に説明する。
図１は、例示的なリソセルの構成を概略的に示す正面図である。 図２は、リソセルの具体例を示す図である。 図３は、リソセルの具体例を示す図である。 図４は、例示的なレーザ装置の構成を概略的に示す図である。 図５は、半導体工場のリソグラフィシステムの構成例を概略的に示す図である。 図６は、実施形態１に係るリソグラフィシステムの構成を示す図である。 図７は、リソセル管理サーバの機能を示すブロック図である。 図８は、ファイルＡに含まれるテーブルデータの例を示す図表である。 図９は、ウエハ処理枚数Wn、露光パルス数Nex、及び発振パルス数Npの各々の経時変化を示すグラフである。 図１０は、１日当たりのウエハ処理枚数Wnday、１日当たりの露光パルス数Nexday、及び１日当たりの発振パルス数Npdayの各々の経時変化を示すグラフである。 図１１は、レーザ装置から出力されたパルスレーザ光のパルスエネルギEpの経時変化を示すグラフである。 図１２は、ファイルＢに含まれるテーブルデータ（１）の例を示す図表である。 図１３は、ファイルＢに含まれるテーブルデータ（２）の例を示す図表である。 図１４は、ファイルＢに含まれるテーブルデータ（３）の例を示す図表である。 図１５は、標準メインテナンス日計算部における処理内容の例を示すフローチャートである。 図１６は、ファイルＣに含まれるテーブルデータの例を示す図表である。 図１７は、ファイルＤに含まれるテーブルデータの例を示す図表である。 図１８は、メインテナンススケジュール計画部における処理内容の例を示すフローチャートである。 図１９は、コストメリット計算処理の例を示すフローチャートである。 図２０は、ファイルＥに含まれるテーブルデータの例を示す図表である。 図２１は、標準メインテナンス日と、前倒しした最適メインテナンス日との関係を模式的に示す説明図である。 図２２は、実施形態２に係るリソセル管理サーバの機能を示すブロック図である。 図２３は、ファイルＡ（２）に含まれるテーブルデータの例を示す図表である。 図２４は、ファイルＦに含まれるテーブルデータの例を示す図表である。 図２５は、図２２に示す標準メインテナンス日計算部における処理内容の例を示すフローチャートである。 図２６は、図２２に示すメインテナンススケジュール計画部における処理内容の例を示すフローチャートである。 図２７は、コストメリット計算処理の例を示すフローチャートである。 図２８は、実施形態３に係るリソセル管理サーバの機能を示すブロック図である。 図２９は、ファイルＡ（３）に含まれるテーブルデータの例を示す図表である。 図３０は、ファイルＦ（２）に含まれるテーブルデータの例を示す図表である。 図３１は、実施形態４に係るリソセル管理サーバの機能を示すブロック図である。 図３２は、ファイルＧに含まれるログデータの例を示す図表である。 図３３は、予測寿命値計算部の処理内容の例を示すフローチャートである。 図３４は、交換モジュール及び交換部品の寿命予測処理の例を示すフローチャートである。 図３５は、寿命パラメータ値と寿命監視パラメータ値との関係をグラフ化した例を示す図である。 図３６は、寿命パラメータ値と寿命監視パラメータ値との関係をグラフ化した他の例を示す図である。 図３７は、実施形態５に係るリソセル管理サーバの機能を示すブロック図である。 図３８は、消耗品選定部における処理内容の例を示すフローチャートである。 図３９は、コストメリット計算処理の例を示すフローチャートである。 図４０は、ファイルＨに含まれるテーブルデータの例を示す図表である。 図４１は、標準メインテナンス日と、メインテナンス候補日に前倒しした最適メインテナンス日との関係を模式的に示す説明図である。 図４２は、実施形態６に係るリソセル管理サーバの機能を示すブロック図である。 図４３は、第１の寿命パラメータリセット部における処理内容の例を示すフローチャートである。 図４４は、ファイルＥ（２）に含まれるテーブルデータの例を示す図表である。 図４５は、図４４のテーブルデータを反映したメインテナンススケジュール計画の概念図である。 図４６は、コスト最小化の観点からメインテナンススケジュール計画を作成する処理の例を示すフローチャートである。 図４７は、消耗品の寿命予測に用いられる監視パラメータの例を示す図表である。 図４８は、メインテナンススケジュール計画部における処理内容の例を示すフローチャートである。 図４９は、リソグラフィシステムの他の形態例を示すブロック図である。 図５０は、半導体工場におけるリソグラフィシステムの他の形態例を示す図である。 図５１は、実施形態７に係るリソセル管理サーバの機能を示すブロック図である。 図５２は、ファイルＤ（２）に含まれるテーブルデータの例を示す図表である。 図５３は、標準メインテナンス日計算部における処理内容の例を示すフローチャートである。 図５４は、実施形態８に係るリソセル管理サーバの機能を示すブロック図である。 図５５は、ファイルＪに含まれるテーブルデータの例を示す図表である。 図５６は、標準メインテナンス時間計算部における処理内容の例を示すフローチャートである。
実施形態
－目次－
１．用語の説明
２．リソセルの説明
２．１ 構成
２．２ 動作
２．２．１ Ｃ／Ｄ装置及び露光装置内のウエハ移動及びプリアライメント部の動作
２．２．２ Ｃ／Ｄ装置のメインテナンス
２．２．３ 露光装置の露光工程の動作
２．２．４ 露光装置のメインテナンス
３．レーザ装置の説明
３．１ 構成
３．２ 動作
３．３ レーザ装置のメインテナンス
３．４ その他
４．リソグラフィシステムの説明
４．１ 構成
４．２ 動作
５．課題
６．実施形態１
６．１ 構成
６．２ 動作
６．２．１ リソセル管理サーバの動作
６．２．２ ファイルＡに含まれるテーブルデータの例
６．２．３ ファイルＢに含まれるテーブルデータ（１）の例
６．２．４ ファイルＢに含まれるテーブルデータ（２）の例
６．２．５ ファイルＢに含まれるテーブルデータ（３）の例
６．２．６ 標準メインテナンス日計算部の処理例
６．２．７ ファイルＣ及びファイルＤの具体例
６．２．８ メインテナンススケジュール計画部の処理例
６．２．９ ファイルＥの具体例
６．３ 作用・効果
６．４ その他
７．実施形態２
７．１ 構成
７．２ 動作
７．２．１ リソセル管理サーバの動作
７．２．２ ファイルＡ（２）に含まれるテーブルデータの例
７．２．３ ファイルＦに含まれるテーブルデータの例
７．２．４ 標準メインテナンス日計算部の処理例
７．２．５ メインテナンススケジュール計画部の処理例
７．３ 作用・効果
８．実施形態３
８．１ 構成
８．２ 動作
８．２．１ リソセル管理サーバの動作
８．２．２ ファイルＡ（３）に含まれるテーブルデータの例
８．２．３ ファイルＦ（２）に含まれるテーブルデータの例
８．３ 作用・効果
９．実施形態４
９．１ 構成
９．２ 動作
９．２．１ リソセル管理サーバの動作
９．２．２ ファイルＧに含まれるログデータの例
９．２．３ 予測寿命値計算部の処理例
９．３ 作用・効果
１０．実施形態５
１０．１ 構成
１０．２ 動作
１０．２．１ リソセル管理サーバの動作
１０．２．２ 消耗品選定部の処理例
１０．２．３ ファイルＨに含まれるテーブルデータの例
１０．３ 作用・効果
１１．実施形態６
１１．１ 構成
１１．２ 動作
１１．２．１ リソセル管理サーバの動作
１１．３ 作用・効果
１１．４ その他
１２．メインテナンススケジュール計画の最適化の例
１３．監視パラメータの具体例
１４．同じ装置で複数の消耗品を同日に交換する場合のダウンタイム削減の例
１４．１ フローチャートの例
１４．２ 作用・効果
１４．３ その他
１５．リソグラフィシステムの他の形態
１５．１ 構成
１５．２ 動作
１５．３ 作用・効果
１５．４ その他
１６．実施形態７
１６．１ ライン単位でメインテナンススケジュール計画を最適化する形態の概要
１６．２ 構成
１６．３ 動作
１６．４ 作用・効果
１６．５ 変形例
１７．実施形態８
１７．１ 構成
１７．２ 動作
１７．３ 作用・効果
１７．４ 変形例
１８．実施形態の組合せについて
１９．プログラムを記録したコンピュータ可読媒体について
以下、本開示の実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。以下に説明される実施形態は、本開示のいくつかの例を示すものであって、本開示の内容を限定するものではない。また、各実施形態で説明される構成及び動作の全てが本開示の構成及び動作として必須であるとは限らない。なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
１．用語の説明
「リソグラフィセル」とは、レジストの塗布、露光、及び現像を行うプロセス装置の１組単位の装置群である。リソグラフィセルを以下、リソセル（Litho cell）という。リソセルは「リソグラフィシステム」の一単位である。リソグラフィシステムは、少なくとも１つのリソセルを含む。
リソセルには、例えば、塗布／現像装置と、露光装置と、レーザ装置と、が含まれる。リソセルは、レジストの塗布後にアライメントを実施してから露光を行ってよい。
「塗布／現像装置」は、基板へのレジストの塗布を行うコータ部と、現像を行うディベロッパ部と、を含む。塗布／現像装置は「Ｃ／Ｄ装置」と表記される。「Ｃ／Ｄ」はコータ／ディベロッパの略語表記である。「Ｃ／Ｄ装置」は、露光装置との間でウエハを搬送するインラインインターフェース部をさらに含んでもよい。
「露光装置」は、レーザ装置から出力されたレーザ光を露光装置に伝送するビームデリバリーユニット（ＢＤＵ）をさらに含んでもよい。
「レジスト」は、フォトレジストを意味する。
「消耗品」は、定期的なメインテナンスが必要になる部品やモジュールなどの物品を包括的に表す用語として用いる。交換部品又は交換モジュールは「消耗品」の概念に含まれる。モジュールは、部品の一形態と理解してもよい。本明細書では「消耗品」という用語を「交換モジュール又は交換部品」と同義に用いる場合がある。メインテナンスには、消耗品の交換が含まれる。「交換」の概念には、消耗品を新しいものに置き換えることの他、消耗品を洗浄するなどして部品の機能の維持及び／又は回復を図り、同じ消耗品を再配置することも含まれる。
２．リソセルの説明
２．１ 構成
図１は、リソセルの構成例を概略的に示す正面図である。図１に示すリソセル１０は、Ｃ／Ｄ装置１２と、露光装置１４と、レーザ装置１６と、を含む。露光装置１４はＢＤＵ１５を含む。
図２及び図３にリソセル１０の詳細図を示す。図２は平面図、図３は正面図に相当する。なお、レーザ装置１６の詳細な例は、図４を用いて後述する。
図２及び図３に示すように、Ｃ／Ｄ装置１２は、第１ウエハキャリア２１と、第２ウエハキャリア２２と、コータ部２４と、ディベロッパ部２５と、測定部２６と、ウエハ搬送ライン２８と、フィルタ部２９と、Ｃ／Ｄ制御部３０と、を含む。
第１ウエハキャリア２１は、露光前の多数のウエハ３５を収納する装置である。第２ウエハキャリア２２は、露光後の多数のウエハ３５を収納する装置である。コータ部２４は、いずれも図示しない、レジストコータと、プリベーク装置と、クーリング装置と、を含む。コータ部２４は、ウエハ３５にレジストを塗布し、レジストをプリベークして冷却する装置である。
ディベロッパ部２５は、いずれも図示しない、ポストベーク装置と、クーリング装置と、現像装置と、を含む。ディベロッパ部２５は、露光されたウエハ３５をポストベークして冷却後、レジストを現像する装置である。
測定部２６は、露光によりウエハ３５に形成されたレジストパターンの形状を測定する測定装置である。測定部２６は、例えば、ウエハ表面に電子ビームを照射し、放出される二次電子や反射電子を検出する走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ：Scanning Electron Microscope）の検査装置であってよい。
ウエハ搬送ライン２８は、コータ部２４とディベロッパ部２５との間を横切るように配置される。ウエハ搬送ライン２８は、ウエハ３５を、第１ウエハキャリア２１及びコータ部２４の各装置と、露光装置１４及びディベロッパ部２５の各装置と、測定部２６と、第２ウエハキャリア２２とに、それぞれ搬送可能なように構成される。
フィルタ部２９には、クリーンルーム内の空気に含まれる不純物ガスを除去するケミカルフィルタが配置される。フィルタ部２９は、Ｃ／Ｄ装置１２内のアンモニア等の不純物ガスの濃度を計測する、図示しないガス分析装置を含む。フィルタ部２９は、ケミカルフィルタの動作時間や不純物ガス濃度の情報をＣ／Ｄ制御部３０に送る信号ラインを有する。
Ｃ／Ｄ制御部３０は、第１ウエハキャリア２１、第２ウエハキャリア２２、コータ部２４、ディベロッパ部２５、測定部２６、及びウエハ搬送ライン２８の各々の動作を制御する。図２及び図３において、第１ウエハキャリア２１、第２ウエハキャリア２２、コータ部２４、ディベロッパ部２５、測定部２６、ウエハ搬送ライン２８、及びフィルタ部２９の各々と、Ｃ／Ｄ制御部３０との間で信号を伝送する各信号ラインをａ～ｇの符号を丸で囲んだ記号で示す。
露光装置１４は、第１アーム４１と、第２アーム４２と、第１ガイド４３と、第２ガイド４４と、プリアライメント部４６と、露光部４８と、フィルタ部４９と、露光制御部５０と、を含む。
第１アーム４１は、第１スライダ４３Ａに支持されており、第１スライダ４３Ａを介して第１ガイド４３に沿って移動可能である。第２アーム４２は、第２スライダ４４Ａに支持されており、第２スライダ４４Ａを介して第２ガイド４４に沿って移動可能である。
フィルタ部４９は、Ｃ／Ｄ装置１２のフィルタ部２９と同様に、クリーンルーム内の空気に含まれる不純物ガス、主にアンモニアを除去するケミカルフィルタと、Ｃ／Ｄ装置１２内のアンモニア等の不純物ガスの濃度を計測する、図示しないガス分析装置と、を含む。フィルタ部４９は、ケミカルフィルタの動作時間や不純物ガス濃度の情報を露光制御部５０に送る信号ラインを有する。なお、フィルタ部４９は、露光部４８に含まれてもよい。
図３に示すように、露光部４８は、第１高反射ミラー５１と、アッテネータ５２と、ビームエキスパンダ５６と、第２高反射ミラー６２と、第３高反射ミラー６３と、照明光学系６６と、レチクル７４と、レチクルステージ７６と、を含む。
露光装置１４は、ＢＤＵ１５を含んでもよい。ＢＤＵ１５は、レーザ装置１６から露光装置１４へレーザ光を伝送する光学系であって、例えば、図示しない複数の高反射ミラーを含んでもよい。
第１高反射ミラー５１は、ＢＤＵ１５を通過したレーザ光が第２高反射ミラー６２に入射するように配置される。アッテネータ５２は、第１高反射ミラー５１とビームエキスパンダ５６との間の光路上に配置される。アッテネータ５２は、２枚の部分反射ミラー５３と、それぞれの部分反射ミラー５３の入射角を可変とする回転ステージ５４と、を含む。
ビームエキスパンダ５６は、アッテネータ５２と第２高反射ミラー６２との間の光路上に配置される。ビームエキスパンダ５６は、凹レンズ５７と、凸レンズ５８と、を含み、所定のレーザ光形状にビームを拡大するように構成される。
第２高反射ミラー６２は、レーザ光が第３高反射ミラー６３に入射するように配置される。第２高反射ミラー６２と第３高反射ミラー６３との間の光路上に、図示しないコリメータ光学系が配置されてもよい。第３高反射ミラー６３は、レーザ光が照明光学系６６に入射するように配置される。
照明光学系６６は、フライアイレンズ６７と、コンデンサ光学系６８と、ビームスプリッタ６９と、集光レンズ７０と、第１光センサ７１と、を含む。
フライアイレンズ６７及びコンデンサ光学系６８は、レーザ光がレチクル７４にケーラー照明されるように配置される。例えば、コンデンサ光学系６８の前側焦点面にフライアイレンズ６７の焦点が一致し、かつ、コンデンサ光学系６８の後側焦点面にレチクル７４が配置されるように、フライアイレンズ６７及びコンデンサ光学系６８が配置される。
ビームスプリッタ６９は、フライアイレンズ６７とコンデンサ光学系６８との間の光路上に配置される。ビームスプリッタ６９は、レーザ光の一部が集光レンズ７０に入射するように配置される。
第１光センサ７１は、集光レンズ７０の焦点面に配置される。第１光センサ７１は、例えば２次元のイメージセンサであってよい。第１光センサ７１で検出された信号は、露光制御部５０に送られる。
レチクル７４は、半導体の回路パターンが形成されたマスクである。レチクル７４は、レチクルステージ７６に図示しないホルダを介して固定される。
また、露光部４８は、投影光学系７８と、ウエハホルダ８０と、ウエハステージ８１と、第２光センサ８２と、を含む。
投影光学系７８は、ウエハ３５に塗布されたレジスト上にレチクル７４の像が結像するように配置される。投影光学系７８は、図示しない複数枚のレンズで構成される。
ウエハステージ８１は、ウエハホルダ８０を介してウエハ３５を固定する。
第２光センサ８２は、ウエハ３５上の照度をオフラインで計測可能なようにウエハステージ８１上に配置される。第２光センサ８２で検出された信号は、露光制御部５０に送られる。
露光制御部５０は、第１スライダ４３Ａ、第２スライダ４４Ａ、プリアライメント部４６、アッテネータ５２、レチクルステージ７６、ウエハステージ８１及びその他の露光装置１４の各部の動作を制御する。
図２及び図３において、第１スライダ４３Ａ、第２スライダ４４Ａ、プリアライメント部４６、及びフィルタ部４９の各々と露光制御部５０の間の各信号ラインをｈ～ｋの符号を丸で囲んだ記号で示す。また、露光制御部５０は、Ｃ／Ｄ制御部３０及びレーザ制御部９０の各々と接続される。
本開示において、Ｃ／Ｄ制御部３０、露光制御部５０、レーザ制御部９０及びその他の各制御部として機能する制御装置は、１台又は複数台のコンピュータのハードウェア及びソフトウェアの組み合わせによって実現することが可能である。ソフトウェアはプログラムと同義である。プログラマブルコントローラはコンピュータの概念に含まれる。コンピュータは、ＣＰＵ（Central Processing Unit）及びメモリを含んで構成され得る。ソフトウェアはプログラムと同義である。プログラマブルコントローラはコンピュータの概念に含まれる。コンピュータに含まれるＣＰＵはプロセッサの一例である。
また、制御装置の処理機能の一部又は全部は、ＦＰＧＡ（Field Programmable Gate Array）やＡＳＩＣ（Application Specific Integrated Circuit）に代表される集積回路を用いて実現してもよい。
また、複数の制御装置の機能を１台の制御装置で実現することも可能である。さらに本開示において、制御装置は、ローカルエリアネットワークやインターネットといった通信ネットワークを介して互いに接続されてもよい。分散コンピューティング環境において、プログラムユニットは、ローカル及びリモート両方のメモリストレージデバイスに保存されてもよい。
２．２ 動作
２．２．１ Ｃ／Ｄ装置及び露光装置内のウエハ移動及びプリアライメント部の動作
ここでは、図２及び図３に示すＣ／Ｄ装置１２と露光装置１４内のウエハ３５の動きについて説明する。第１ウエハキャリア２１には、レジスト塗布前の多数のウエハが収納される。第１ウエハキャリア２１に収納されたウエハ３５は、ウエハ搬送ライン２８を経由して、コータ部２４に搬送される。
コータ部２４は、ウエハ３５表面にレジストをコートし、レジストをプリベークして、プリベークされたウエハ３５を冷却する。この冷却されたウエハ３５は、ウエハ搬送ライン２８を介して、露光装置１４に搬送される。
レジストがコートされたウエハ３５は、第１アーム４１によってウエハ搬送ライン２８から取り出され、第１アーム４１と共に第１ガイド４３に沿って移動して、プリアライメント部４６に配置される。
プリアライメント部４６では、例えば、ウエハ３５の外形基準で中心位置及び回転角の調整が行われる。その後、ウエハ３５は第２アーム４２に受け渡されて第２ガイド４４に沿ってローディング位置まで搬送され、ウエハステージ８１のウエハホルダ８０にロードされる。
そして、そのウエハ３５上の各ショット領域に対してレチクル７４の所定のデバイスパターンを介して露光が行われる。
ウエハ全体の露光処理を終えたウエハ３５は、第２ガイド４４及び第１ガイド４３に沿って、Ｃ／Ｄ装置１２のウエハ搬送ライン２８に搬送される。
露光されたウエハ３５は、ウエハ搬送ライン２８を介して、ディベロッパ部２５に搬送される。ディベロッパ部２５は、露光されたウエハ３５をポストベークして、冷却後、レジストを現像する。現像されたウエハ３５は、ウエハ搬送ライン２８を介して、測定部２６に搬送される。
測定部２６では、露光によりウエハ３５に形成されたレジストパターンの形状を測定する。必要に応じて、露光によりウエハ３５に形成されたパターンの線幅、重ね合わせ誤差等が測定部２６で検査され、その後、ウエハ３５は、ウエハ搬送ライン２８に沿って第２ウエハキャリア２２に収納される。
なお、このリソグラフィ工程の終了後に第２ウエハキャリア２２内の、例えば１ロットのウエハは、例えば、エッチング又はイオン注入等のパターン形成工程及びレジスト剥離工程等を実行するための、図示しない製造ラインに搬送される。
また、Ｃ／Ｄ制御部３０は、Ｃ／Ｄ装置１２内の空気中の不純物ガス濃度をフィルタ部２９のガス分析装置によって計測して、計測値のデータを、Ｃ／Ｄ装置用管理システム２０２（図５参照）に送信する。
２．２．２ Ｃ／Ｄ装置のメインテナンス
Ｃ／Ｄ装置のサービスエンジニアが必要となるＣ／Ｄ装置１２の主要なメインテナンス作業は、いずれも図示しない、ケミカルフィルタ、基板回転モジュール、ドレイン回収モジュール、及び排気モジュールの各々の交換又は維持作業である。これらの消耗品（モジュールや部品）の交換時期は、運転時間やウエハ処理枚数等の寿命パラメータで管理している。これらの消耗品の交換作業及び交換後の確認作業等にかかるメインテナンスには、数時間を要することがある。
２．２．３ 露光装置の露光工程の動作
次に、露光装置１４の露光工程の動作に関して説明する。露光制御部５０は、レチクルステージ７６とウエハステージ８１とを動作させることによりレチクル７４とウエハ３５のアライメントを調節し、スキャン露光の初期位置にレチクル７４とウエハ３５の露光エリアが来るように制御する。
露光制御部５０は、ウエハ３５上でのフルーエンスが所定の値となるようにアッテネータ５２の回転ステージ５４を介して２枚の部分反射ミラー５３の角度を制御する。露光制御部５０は、レーザ制御部９０に各種の目標値を送信する。各種の目標値には、例えば、目標パルスエネルギや目標波長などが含まれる。
露光制御部５０は、レーザ装置１６から発光トリガ信号を受け付ける信号を受信した後、発光トリガ信号をレーザ装置１６に送信する。この発光トリガ信号に同期して、レーザ装置１６からパルスレーザ光が出力される。
発光トリガ信号に従いレーザ装置１６から出力されるパルスレーザ光は、第１高反射ミラー５１で高反射し、アッテネータ５２に入射する。
アッテネータ５２を透過したパルスレーザ光は減光されて、ビームエキスパンダ５６に入射する。パルスレーザ光のビームは、ビームエキスパンダ５６を透過することによって、所定のビーム形状に整形される。
ビームエキスパンダ５６によってビーム整形されたパルスレーザ光は、第２高反射ミラー６２及び第３高反射ミラー６３を経由して、照明光学系６６に入射する。
フライアイレンズ６７によって複数の２次光源を生成し、ビームスプリッタ６９の透過光をコンデンサ光学系６８によってレチクル７４に導くことで、コンデンサ光学系６８の後側焦点面に配置されたレチクル７４がケーラー照明される。その結果、レチクル７４上では、パルスレーザ光の強度分布は均一化される。
フライアイレンズ６７を透過したパルスレーザ光はビームスプリッタ６９によって、一部の光が反射され、集光レンズ７０を介して、第１光センサ７１に入射する。第１光センサ７１の受光面においてもケーラー照明されるため、第１光センサ７１で強度分布を計測することによって、露光制御部５０はレチクル７４上でのレーザビームの均一性や露光装置１４内のレーザ光の透過率をモニタすることができる。
レチクル７４を透過したパルスレーザ光は、投影光学系７８によってウエハ３５のレジスト上に結像されて、露光される。
レチクル７４とウエハ３５とは、互いに逆方向に等速直線運動時に発光トリガ信号と、レチクルステージ７６と、ウエハステージ８１と、を同期させて露光することによって、１区画の露光対象領域の露光が完了する。
ウエハステージ８１を次の露光位置に移動させた後、露光制御部５０は、レーザ装置１６に発光トリガ信号を送信し、上記の一連のスキャン露光を繰り返す。
ウエハ全体の露光処理を終えたウエハ３５は、ウエハステージ８１からＣ／Ｄ装置１２へ搬送される。
また、露光制御部５０は、レーザ装置１６から出力されるパルスレーザ光のパルスエネルギと第１光センサ７１の検出値から照明光学系６６の透過率を算出して、算出した透過率のデータを、露光装置用管理システム２０４（図５参照）に送信する。
２．２．４ 露光装置のメインテナンス
露光装置１４のサービスエンジニアが必要となる露光装置１４の主要なメインテナンス作業には、例えば以下のような作業がある。
［作業１］ＢＤＵ１５から照明光学系６６までの光学素子又は光学モジュールの交換作業。
［作業２］ウエハ３５を搬送してウエハステージ８１に配置するための機械部品や露光部４８のウエハステージ８１等のモジュールの交換作業。
［作業３］ケミカルフィルタの交換作業。
作業１～作業３に例示した消耗品の交換時期は、以下の寿命パラメータで管理する。
作業１に係る消耗品の交換時期は、露光パルス数で管理する。露光パルス数は、パルスレーザ光が通過したパルス数と概ね等しい。作業２に係る消耗品の交換時期は、ウエハの処理枚数で管理する。作業３に係る消耗品の交換時期は、運転時間で管理する。これらの消耗品を交換する際のメインテナンスには、１時間から２４時間を要することがある。
３．レーザ装置の説明
３．１ 構成
図４に、例示的なレーザ装置の構成を概略的に示す。レーザ装置１６は、例えば、ＫｒＦエキシマレーザ装置であって、レーザ制御部９０と、レーザチャンバ１００と、インバータ１０２と、フロントミラー１０４と、狭帯域化モジュール（ＬＮＭ：Line Narrow Module）１０６と、モニタモジュール１０８と、充電器１１０と、パルスパワーモジュール（ＰＰＭ）１１２と、ガス供給装置１１４と、ガス排気装置１１６と、出射口シャッタ１１８と、を含む。
レーザチャンバ１００は、第１ウインドウ１２１と、第２ウインドウ１２２と、クロスフローファン（ＣＦＦ）１２３と、ＣＦＦ１２３を回転させるモータ１２４と、１対の電極１２５、１２６と、電気絶縁物１２７と、圧力センサ１２８と、図示しない熱交換器と、を含む。
インバータ１０２は、モータ１２４の電源供給装置である。インバータ１０２は、モータ１２４に供給する電力の周波数を特定する指令信号をレーザ制御部９０から受信する。
ＰＰＭ１１２は、レーザチャンバ１００の電気絶縁物１２７中のフィードスルーを介して電極１２５と接続される。ＰＰＭ１１２は、半導体スイッチ１２９と、いずれも図示しない、充電コンデンサと、パルストランスと、パルス圧縮回路と、を含む。
フロントミラー１０４は部分反射ミラーであって、ＬＮＭ１０６と光共振器を構成するように配置される。レーザチャンバ１００は、この光共振器の光路上に配置される。なお、フロントミラー１０４は、出力結合ミラーとして機能する。
ＬＮＭ１０６は、第１プリズム１３１及び第２プリズム１３２を用いたビームエキスパンダと、回転ステージ１３４と、グレーティング１３６と、を含む。第１プリズム１３１及び第２プリズム１３２は、レーザチャンバ１００の第２ウインドウ１２２から出射された光のビームをＹ軸方向に拡大し、グレーティング１３６に入射するように配置される。
ここで、グレーティング１３６はレーザ光の入射角と回折角とが一致するようにリトロー配置される。第２プリズム１３２は、回転ステージ１３４が回転したときに、レーザ光のグレーティング１３６への入射角と回折角とが変化するように回転ステージ１３４上に配置される。
モニタモジュール１０８は、第１ビームスプリッタ１４１及び第２ビームスプリッタ１４２と、パルスエネルギ検出器１４４と、スペクトル検出器１４６と、を含む。第１ビームスプリッタ１４１は、フロントミラー１０４から出力されたレーザ光の光路上に配置され、レーザ光の一部の反射光が第２ビームスプリッタ１４２に入射するように配置される。
パルスエネルギ検出器１４４は、第２ビームスプリッタ１４２を透過したレーザ光が入射するように配置される。パルスエネルギ検出器１４４は、例えば、紫外線の光強度を計測するフォトダイオードであってもよい。第２ビームスプリッタ１４２は、レーザ光の反射光がスペクトル検出器１４６に入射するように配置される。
スペクトル検出器１４６は、例えば、エタロンによって生成された干渉縞をイメージセンサで計測するモニタエタロン計測装置である。生成された干渉縞に基づいて、レーザ光の中心波長とスペクトル線幅とが計測される。
ＫｒＦエキシマレーザ装置の場合におけるガス供給装置１１４は、不活性なレーザガスの供給源である不活性ガス供給源１５２と、ハロゲンを含むレーザガスの供給源であるハロゲンガス供給源１５３の各々と配管を介して接続される。不活性なレーザガスとは、ＫｒガスとＮｅガスの混合ガスである。ハロゲンを含むレーザガスとは、Ｆ２ガスとＫｒガスとＮｅガスの混合ガスである。ガス供給装置１１４は、レーザチャンバ１００と配管を介して接続される。
ガス供給装置１１４は、不活性なレーザガス又はハロゲンを含むレーザガスをそれぞれレーザチャンバに所定量供給するための、図示しない自動バルブ及びマスフローコントローラをそれぞれ含む。
ガス排気装置１１６は、レーザチャンバ１００と配管を介して接続される。ガス排気装置１１６は、ハロゲンを除去する図示しないハロゲンフィルタ及び排気ポンプを含み、ハロゲンを除去したレーザガスが外部に排気されるように構成される。
出射口シャッタ１１８は、レーザ装置１６から外部に出力されるレーザ光の光路上に配置される。
３．２ 動作
レーザ装置１６の動作について説明する。レーザ制御部９０は、ガス排気装置１１６を介してレーザチャンバ１００内にあるガスを排気した後、ガス供給装置１１４を介してレーザチャンバ１００内に不活性なレーザガスとハロゲンを含むレーザガスとを所望のガス組成及び全ガス圧となるように充填する。
レーザ制御部９０は、インバータ１０２を介してモータ１２４を所定の回転数で回転させてＣＦＦ１２３を回転させる。これにより、電極１２５、１２６間にレーザガスが流れる。
レーザ制御部９０は、露光装置１４から目標パルスエネルギＥｔを受信し、パルスエネルギがＥｔとなるように充電電圧Ｖhvのデータを充電器１１０に送信する。
充電器１１０は、ＰＰＭ１１２の充電コンデンサが充電電圧Ｖhvとなるように充電する。露光装置１４から第１トリガ信号Ｔｒ１が出力されると、第１トリガ信号Ｔｒ１に同期してレーザ制御部９０から第２トリガ信号Ｔｒ２がＰＰＭ１１２の半導体スイッチ１２９に入力される。この半導体スイッチ１２９が動作するとＰＰＭ１１２の磁気圧縮回路によって電流パルスが圧縮され、高電圧が電極１２５、１２６間に印加される。その結果、電極１２５、１２６間で放電が発生し、放電空間においてレーザガスが励起される。
放電空間の励起されたレーザガスが基底状態となるときに、エキシマ光が発生する。このエキシマ光はフロントミラー１０４とＬＮＭ１０６との間を往復して増幅されることによって、レーザ発振する。その結果、フロントミラー１０４から狭帯域化されたパルスレーザ光が出力される。
フロントミラー１０４から出力されたパルスレーザ光はモニタモジュール１０８に入射する。モニタモジュール１０８では第１ビームスプリッタ１４１によってレーザ光の一部がサンプルされ、第２ビームスプリッタ１４２を介して、それぞれパルスエネルギ検出器１４４とスペクトル検出器１４６とに入射される。
レーザ装置１６から出力されるパルスレーザ光のパルスエネルギＥがパルスエネルギ検出器１４４によって計測され、計測されたパルスエネルギＥのデータがパルスエネルギ検出器１４４からレーザ制御部９０に送信される。
また、スペクトル検出器１４６によって中心波長λとスペクトル線幅Δλとが計測され、計測された中心波長λとスペクトル線幅Δλとのデータがスペクトル検出器１４６からレーザ制御部９０に送信される。
レーザ制御部９０は、露光装置１４から目標パルスエネルギＥｔと、目標波長λｔと、を受信する。レーザ制御部９０は、パルスエネルギ検出器１４４によって計測されたパルスエネルギＥと目標パルスエネルギＥｔとを基に、パルスエネルギの制御を行う。パルスエネルギの制御は、パルスエネルギ検出器１４４によって計測されたパルスエネルギＥと目標パルスエネルギの差ΔＥ＝Ｅ－Ｅｔが０に近づくように充電電圧Ｖhvを制御することを含む。
レーザ制御部９０は、スペクトル検出器１４６によって計測された中心波長λと目標波長λｔとを基に、波長の制御を行う。波長の制御は、スペクトル検出器１４６によって計測された中心波長λと目標波長λｔとの差δλ＝λ－λｔが０に近づくように回転ステージ１３４の回転角を制御することを含む。
以上のようにレーザ制御部９０は、露光装置１４から目標パルスエネルギＥｔと目標波長λｔとを受信して、発光トリガ信号Ｔｒ１が入力されるごとに、発光トリガ信号Ｔｒ１に同期してレーザ装置１６にパルスレーザ光を出力させる。
レーザ装置１６は放電を繰り返すと、電極１２５、１２６が消耗し、レーザガス中のハロゲンガスが消費されると共に、不純物ガスが生成される。レーザチャンバ１００内のハロゲンガス濃度の低下や不純物ガスの増加は、パルスレーザ光のパルスエネルギの低下やパルスエネルギの安定性に悪影響を及ぼす。レーザ制御部９０は、これらの悪影響を抑制するために例えば、以下のガス制御を実行する。
［１］ハロゲン注入制御
レーザ制御部９０はハロゲン注入制御を行う。ハロゲン注入制御とは、レーザ発振中に、レーザチャンバ１００内で主に放電によって消費された分のハロゲンガスを、レーザチャンバ１００内のハロゲンガスよりも高い濃度にハロゲンを含むガスを注入することによってレーザチャンバ１００に補充するガス制御である。
［２］部分ガス交換制御
レーザ制御部９０は部分ガス交換制御を行う。部分ガス交換制御とは、レーザ発振中に、レーザチャンバ１００内の不純物ガスの濃度の増加を抑制するように、レーザチャンバ１００内のレーザガスの一部を新しいレーザガスに交換するガス制御である。
［３］ガス圧制御
レーザ制御部９０はガス圧制御を行う。ガス圧制御とは、レーザ装置１６から出力されるパルスレーザ光のパルスエネルギの低下に対して、レーザチャンバ１００内にレーザガスを注入してレーザガスのガス圧Ｐchを変化させることによって、パルスエネルギを制御するガス制御である。パルスエネルギの制御は、通常、充電電圧Ｖhvを制御することで行われるが、レーザ装置１６から出力されるパルスレーザ光のパルスエネルギの低下を、充電電圧Ｖhvの制御範囲では補うことが不可能な場合に、ガス圧制御が実行される。
レーザチャンバ１００からレーザガスを排気する場合に、レーザ制御部９０はガス排気装置１１６を制御する。レーザチャンバ１００から排気されたレーザガスは図示しないハロゲンフィルタによってハロゲンガスが除去され、レーザ装置１６の外部に排気される。
レーザ制御部９０は、発振パルス数、充電電圧Ｖhv、レーザチャンバ１００内のガス圧Ｐch、レーザ光のパルスエネルギＥ等の各パラメータのデータを、レーザ装置用管理システム２０６（図５参照）に送信する。
３．３ レーザ装置のメインテナンス
レーザ装置のサービスエンジニアが必要となるレーザ装置１６の主要なメインテナンス作業は、例えば、レーザチャンバ１００の交換作業と、ＬＮＭ１０６の交換作業と、モニタモジュール１０８の交換作業などの各作業である。
これらの主要なメインテナンス対象モジュール（消耗品）の交換時期は、寿命パラメータとして、レーザ装置１６の発振パルス数で管理している。これらの主要な消耗品の交換時間は、３時間から１０時間に及ぶことがある。これらの主要な消耗品の中で、交換時間が最も長い消耗品はレーザチャンバ１００である。
３．４ その他
図４に示す例では、レーザ装置１６として、ＫｒＦエキシマレーザ装置の例を示したがこの例に限定されることなく、他のレーザ装置に適用してもよい。例えば、レーザ装置１６は、ＡｒＦエキシマレーザ装置であってもよい。
図４に示す例では、レーザ装置１６のガス制御は、ハロゲン注入制御と、部分ガス交換制御と、ガス圧制御とを実施する場合を示したが、この例に限定されることなく、例えば、必ずしもガス圧制御を実施しなくてもよい。
４．リソグラフィシステムの説明
４．１ 構成
図５に、半導体工場のリソグラフィシステムの構成例を概略的に示す。半導体工場のリソグラフィシステム２００は、複数のリソセル１０と、Ｃ／Ｄ装置用管理システム２０２と、露光装置用管理システム２０４と、レーザ装置用管理システム２０６と、半導体工場管理システム２０８と、を含む。
半導体工場管理システム２０８は、ネットワーク２１０を介して、Ｃ／Ｄ装置用管理システム２０２、露光装置用管理システム２０４、及びレーザ装置用管理システム２０６の各々に接続される。
ネットワーク２１０は、有線若しくは無線又はこれらの組み合わせによる情報伝達が可能な通信回線である。ネットワーク２１０は、ワイドエリアネットワークであってもよいし、ローカルエリアネットワークであってもよい。
リソグラフィシステム２００に含まれる複数のリソセル１０の各々を識別するために、ここではリソセル識別符号#1，#2，…#k，…#wを用いる。wはリソグラフィシステム２００に含まれるリソセルの数である。wは１以上の整数である。kは１以上w以下の範囲の整数である。
以下、説明の便宜上、リソセル#kに含まれるＣ／Ｄ装置１２、露光装置１４、及びレーザ装置１６の各々を、Ｃ／Ｄ装置#k、露光装置#k、及びレーザ装置#kと表記する。ここでは簡単のために、各リソセル#kは、Ｃ／Ｄ装置#kと、露光装置#kと、レーザ装置#kと、を１台ずつ含む形態を示す。各リソセル#kは、図１～図４で説明した構成であってよい。
なお、複数のリソセル#1～#wの一部又は全部は、互いに異なる形態であってもよい。リソセル#kに含まれるＣ／Ｄ装置#k、露光装置#k、レーザ装置#kの各々の台数や配置形態などは適宜設計し得る。各リソセル#kは、１つ以上のＣ／Ｄ装置#kと、１つ以上の露光装置#kと、１つ以上のレーザ装置#kと、を含んで構成される。
Ｃ／Ｄ装置#1～#wとＣ／Ｄ装置用管理システム２０２との各々は、第１ローカルエリアネットワーク２１１に接続される。露光装置#1～#wと露光装置用管理システム２０４との各々は、第２ローカルエリアネットワーク２１２に接続される。レーザ装置#1～#wとレーザ装置用管理システム２０６との各々は、第３ローカルエリアネットワーク２１３に接続される。
第１ローカルエリアネットワーク２１１、第２ローカルエリアネットワーク２１２及び第３ローカルエリアネットワーク２１３は、それぞれ独立した通信回線であり、互いに情報交換できない構成となっている。なお、図５において、第１ローカルエリアネットワーク２１１を「ＬＡＮ１」、第２ローカルエリアネットワーク２１２を「ＬＡＮ２」、第３ローカルエリアネットワーク２１３を「ＬＡＮ３」とそれぞれ表示した。
４．２ 動作
Ｃ／Ｄ装置用管理システム２０２は、それぞれのＣ／Ｄ装置#1～#wに関して消耗品の交換時期を運転時間やウエハの処理枚数で管理する。
露光装置用管理システム２０４は、それぞれの露光装置#1～#wに関して消耗品の交換時期を運転時間やウエハの処理枚数と、パルスレーザ光が通過したパルス数とで管理する。
レーザ装置用管理システム２０６は、それぞれのレーザ装置#1～#wの消耗品の交換時期をレーザ発振したパルス数で管理する。
Ｃ／Ｄ装置用管理システム２０２と、露光装置用管理システム２０４と、レーザ装置用管理システム２０６との各々は、それぞれのメインテナンスの管理情報を、それぞれの表示端末に表示してもよいし、ネットワーク２１０を介して半導体工場管理システム２０８に送信してもよい。
Ｃ／Ｄ装置用管理システム２０２によってＣ／Ｄ装置#1～#wを管理する管理ラインと、露光装置用管理システム２０４によって露光装置#1～#wを管理する管理ラインと、レーザ装置用管理システム２０６によってレーザ装置#1～#wを管理する管理ラインとは、それぞれの管理ラインが独立しており、各装置から出力されたメインテナンス管理の情報に基づいて、半導体工場の管理者がメインテナンス時期を決定する。
５．課題
図５のように、Ｃ／Ｄ装置#1～#wの管理ラインと、露光装置#1～#wの管理ラインと、レーザ装置#1～#wの管理ラインとはそれぞれの管理ラインが独立してメインテナンス管理の情報に基づいて各装置のメインテナンスを行っているので、以下の課題が発生することがある。
［課題１］各装置のそれぞれの消耗品によって寿命を判定するパラメータが異なるため、それぞれの消耗品について最適なメインテナンス時期を決定することが第１の課題である。寿命を判定するパラメータとは、例えば、運転時間、ウエハ処理枚数、露光装置の露光パルス数、レーザ発振のパルス数などである。
［課題２］リソセル１０内の装置で１つの消耗品でもサービスエンジニアが必要なメインテンスを実施する場合、そのリソセル１０において数時間以上ウエハ処理が停止する。したがって、各リソセル内でのメインテナンス時期を最適化することが第２の課題である。
なお、メインテナンス時期は、例えば、メインテナンスを実施する日、すなわち、メインテナンス日であってよい。また、メインテナンス時期は、メインテナンス日に限らず、メインテナンス日時であってもよい。
６．実施形態１
６．１ 構成
図６は、実施形態１に係るリソグラフィシステムの構成を示す図である。図５との相違点を説明する。図６に示す半導体工場のリソグラフィシステム３００は、図５のリソグラフィシステム２００の構成にリソセル管理サーバ３１０を追加した構成となっている。リソセル管理サーバ３１０はネットワーク２１０に接続される。
リソセル管理サーバ３１０は、ネットワーク２１０を介して、Ｃ／Ｄ装置用管理システム２０２、露光装置用管理システム２０４、レーザ装置用管理システム２０６、及び半導体工場管理システム２０８と接続される。
リソセル管理サーバ３１０は、Ｃ／Ｄ装置用管理システム２０２、露光装置用管理システム２０４、レーザ装置用管理システム２０６、及び半導体工場管理システム２０８の各々に対してデータや信号の送受信が可能な構成である。
図７は、リソセル管理サーバ３１０の機能を示すブロック図である。リソセル管理サーバ３１０は、リソセル毎の稼働情報５００と、交換モジュール及び交換部品に関するメインテナンス情報５０１と、リソセル毎のダウンタイムによる損失コスト情報５０２と、に基づいて、リソセル毎の交換モジュール及び交換部品の最適なメインテナンス日を計算し、メインテナンススケジュールの最適化を行う。リソセル管理サーバ３１０は、以下に示すファイルＡ～Ｅの作成及び記憶、情報の読み出し及び書き込みを行う機能を有する。
ファイルＡは、リソセル毎の過去の稼動情報を保存するファイルである。ファイルＢは、交換モジュール及び交換部品に関するメインテナンス情報を保存するファイルである。ファイルＣは、標準メインテナンス日とメインテナンス時間を保存するファイルである。ファイルＤは、リソセル毎のダウンタイムによる損失コスト情報を保存するファイルである。ファイルＥは、最適化されたリソセル毎の交換モジュール及び交換各部品の最適メインテナンススケジュールを保存するファイルである。
稼動情報５００の中にファイルＡが含まれる。メインテナンス情報５０１の中にファイルＢが含まれる。ファイルＢには、例えば、リソセル毎の交換モジュール及び交換部品の寿命パラメータ値と、交換モジュール及び交換部品のそれぞれの寿命値と、交換モジュール及び交換部品のそれぞれの交換コストと、の各データが保存されてよい。損失コスト情報５０２の中にファイルＤが含まれる。
リソセル管理サーバ３１０は、データ取得部３２０と、ファイルＡを記憶しておく記憶部３３０と、ファイルＢを記憶しておく記憶部３３６と、標準メインテナンス日計算部３４０と、ファイルＣを記憶しておく記憶部３５０と、を含む。また、リソセル管理サーバ３１０は、ファイルＤを記憶しておく記憶部３６０と、メインテナンススケジュール計画部３７０と、ファイルＥを記憶しておく記憶部３８０と、データ出力部３９０と、を含む。記憶部３３０、３３６、３５０、３６０、３８０は、ハードディスク装置及び／又は半導体メモリ等の記憶デバイスを用いて構成される。記憶部３３０、３３６、３５０、３６０、３８０は、それぞれ別々の記憶装置を用いて構成されてもよいし、１つ又は複数の記憶装置における記憶領域の一部として構成されてもよい。
本開示において、Ｃ／Ｄ装置用管理システム２０２、露光装置用管理システム２０４、レーザ装置用管理システム２０６、半導体工場管理システム２０８、及びリソセル管理サーバ３１０の各々は、１台又は複数台のコンピュータのハードウェア及びソフトウェアの組み合わせによって実現することが可能である。また、各管理システム及びリソセル管理サーバ３１０の処理機能の一部又は全部は、ＦＰＧＡやＡＳＩＣに代表される集積回路を用いて実現してもよい。
６．２ 動作
６．２．１ リソセル管理サーバの動作
図７に示したリソセル管理サーバ３１０の動作を説明する。データ取得部３２０は、ネットワーク２１０経由で以下に示す３種類の情報群を取得し、リソセル毎にデータを整理する。
［情報群１］データ取得部３２０は、Ｃ／Ｄ装置用管理システム２０２を介して、それぞれのＣ／Ｄ装置#1～#wについて、稼動状況に関する情報と、交換モジュール及び交換部品に関するメインテナンス情報を取得する。
［情報群２］データ取得部３２０は、露光装置用管理システム２０４を介して、それぞれの露光装置#1～#wについて、稼動状況に関する情報と、交換モジュール及び交換部品に関するメインテナンス情報を取得する。
［情報群３］データ取得部３２０は、レーザ装置用管理システム２０６を介して、それぞれのレーザ装置#1～#wについて、稼動状況に関する情報と、交換モジュール及び交換部品に関するメインテナンス情報を取得する。
データ取得部３２０は、取得した情報群１～３を基に、ファイルＡ及びファイルＢに情報を書き込む。ファイルＡには、情報群１、情報群２、及び情報群３の稼動状況に関する情報から、それぞれのリソセル#1～#wについて過去の稼動情報がまとめ直されて、定期的に稼動状況のログデータが保存される。
ファイルＢには、情報群１、情報群２、及び情報群３のメインテナンスに関する情報から、それぞれのリソセル#1～#wについて交換モジュール及び交換部品に関するメインテナンス情報がまとめ直されて、定期的にデータが保存される。
データ取得部３２０は、さらに、ネットワーク２１０経由で、半導体工場管理システム２０８から、リソセル毎のダウンタイムによる損失コストの情報を取得し、取得した情報を基に、ファイルＤに情報を書き込む。
ファイルＤには、半導体工場管理システム２０８から取得された、それぞれのリソセル#1～#wのダウンタイムによる損失コストのデータが保存される。
標準メインテナンス日計算部３４０は、ファイルＡ及びファイルＢのデータからリソセル毎の交換モジュール及び交換部品の標準メインテナンス日を計算し、その計算値とメインテナンス時間と、をファイルＣに保存する。
メインテナンススケジュール計画部３７０は、ファイルＡ、ファイルＢ、ファイルＣ及びファイルＤのデータに基づいてメインテナンススケジュールの最適化を行う。この最適化は、例えば、メインテナンスコストを最小化するという評価観点で最適化した場合のメインテナンス日を特定することである。メインテナンススケジュール計画部３７０によって最適化されたメインテナンス日は、推奨メインテナンス日として提示される。
メインテナンススケジュール計画部３７０は、最適化の処理によって求められたリソセル毎の交換モジュール及び交換部品の推奨メインテナンス日と、メインテナンス時間とを含むデータをファイルＥに出力する。ファイルＥには、最適化されたリソセル毎の交換モジュール及び交換部品の推奨メインテナンス日とメインテナンス時間が保存される。メインテナンススケジュール計画部３７０は、ファイルＥのデータを、データ出力部３９０に出力してよい。
データ出力部３９０は、ファイルＥのデータを、ネットワーク２１０を介して、Ｃ／Ｄ装置用管理システム２０２と、露光装置用管理システム２０４と、レーザ装置用管理システム２０６と、半導体工場管理システム２０８と、図示しない表示端末とに出力する。なお、リソセル管理サーバ３１０は、ファイルＥに保存された情報を表示するための表示装置を備えていてもよい。データ出力部３９０は、メインテナンススケジュール計画部３７０によって最適化されたメインテナンススケジュール計画の作成結果を出力する。
６．２．２ ファイルＡに含まれるテーブルデータの例
図８は、ファイルＡに含まれるテーブルデータの例を示す図表である。ファイルＡは、リソセル#k（k＝1,2,・・・ｗ）の稼動情報を保存するファイルである。ファイルＡには、各装置のメインテナンス情報から、それぞれのリソセル#1～#k～#wについてメインテナンス情報をまとめ直して、定期的に稼動状況のログデータが保存される。
ファイルＡのテーブルデータは、リソセル#kのデータ取得の日付と時刻D及びデータ取得開始時からのウエハ処理枚数Wn及び１日当たりのウエハ処理枚数Wndayと、露光装置（k）のデータ取得開始時からの露光パルス数Nex及び１日当たりの露光パルス数Nexdayと、レーザ装置（k）のデータ取得開始時からの発振パルス数Np及び１日当たりの発振パルス数Npday及びレーザ装置から出力されるパルスレーザ光のパルスエネルギEpと、を含む。
１日当たりの稼動状況パラメータは以下の式で計算される。
Wnday(k,i-1)＝｛Wn(k,i)－Wn(k,i-1)｝/｛D(k,i)－D(k,i-1)｝ (1)
Nexday(k,i-1)＝｛Nex(k,i)－Nex(k,i-1)｝/｛D(k,i)－D(k,i-1) (2)
Npday(k,i-1)＝｛Np(k,i)－Np(k,i-1)｝/｛D(k,i)－D(k,i-1)｝ (3)
データの取得タイミングは、周期的に、例えば、１日（24時間）毎とする。データの取得周期は、１/24日以上１日以下が好ましい。
１日当たりの稼動状況の計算に使用するパラメータ値Wnday(k）、Nexday(k)、Npday(k)の各々は、i＝m-hからi＝m-1の範囲の平均値を計算して、ファイルＡに書き込む。
ただし、iはデータ番号を表す１以上の整数である。hは正の整数であって、m-1から１の間の数字である。
h＝m-1の場合は、i＝1からi＝m-1の範囲の平均値となる。
h＝1の場合は、i＝m-1の値となる。
必要に応じて、hの値を決定して、平均値を求める。
今後の稼動率が、最近の稼動率と略一致する場合は、近日中のデータを平均化してもよい。例えば、h＝２以上７以下のパラメータ値を平均化してもよい。
図８のファイルＡに保存されたデータをグラフ化した例を、図９、図１０、及び図１１に示す。図９は、縦軸にウエハ処理枚数Wn、露光パルス数Nex、及び発振パルス数Npの各々を、横軸にデータ取得日をプロットしたグラフである。
ウエハ処理枚数Wn、露光パルス数Nex、及び発振パルス数Npの各々のグラフは、ほとんど同じような傾向を示す。ただし、露光パルス数Nexはレーザ装置の発振パルス数Npに比べて多少小さくなる。これは、レーザ装置１６は、パルスエネルギや波長が目標値の許容範囲に入るまでは露光装置１４にパルスレーザ光を入射させずに調整発振を行うためである。
図１０は、１日当たりのウエハ処理枚数Wnday、1日当たりの露光パルス数Nexday、１日当たりの発振パルス数Npdayの各々の経時変化を示す。
これらの稼動パラメータは、リソセル毎の交換モジュールや交換部品のメインテナンス日を計算するために使用する稼動パラメータである。図１０に示すグラフは、リソセル#kの稼動率の経時変化のグラフと読み替えることもできる。
図１１は、レーザ装置１６から出力されたパルスレーザ光のパルスエネルギEpの経時変化を示すグラフである。基本的には、レジストの変更やレチクル７４の変更などの露光条件に変更がなければ、パルスエネルギEpは一定の値となる。
使用されるレジストが変更されてレジスト感度が変わる場合や、同じレジストであってもレチクル７４のマスクパターンが変わる場合は、必要なパルスエネルギが変更されることがある。ここでは、レーザ装置１６から出力されるパルスレーザ光のパルスエネルギＥpのデータが取得される。
パルスレーザ光のパルスエネルギＥpによって、レーザ装置１６及び露光装置１４の交換モジュールや交換部品の寿命パルス数が変化することがある。
〈その他〉
図８～図１０に示す例では、リソセル#kにおけるＣ／Ｄ装置#kのウエハ処理枚数Wcdnとリソセル#kにおける露光装置#kのウエハ処理枚数Wexnとは、ほとんど同じと見做して、リソセル#kのウエハ処理枚数Wnとした。すなわち、「Wn≒Wcdn≒Wexn」の関係を満たすものとした。
図１１の例では、レーザ装置１６から出力されるパルスレーザ光のパルスエネルギが変化しない場合を示したが、この例に限定されない。例えば、使用されるレジストが変更されてレジスト感度が変わる場合や、同じレジストであってもレチクル７４のマスクパターンが変わる場合は、必要なパルスエネルギが変更されることがある。この場合、レーザ装置１６から出力されるパルスレーザ光のパルスエネルギのデータが取得される。
パルスレーザ光のパルスエネルギによって、レーザ装置１６及び露光装置１４の交換モジュールや交換部品の寿命パルス数が変化することがある。この場合は、後述するが、パルスエネルギに対する寿命パルス数をあらかじめファイルＢに保存することによって対応できる。
６．２．３ ファイルＢに含まれるテーブルデータ（１）の例
図１２は、ファイルＢに含まれるテーブルデータ（１）の例を示す図表であり、リソセル毎の各装置の交換モジュール及び交換部品のメインテナンス情報のデータ例を示す。
リソセル毎の各装置の交換モジュール又は交換部品に対して、寿命パラメータと、寿命値Life(k,l,m)と、標準メインテナンス時間Tmhs(k,l,m)と、交換コストCexc(k,l,m)と、寿命パラメータ値Pra(k,l,m)と、寿命パラメータを計測した日付及び時刻Dme(k,l,m)と、残りの寿命パラメータ値Prarl(k,l,m)と、がテーブルデータとして保存されている。ただし、kはリソセル番号、lは装置の番号、mは交換モジュール又は交換部品の番号である。
寿命パラメータは、以下の４つに分類される。
［分類１］交換モジュール又は交換部品の動作時間に依存するパラメータ
例えば、ケミカルフィルタを交換してからの空気が通過した動作時間等が該当する。
［分類２］交換モジュール又は交換部品のウエハ処理枚数に依存するパラメータ
例えば、Ｃ／Ｄ装置の基板回転モジュールを交換してからのウエハを処理した枚数等が該当する。
［分類３］交換モジュール又は交換部品の露光パルス数に依存するパラメータ
例えば、露光装置の照明光学系の交換部品を交換してからの露光パルス数等が該当する。
［分類４］交換モジュール又は交換部品の発振パルス数に依存するパラメータ
例えば、レーザ装置のレーザチャンバを交換してからの発振パルス数等が該当する。
図１２中の単位寿命当たりの交換コストCplife(k,l,m)は以下の式から計算される。
Cplife(k,l,m)＝Cexc(k,l,m)／Life(k,l,m) (4)
メインテナンス時間は、各装置単体でのメインテナンス時間だけでなく、交換モジュール及び交換部品を交換した際にリソセルがウエハの生産を停止している時間とする。つまり、メインテナンス時間はメインテナンスの実施によって見込まれるダウンタイムを表す。
残りの寿命パラメータ値Prarl(k,l,m)は以下の式から計算される。
Prarl(k,l,m)＝Life(k,l,m)－Pra(k,l,m) (5)
〈その他〉
図１２に示す例では、単純化するために、Ｃ／Ｄ装置のドレイン回収モジュールや基板回転モジュールの寿命は、ウエハの処理枚数に略依存するとして計算した。
寿命パラメータは分類１から分類４に限定されない。例えば、レジストの使用量を寿命パラメータとしてもよい。寿命パラメータと、１日当たりの変動量とをモニタできれば何でもよい。
６．２．４ ファイルＢに含まれるテーブルデータ（２）の例
図１３は、ファイルＢに含まれるテーブルデータ（２）の例を示す図表である。図１３に、同日に複数の交換モジュール又は交換部品のメインテナンスを行う場合のメインテナンス時間のテーブルデータを示す。同じ装置で同日にメインテナンスを行うと、メインテナンス時間が短くなる場合がある。
例えば、同じレーザ装置１６について、狭帯域化モジュール（LNM）、レーザチャンバ（CH）、モニタモジュール（MM）、及びフロントミラー（FM）のうち少なくとも２つ以上の交換モジュールを同時に（同日に）交換するときはメインテナンス時間が短くなる。このような同日交換を行うときは、モジュール交換前後のレーザ性能を確認する工程が１回で済むのでメインテナンス時間が短くなる。
また、レーザ装置１６だけでなく、Ｃ／Ｄ装置１２や露光装置１４の各装置についても同様のことが言える。さらに、装置単位だけでなく、Ｃ／Ｄ装置１２や露光装置１４の交換モジュール及び交換部品の交換が複数となって、リソセル１０の単位でメインテナンス時間が短くなる場合は、その組み合わせに関するテーブルデータとして記憶する。
これらのデータをそれぞれ、テーブルデータとしてファイルＢに記憶しておき、上記組み合わせで同日に交換を実施する場合のメインテナンス時間は、このテーブルデータの値を使用する。
６．２．５ ファイルＢに含まれるテーブルデータ（３）の例
図１４は、ファイルＢに含まれる他のテーブルデータ（３）の例を示す図表である。図１４に、レーザ装置１６から出力されるパルスレーザ光のパルスエネルギが異なる場合の寿命値のテーブルデータの例を示す。
一般的に、パルスレーザ光のエネルギが高くなると、レーザ装置１６のモジュールや露光装置１４の光学系に関する部品の寿命が短くなることがある。
パルスレーザ光のパルスエネルギEpをモニタし、図１４に示すテーブルデータの寿命値を使用することによって、メインテナンススケジュール計画を立てることができる。
〈その他〉
一般に光学素子の寿命は、１光子吸収の場合と、２光子吸収の場合とで異なる。
１光子吸収の場合は、例えば、次式で表される。
寿命パラメータ＝（Ep(k)／10）・発振パルス数 (6)
２光子吸収の場合は、例えば、次式で表される。
寿命パラメータ＝（Ep(k)／10）２・発振パルス数 (7)
レーザ装置１６の寿命パラメータ値Pra(k,3,m）は上記の式(6)又は式(7)を用いて計算してもよい。
また、露光装置１４の寿命パラメータ値Pra(k,2,2）及びPra(k,2,3）に関しても、同様に上記の式(6)又は式(7)の発振パルス数を露光パルス数に置き換えて計算してもよい。
６．２．６ 標準メインテナンス日計算部の処理例
図１５は、標準メインテナンス日計算部３４０における処理内容の例を示すフローチャートである。
ステップＳ１２において、標準メインテナンス日計算部３４０は、ファイルＡからリソセル#kの稼動状況を示す稼動情報のデータを読み込む。例えば、標準メインテナンス日計算部３４０は、ファイルＡから図８に示すような１日当たりの稼動状況を示すパラメータ値であるWnday(k)と、Nexday(k)と、Npday(k)と、を読み込む。
ステップＳ１４において、標準メインテナンス日計算部３４０は、ファイルＢからリソセル#kの交換モジュール及び交換部品について、メインテナンス情報を読み込む。例えば、標準メインテナンス日計算部３４０は、ファイルＢから図１２に示すようなメインテナンス情報を読み込む。また、標準メインテナンス日計算部３４０は、残りの寿命パラメータ値Prarl(k,l,m)と、寿命パラメータを取得した日付及び時刻Dme(k,l,m)と、を読み込む。
ステップＳ１６において、標準メインテナンス日計算部３４０は、ファイルＡ及びファイルＢから読み込んだデータからリソセル#kの交換モジュール及び交換部品の標準メインテナンス日Dmds(k,l,m)を計算する。
標準メインテナンス日Dmds(k,l,m)は、次の［ａ］から［ｄ］に示すいずれかの式に従って計算される。
［ａ］寿命パラメータが時間の場合
Dmds(k,l,m)＝Dme(k,l,m)+Prarl(k,l,m) (8)
［ｂ］寿命パラメータがウエハ処理枚数の場合
Dmds(k,l,m)＝Dme(k,l,m)+Prarl(k,l,m)/Wnday(k) (9)
［ｃ］寿命パラメータが露光パルス数の場合
Dmds(k,l,m)＝Dme(k,l,m)+Prarl(k,l,m)/Nexday(k) (10)
［ｄ］寿命パラメータが発振パルス数の場合
Dmds(k,l,m)＝Dme(k,l,m)+Prarl(k,l,m)/Npday(k) (11)
ステップＳ１８において、標準メインテナンス日計算部３４０は、ステップＳ１６にて計算した標準メインテナンス日Dmds(k,l,m)を含むデータをファイルＣに書き込む。標準メインテナンス日計算部３４０は、標準メインテナンス日Dmds(k,l,m)と、単体で交換した場合の標準メインテナンス時間Tmhs(k,l,m)と、をファイルＣに書き込む。
６．２．７ ファイルＣ及びファイルＤの具体例
図１６は、ファイルＣに含まれるテーブルデータの例を示す図表である。ファイルＣには、交換モジュール又は交換部品ごとの寿命パラメータ、標準メインテナンス時間、標準メインテナンス日、及び単位寿命当たりの交換コストが保存される。
図１７は、ファイルＤに含まれるテーブルデータの例を示す図表である。ファイルＤには、リソセル毎に、ダウンタイムによる単位時間当たりの損失コストが保存される。以後、ダウンタイムによる損失コストを「ダウンタイムコスト」と呼ぶ。
６．２．８ メインテナンススケジュール計画部の処理例
図１８は、メインテナンススケジュール計画部３７０における処理内容の例を示すフローチャートである。
ステップＳ２２において、メインテナンススケジュール計画部３７０は、ファイルＤからリソセル#kの単位時間当たりのダウンタイムコストを読み込む。
ステップＳ２４において、メインテナンススケジュール計画部３７０は、ファイルＣからリソセル#kの交換モジュール及び交換部品のテーブルデータを読み込む。
ステップＳ２６において、メインテナンススケジュール計画部３７０は、標準メインテナンス日の早い順にテーブルデータを並べ直す。並び替え後のテーブルデータを「ソート後のテーブルデータ」という。
ステップＳ２８において、メインテナンススケジュール計画部３７０は、変数ｕ及び変数ｖをそれぞれ初期値である「１」に初期化する。
ステップＳ３０において、メインテナンススケジュール計画部３７０は、変数ｓの値を初期値である「１」に初期化する。
ステップＳ３２において、メインテナンススケジュール計画部３７０は、ソート後のテーブルデータにおけるｕ番目からｕ＋ｓ番目までの交換モジュール又は交換部品の各メインテナンス日をすべてｕ番目の交換モジュール又は交換部品のメインテナンス日Dmds(k,l,m,u)に変更し、この値をDmop(k,v)とする。
ステップＳ３４において、メインテナンススケジュール計画部３７０は、ｕ番目からｕ＋ｓ番目の中で最も長い時間のメインテナンス時間を、メインテナンス時間Tmop(k,v)とする。
ステップＳ３６において、メインテナンススケジュール計画部３７０は、コストメリットの計算を行う。
図１９は、コストメリットの計算処理の例を示すフローチャートである。図１９のフローチャートは、図１８のステップＳ３６に適用される。
図１９のステップＳ５２において、メインテナンススケジュール計画部３７０は、交換日の前倒しによる増加コストCexcup(k,v)を計算する。
増加コストCexcup(k,v)は、次式から計算される。
Cexcup(k,v)＝Σ｛Cplife(k,l,m,q)・Parad(Dmds～Dmop)｝ (12)
式中のΣは、q＝uからq＝u+sまでの総和を表す。
Cplife(k,l,m,q)は、ソート後のテーブルデータにおけるｑ番目の交換モジュール又は交換部品の単位寿命当たりの交換コストである。
ここで、Parad(Dmds～Dmop)は、寿命パラメータ値がそれぞれの標準メインテナンス日Dmdsから新しく設定したDmopの日付に前倒しすることによって減るｑ番目の交換モジュール又は交換部品の寿命パラメータの値と定義する。
この場合の値は、１日当たりに減少する寿命パラメータ値と前倒し日数の積となる。
Parad(Dmds～Dmop)は、次の［ｅ］から［ｈ］に示すいずれかの式に従って計算される。
［ｅ］寿命パラメータが時間の場合
Parad(Dmds～Dmop)＝{Dmds(k,l,m,u)－Dmop(k,v)} (13)
［ｆ］寿命パラメータがウエハ処理枚数の場合
Parad(Dmds～Dmop)＝{Dmds(k,l,m,u)－Dmop(k,v)}・Wnday(k) (14)
［ｇ］寿命パラメータが露光パルス数の場合
Parad(Dmds～Dmop)＝{Dmds(k,l,m,u)－Dmop(k,v)}・Nexday(k) (15)
［ｈ］寿命パラメータが発振パルス数の場合
Parad(Dmds～Dmop)＝{Dmds(k,l,m,u)－Dmop(k,v)}・Npday(k) (16)
ステップＳ５４において、メインテナンススケジュール計画部３７０は、ダウンタイム低減による低減コストCdtd(k,v)を計算する。
低減コストCdtd(k,v)は、次式から計算される。
Cdtd(k,v)＝｛ΣTmhs(k,I,m,q) － Tmop(k,v)｝・Cdt(k) (17)
Cdt(k)は、リソセル毎の単位時間当たりのダウンタイムコストである（図１７参照）。
ステップＳ５６において、メインテナンススケジュール計画部３７０は、ステップＳ５２で求めた増加コストCexcup(k,v)と、ステップＳ５４で求めた低減コストCdtd(k,v)と、を基に、コストメリットCm(k,v)を計算する。
コストメリットCm(k,v)は、次式から計算される。
Cm(k,v)＝Cdtd(k,v)－Cexcup(k,v) (18)
ステップＳ５６にてコストメリットCm(k,v)を求めたら、図１９のフローチャートを終了して、図１８のメインフローに復帰する。
図１８のステップＳ３８において、メインテナンススケジュール計画部３７０は、コストメリットがあるか否かを判定する。
メインテナンススケジュール計画部３７０は、ステップＳ３６にて求めたCm(k,v)がCm(k,v)＞０を満たす場合は、ステップＳ４０に進み、変数ｓの値をインクリメントしてステップＳ３２に戻る。
ステップＳ３８の判定処理にて、Cm(k,v)≦０である場合、メインテナンススケジュール計画部３７０はステップＳ４１に進む。
ステップＳ４１において、メインテナンススケジュール計画部３７０は、ｕ番目からｕ＋ｓ番目までのメインテナンス日及びメインテンス時間をファイルＣのデータに戻す。
そして、ステップＳ４２において、メインテナンススケジュール計画部３７０は、変数ｓの値をデクリメントしてステップＳ４３に進む。
ステップＳ４３において、メインテナンススケジュール計画部３７０は、ｕ番目からｕ＋ｓ番目までの交換モジュール又は交換部品の各メインテナンス日をすべてｕ番目の交換モジュール又は交換部品のメインテナンス日Dmds(k,l,m,u)に変更し、この値をDmop(k,v)とする。ステップＳ４３の処理はステップＳ３２の処理と同様である。
ステップＳ４４において、メインテナンススケジュール計画部３７０は、ｕ番目からｕ＋ｓ番目の中で最も長い時間のメインテナンス時間を、メインテナンス時間Tmop(k,v)とする。ステップＳ４４の処理はステップＳ３４の処理と同様である。
ステップＳ４５において、メインテナンススケジュール計画部３７０は、コストメリットの計算を行う。ステップＳ４５の処理はステップＳ３６の処理と同様である。
その後ステップＳ４６において、メインテナンススケジュール計画部３７０は、変数ｖの値をインクリメントすると共に、変数uにs＋1を加えて、u＋s＋1を新たに変数uの値とする。ステップＳ４６にてvの値とuの値とをそれぞれ更新した後、ステップＳ４７において、メインテナンススケジュール計画部３７０は、u＋1＞umaxを満たすか否かを判定する。umaxは交換モジュールと交換部品との総数である。
メインテナンススケジュール計画部３７０は、ステップＳ４７の判定結果がＮｏ判定である場合は、ステップＳ３０に戻る。メインテナンススケジュール計画部３７０は、uの値がumaxに達するまでステップＳ３０からステップＳ４７を繰り返す。
ステップＳ４７の判定処理にて、Ｙｅｓ判定になると、メインテナンススケジュール計画部３７０はステップＳ４８に進み、ファイルＥにデータの書き込みを行う。ステップＳ４８の後、図１８のフローチャートを終了する。
６．２．９ ファイルＥの具体例
図２０は、ファイルＥに含まれるテーブルデータの例を示す図表である。ファイルＥのテーブルデータには、リソセル毎の各消耗品の標準メインテナンス日、各消耗品を単体で交換した場合の標準メインテナンス時間、単位寿命当たりの交換コスト、リソセル毎に最適化された最適メインテナンス日、交換日の前倒しによる増加コスト、メインテナンス時間、ダウンタイム低減コスト、及びコストメリットの各データが含まれる。
図２１は、標準メインテナンス日と、前倒しした最適メインテナンス日との関係を模式的に示す説明図である。図２１は、図２０に示されたテーブルデータの内容を反映している。
図２１において、例えば、u＝2とu＝3の各消耗品について標準メインテナンス日よりもメインテナンス日が前倒しされ、u＝1の消耗品の標準メインテナンス日と同じ日に、u＝１～３の各消耗品のメインテナンスを行うことが推奨される。
同様に、u＝5～7の各消耗品について標準メインテナンス日よりもメインテナンス日が前倒しされ、u＝4の消耗品の標準メインテナンス日と同じ日に、u＝4～7の各消耗品のメインテナンスを行うことが推奨される。
また同様に、u＝9及びu＝10の各消耗品について標準メインテナンス日よりもメインテナンス日が前倒しされ、u＝8の消耗品の標準メインテナンス日と同じ日に、u＝9及びu＝10の各消耗品のメインテナンスを行うことが推奨される。
さらに同様に、u＝12の消耗品について標準メインテナンス日よりもメインテナンス日が前倒しされ、u＝11の消耗品の標準メインテナンス日と同じ日に、u＝12の消耗品のメインテナンスを行うことが推奨される。
６．３ 作用・効果
実施形態１によれば、リソセル毎の稼動状況に関する稼動情報と、リソセル毎の消耗品のメインテナンス情報と、リソセル毎のメインテナンスのダウンタイムによる損失コストと、からリソセル毎の消耗品のメインテナンススケジュールの最適化を行っている。実施形態１によれば、リソセルの単位とは無関係に、装置毎にメインテナンスを行う場合に比べて、メインテナンスコストやダウンタイムの低減が可能となる。
６．４ その他
リソセル管理サーバ３１０は本開示における「メインテナンス管理装置」の一例である。実施形態１におけるデータ取得部３２０と記憶部３３０との組合せは本開示における「稼動情報処理部」の一例である。データ取得部３２０と記憶部３３６との組合せは本開示における「メインテナンス情報処理部」の一例である。標準メインテナンス日計算部３４０は本開示における「標準メインテナンス時期計算部」の一例である。リソセル管理サーバ３１０が実施する処理は本開示における「メインテナンス管理方法」の一例である。ファイルＡに保存された稼動情報のデータは本開示における「稼動データ」の一例である。
７．実施形態２
７．１ 構成
図２２は、実施形態２に係るリソセル管理サーバの機能を示すブロック図である。図７で説明したリソセル管理サーバ３１０に代えて、図２２に示すリソセル管理サーバ３１２を用いることができる。図７で説明したリソセル管理サーバ３１０との相違点を説明する。
実施形態２では、リソセル毎の稼働情報５００として、リソセル毎の今後の稼動予定情報が追加される。図２２に示すリソセル管理サーバ３１２が扱う稼動情報５００の中には、ファイルＡ（２）及びファイルＦが含まれる。リソセル管理サーバ３１２は、図７に例示したテーブルデータとは異なるテーブルデータを含むファイルＡ（２）の作成、記憶、情報の読み出し及び書き込みを行う機能を有する。実施形態２において作成される、リソセル毎の過去の稼動情報を保存したファイルをファイルＡ（２）と表記する。ファイルＡ（２）に含まれるテーブルデータの例については図２３を用いて後述する。
リソセル管理サーバ３１２は、ファイルＡ（２）を記憶しておく記憶部３３２を含む。
リソセル管理サーバ３１２には、ファイルＦの作成、記憶、情報の読み出し及び書き込みを行う機能が追加されている。ファイルＦは、リソセル毎の今後の稼動予定情報が保存されるファイルである。リソセル管理サーバ３１２は、ファイルＦを記憶しておく記憶部４００を含む。
また、リソセル管理サーバ３１２は、図７の標準メインテナンス日計算部３４０及びメインテナンススケジュール計画部３７０に代えて、図２２に示すように、標準メインテナンス日計算部３４２及びメインテナンススケジュール計画部３７２を含む。
７．２ 動作
７．２．１ リソセル管理サーバの動作
図２２に示すリソセル管理サーバ３１２のデータ取得部３２０は、半導体工場管理システム２０８から、日付とその日に予定されるウエハの処理枚数のデータを取得して、ファイルＦに保存する。日付ごとに予定されるウエハの処理枚数を「日毎の予定ウエハ処理枚数」という。データ取得部３２０は、日付及び日毎の予定ウエハ処理枚数のデータから、本日以降の予定ウエハ処理枚数と、日毎の予定露光パルス数と、本日以降の予定露光パルス数と、日毎の予定発振パルス数と、本日以降の予定発振パルス数と、を計算して、計算結果をファイルＦに保存する。
上記の各値の計算は、ファイルＡ（２）に保存されている、１枚ウエハ当りの露光パルス数Nexwef(k)及び１枚ウエハ当たりの発振パルス数Npwef(k)に基づいて行われる。１枚ウエハ当りの露光パルス数Nexwef(k)及び１枚ウエハ当たりの発振パルス数Npwef(k)のデータを含むテーブルデータの例は後述する（図２３参照）。
標準メインテナンス日計算部３４２は、ファイルＡ（２）とファイルＢとファイルＦとのデータに基づいて標準メインテナンス日を計算する。
メインテナンススケジュール計画部３７２は、ファイルＣとファイルＤとのデータに基づいて、メインテナンススケジュールの最適化を実行する。
７．２．２ ファイルＡ（２）に含まれるテーブルデータの例
図２３は、ファイルＡ（２）に含まれるテーブルデータの例を示す図表である。実施形態２で用いるファイルＡ（２）には、図８で説明した第１例に係るテーブルデータの「１日当たりの露光パルス数」と「１日当たりの発振パルス数」とに代えて、「１枚ウエハ当たりの露光パルス数」と「１枚ウエハ当たりの発振パルス数」との各情報を含む。
データ取得部３２０は、１枚ウエハ当たりの露光パルス数Nexwefと１枚ウエハ当たりの発振パルス数Npwefとを、それぞれ次の計算式に従って計算し、求めた各値を含むテーブルデータを保存する。
Nexwef(k,i-1)＝｛Nex(k,i)-Nex(k,i-1)｝／Wnday(k,i-1) (19)
Npwef(k,i-1)＝｛Np(k,i)-Np(k,i-1)｝／Wnday(k,i-1) (20)
Nexwef(k)は、Nexwef(k,1), Nexwef(k,2)，・・・, Nexwef(k,i-1),・・・, Nexwef(k,j-1)の平均値である。
Npwef(k)は、Npwef(k,1), Npwef(k,2)，・・・, Npwef(k,i-1),・・・, Npwef(k,j-1)
の平均値である。
〈その他〉
なお、データ取得部３２０は、Nexを縦軸、Wnを横軸としてデータをプロットして、最小二乗法により直線近似した直線の勾配をNex(k)としてもよい。
また、データ取得部３２０は、Npを縦軸とし、Wnを横軸にして、データをプロットして、最小二乗法により直線近似した直線の勾配をNp(k)としてもよい。
７．２．３ ファイルＦに含まれるテーブルデータの例
図２４は、ファイルＦに含まれるテーブルデータの例を示す図表である。図２４に、リソセル#kの稼動予定情報のデータの例を示す。
データ取得部３２０は、半導体工場管理システム２０８から、日付DATEplと、その日に予定されるウエハの処理枚数Wplpdと、を取得してファイルＦに保存する。
データ取得部３２０は、取得したデータから、本日以降の予定ウエハ処理枚数Wplpdsuと、日毎の予定露光パルス数Nexplpdと、本日以降の予定露光パルス数Nexplsuと、日毎の予定発振パルス数Npplpdと、本日以降の予定発振パルス数Npplsuと、を計算して、計算結果をファイルＦに保存する。
データ取得部３２０は、図２３で説明したファイルＡ（２）に保存されている、１枚ウエハ当りの露光パルス数Nexwef(k)及び１枚ウエハ当りの発振パルス数Npwef(k)に基づいて下記計算式に従って、各値を計算する。
Wplpdsu(k,f)＝Wplpd(k,1)+Wplpd(k,2)+Wplpd(k,3)+・・・・+Wplpd(k,f) (21)
Nexplpd(k,f)＝Wplpd(k,f)・Nexwef(k) (22)
Nexplsu(k,f)＝Nexplpd(k,1)+Nexplpd (k,2)+Nexplpd (k,3)+・・・・+Nexplpd (k,f)
(23)
Npplpd(k,f)＝Wplpd(k,f)・Npwef(k) (24)
Npplsu(k,f)＝Npplpd (k,1)+Npplpd (k,2)+Npplpd (k,3)+・・・・+Npplpd (k,f) (25)
なお、ファイルＦに保存された稼動予定情報のデータは本開示における「稼動予定データ」の一例である。
７．２．４ 標準メインテナンス日計算部の処理例
図２５は、標準メインテナンス日計算部３４２における処理内容の例を示すフローチャートである。図２５において、図１５と共通するステップには同一のステップ番号を付し、重複する説明は省略する。
図１５のフローチャートに代えて、又は図１５のフローチャートと組み合わせて、図２５に示すフローチャートを適用し得る。ステップＳ１３において、標準メインテナンス日計算部３４２は、ファイルＦからリソセル#kの稼動予定情報のデータを読み込む。例えば、標準メインテナンス日計算部３４２は、ファイルＦから図２４に示すようなリソセル毎の稼動予定情報を読み込む。
ステップＳ１４の処理は、図１５のステップＳ１４と同様である。ステップＳ１４において、標準メインテナンス日計算部３４２は、ファイルＢからリソセル#kの交換モジュール及び交換部品について、メインテナンス情報を読み込む。例えば、標準メインテナンス日計算部３４２は、ファイルＢから図１２に示すようなメインテナンス情報を読み込む。また、標準メインテナンス日計算部３４２は、残りの寿命パラメータ値Prarl(k,l,m)と、寿命パラメータを取得した日付及び時刻Dme(k,l,m)と、を読み込む。
ステップＳ１７において、標準メインテナンス日計算部３４２は、ファイルＦ及びファイルＢから読込んだデータからリソセル#kの交換モジュール及び交換部品の標準メインテナンス日を計算する。
標準メインテナンス日Dmds(k,l,m)は、残りの寿命パラメータ値Prarl(k,l,m)以下であって、本日以降のウエハ処理枚数Wplpdsu(k,f)、本日以降の露光パルス数Nexplsu(k,f)、又は本日以降の発振パルス数Npplsu(k,f)が一番大きい値となる日付とする。
ステップＳ１８において、標準メインテナンス日計算部３４２は、標準メインテナンス日Dmds(k,l,m)と、単体で交換した場合の標準メインテナンス時間Tmds(k,l,m)と、をファイルＣに書き込む。
７．２．５ メインテナンススケジュール計画部の処理例
図２６は、メインテナンススケジュール計画部３７２における処理内容の例を示すフローチャートである。図２６において、図１８と共通するステップには同一のステップ番号を付し、重複する説明は省略する。図２６に示すフローチャートは、図１８のステップＳ３６及びステップＳ４５に代えて、ステップＳ３６Ｂ及びステップＳ４５Ｂを含む。
ステップＳ３６Ｂにおいて、メインテナンススケジュール計画部３７２は、ファイルＦから得たデータを用いてコストメリットを計算する。
図２７は、コストメリット計算処理の例を示すフローチャートである。図２７のフローチャートは、図２６のステップＳ３６Ｂ及びステップＳ４５Ｂの各々に適用される。図２７において、図１９と共通するステップには同一のステップ番号を付し、重複する説明は省略する。
図２７に示すフローチャートは、ステップＳ５２の前にステップＳ５１を含む。ステップＳ５１において、メインテナンススケジュール計画部３７２は、ファイルＦからリソセル#kの稼動予定情報のデータを読み込む。
ステップＳ５２において、メインテナンススケジュール計画部３７２は、ファイルＦのデータからParad(Dmds～Dmop)の値を計算することができる。メインテナンススケジュール計画部３７２は、ファイルＦのデータから計算したParad(Dmds～Dmop)を用いて増加コストCexcup(k,v)を計算する。
その他の処理内容は、図１９のフローチャートと同様である。
７．３ 作用・効果
実施形態２によれば、リソセル毎の過去の稼動情報と、リソセル毎の今後の稼動予定情報とに基づいて標準メインテナンスの日付を計算しているので、実施形態１と比べて、標準メインテナンス日の予測精度が一層改善される。
実施形態２によれば、予測精度が改善された標準メインテナンス日と、今後の稼動予定情報とに基づいて最適なメインテナンススケジュールを計算しているので、メインテナンススケジュールの最適化の精度が一層改善される。
８． 実施形態３
８．１ 構成
図２８は、実施形態３に係るリソセル管理サーバ３１３の機能を示すブロック図である。図２２で説明した実施形態２に係るリソセル管理サーバ３１２との相違点を説明する。
実施形態３では、リソセル毎の稼働情報５００にレシピ情報が追加される。図２８に示すリソセル管理サーバ３１３が扱う稼動情報５００の中には、ファイルＡ（３）及びファイルＦ（２）が含まれる。リソセル管理サーバ３１３は、図８に例示したテーブルデータとは異なるテーブルデータを含むファイルＡ（３）の作成、記憶、情報の読み出し及び書き込みを行う機能を有する。実施形態３で作成される、リソセル毎の過去の稼動情報を保存したファイルをファイルＡ（３）と表記する。ファイルＡ（３）は、レシピ情報を含む。ファイルＡ（３）に含まれるテーブルデータの例については図２９を用いて後述する。リソセル管理サーバ３１３は、ファイルＡ（３）を記憶しておく記憶部３３３を含む。
また、リソセル管理サーバ３１３は、図２４に例示したデータテーブルとは異なるデータテーブルを含むファイルＦ（２）の作成、記憶、情報の読み出し及び書き込みを行う機能を有する。実施形態３で作成される、リソセル毎の今後の稼動情報を保存したファイルＦをファイルＦ（２）と表記する。ファイルＦ（２）は、レシピ情報を含む。ファイルＦ（２）に含まれるデータテーブルの例については図３０を用いて後述する。リソセル管理サーバ３１３は、ファイルＦ（２）を記憶しておく記憶部４０２を含む。
また、リソセル管理サーバ３１３は、図７の標準メインテナンス日計算部３４０及びメインテナンススケジュール計画部３７０に代えて、図２８に示すように、標準メインテナンス日計算部３４２及びメインテナンススケジュール計画部３７２を含む。
８．２ 動作
８．２．１ リソセル管理サーバの動作
図２８に示すリソセル管理サーバ３１３のデータ取得部３２０は、半導体工場管理システム２０８からレシピ情報を取得してファイルＡ（３）に保存する。データ取得部３２０は、レシピ情報と、各レシピに対応した平均ウエハ処理枚数と、各レシピに対応した平均露光パルス数と、各レシピに対応した平均発振パルス数と、をファイルＡ（３）に保存する。
データ取得部３２０は、半導体工場管理システム２０８から日付と、その日に予定されるウエハの処理枚数及びレシピ情報と、を取得して、これらをファイルＦ（２）に保存する。
データ取得部３２０は、各レシピに対応した平均ウエハ処理枚数と、各レシピに対応した平均露光パルス数と、各レシピに対応した平均発振パルス数とに基づいて、本日以降の予定ウエハ処理枚数と、日毎の予定露光パルス数と、本日以降の予定露光パルス数と、日毎の予定発振パルス数と、本日以降の予定発振パルス数と、を計算して、計算結果をファイルＦ（２）に保存する。
標準メインテナンス日計算部３４２は、ファイルＦ（２）のデータに基づいて標準メインテナンス日を算出する。
メインテナンススケジュール計画部３７２は、ファイルＦ（２）のデータに基づいてメインテナンススケジュールの最適化を実行する。
８．２．２ ファイルＡ（３）に含まれるテーブルデータの例
図２９は、ファイルＡ（３）に含まれるテーブルデータの例を示す図表である。実施形態３で用いるファイルＡ（３）は、図２３に例示したテーブルデータの内容に追加して、以下のデータを含む。
すなわち、ファイルＡ（３）のテーブルデータには、レシピの情報Lcipと、各レシピに対応した１日当たりの平均ウエハ処理枚数Wndaylcと、各レシピに対応した１枚ウエハ当たりの平均露光パルス数Nexweflcと、各レシピに対応した１枚ウエハ当たりの平均発振パルス数Npweflcと、が追加されている。
本明細書において「レシピ」とは、各レジスト材料及び各マスクパターンに対応した露光条件と定義する。レジスト材料が変更されれば、レジスト感度が変化するので、１枚ウエハ当りの露光パルス数やレーザ装置の発振パルス数は変化する。マスクパターンが変更されれば、１枚ウエハ当りの最適な露光量及び発振パルス数が変化する。例えば、マスクパターンが、ラインアンドスペースのパターンの場合と、コンタクトホールパターンの場合とでは、最適な露光量及び発振パルス数が変化する。
図２９は、レシピａ、レシピｂ、及びレシピｃの３種類のレシピがある場合の例を示している。リソセル#kにおけるこれら３種類のレシピの情報をLcip(k,a)、Lcip(k,b)、及びLcip(k,c)で示す。
リソセル管理サーバ３１３のデータ取得部３２０は、レシピの情報Lcipを、例えば、半導体工場管理システム２０８から受信して、受信したデータをファイルＡ（３）に保存する。
また、データ取得部３２０は、各レシピに対応した１日当たりの平均ウエハ処理枚数Wndaylcと、各レシピに対応した１枚ウエハ当たりの平均露光パルス数Nexweflcと、各レシピに対応した１枚ウエハ当たりの平均発振パルス数Npweflcと、を計算して、計算結果をファイルＡ（３）に保存する。
８．２．３ ファイルＦ（２）に含まれるテーブルデータの例
図３０は、ファイルＦ（２）に含まれるテーブルデータの例を示す図表である。図３０に、ファイルＦ（２）におけるリソセル#kの稼動予定情報のデータの例を示す。実施形態３で用いるファイルＦ（２）は、図２４に例示したテーブルデータの内容に追加して以下のデータを含む。
すなわち、ファイルＦ（２）は、レシピの情報Lcipと、レシピの情報に基づいた各パルス数（Nexpld、Nexplsu、Npplpd、Npplus）の情報と、を含む。
リソセル管理サーバ３１３のデータ取得部３２０は、例えば、半導体工場管理システム２０８から、今後の稼動予定に係るレシピの情報Lcipを取得して、ファイルＦ（２）に保存する。
データ取得部３２０は、日毎の予定露光パルス数Nexplpdと、日毎の予定発振パルス数Npplpdとは、ファイルＡ（３）に保存されている、各レシピに対応した１枚ウエハ当たりの平均露光パルス数（Nexweflc(k,a)，Nexweflc(k,b)，Nexweflc(k,c)）と、各レシピに対応した１枚ウエハ当たりの平均発振パルス数（Npweflc(k,a)，Npweflc(k,b)，Npweflc(k,c)）と、に基づいて、下記の計算式に従って各値を計算する。
Nexplpd(k,1～4)＝Wplpd(k,1～4)・Nexweflc(k,b) (26)
Nexplpd(k,5～f)＝Wplpd(k,5～f)・Nexweflc(k,a) (27)
Nexplpd(k,f+1～g)＝Wplpd(k,f+1～g)・Nexweflc(k,c) (28)
〈その他〉
ここでは、レシピはａ，ｂ，ｃの３種類の例を示したが、レシピの数はこの例に限定されることなく、２種類以上であればよい。
ここでは、過去の稼動情報として１日の間はレシピが同じ例を示したが、同じ日であっても、レシピが異なれば、レシピの変更日と時刻を詳細にファイルＡ（３）に保存しておいて、１日当たりに換算して計算してもよい。
また、ここでは、稼動予定情報として１日の間はレシピが同じ例を示したが、同じ日であっても、レシピが異なれば、レシピの変更日と時刻を詳細にファイルＦ（２）に保存し、さらに詳細に計算してもよい。
８．３ 作用・効果
実施形態３によれば、リソセル毎の過去の稼動情報と、リソセル毎の今後の稼動予定情報と、それぞれのレシピ情報とに基づいて標準メインテナンス日を計算しているので、標準メインテナンス日の予測精度がさらに改善される。
実施形態３によれば、レシピ情報に基づいて算出された標準メインテナンス日と、今後の稼動予定情報とに基づいて最適なメインテナンススケジュールを計算しているので、メインテナンススケジュールの最適化の精度がさらに改善される。
９．実施形態４
９．１ 構成
図３１は、実施形態４に係るリソセル管理サーバ３１４の機能を示すブロック図である。図２８で説明した実施形態３に係るリソセル管理サーバ３１３との相違点を説明する。
実施形態４では、交換モジュール及び交換部品に関するメインテナンス情報５０１として、リソセル毎の交換モジュール及び交換部品の寿命予測情報が追加される。図３１に示すリソセル管理サーバ３１４は、ファイルＧの作成、記憶、情報の読み出し及び書き込みを行う機能が追加されている。ファイルＧは、リソセル毎の交換モジュール及び交換部品の寿命予測情報が保存されるファイルである。リソセル管理サーバ３１４は、ファイルＧを記憶しておく記憶部４１０と、予測寿命値計算部４１４と、を含む。リソセル管理サーバ３１４が扱うメインテナンス情報５０１の中には、ファイルＢとファイルＧが含まれる。
９．２ 動作
９．２．１ リソセル管理サーバの動作
図３１に示すリソセル管理サーバ３１４のデータ取得部３２０は、Ｃ／Ｄ装置用管理システム２０２と、露光装置用管理システム２０４と、レーザ装置用管理システム２０６とから、定期的に、リソセル毎の交換モジュール及び交換部品の寿命予測情報を取得する。
寿命予測情報は、交換モジュール及び交換部品の寿命を予測するために用いられる情報である。寿命予測情報は、例えば、リソセル毎の交換モジュール及び交換部品の寿命パラメータ値と、寿命を監視する監視パラメータのログデータと、監視パラメータの閾値と、を含んでよい。
データ取得部３２０は、リソセル毎の交換モジュール及び交換部品の寿命パラメータ値と、寿命を監視する監視パラメータのログデータと、監視パラメータの閾値とを、ファイルＧに保存する。寿命監視パラメータは交換モジュール又は交換部品の寿命と相関するパラメータであればよい。実施形態４におけるデータ取得部３２０と保存部４１０との組合せは本開示における「寿命予測情報取得部」の一例である。
予測寿命値計算部４１４は、ファイルＧに保存されたログデータから把握される寿命監視パラメータのトレンドから、寿命監視パラメータが監視パラメータの閾値に到達すると予測される寿命パラメータ値を計算する。この計算結果から得られる「予測される寿命パラメータ値」を予測寿命値という。予測寿命値計算部４１４は、計算によって求めた予測寿命値のデータを、ファイルＢに寿命値Life（k,l,m）として書き込む。
９．２．２ ファイルＧに含まれるログデータの例
図３２は、ファイルＧに含まれるログデータの例を示す図表である。Ｃ／Ｄ装置の交換部品であるケミカルフィルタは、寿命パラメータとして、交換してからの動作時間が適用される。ケミカルフィルタの寿命パラメータ値Praは、交換してからの動作時間を示す値である。ケミカルフィルタの寿命監視パラメータは、ケミカルフィルタを通過した空気中の不純物濃度である。ケミカルフィルタの寿命監視パラメータ値Cwは、ケミカルフィルタを通過した空気中の不純物濃度を計測した値である。ケミカルフィルタの寿命監視パラメータ値Cwが閾値Cwthに到達すると、ケミカルフィルタの不純物除去能力が低下したとして、部品の寿命と判定することができる。
露光装置の照明光学系の交換部品は、主にミラー及びその他の光学部品である。照明光学系の交換部品は、寿命パラメータとして、交換してからの露光パルス数が適用される。照明光学系の交換部品の寿命パラメータ値Praは、交換してからの露光パルス数を示す値である。照明光学系の交換部品の寿命監視パラメータは、照明光学系の透過率である。照明光学系の交換部品の寿命監視パラメータ値Tilは、照明光学系の透過率を示す値である。寿命監視パラメータ値が閾値Tilthに到達すると、照明光学系の交換部品が劣化したとして、部品の寿命と判定することができる。
レーザ装置の交換部品であるレーザチャンバは、寿命パラメータとして、交換してからの発振パルス数が適用される。レーザチャンバの寿命パラメータ値Praは、交換してからの発振パルス数を示す値である。レーザチャンバの寿命監視パラメータは、レーザチャンバのガス圧である。レーザチャンバの寿命監視パラメータ値Pchは、レーザチャンバのガス圧を計測した値である。レーザチャンバの寿命監視パラメータ値Pchが閾値Pchthに到達すると、レーザチャンバが劣化したとして、寿命と判定することができる。
〈その他〉
図３２に示すファイルＧの例は、交換モジュール及び交換部品の寿命予測情報の一例であって、他の交換モジュールや他の交換部品においても、寿命が予測できれば、寿命パラメータと寿命監視パラメータのログデータをファイルＧに保存してもよい。
９．２．３ 予測寿命値計算部の処理例
図３３は、予測寿命値計算部４１４の処理内容の例を示すフローチャートである。ステップＳ６２において、予測寿命値計算部４１４は、ファイルＧからリソセル毎の交換モジュール及び交換部品の寿命予測情報を読み込む。例えば、予測寿命値計算部４１４は、ファイルＧから図３２に例示したような、リソセル毎の交換モジュール及び交換部品の寿命パラメータ値と、寿命を監視する寿命監視パラメータのログデータと、監視パラメータの閾値と、を読み込む。
図３３のステップＳ６４において、予測寿命値計算部４１４は、読み込んだデータを基に、交換モジュール及び交換部品の寿命の予測を行う。予測寿命値計算部４１４は、ファイルＧに保存されたログデータから把握される寿命監視パラメータのトレンドから、予測寿命値を計算する。予測寿命値は、寿命監視パラメータ値が監視パラメータの閾値に到達する値であってよい。ステップＳ６４の処理内容の具体例については図３４を用いて後述する。
ステップＳ６６において、予測寿命値計算部４１４は、ステップＳ６４にて求めた予測寿命値に基づいて、交換コストCexc(k,l,m)と、単位寿命当たりの交換コストCplife(k,l,m)と、残りの寿命パラメータ値Prarl（k,l,m)と、を計算する。
ステップＳ６８において、予測寿命値計算部４１４は、ステップＳ６６の計算にて求めたデータをファイルＢに書き込み、データを更新する。ここで、初期のデータを図示しないメモリに保存し、更新前後の比較データを表示してもよい。
図３４は、交換モジュール及び交換部品の寿命予測処理の例を示すフローチャートである。図３４のフローチャートは、図３３のステップＳ６４に適用される。図３４のステップＳ７２において、予測寿命値計算部４１４は、寿命パラメータ値と寿命監視パラメータ値との関係をグラフ化する。得られるグラフは、図３５に示すパターン１、又は図３６に示すパターン２のいずれかに分類される。
図３５は、寿命パラメータ値と寿命監視パラメータ値との関係をグラフ化した例を示す図である。図３５に示すパターン１のグラフは、寿命パラメータ値が大きいほど、寿命監視パラメータ値も大きい関係を有する。図３２で説明したＣ／Ｄ装置におけるケミカルフィルタとレーザ装置におけるレーザチャンバのそれぞれの寿命パラメータ値と寿命監視パラメータ値との関係は、パターン１に相当する。
図３６は、寿命パラメータ値と寿命監視パラメータ値との関係をグラフ化した他の例を示す図である。図３６に示すパターン２のグラフは、寿命パラメータ値が大きいほど、寿命監視パラメータ値が小さい関係を有する。図３２で説明した露光装置における照明光学系の交換部品の寿命パラメータ値と寿命監視パラメータ値との関係は、パターン２に相当する。
予測寿命値計算部４１４は、交換モジュール及び交換部品の各々について、寿命パラメータ値と寿命監視パラメータ値との関係をグラフ化する。
図３４のステップＳ７４において、予測寿命値計算部４１４は、グラフ化された関係を基に近似関数を計算する。近似関数の例としては、現在の寿命パラメータ値の付近を直線近似する態様、又は、実測された計測値から多項式近似する態様などがあり得る。
ステップＳ７６において、予測寿命値計算部４１４は、近似関数から寿命監視パラメータ値が監視パラメータの閾値に到達する寿命パラメータ値である予測寿命値を計算する。
ステップＳ７６の後、予測寿命値計算部４１４は、図３３のフローチャートに復帰する。
〈その他〉
交換モジュール及び交換部品の寿命の予測は機械学習によって行ってもよい。既知のデータを機械に学習させ、自動でパターンやルールを導き出し、予測モデルを作成することによって、予測寿命値を算出してもよい。この場合は、寿命予測精度が改善される。
９．３ 作用・効果
実施形態４によれば、リソセル毎の交換モジュール及び交換部品の寿命予測情報から予測寿命値を算出し、この予測寿命値に基づいてメインテナンススケジュールの最適化を行っているため、以下の作用効果がある。
（a)交換モジュール及び交換部品の寿命の個体差を考慮してメインテナンススケジュールの最適化の精度がさらに改善される。
（b)交換モジュール及び交換部品の寿命がデフォルトの寿命値より短い場合に、予定されていないタイミングでのメインテナンスが低減される。
(c)交換モジュール及び交換部品の寿命がデフォルトの寿命値より長い場合に、メインテナンスコストが実施形態３の場合に比べて低減される。
１０．実施形態５
１０．１ 構成
図３７は、実施形態５に係るリソセル管理サーバ３１５の機能を示すブロック図である。図３１で説明した実施形態４に係るリソセル管理サーバ３１４との相違点を説明する。
実施形態５では、データ取得部３２０が取得する情報としてメインテナンス候補日の情報が追加される。図３７に示すリソセル管理サーバ３１５は、消耗品選定部４１６と、ファイルＨを記憶しておく記憶部４１８と、を含む。
ファイルＨは、指定されたメインテナンス候補日に交換を実施することが推奨される消耗品として選定された交換モジュール又は交換部品の品目とメインテナンス時間とのデータを含んだファイルである。ファイルＨは、消耗品選定部４１６によって作成される。
１０．２ 動作
１０．２．１ リソセル管理サーバの動作
図３７に示すリソセル管理サーバ３１５のデータ取得部３２０は、ネットワーク２１０を介して、半導体工場管理システム２０８などから、リソセル#kのメインテナンス候補日を受信し得る。データ取得部３２０は、ネットワーク２１０を介して受信したメインテナンス候補日を消耗品選定部４１６に送る。
消耗品選定部４１６は、メインテナンス候補日と、ファイルＣ及びファイルＤのデータとに基づいて、メインテナンス候補日に交換を実施する消耗品（交換モジュール及び交換部品）の選定の最適化を行う。この最適化は、例えば、メインテナンスコストが最小となるように交換対象の消耗品の選定を行う。
リソセル管理サーバ３１５は、リソセル#kの交換モジュール及び交換部品の選定結果とメインテナンス時間とを含むデータをファイルＨに保存する。
データ出力部３９０は、ファイルＨの保存データを読み込み、ネットワーク２１０を介して、半導体工場管理システム２０８又は図示しない表示端末に出力する。
１０．２．２ 消耗品選定部の処理例
図３８は、消耗品選定部４１６における処理内容の例を示すフローチャートである。
ステップＳ８２において、消耗品選定部４１６は、ファイルＤからリソセル#kの単位時間当たりのダウンタイムコストを読み込む。
ステップＳ８４において、消耗品選定部４１６は、ファイルＣからリソセル#kの交換モジュール及び交換部品のテーブルデータを読み込む。
ステップＳ８６において、消耗品選定部４１６は、メインテナンス候補日以降の標準メインテナンス日のテーブルデータを抽出し、早い順に並べる。
ステップＳ９０において、消耗品選定部４１６は、変数ｓの値を初期値である「１」に初期化する。
ステップＳ９２において、消耗品選定部４１６は、ステップＳ８６で早い順に並べ替えが行われたテーブルデータの第１番目から第１＋ｓ番目までの交換モジュール又は交換部品のメインテナンス日をすべてメインテナンス候補日Dmop(k,1)に変更する。
ステップＳ９４において、消耗品選定部４１６は、１番目から１＋ｓ番目までの中で最も長い時間のメインテナンス時間をメインテナンス時間Tmop(k,1)とする。
ステップＳ９６において、消耗品選定部４１６は、コストメリットを計算する。
図３９は、コストメリット計算処理の例を示すフローチャートである。図３９のフローチャートは、図３８のステップＳ９６に適用される。
図３９のステップＳ１１１において、消耗品選定部４１６は、ファイルＦ（２）からリソセル#kの稼動予定情報のデータを読み込む。
ステップＳ１１２において、消耗品選定部４１６は、交換日の前倒しによる増加コストCexcup(k,1)を計算する。
増加コストCexcup(k,1)は、次式から計算される。
Cexcup(k,1)＝Σ｛Cplife(k,l,m,q)・Parad(Dmds～Dmop)｝ (29)
式中のΣは、q＝1からq＝1+sまでの総和を表す。
ステップＳ１１４において、消耗品選定部４１６は、ダウンタイム低減による低減コストCdtd(k,1)を計算する。
低減コストCdtd(k,1)は、次式から計算される。
Cdtd(k,1)＝｛ΣTmds(k,l,m,q) － Tmop(k,1)｝・Cdt(k) (30)
ステップＳ１１６において、メインテナンススケジュール計画部３７２は、ステップＳ１１２で求めた増加コストCexcup(k,1)と、ステップＳ１１４で求めた低減コストCdtd(k,1)と、を基に、コストメリットCm(k,1)を計算する。
コストメリットCm(k,1)は、次式から計算される。
Cm(k,1)＝Cdtd(k,1)－Cexcup(k,1) (31)
ステップＳ１１６にてコストメリットCm(k,1)を求めたら、図３９のフローチャートを終了して、図３８のメインフローに復帰する。
図３８のステップＳ９８において、消耗品選定部４１６は、コストメリットがあるか否かを判定する。消耗品選定部４１６は、ステップＳ９６にて求めたCm(k,1)がCm(k,1)＞０を満たす場合は、ステップＳ１００に進み、変数ｓの値をインクリメントして、ステップＳ９２に戻る。
ステップＳ９８の判定処理にて、Cm(k,1)≦０である場合、消耗品選定部４１６はステップＳ１０１に進む。
ステップＳ１０１において、消耗品選定部４１６は、１番目から１＋ｓ番目までのメインテナンス日及びメインテンス時間をファイルＣのデータに戻す。
そして、ステップＳ１０２において、消耗品選定部４１６は、変数ｓの値をデクリメントしてステップＳ１０３に進む。
ステップＳ１０３において、消耗品選定部４１６は、１番目から１＋ｓ番目までの交換モジュール又は交換部品の各メインテナンス日をすべてメインテナンス候補日Dmop(k,1)に変更する。ステップＳ１０３の処理はステップＳ９２の処理と同様である。
ステップＳ１０４において、消耗品選定部４１６は、１番目から１＋ｓ番目の中で最も長い時間のメインテナンス時間を、メインテナンス時間Tmop(k,1)とする。ステップＳ１０４の処理はステップＳ９４の処理と同様である。
ステップＳ１０５において、消耗品選定部４１６は、コストメリットの計算を行う。ステップＳ１０５の処理はステップＳ９６の処理と同様である。
その後ステップＳ１０６において、消耗品選定部４１６は、ファイルＨにデータの書き込みを行う。ステップＳ１０６の後、図３８のフローチャートを終了する。
１０．２．３ ファイルＨに含まれるテーブルデータの例
図４０は、ファイルＨに含まれるテーブルデータの例を示す図表である。ファイルＨには、指定されたメインテナンス候補日に交換を実施する交換モジュール又は交換部品の品目群、交換日の前倒しによる増加コスト、メインテナンス時間、ダウンタイム低減コスト、及びコストメリットの情報が含まれる。「交換日」はメインテナンス日と同義である。
図４１は、標準メインテナンス日と、メインテナンス候補日を前倒しした最適メインテナンス日との関係を模式的に示す説明図である。図４１は、図４０に示されたテーブルデータの内容を反映している。
図４１において、ｑ＝１～４の交換モジュール又は交換部品の交換日が、標準メインテナンス日からメインテナンス候補日Dmop(k,1)に前倒しされることを表している。
１０．３ 作用・効果
実施形態５によれば、リソセル#kのメインテナンス候補日から交換モジュール及び交換部品の選定の最適化を行うことができるので、以下の作用効果がある。
（a)メインテナンススケジュール計画部３７２で計画されたメインテナンス日ではメインテナンスができない場合に、メインテナンスが可能な候補日から交換モジュール及び交換部品の選定の最適化を行うことができる。
（b)リソセル#kが何かの不具合で、停止する予定がある場合に、その停止日をメインテナンス候補日として入力した上で交換モジュール及び交換部品の選定を行うことによって、コストを低減できる。
１１．実施形態６
１１．１ 構成
図４２は、実施形態６に係るリソセル管理サーバ３１６の機能を示すブロック図である。図７で説明した実施形態１に係るリソセル管理サーバ３１０との相違点を説明する。
実施形態６に係るリソセル管理サーバ３１６は、図７の構成に対して、第１の寿命パラメータリセット部４２０が追加されている。また、実施形態６のリソセル管理サーバ３１６は、図７のメインテナンススケジュール計画部３７０に代えて、メインテナンススケジュール計画部３７３を含む。メインテナンススケジュール計画部３７３によって作成される、最適化されたメインテナンススケジュールの情報を保存したファイルを、ファイルＥ（２）と表記する。また、ファイルＥ（２）のコピーファイルをファイルＥ（３）と表記する。ファイルＥ（２）に含まれるテーブルデータの例については図４４を用いて後述する。
リソセル管理サーバ３１６は、ファイルＥ（２）を記憶しておく記憶部３８２と、ファイルＥ（３）を記憶しておく記憶部３８３と、を含む。
１１．２ 動作
１１．２．１ リソセル管理サーバの動作
図４２に示すメインテナンススケジュール計画部３７３は、図７のメインテナンススケジュール計画部３７０の処理と同様にメインテナンススケジュールの最適化を行う。計算結果をファイルＥ（２）に保存する。データ出力部３９０は、ファイルＥ（２）のデータを、図示しない表示端末又は半導体工場管理システム２０８に送信する。
こうして、メインテナンススケジュール計画部３７３によって最適化されたメインテナンススケジュール計画が作成された後、この計画についての実行の採否が判断され、図示しない入力端末、又は、半導体工場管理システム２０８から、第１のメインテナンス日を確定する信号がリソセル管理サーバ３１６に入力され得る。
第１のメインテナンス日とは、ｖ＝１のメインテナンス日であり、現在の日時から最も早く到来するメインテナンス日を指す。例えば、図２０で説明したテーブルデータによるメインテナンススケジュール計画が提示された場合の「第１のメインテナンス日」は、Dmop（k,1）である。第１のメインテナンス日を確定する信号を「第１のメインテナンス日確定信号」という。
リソセル管理サーバ３１６は、第１のメインテナンス日確定信号の入力を受け付ける。データ取得部３２０を介して、第１のメインテナンス日確定信号が入力されると、第１の寿命パラメータリセット部４２０は、第１のメインテナンス日を確定させる処理を行うとともに、第１のメインテナンス日に交換が行われることが決定された交換モジュール又は交換部品の寿命パラメータをリセットする処理を行う。
図４３は、第１の寿命パラメータリセット部４２０における処理内容の例を示すフローチャートである。
ステップＳ１４１において、第１の寿命パラメータリセット部４２０は、図示しない入力端末、又は、半導体工場管理システム２０８から、第１のメインテナンス日確定信号が入力されたか否かを判定する。
第１の寿命パラメータリセット部４２０は、第１のメインテナンス日確定信号が未入力である場合は、ステップＳ１４１を繰り返し、第１のメインテナンス日確定信号の入力を待機する。
第１の寿命パラメータリセット部４２０は、第１のメインテナンス日確定信号が入力されると、ステップＳ１４２に進む。
ステップＳ１４２において、第１の寿命パラメータリセット部４２０は、前回メインテナンス計画を作成したファイルＥ（２）のデータを、ファイルＥ（３）にコピーする。例えば、この段階でのファイルＥ（３）のテーブルデータは、図２０に示したファイルＥのテーブルデータのようなものであってよい。
ステップＳ１４４において、第１の寿命パラメータリセット部４２０は、ファイルＥ(３)のデータの内、第１のメインテナンス日Dmopd(k,1)を確定させる。例えば、図２０におけるDmop(k,1)を第１のメインテナンス日Dmopd(k,1)として確定させる。
ステップＳ１４６において、第１の寿命パラメータリセット部４２０は、ファイルＥ（２）に、確定した第１のメインテナンス日Dmopd(k,1)のデータを書き込む。すなわち、第１の寿命パラメータリセット部４２０は、ファイルＥ（２）のデータ内で、Dmop(k,1)を第１のメインテナンス日Dmopd(k,1)として確定させ、第１のメインテナンス日Dmopd(k,1)に交換を実施することが決定された交換モジュール又は交換部品のデータをファイルＥ（２）に書き込む。第１の寿命パラメータリセット部４２０にて書き込みが実施されたファイルＥ（２）のテーブルデータの例を図４４に示す。
第１のメインテナンス日の確定に伴い、第１のメインテナンス日に交換を実施する交換モジュール又は交換部品のグループについて、交換日の前倒しによる増加コスト、メインテナンス時間、ダウンタイム低減コスト、及びコストメリットの各々を確定させる。
図４４において、メインテナンス日の早い順の上位３つの交換モジュール又は交換部品について第１のメインテナンス日Dmopd（k,1）が確定した例が示されている。図４４に示すように、メインテナンス日が決定した部品群について、第１のメインテナンス日Dmopd（k,1）の確定に伴い、交換日の前倒しによる増加コスト、メインテナンス時間、ダウンタイム低減コスト、及びコストメリットの各々が、Cexcupd(k,1)、Tmopd(k,1)、Cdtdd(k,1)、及びCmd(k,1)として確定される。
図４３のステップＳ１４８において、第１の寿命パラメータリセット部４２０は、ファイルＢのデータのうち、第１のメインテナンス日が決定された消耗品の寿命パラメータを０にリセットする。
ファイルＢにおいて、第１のメインテナンス日が決定された、交換する消耗品の寿命パラメータが０にリセットされると、図６の処理と同様に、標準メインテナンス日計算部３４０では、第１のメインテナンス日が決定された、交換する消耗品の寿命パラメータを０として標準メインテナンス日を再計算して、ファイルＣにデータを保存する。
メインテナンススケジュール計画部３７３では、図７のメインテナンススケジュール計画部３７０の処理と同様にメインテナンススケジュールの最適化を行い、計算結果をファイルＥ（２）に保存する。
データ出力部３９０は、ファイルＥ（２）のデータを、図示しない表示端末又は半導体工場管理システム２０８に送信する。
図４５は、図４４のテーブルデータを反映したメインテナンススケジュール計画の概念図である。図４５において、ud＝2とud＝3の各消耗品について標準メインテナンス日よりもメインテナンス日が前倒しされ、ud＝1の消耗品の標準メインテナンス日と同じ日に、メインテナンス日が確定している。この第１のメインテナンス日の確定に伴い、その後のメインテナンススケジュール計画が再計算され、新たにu＝１～12の各消耗品のメインテナンススケジュール計画が提示される。
図４５の例では、ud＝1～3のメインテナンス日が確定され、次回の標準メインテナンス日を計算して、u＝10～12を追加している。そして、u＝10～12の各消耗品について標準メインテナンス日よりもメインテナンス日が前倒しされ、u＝8の消耗品の標準メインテナンス日と同じ日に、メインテナンス日が推奨されている。
１１．３ 作用・効果
実施形態６によれば、作成されたメインテナンススケジュール計画における第１のメインテナンス日を確定した後、その後のメインテナンススケジュール計画を立て直すことが可能となるため、メインテナンススケジュール作成の精度が改善される。
１１．４ その他
実施形態６の説明では、第１のメインテナンス日を確定させる場合の例を示したが、この例に限定されることなく、例えば、第１のメインテナンス日を確定した後、第２のメインテナンス日を確定して、メインテナンススケジュール計画を立ててもよい。また、第１のメインテナンス日から第ｖのメインテナンス日の各メインテナンス日を確定する信号を受信して、逐次計算して、メインテナンススケジュール計画を立てもよい。
１２．メインテナンススケジュール計画の最適化の例
図４６は、コスト最小化の観点からメインテナンススケジュール計画を作成する処理の例を示すフローチャートである。図４６に示すフローチャートは、メインテナンススケジュール計画部３７０、３７２、３７３のいずれかが実施してよい。ここでは、メインテナンススケジュール計画部３７０が実施する例を説明する。
ステップＳ１６２において、メインテナンススケジュール計画部３７０は、ファイルＤからリソセル#kの単位時間当たりのダウンタイムコストを読み込む。
ステップＳ１６４において、メインテナンススケジュール計画部３７０は、ファイルＣからリソセル#kの交換モジュール及び交換部品のテーブルデータを読み込む。
ステップＳ１６８において、メインテナンススケジュール計画部３７０は、変数ｖを初期値である「１」に初期化する。
ステップＳ１７０において、メインテナンススケジュール計画部３７０は、第ｖのメインテナンス日として、第ｖ－１までに抽出された消耗品以外の残り消耗品の中で標準メインテナンス日が一番早い日を仮のメインテナンス日とする。ｖ＝１の場合は、リソセル#kのすべての消耗品の中で標準メインテナンス日が一番早い日をメインテナンス日と仮定する（仮のメインテナンス日とする）。そして、消耗品の中で標準メインテナンス日が一番早い日をメインテナンス日と仮定し、上記すべての消耗品の組合せのそれぞれのコストメリットを計算する。
すなわち、ステップＳ１７２において、メインテナンススケジュール計画部３７０は、上記すべての残りの消耗品のメインテナンス日を仮のメインテナンス日として、すべての組合せの消耗品をメインテナンスする場合のそれぞれのコストメリットを計算する。
すべての残りの消耗品に関して、組合せ消耗品をまとめて交換することによって、削減されるメインテナンス時間によるダウンタイム低減コストと、仮のメインテナンス日に前倒しすることによる増加コストとの差からコストメリットをそれぞれ計算する。ステップＳ１７２におけるコストメリットの計算処理は、例えば、図１９のフローチャートと同様の手順で行われる。
図４６のステップＳ１７４において、メインテナンススケジュール計画部３７０は、ステップＳ１７２の計算結果から、コストメリットが最大となる消耗品の組合せを抽出し、抽出された消耗品の仮のメインテナンス日をすべて、決定された最適メインテナンス日Dmop(k,v)とする。こうして、第ｖの最適メインテナンス日が定まる。
その後、ステップＳ１７６において、メインテナンススケジュール計画部３７０は、ｖの値をインクリメントして、ステップＳ１７８に進む。
ステップＳ１７８において、メインテナンススケジュール計画部３７０は、メインテナンス日が決定されていない消耗品があるか否かを判定する。
ステップＳ１７８にてＹｅｓ判定の場合、すなわち、メインテナンス日が決定されていない消耗品が存在する場合は、ステップＳ１７０に戻り、メインテナンススケジュール計画部３７０は、ステップＳ１７０からステップＳ１７８の処理を繰り返す。
ステップＳ１７８にてＮｏ判定の場合、すなわち、すべての消耗品についてメインテナンス日が決定された場合は、ステップＳ１８０に進む。
ステップＳ１８０において、メインテナンススケジュール計画部３７０は、ステップＳ１７４にて決定した各消耗品の最適メインテナンス日を含むメインテナンススケジュール計画のデータをファイルＥに書き込む。
ステップＳ１８０の後、図４６のフローチャートを終了する。
１３． 監視パラメータの具体例
図４７は、消耗品の寿命予測に用いられる監視パラメータの例を示す図表である。例えば、Ｃ／Ｄ装置１２の基板回転モジュールの場合は、基板の回転回数をモニタし、モータの回転回数が監視パラメータの閾値を越える寿命パラメータ値を求めてもよい。
Ｃ／Ｄ装置１２のドレイン回収モジュールの場合は、レジストの使用量をモニタし、レジストの使用量が監視パラメータの閾値を越える寿命パラメータ値を求めてもよい。
Ｃ／Ｄ装置１２及び露光装置１４のウエハ搬送ラインの交換部品の場合は、ウエハの搬送回数をモニタしてよい。ウエハの搬送回数は、Ｃ／Ｄ装置１２と露光装置１４内に配置されている各部に、それぞれ搬送する回数をモニタして、搬送回数が監視パラメータの閾値を越える寿命パラメータ値を求めてもよい。
露光装置１４の投影光学系の交換部品の場合は、第１光センサ７１及び第２光センサ８２の検出値に基づいて投影光学系７８の透過率をモニタし、投影光学系７８の透過率が監視パラメータの閾値を越える寿命パラメータ値を求めてもよい。
また、露光装置１４の照明光学系の交換部品の場合は、露光装置１４に入射するパルスレーザ光のパルスエネルギ及び第１光センサ７１の検出値に基づいて照明光学系６６の中に含まれる一部の交換部品、例えばフライアイレンズ６７等の透過率をモニタし、透過率が監視パラメータの閾値を越える寿命パラメータ値を求めてもよい。
レーザ装置１６のＬＮＭの場合は、スペクトル線幅又は波長安定性をモニタし、スペクトル線幅又は波長安定性が監視パラメータの閾値を越える寿命パラメータ値を求めてもよい。
レーザ装置１６のレーザチャンバの場合は、レーザチャンバのガス圧、充電電圧やエネルギ安定性をモニタし、充電電圧Ｖhvやエネルギ安定性が監視パラメータの閾値を越える寿命パラメータ値を求めてもよい。
レーザ装置１６のフロントミラーの場合は、ビームプロファイルをモニタし、ビームプロファイルの面積に対する劣化面積比を監視パラメータとして、その閾値を越える寿命パラメータ値を求めてもよい。
レーザ装置１６のモニタモジュールの場合は、光センサの感度劣化を監視パラメータとして、その閾値を越える寿命パラメータ値を求めてもよい。
１４．同じ装置で複数の消耗品を同日に交換する場合のダウンタイム削減の例
１４．１ フローチャートの例
図４８は、メインテナンススケジュール計画部における処理内容の例を示すフローチャートである。図４８に示すフローチャートは、図１８及び図２６のステップＳ３４の処理に適用され得る。ここでは、メインテナンススケジュール計画部３７０における処理の例を説明する。
図４８のステップＳ１９２において、メインテナンススケジュール計画部３７０は、図１２に示すファイルＢにおけるテーブルデータ（１）の第u番目から第u+s番目のデータを参照して、各消耗品のそれぞれの標準メインテナンス時間をファイルＩに保存する。なお、リソセル管理サーバ３１０は、ファイルＩを記憶する図示せぬ記憶部を含む。
図４８のステップＳ１９４において、メインテナンススケジュール計画部３７０は、図１３に示すファイルＢのテーブルデータ（２）を参照して、同じ装置の消耗品を同時にメインテナンスする消耗品の組合せがファイルＢのテーブルデータ（２）のいずれかのデータと一致する場合に、テーブルデータ（２）のメインテナンス時間をファイルＩに書に込む。
ステップＳ１９６において、ファイルＩのデータの中で一番長い時間のメインテナンス時間をＴmop(k,v)とする。
ステップＳ１９６の後、図１８又は図２６のフローチャートに復帰する。
１４．２ 作用・効果
図４８に示すフローチャートによれば、同じ装置の消耗品を同時にメインテナンスする消耗品の組合せでメインテナンス時間が短縮できるデータに基づいて、コストメリットを計算することができる。その結果、メインテナンススケジュールの計画の精度が改善される。
１４．３ その他
図４６のステップＳ１７２におけるコストメリットの計算においても、図４８に示すフローチャートの計算処理を実施してよい。
１５．リソグラフィシステムの他の形態
１５．１ 構成
図４９は、リソグラフィシステムの他の形態例を示すブロック図である。図６との相違点を説明する。図４９に示すリソグラフィシステム３０２は、リソセル１０の構成要素として、１台のＣ／Ｄ装置１２と、２台の露光装置１４Ａ、１４Ｂと、２台のレーザ装置１６Ａ、１６Ｂと、を含む。
図４９において、リソセル#kにおける２台の露光装置を露光装置#k-１、露光装置#k-2と表記した。また、リソセル#kにおける２台のレーザ装置をレーザ装置#k-１、レーザ装置#k-2と表記した。
１５．２ 動作
図４９におけるリソセル管理サーバ３１０は、各装置に関する情報収集やメインテナンススケジュールの最適化を、リソセル単位で行う。
１５．３ 作用・効果
図４９に示すように、リソセル１０を構成する装置の構成要素が変更になっても、リソセル単位で、メインテナンススケジュールの最適化が可能である。
１５．４ その他
図６では、リソセル１０がＣ／Ｄ装置1台、露光装置１台、及びレーザ装置１台で構成される形態の例を説明し、図４９では、リソセル１０がＣ／Ｄ装置１台、露光装置２台、及びレーザ装置２台で構成される形態の例を説明したが、これらの例に限定されない。例えば、１つのリソセル１０の単位の構成要素としては、Ｃ／Ｄ装置１２、露光装置１４及びレーザ装置１６の各々が少なくとも１台以上含まれる構成であればよい。
１６．実施形態７
１６．１ ライン単位でメインテナンススケジュール計画を最適化する形態の概要
これまでリソセル単位で情報収集とメインテナンススケジュール計画を最適化する例を説明したが、「ライン」の単位でメインテナンススケジュール計画を最適化してもよい。「ライン」は製造ラインを意味する。大規模な半導体工場では、複数のラインが並列に配置されている場合がある。各製造ラインは、１つ以上のリソセルから構成される。
図５０は、半導体工場におけるリソグラフィシステムの他の形態例を示す図である。図５０に示すリソグラフィシステム３０７は、複数のラインを含む。ここでは簡単のために、２つのラインを図示する。ライン#1は、３つのリソセル#1～#3から構成される。ライン#2は、２つのリソセル#4及びリソセル#5から構成される。各ラインは、異なる種類の半導体用のウエハを処理してよい。例えば、ライン#1では、第１の半導体用のウエハを処理し、ライン#2では第２の半導体用のウエハを処理する。
ライン#1の中では複数のリソセル１０を通過してウエハを処理しているため、ライン#1の中のリソセル１０のうち１つのリソセルのウエハの処理が停止すると、ライン#1の半導体の生産が止まったり、ウエハの処理枚数が低下したりする場合がある。この場合は、ライン#1の中の複数のリソセル１０を同じ時期にメインテナンスした方が全体としてコストを低減することができる。
そこで、実施形態７では、リソセル管理サーバ３１７がラインの情報を半導体工場管理システム２０８等から受信して、ライン単位の、複数のリソセル１０の消耗品のメインテナンススケジュールを作成する。
１６．２ 構成
図５１は、実施形態７に係るリソセル管理サーバ３１７の機能を示すブロック図である。図７との相違点を説明する。
図５１に示すリソセル管理サーバ３１７は、ファイルＤに代えて、ラインの情報を追加したファイルＤ（２）を用いる。リソセル管理サーバ３１７は、ファイルＤの記憶部３６０に代えて、ファイルＤ（２）を記憶しておく記憶部３６２を備える。リソセル管理サーバ３１７は、標準メインテナンス計算部３４０に代えて、ファイルＤ（２）のデータを用いて標準メインテナンス日を計算する標準メインテナンス日計算部３４３を備える。標準メインテナンス日計算部３４３は、ライン＃αにおける複数のリソセルの交換モジュール又は交換部品（消耗品）を合わせて標準メインテナンス日を計算する。なお、「ライン＃α」の表記における「α」はライン番号である。αは１からβまでの整数を取り得る。βはラインの総数である。
標準メインテナンス日計算部３４３は、ファイルＣに代えて、ライン＃αにおける複数のリソセルのデータを含むファイルＣ（２）を作成する。リソセル管理サーバ３１７は、ファイルＣの記憶部３５０に代えて、ファイルＣ（２）を記憶しておく記憶部３５２を備える。
リソセル管理サーバ３１７は、メインテナンススケジュール計画部３７０に代えて、メインテナンススケジュール計画部３７４を備える。メインテナンススケジュール計画部３７４は、ファイルＣ（２）のデータとファイルＤ（２）のデータとを用いて、ライン＃αの複数のリソセルの消耗品を合わせてメインテナンススケジュールを計画する。
メインテナンススケジュール計画部３７４は、ファイルＥに代えて、ライン＃αの複数のリソセルのデータを含むファイルＥ（４）を作成する。リソセル管理サーバ３１７は、ファイルＥの記憶部３８０に代えて、ファイルＥ（４）を記憶しておく記憶部３８４を備える。
１６．３ 動作
リソセル管理サーバ３１７のデータ取得部３２０は、半導体工場管理システム２０８からラインの情報を取得して、ファイルＤ(２）にラインの情報を追加して書き込む。
図５２にファイルＤ（２）のテーブルデータの例を示す。ファイルＤ（２）は、図１７に示したファイルＤのテーブルデータと比較して、ラインの情報としてのライン番号が追加され、各ラインの中にある複数のリソセルの単位時間当たりのダウンタイムによる損失コストの情報が含まれる。
図５１に示す標準メインテナンス日計算部３４３は、ライン＃α毎の複数のリソセル１０の消耗品を合わせてそれぞれの標準メインテナンス日を計算して、計算結果をファイルＣ（２）に保存する。
図５３は、標準メインテナンス日計算部３４３における処理内容の例を示すフローチャートである。
ステップＳ２０１において、標準メインテナンス日計算部３４３は、ファイルＤ（２）からラインの情報を読み込む。
ステップＳ２０２において、標準メインテナンス日計算部３４３は、ファイルＡからライン＃αに該当する複数のリソセルの過去の稼動情報のデータを読み込む。
ステップＳ２０４において、標準メインテナンス日計算部３４３は、ファイルＢからライン＃αに該当する複数のリソセルの消耗品についてメインテナンス情報を読み込む。
ステップＳ２０６において、標準メインテナンス日計算部３４３は、ファイルＡ及びファイルＢから読み込んだデータからライン＃αに該当する複数のリソセルの消耗品の標準メインテナンス日を計算する。
ステップＳ２０８において、標準メインテナンス日計算部３４３は、ステップＳ２０６で求めたライン＃αの各消耗品の標準メインテナンス日をファイルＣ（２）に書き込む。ステップＳ２０８の後、図５３のフローチャートを終了する。
メインテナンススケジュール計画部３７４は、図５のメインテナンススケジュール計画部３７０の処理と同様に、ライン＃αの複数のリソセルの消耗品を合わせてメインテナンススケジュールの最適化を行い、その計算結果をファイルＥ（４）に保存する。メインテナンススケジュール計画部３７４は、ラインの単位でコストメリットを評価して各消耗品のメインテナンススケジュールを最適化することができる。
データ出力部３９０は、ファイルＥ（４）のデータを、図示しない表示端末又は半導体工場管理システム２０８に送信する。
１６．４ 作用・効果
実施形態７によれば、ラインの単位で、一連のウエハ処理に関連する同じライン内の複数のリソセルに含まれるすべての消耗品のメインテナンススケジュールを計画できるので、ダウンタイムが低減され、コストが低減される。
１６．５ 変形例
実施形態１から実施形態６の各実施形態においてリソセル毎に行うとした処理は、ライン毎に行う処理に拡張することができる。例えば、実施形態７において、標準メインテナンス日を計算する際に、実施形態２と同様に、ファイルＡのデータに加え、ファイルＦのデータを利用して標準メインテナンス日を計算してもよい。また、実施形態７において、実施形態３と同様に、レシピ情報を追加してもよい。
１７．実施形態８
１７．１ 構成
図５４は、実施形態８に係るリソセル管理サーバの機能を示すブロック図である。図７との相違点を説明する。図５４に示すリソセル管理サーバ３１８は、メインテナンス作業を担当するサービスエンジニアに関する情報を用いて標準メインテナンス時間の計算を行う機能が追加されている。サービスエンジニアに関する情報を「サービスエンジニア情報」という。サービスエンジニア情報を保存するファイルを「ファイルＪ」と呼ぶ。
リソセル管理サーバ３１８は、ファイルＪの作成、記憶、情報の読み出し及び書き込みを行う機能を有する。リソセル管理サーバ３１８は、ファイルＪを記憶しておく記憶部４４０と、ファイルＪのサービスエンジニア情報から標準メインテナンス時間を計算する標準メインテナンス時間計算部４４２と、を含む。
１７．２ 動作
リソセル管理サーバ３１８のデータ取得部３２０は、Ｃ／Ｄ装置用管理システム２０２と露光装置用管理システム２０４とレーザ装置用管理システム２０６の各々から各装置のサービスエンジニア情報を取得して、ファイルＪに書き込む。
図５５にファイルＪのテーブルデータの例を示す。Ｃ／Ｄ装置、露光装置、及びレーザ装置の装置毎に、複数のサービスエンジニアが登録されている。図５５において、サービスエンジニアの各々を識別するために、識別用の符号#1、#2…#12を用いている。Ｃ／Ｄ装置に対してサービスエンジニア#1～#4が登録されている。露光装置に対してはサービスエンジニア＃5～#8が、レーザ装置に対してはサービスエンジニア＃9～#12が、それぞれ登録されている。ここでは、装置毎に４名のサービスエンジニアが登録されている例を示しているが、サービスエンジニアの人数については、特に限定されない。
それぞれのサービスエンジニア#1～#12には、メインテナンス時間係数γと、メインテナンス可能地域の範囲Ｌと、が定められている。サービスエンジニア#kのメインテナンス時間係数をγ（#k）と表記し、メインテナンス可能地域の範囲をＬ(#k)と表記する。メインテナンス時間係数γは、平均的メインテナンス時間に対して、どれくらいのメインテナンス時間がかかるかを比率で示す係数である。「平均的メインテナンス時間」は、標準的な技量を持つサービスエンジニアがメインテナンス作業を実施する場合に要する平均的なメインテナンス時間を指す。各サービスエンジニアがメインテナンスを実施する場合に要するメインテナンス時間は、標準のメインテナンス時間と、サービスエンジニア毎のメインテナンス時間係数との積で表される。例えば、γ＝１の場合は、そのサービスエンジニアのメインテナンス時間は平均的なメインテナンス時間であることを示す。メインテナンス時間係数γは、個々のサービスエンジニアの技量を示す値である。γが小さいほど技量が高く、γが大きいほど技量が低いことを示す。
メインテナンス可能地域の範囲Ｌは、それぞれのサービスエンジニアがメインテナンス対応可能な地域の範囲を示す情報が保存されている。メインテナンス可能地域の範囲Ｌが半導体工場が設置されている地域と一致する場合に、そのサービスエンジニアがメインテナンスを行うことが可能となる。
図５４に示す標準メインテナンス時間計算部４４２では、ファイルＪのテーブルデータと半導体工場の設置地域とから、各装置をメインテナンスするサービスエンジニアを選定する。サービスエンジニアは、地域によってサービスエリアが異なるので、半導体工場が建設された地域で消耗品のメインテナンスが可能なサービスエンジニアは限定され、実際に作業を担当するサービスエンジニアを選定することができる。
そして、標準メインテナンス時間計算部４４２は、ファイルＢのテーブルデータにおける標準メインテナンス時間と、ファイルＪのメインテナンス時間係数γとの積から、選定されたサービスエンジニアの標準メインテナンス時間を計算する。なお、「平均的メインテナンス時間」は、図１２に例示したファイルＢの「標準メインテナンス時間Tmhs（k,l,m）」の初期値として与えられてもよい。
標準メインテナンス時間計算部４４２は、計算した値を標準メインテナンス時間としてファイルＢに書き込む。
その後の処理は、図６で説明した実施形態１の処理と同様である。
図５６は、標準メインテナンス時間計算部４４２における処理内容の例を示すフローチャートである。
ステップＳ２２２において、標準メインテナンス時間計算部４４２は、ファイルＪからサービスエンジニア情報のデータを読み込む。
ステップＳ２２４において、標準メインテナンス時間計算部４４２は、ファイルＢからリソセル#kの消耗品の標準メインテナンス時間を読み込む。
ステップＳ２２６において、標準メインテナンス時間計算部４４２は、ファイルＪのデータから半導体工場の地域に応じてリソセル内の各装置のそれぞれのサービスエンジニアを選定する。
ステップＳ２２８において、標準メインテナンス時間計算部４４２は、ファイルＪのサービスエンジニアのメインテナンス時間係数γと、ファイルＢの標準メインテナンス時間との積の値を計算する。すなわち、標準メインテナンス時間計算部４４２は、サービスエンジニアの技量を表すパラメータであるメインテナンス時間係数γと、ファイルＢの標準メインテナンス時間との積から、選定されたサービスエンジニアがメインテナンスした場合の標準メインテナンス時間を計算する。
ステップＳ２３０において、標準メインテナンス時間計算部４４２は、ステップＳ２２８にて計算した値を標準メインテナンス時間として、ファイルＢに書き込む。
その後の処理は、実施形態１における処理と同様である。
１７．３ 作用・効果
実施形態８によれば、サービスエンジニアの技量を表すパラメータを加味して標準メインテナンス時間を計算するため、メインテナンススケジュール計画をより一層高い精度で最適化することができる。
１７．４ 変形例
ファイルＪに保存する情報として、例えば、サービスエンジニアのメインテナンス時期の範囲をファイルＪに保存しておいてもよい。この場合は、標準メインテナンス日がメインテナンス時期の範囲に入るサービスエンジニアを選定して、計算してもよい。
１８．実施形態の組合せについて
実施形態１から実施形態８の各実施形態で説明した構成は、適宜組み合わせることが可能である。
１９．プログラムを記録したコンピュータ可読媒体について
上述の各実施形態で説明したリソセル管理サーバとして、コンピュータを機能させるための命令を含むプログラムを光ディスクや磁気ディスクその他のコンピュータ可読媒体（有体物たる非一過性の情報記憶媒体）に記録し、この情報記憶媒体を通じてプログラムを提供することが可能である。このプログラムをコンピュータに組み込み、プロセッサがプログラムの命令を実行することにより、コンピュータにリソセル管理サーバの機能を実現させることができる。
上記の説明は、制限ではなく単なる例示を意図している。したがって、添付の特許請求の範囲を逸脱することなく本開示の実施形態に変更を加えることができることは、当業者には明らかであろう。
本明細書及び添付の特許請求の範囲全体で使用される用語は、「限定的でない」用語と解釈されるべきである。例えば、「含む」又は「含まれる」という用語は、「含まれるものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。「有する」という用語は、「有するものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。また、本明細書、及び添付の特許請求の範囲に記載される不定冠詞「１つの」は、「少なくとも１つ」又は「１又はそれ以上」を意味すると解釈されるべきである。また、「Ａ、Ｂ及びＣの少なくとも１つ」という用語は、「Ａ」「Ｂ」「Ｃ」「Ａ＋Ｂ」「Ａ＋Ｃ」「Ｂ＋Ｃ」又は「Ａ＋Ｂ＋Ｃ」と解釈されるべきである。さらに、それらと「Ａ」「Ｂ」「Ｃ」以外のものとの組み合わせも含むと解釈されるべきである。

Claims (20)

  1. リソグラフィシステムのメインテナンス管理方法であって、
    レジストの塗布、露光、及び現像を行う前記リソグラフィシステムを構成する１組単位の装置群であるリソグラフィセル毎に稼動情報を整理して前記リソグラフィセル毎の前記稼動情報を保存することと、
    前記リソグラフィセル毎に前記装置群の各装置におけるメインテナンスの対象となる消耗品に関するメインテナンス情報を整理して前記リソグラフィセル毎の前記消耗品に関する前記メインテナンス情報を保存することと、
    前記リソグラフィセル毎の前記稼動情報及び前記リソグラフィセル毎の前記消耗品に関する前記メインテナンス情報に基づいて、前記リソグラフィセル毎の前記消耗品の標準メインテナンス時期を計算することと、
    前記リソグラフィセル毎の前記消耗品の前記標準メインテナンス時期と、前記リソグラフィセル毎の前記消耗品を交換することによるダウンタイムの情報と、前記リソグラフィセル毎の又は同一のウエハを露光する２つ以上の前記リソグラフィセルを含む製造ライン毎の前記ダウンタイムによる損失コスト情報に基づいて、前記製造ライン内の複数の前記リソグラフィセルに含まれる複数の前記消耗品のメインテナンススケジュール計画を前記製造ラインのダウンタイムが減少するように前記製造ライン毎に作成することと、
    前記メインテナンススケジュール計画の作成結果を出力することと、
    を含むメインテナンス管理方法。
  2. 請求項１に記載のメインテナンス管理方法であって、
    前記稼動情報は、過去の稼動データを含むメインテナンス管理方法。
  3. 請求項２に記載のメインテナンス管理方法であって、
    前記稼動情報は、今後の稼動予定データを含むメインテナンス管理方法。
  4. 請求項１に記載のメインテナンス管理方法であって、
    前記リソグラフィセルは、塗布／現像装置と、露光装置と、レーザ装置と、を含むメインテナンス管理方法。
  5. 請求項４に記載のメインテナンス管理方法であって、
    前記稼動情報は、データ取得日を含み、
    リソグラフィセル毎のウエハ処理枚数と、露光装置による露光パルス数と、レーザ装置の発振パルス数と、レーザ装置から出力されるパルスレーザ光のパルスエネルギと、の少なくとも１つを含むメインテナンス管理方法。
  6. 請求項５に記載のメインテナンス管理方法であって、
    前記稼動情報は、各レジスト材料及び各マスクパターンに対応した露光条件を示すレシピ情報をさらに含むメインテナンス管理方法。
  7. 請求項１に記載のメインテナンス管理方法であって、
    前記リソグラフィセル毎の前記消耗品に関する前記メインテナンス情報は、前記消耗品のそれぞれについての、寿命値と、標準メインテナンス時間と、交換コストと、寿命パラメータ値と、を含み、
    前記標準メインテナンス時間は、前記消耗品を単体で交換することにより見込まれるダウンタイムであり、
    前記寿命パラメータ値は、前記消耗品の寿命と相関する寿命パラメータの値であるメインテナンス管理方法。
  8. 請求項７に記載のメインテナンス管理方法であって、さらに、
    前記リソグラフィセル毎にそれぞれの前記消耗品の寿命と相関する寿命監視パラメータの情報を含む寿命予測情報を取得することと、
    前記寿命予測情報を基に、前記リソグラフィセル毎のそれぞれの前記消耗品の予測寿命値を計算することと、
    前記予測寿命値のデータを、前記寿命値として保存すること、
    を含むメインテナンス管理方法。
  9. 請求項７に記載のメインテナンス管理方法であって、さらに、
    前記作成された前記メインテナンススケジュール計画における第１のメインテナンス日を確定させる第１のメインテナンス日確定信号の入力を受け付けることと、
    前記第１のメインテナンス日確定信号に基づき、前記第１のメインテナンス日が確定された前記消耗品の前記寿命パラメータ値をリセットすることと、
    を含むメインテナンス管理方法。
  10. 請求項１に記載のメインテナンス管理方法であって、さらに、
    メインテナンス候補日を取得することと、
    前記取得したメインテナンス候補日を基に、前記メインテナンス候補日に交換を行う前記消耗品の選定を行うことと、
    を含むメインテナンス管理方法。
  11. 請求項１に記載のメインテナンス管理方法であって、
    前記損失コスト情報は、前記リソグラフィセル毎のウエハ処理が停止した場合の単位時間当たりに発生する損失コストの情報であるメインテナンス管理方法。
  12. 請求項１に記載のメインテナンス管理方法であって、
    前記損失コスト情報は、前記製造ライン毎のウエハ処理が停止した場合の単位時間当たりに発生する損失コストの情報であるメインテナンス管理方法。
  13. 請求項１に記載のメインテナンス管理方法であって、さらに、
    前記リソグラフィセル毎の前記稼動情報及び前記リソグラフィセル毎の前記消耗品に関する前記メインテナンス情報に基づいて、前記リソグラフィセル毎の前記消耗品に関するそれぞれの標準メインテナンス時間と、それぞれの単位寿命当りの交換コストと、を計算すること、を含むメインテナンス管理方法。
  14. 請求項１３に記載のメインテナンス管理方法であって、
    前記メインテナンススケジュール計画を作成する処理は、前記リソグラフィセル毎の複数の前記消耗品の交換日を合わせるために前記標準メインテナンス時期が示す標準メインテナンス日よりも交換日を前倒しすることによる増加コストが前記リソグラフィセルのダウンタイム低減による低減コストよりも小さくなるように前記リソグラフィセル毎の前記消耗品の前記メインテナンススケジュール計画を作成すること、を含むメインテナンス管理方法。
  15. 請求項７に記載のメインテナンス管理方法であって、
    前記標準メインテナンス時間を計算する際に、サービスエンジニアの技量を示すパラメータの値を用いるメインテナンス管理方法。
  16. 請求項１に記載のメインテナンス管理方法であって、さらに、
    ネットワークを介して、前記リソグラフィセル毎の前記稼動情報及び前記消耗品に関する前記メインテナンス情報を受信すること、を含むメインテナンス管理方法。
  17. リソグラフィシステムのメインテナンス管理装置であって、
    レジストの塗布、露光、及び現像を行う前記リソグラフィシステムを構成する１組単位の装置群であるリソグラフィセル毎に稼動情報を整理して前記リソグラフィセル毎の前記稼動情報を保存する処理を行う稼動情報処理部と、
    前記リソグラフィセル毎に前記装置群の各装置におけるメインテナンスの対象となる消耗品に関するメインテナンス情報を整理して前記リソグラフィセル毎の前記消耗品に関する前記メインテナンス情報を保存する処理を行うメインテナンス情報処理部と、
    前記リソグラフィセル毎の前記稼動情報及び前記リソグラフィセル毎の前記消耗品に関する前記メインテナンス情報に基づいて、前記リソグラフィセル毎の前記消耗品の標準メインテナンス時期を計算する標準メインテナンス時期計算部と、
    前記リソグラフィセル毎の前記消耗品の前記標準メインテナンス時期と、前記リソグラフィセル毎の前記消耗品を交換することによるダウンタイムの情報と、前記リソグラフィセル毎の又は同一のウエハを露光する２つ以上の前記リソグラフィセルを含む製造ライン毎の前記ダウンタイムによる損失コスト情報に基づいて、前記製造ライン内の複数の前記リソグラフィセルに含まれる複数の前記消耗品のメインテナンススケジュール計画を前記製造ラインのダウンタイムが減少するように前記製造ライン毎に作成するメインテナンススケジュール計画部と、
    前記メインテナンススケジュール計画の作成結果を出力するデータ出力部と、
    を含むメインテナンス管理装置。
  18. 請求項１７に記載のメインテナンス管理装置であって、
    前記標準メインテナンス時期計算部は、さらに、
    前記リソグラフィセル毎の前記稼動情報及び前記リソグラフィセル毎の前記消耗品に関する前記メインテナンス情報に基づいて、前記リソグラフィセル毎の前記消耗品に関するそれぞれの標準メインテナンス時間と、それぞれの単位寿命当りの交換コストと、を計算する処理を行うメインテナンス管理装置。
  19. 請求項１７に記載のメインテナンス管理装置であって、さらに、
    前記リソグラフィセル毎にそれぞれの前記消耗品の寿命と相関する寿命監視パラメータの情報を含む寿命予測情報を取得する寿命予測情報取得部と、
    前記寿命予測情報を基に、前記リソグラフィセル毎のそれぞれの前記消耗品の予測寿命値を計算する予測寿命値計算部と、
    を含むメインテナンス管理装置。
  20. プログラムが記録された非一過性のコンピュータ可読媒体であって、
    プロセッサにより実行された場合に、前記プロセッサに、
    レジストの塗布、露光、及び現像を行うリソグラフィシステムを構成する１組単位の装置群であるリソグラフィセル毎に稼動情報を整理して前記リソグラフィセル毎の前記稼動情報を記憶部に保存する機能と、
    前記リソグラフィセル毎に前記装置群の各装置におけるメインテナンスの対象となる消耗品に関するメインテナンス情報を整理して前記リソグラフィセル毎の前記消耗品に関する前記メインテナンス情報を前記記憶部に保存する機能と、
    前記リソグラフィセル毎の前記稼動情報及び前記リソグラフィセル毎の前記消耗品に関する前記メインテナンス情報に基づいて、前記リソグラフィセル毎の前記消耗品の標準メインテナンス時期を計算する機能と、
    前記リソグラフィセル毎の前記消耗品の前記標準メインテナンス時期と、前記リソグラフィセル毎の前記消耗品を交換することによるダウンタイムの情報と、前記リソグラフィセル毎の又は同一のウエハを露光する２つ以上の前記リソグラフィセルを含む製造ライン毎の前記ダウンタイムによる損失コスト情報に基づいて、前記製造ライン内の複数の前記リソグラフィセルに含まれる複数の前記消耗品のメインテナンススケジュール計画を前記製造ラインのダウンタイムが減少するように前記製造ライン毎に作成する機能と、
    前記メインテナンススケジュール計画の作成結果を出力する機能と、
    を実現させるための命令を含む前記プログラムが記録された非一過性のコンピュータ可読媒体。
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