JPH1097966A - 産業用機器の遠隔保守システム及びこれを利用した生産方法 - Google Patents

産業用機器の遠隔保守システム及びこれを利用した生産方法

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JPH1097966A
JPH1097966A JP8251623A JP25162396A JPH1097966A JP H1097966 A JPH1097966 A JP H1097966A JP 8251623 A JP8251623 A JP 8251623A JP 25162396 A JP25162396 A JP 25162396A JP H1097966 A JPH1097966 A JP H1097966A
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industrial equipment
maintenance
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remote maintenance
maintenance system
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Nobuaki Ogushi
信明 大串
Masaya Ogura
真哉 小倉
Yoshito Yoneyama
好人 米山
Hirohisa Ota
裕久 太田
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  • Small-Scale Networks (AREA)
  • Selective Calling Equipment (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 遠隔地の機器であっても地域を問わず迅速且
つ確実な保守を可能とする産業用機器の遠隔保守システ
ムを提供すること。 【解決手段】 それぞれが半導体製造装置などの産業用
機器を備えた複数の工場と、ホスト管理システムとを通
信手段で接続して、該通信手段を介して各工場の産業用
機器をベンダーの管理システムで遠隔管理することを特
徴とする産業用機器の遠隔保守システムであって、通信
手段はインターネットを利用したものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明が属する技術分野】本発明は、例えば半導体生産
用機器などの保守を必要とする産業用機器の遠隔保守シ
ステムに関する。
【0002】
【従来の技術】従来、保守を必要とする産業用機器、た
とえば半導体デバイスの製造用の機器のトラブル対応や
定期メンテナンスなどの保守は、保守要員がトラブル発
生時に電話やファクシミリで対応したり、定期的もしく
は緊急に保守要員が機器設置工場に赴いて、保守を行っ
ていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年の
半導体生産投資の急増は、生産用機器の設置数の伸びに
対して保守要員が慢性的に不足した状況を作り出しつつ
ある。また、生産体制の世界的な広がりによって、より
低コストな地域を目指して生産拠点が国内、海外各所の
遠隔地に点在している。このような状況変化によって、
従来に比べてトラブル対処や定期保守に対して迅速な対
応が困難になりつつあり、これをいかに解決するかが大
きな課題となっている。また、生産拠点の拡散に伴っ
て、保守情報が各生産拠点にとどまって生産拠点を超え
た情報の共有化が希薄になり、過去のトラブルの経験が
生かしにくいという課題もある。
【0004】本発明はこのような課題に鑑みてなされた
もので、遠隔地に設置された機器であっても地域を問わ
ず迅速且つ確実な保守を可能とする産業用機器の遠隔保
守システムを提供することを目的とする。また、該シス
テムを利用した優れた生産方法を提供することを目的と
する。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明の産業用機器の遠隔保守システムの好ましい形態は、
インターネットを利用して遠隔地の産業用機器の保守情
報を通信することを特徴とするものである。
【0006】また、本発明の産業用機器の遠隔保守シス
テムの別の好ましい形態は、それぞれが産業用機器を備
えた複数の工場と、該産業用機器のベンダーの管理シス
テムとを通信手段で接続して、該通信手段を介して各工
場の産業用機器の保守情報を通信することを特徴とする
ものである。
【0007】また、本発明の産業用機器の遠隔保守シス
テムの別の好ましい形態は、複数の産業用機器を備えた
工場と、該複数の産業用機器のそれぞれのベンダーの管
理システムとを通信手段で接続して、該通信手段を介し
て各産業用機器の保守情報を通信することを特徴とする
ものである。
【0008】そして、この遠隔保守システムを利用して
半導体デバイスを生産する方法や、該方法で生産された
ことを特徴とするデバイスも本発明の範疇に含まれる。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、図面を用いて本発明の実施
の形態を説明する。
【0010】<産業用機器の遠隔保守システムの第1の
実施形態>図1は産業用機器の遠隔保守システムの全体
概要図である。101は産業用機器を提供するベンダー
(機器供給メーカー)の事業所である。本例では産業用
機器としては半導体工場で使用する半導体デバイス製造
用装置、例えば前工程用機器(露光装置、塗布現像装
置、熱処理装置など)や後工程装置(組立装置、検査装
置など)を想定している。102、103、104はそれぞれ産
業用機器ユーザー(半導体デバイス製造メーカー)の生
産工場であり、各工場は国内もしくは海外各所の遠隔地
に点在している。本実施例では、各工場102、103、104
はそれぞれ異なる企業ユーザーの工場を想定している
が、これらは同一メーカーの異なる工場(例えば、半導
体製造の前工程用工場、後工程用工場など)であっても
良い。
【0011】各工場102、103、104の中には、産業用機
器106複数台とそれらを結ぶLAN109(イントラネッ
ト)と、それぞれの産業用機器106の稼働状況を監視す
るホストコンピュータ107が設置されている。また、各
工場のホストコンピュータ107は世界的にくまなく網羅
された通信手段であるインターネット105を介して、ホ
スト管理システムであるベンダー101のホストコンピュ
ータ108と保守情報を通信できるようになっている。該
ホストコンピュータには保守情報をはじめとする各種情
報が蓄積されている。保守情報を通信するための通信プ
ロトコルには、インターネットで使用されているパケッ
ト通信プロトコル(TCP/IP)を用いている。
【0012】ベンダーのホストコンピュータ108は、ユ
ーザーの各工場102、103、104における産業用機器106の
稼働状況を時々刻々把握できるようになっており、ベン
ダーの各部門、例えば保守部門、製造部門、開発部門の
コンピュータ110からも参照可能として、保守情報を保
守、製造、開発へのフィードバックするようになってい
る。
【0013】各工場に設置されたホストコンピュータ10
7は、定期的にn台の産業用機器106の稼働状況を図2に示
す流れに従って稼動状況を監視している。すなわち順
次、産業用機器106の稼働状況をモニタし(ステップ203
〜207)、異常があった場合には、機器の状態の情報を収
集し(ステップ204)、ベンダーにインターネット105を介
して情報を伝達して報告する(ステップ205)。
【0014】一方、ベンダー101のホストコンピュータ1
07は、各工場に設置されたホストコンピュータ107から
の通信に対して24時間体制で待機している。図3に示
したフローチャートは、ベンダー101の産業用機器106の
異常に対し、ユーザー先のホストコンピュータ107から
ベンダーのホストコンピュータ108に報告を受けたとき
のベンダーのホストコンピュータ108の動作の流れを示
す。トラブルの報告を監視して(ステップ302)、報告
が認められた場合には、異常のあった産業用機器106の
稼動状態に関する詳細な情報を収集する(ステップ30
3)。その情報をもとに、ベンダーのホストコンピュータ
108に設けたトラブルDB(トラブルデータベース)を参
照し、過去に経験して登録されている内容かどうかを調
べる(ステップ304)。登録されていない新しいトラブル
の場合には、自動的にトラブルDBに新規登録を行い
(ステップ305)、データベースを逐次更新していく。そ
して担当者に経緯を報告する(306)。
【0015】一方、図4に示したフローチャートは、保
守システムの対応の流れを示すものである。まず、トラ
ブル対処が必要かをデータベースの情報を参照してシス
テムが自動的に判断すると共に、信頼性を高めるため保
守担当者の判断も仰ぐ(ステップ312)。対処をする必
要がない場合は、現象の再現に備えてウォッチングしす
る(ステップ314)。対処が必要な場合は、過去のデータ
ベースの蓄積情報に参照して最適な対処方法を選択する
(ステップ318)。具体的には、まずネットワークを介し
た遠隔オンライン処理で対処できるかを判断する。ソフ
ト的なトラブルであれば、ネットワークを介して産業用
機器の動作メモリ内容の修正やソフトウェアの修正で対
処できるかを検討し、可能であればオンラインでの遠隔
操作によってデータの更新やソフトウェアの供給更新を
行う(ステップ317)。ネットワークでのオンライン処
理で対処できない場合には、電子メール、ファクシミ
リ、電話などの手段を使って、ユーザー先のオペレータ
に対処を指示する(ステップ316)。それでもできない深
刻なトラブルに対しては、ベンダーの保守要員がユーザ
ー先を訪問して対処を行う(ステップ315)。以上の情報
は全てトラブルDBに内容及び対処法を記録してデータ
ベースを逐次更新する(ステップ318)。
【0016】トラブルDBにアクセスする操作用端末
は、専用または汎用のインターネットアクセス用ブラウ
ザソフトを内蔵し、例えば図5のような画面のユーザー
インターフェースを有する。オペレーターはこの画面か
ら、産業用機器の機種(401)、機器シリアルナンバー(40
2)、トラブルの件名(403)、発生日(404)、トラブルの緊
急度(405)、症状(406)、対処法(407)、経過(408)を入力
する。さらに、ハイパーリンク機能(410,411,412)によ
って各項目のさらに詳細な最新情報のデータベースにア
クセスしたり、産業用機器のソフトウェアライブラリか
ら最新バージョンソフトや、さらにはオペレータへの補
助情報(操作ガイド)などをホスト管理システムから引
き出す機能も有している。また、このブラウザを用いて
インターネット上のさまざまな情報にもアクセスできる
ようになっている。
【0017】トラブルDBはベンダーの事業所内101の
LAN109に接続されたコンピュータ110で保守部門、製
造部門、開発部門の要員が参照及びデータ入力が可能
で、また外回りの保守要員がインターネット105を経由
して携帯端末で参照及び入力することもできる。これに
よって、ベンダーの各部門の持っている情報を一元蓄積
管理でき、常に最新情報がベンダーの各部門で入手でき
るようになる。また、トラブルDBの一部の情報をユー
ザーに開放することで、過去に蓄積されたさまざまなト
ラブル情報にユーザーがアクセスして、ユーザー自らが
適切な対処を行うことも可能としいる。このようにベン
ダー、複数ユーザー間で保守情報を共有化することによ
って保守効率を飛躍的に高めている。
【0018】一方、インターネットを用いてトラブルD
Bを開放するにあたって、第三者が機密情報を参照でき
ないような通信セキュリティシステムを設けている。本
システムではパスワードによる認証に加えて、アクセス
できるコンピュータを予めベンダーのホストコンピュー
タ108に登録することで登録ユーザーを限定して、不特
定多数からのアクセスを禁止する。図6はその説明図で
ある。108はベンダーのホストコンピュータ、107は各工
場のホストコンピュータで、これらはインターネット10
5で接続されている。ユーザーがブラウザ500でホストコ
ンピュータ108のデータベース501にアクセスする際の通
信は、暗号化されたパケット通信によって行われる。こ
れを実現するために、両ホストコンピュータ108,107は
それぞれ暗号・復号アルゴリズム装置502,504及び通信
手段503,505を備えている。暗号・復号アルゴリズムは
各工場(ユーザー)毎に異ならせて且つ定期的に変更す
ることによって、セキュリティを高めている。
【0019】以上のように本実施形態のシステムにおい
ては、既存のインフラであるインターネット及びその通
信プロトコル、さらにはインターネットアクセス用のソ
フトウェアを活用して産業用機器の保守情報を通信する
ようにしたので、専用通信ラインの敷設や新たなソフト
ウェア開発の負担などを軽減し、迅速で低コストな遠隔
保守システムの構築を可能としている。
【0020】また、産業用機器を設置した複数の工場
と、ベンダーの管理システムとを通信手段で接続して、
さまざまな保守情報を集中的に管理して情報を共有化す
ることで、生産拠点を超えて過去のトラブルの経験を生
かすことができ、トラブルに対して迅速に対応すること
ができる。特に、異なるユーザー企業間でも保守情報を
共有するようにすれば、産業全体の効率化向上にも貢献
することができる。
【0021】<産業用機器の遠隔保守システムの第2の
実施形態>図7は本発明の第2の実施形態の産業用機器
保守システムの概念図である。先の実施形態では、それ
ぞれが産業用機器を備えた複数のユーザー工場と、該産
業用機器のベンダーの管理システムとを通信手段で接続
して、該通信手段を介して各工場の産業用機器の保守情
報を通信するものであったが、本実施形態では、複数の
ベンダーの産業用機器を備えた工場と、該複数の産業用
機器のそれぞれのベンダーの管理システムとを通信手段
で接続して、該通信手段を介して各産業用機器の保守情
報を通信するものである。
【0022】図7において、201は産業用機器ユーザー
(半導体デバイス製造メーカー)の生産工場であり、工
場の生産ラインには半導体デバイス製造用装置である露
光装置202、塗布現像装置203、熱処理装置204などが導
入されている。これらの各装置はLAN206(イントラ
ネット)で接続され、生産管理用ホストコンピュータ20
5でラインの稼動管理されている。一方、露光装置メー
カー210、塗布現像装置メーカー220、熱処理装置メーカ
ー230などベンダー(装置供給メーカー)の各事業所に
は、それぞれ供給機器の遠隔保守を行なうためのホスト
管理システム211,221,231を備えている。そして、ユー
ザーの生産工場内の各装置を管理するホストコンピュー
タ205と、各装置のベンダーの管理システム211,221,231
とは、通信手段であるインターネット200によって接続
されている。
【0023】このシステムにおいて、生産ラインの一連
の生産機器の中のどれかにトラブルが起きると、生産ラ
インの稼動が止まってしまうが、トラブルが起きた機器
のベンダーからインターネットを介した遠隔保守を受け
ることで迅速な対応が可能で、生産ラインの休止を最小
限に抑えることができる。各ベンダーのホスト管理シス
テムは上記第1の実施形態で説明したようなトラブルD
Bを備え、保守情報が蓄積されている。また、生産工場
と各ベンダーとの通信には異なる通信セキュリティシス
テムを備え機密の漏洩を防止している。具体的な保守の
内容や方法は、第1の実施形態と同様であるので詳しい
説明は省略する。
【0024】以上のように本実施形態のシステムにおい
ては、複数のベンダーの産業用機器を生産ラインに持つ
ユーザーの工場と、各ベンダーの管理システムとを通信
手段で接続して保守情報を通信するようにしたので、生
産中にある機器でトラブルが生じても必要なベンダーか
ら迅速な保守を受けることが可能で、ラインが止まる時
間を最小限に抑えて生産効率を高めることができる。特
に、異なるベンダー企業間でも保守情報を共有するよう
にすれば、産業全体の効率化向上にも貢献することがで
きる。
【0025】<半導体デバイス生産方法の実施形態>次
に上記説明した遠隔保守システムを利用した半導体デバ
イスの生産方法の例を説明する。
【0026】図8は微小デバイス(ICやLSI等の半
導体チップ、液晶パネル、CCD、薄膜磁気ヘッド、マ
イクロマシン等)の製造のフローを示す。ステップ1
(回路設計)では半導体デバイスの回路設計を行なう。
ステップ2(マスク製作)では設計した回路パターンを
形成したマスクを製作する。一方、ステップ3(ウエハ
製造)ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造す
る。ステップ4(ウエハプロセス)は前工程と呼ばれ、
上記用意したマスクとウエハを用いて、リソグラフィ技
術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次のステ
ップ5(組み立て)は後工程と呼ばれ、ステップ4によ
って作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程
であり、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンディン
グ)、パッケージング工程(チップ封入)等の工程を含
む。ステップ6(検査)ではステップ5で作製された半
導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査
を行なう。こうした工程を経て半導体デバイスが完成
し、これを出荷(ステップ7)する。前工程と後工程は
それぞれ専用の別の工場で行い、これらの工場毎に上記
説明した遠隔保守システムによって保守がなされる。
【0027】図9は上記ウエハプロセスの詳細なフロー
を示す。ステップ11(酸化)ではウエハの表面を酸化
させる。ステップ12(CVD)ではウエハ表面に絶縁
膜を形成する。ステップ13(電極形成)ではウエハ上
に電極を蒸着によって形成する。ステップ14(イオン
打込み)ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ15
(レジスト処理)ではウエハに感光剤を塗布する。ステ
ップ16(露光)では露光装置によってマスクの回路パ
ターンをウエハに焼付露光する。ステップ17(現像)
では露光したウエハを現像する。ステップ18(エッチ
ング)では現像したレジスト像以外の部分を削り取る。
ステップ19(レジスト剥離)ではエッチングが済んで
不要となったレジストを取り除く。これらのステップを
繰り返し行なうことによって、ウエハ上に多重に回路パ
ターンを形成する。各工程で使用する生産機器は上記説
明した遠隔保守システムによって保守がなされているの
で、トラブルを未然に防ぐと共に、もしトラブルが発生
しても迅速な復旧が可能で、従来に比べて半導体デバイ
スの生産性を向上させることができる。
【0028】
【発明の効果】以上本発明によれば、産業用機器の遠隔
保守の通信手段として、世界的に網羅されたインターネ
ットを利用することにより、機器の設置地域を問わずに
少ない投資で有効な保守システムを構築することが可能
となる。
【0029】また、産業用機器を設置したユーザー工場
と、ベンダーの管理システムとを通信手段で接続して遠
隔保守を行なうことで、トラブルに対して迅速に対応す
ることができ、保守情報の共有化によって保守能力の向
上も期待できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1の実施形態による産業用機器保守システム
の概念図
【図2】ユーザー先に設置されたホストコンピュータの
機器監視フローを示す図
【図3】ベンダーに設置されたホストコンピュータの機
器監視フローを示す図
【図4】保守部門の対応フローを示す図
【図5】トラブルデータベースの入力画面のユーザーイ
ンターフェース例を示す図
【図6】セキュリティシステムの説明図
【図7】第2の実施形態による産業用機器保守システム
の概念図
【図8】半導体デバイスの製造フローを示す図
【図9】ウエハプロセスの詳細なフローを示す図
【符号の説明】
101 ベンダーの事業所 102〜104 ユーザーの生産工場 105 インターネット 106 産業用機器 107 各工場(ユーザー)のホストコンピュータ 108 ベンダーのホストコンピュータ 109 LAN 110 ベンダーの各部門のコンピュータ 200 インターネット 201 ユーザーの生産工場 202 露光装置 203 塗布現像装置 204 熱処理装置 205 生産管理用ホストコンピュータ 206 LAN 210 露光装置メーカー事業所 211 ホスト管理システム 220 塗布現像装置メーカーの事業所 221 ホスト管理システム 230 熱処理装置メーカーの事業所 231 ホスト管理システム
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 太田 裕久 東京都大田区下丸子3丁目30番2号キヤノ ン株式会社内

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 インターネットを利用して遠隔地の産業
    用機器の保守情報を通信することを特徴とする産業用機
    器の遠隔保守システム。
  2. 【請求項2】 それぞれが産業用機器を備えた複数の工
    場と、該産業用機器のベンダーの管理システムとを通信
    手段で接続して、該通信手段を介して各工場の産業用機
    器の保守情報を通信することを特徴とする産業用機器の
    遠隔保守システム。
  3. 【請求項3】 複数の産業用機器を備えた工場と、該複
    数の産業用機器のそれぞれのベンダーの管理システムと
    を通信手段で接続して、該通信手段を介して各産業用機
    器の保守情報を通信することを特徴とする産業用機器の
    遠隔保守システム。
  4. 【請求項4】 通信手段はインターネットを利用したも
    のである請求項2又は3記載の産業用機器の遠隔保守シ
    ステム。
  5. 【請求項5】 産業用機器の状況を管理システムに伝達
    する機能と、該伝達された状況に応じた保守情報を管理
    システムから工場側に伝達する機能を有する請求項2又
    は3記載の遠隔保守システム。
  6. 【請求項6】 管理システムは保守情報のデータベース
    を有し、新しい保守情報を逐次更新する請求項5記載の
    遠隔保守システム。
  7. 【請求項7】 管理システムは前記データベースを参照
    して、可能な場合はオンライン保守を行う請求項6記載
    の遠隔保守システム。
  8. 【請求項8】 管理システムから産業用機器のソフトウ
    ェアを供給する機能を有する請求項2又は3記載の遠隔
    保守システム。
  9. 【請求項9】 管理システムから産業用機器を操作する
    オペレータへの補助情報を供給する機能を有する請求項
    2又は3記載の遠隔保守システム。
  10. 【請求項10】 異なる相手毎に異なる通信セキュリテ
    ィ機能を有することを特徴とする請求項2又は3記載の
    遠隔保守システム。
  11. 【請求項11】 産業用機器は半導体製造用機器である
    請求項1〜10のいずれか記載の遠隔保守システム。
  12. 【請求項12】 請求項11記載の遠隔保守システムを
    利用して半導体デバイスを生産することを特徴とするデ
    バイス生産方法。
  13. 【請求項13】 請求項12記載の方法で生産されたこ
    とを特徴とするデバイス。
JP8251623A 1996-07-31 1996-09-24 産業用機器の遠隔保守システム及びこれを利用した生産方法 Pending JPH1097966A (ja)

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Cited By (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001101303A (ja) * 1999-10-04 2001-04-13 Ishida Co Ltd 商品処理装置及び管理システム
JP2001282945A (ja) * 2000-03-31 2001-10-12 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 各種プラントの保守および異常復旧システム
WO2002027769A1 (fr) * 2000-09-28 2002-04-04 Kabushiki Kaisha Toshiba Appareil de fabrication, procede et systeme de commande de l'appareil de fabrication et programme de commande de stockage d'un support lisible par ordinateur s'appliquant a l'appareil
JP2002163016A (ja) * 2000-11-27 2002-06-07 Canon Inc 産業用機器の管理システム及び管理方法
JP2002170770A (ja) * 2000-09-21 2002-06-14 Canon Inc 位置合わせ方法及び該方法を使用する露光装置及び露光方法
US6493065B2 (en) 2000-05-30 2002-12-10 Canon Kabushiki Kaisha Alignment system and alignment method in exposure apparatus
JP2003022955A (ja) * 2001-07-09 2003-01-24 Canon Inc 露光装置
JP2003022963A (ja) * 2001-07-10 2003-01-24 Canon Inc 露光装置
JP2003100577A (ja) * 2001-09-25 2003-04-04 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理システム、基板処理装置管理方法、基板処理装置、プログラム及び記録媒体
JP2003516044A (ja) * 1999-12-01 2003-05-07 テレフオンアクチーボラゲツト エル エム エリクソン(パブル) 携帯電気通信機器から電子ユーテリティ装置を操作する装置と方法
US6762516B2 (en) * 2001-03-29 2004-07-13 Canon Kabushiki Kaisha Electromagnetic actuator and exposure apparatus having the same
JP2004532449A (ja) * 2001-03-01 2004-10-21 フィッシャー−ローズマウント システムズ, インコーポレイテッド ワークオーダ/パーツオーダの自動的生成および追跡
US6853099B2 (en) * 2001-03-19 2005-02-08 Canon Kabushiki Kaisha Linear pulse motor, stage apparatus, and exposure apparatus
KR100474102B1 (ko) * 2001-02-19 2005-03-08 파이 룽 머시너리 밀 코포레이션 리미티드 편물기를 위한 인터넷 인라인 제어 장치
US6980872B2 (en) 2000-10-18 2005-12-27 Canon Kabushiki Kaisha Information providing method and system
US7225046B2 (en) 2000-07-12 2007-05-29 Hitachi Kokusai Electric, Inc. Semiconductor manufacturing apparatus, remote control system therefor, and remote operation device
US7282821B2 (en) 2002-01-28 2007-10-16 Canon Kabushiki Kaisha Linear motor, stage apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing apparatus
JP2013012229A (ja) * 2001-08-21 2013-01-17 Rosemount Analytical Inc プロセス制御システムのための共有利用方式によるデータ処理
JP2013251570A (ja) * 2013-08-02 2013-12-12 Hitachi Kokusai Electric Inc 半導体製造装置のトレーニングシステム及びトレーニングサーバ並びに表示方法
JP2015006936A (ja) * 2013-06-25 2015-01-15 株式会社クレオ 洗浄装置および洗浄システム

Cited By (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001101303A (ja) * 1999-10-04 2001-04-13 Ishida Co Ltd 商品処理装置及び管理システム
JP2003516044A (ja) * 1999-12-01 2003-05-07 テレフオンアクチーボラゲツト エル エム エリクソン(パブル) 携帯電気通信機器から電子ユーテリティ装置を操作する装置と方法
JP2001282945A (ja) * 2000-03-31 2001-10-12 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 各種プラントの保守および異常復旧システム
US6493065B2 (en) 2000-05-30 2002-12-10 Canon Kabushiki Kaisha Alignment system and alignment method in exposure apparatus
US7225046B2 (en) 2000-07-12 2007-05-29 Hitachi Kokusai Electric, Inc. Semiconductor manufacturing apparatus, remote control system therefor, and remote operation device
JP2002170770A (ja) * 2000-09-21 2002-06-14 Canon Inc 位置合わせ方法及び該方法を使用する露光装置及び露光方法
WO2002027769A1 (fr) * 2000-09-28 2002-04-04 Kabushiki Kaisha Toshiba Appareil de fabrication, procede et systeme de commande de l'appareil de fabrication et programme de commande de stockage d'un support lisible par ordinateur s'appliquant a l'appareil
US6980872B2 (en) 2000-10-18 2005-12-27 Canon Kabushiki Kaisha Information providing method and system
US7225041B2 (en) 2000-10-18 2007-05-29 Canon Kabushiki Kaisha Information providing method and system
JP2002163016A (ja) * 2000-11-27 2002-06-07 Canon Inc 産業用機器の管理システム及び管理方法
KR100474102B1 (ko) * 2001-02-19 2005-03-08 파이 룽 머시너리 밀 코포레이션 리미티드 편물기를 위한 인터넷 인라인 제어 장치
JP2004532449A (ja) * 2001-03-01 2004-10-21 フィッシャー−ローズマウント システムズ, インコーポレイテッド ワークオーダ/パーツオーダの自動的生成および追跡
US6853099B2 (en) * 2001-03-19 2005-02-08 Canon Kabushiki Kaisha Linear pulse motor, stage apparatus, and exposure apparatus
US6960846B2 (en) 2001-03-19 2005-11-01 Canon Kabushiki Kaisha Linear pulse motor, stage apparatus, and exposure apparatus
US6762516B2 (en) * 2001-03-29 2004-07-13 Canon Kabushiki Kaisha Electromagnetic actuator and exposure apparatus having the same
JP2003022955A (ja) * 2001-07-09 2003-01-24 Canon Inc 露光装置
JP2003022963A (ja) * 2001-07-10 2003-01-24 Canon Inc 露光装置
JP2013012229A (ja) * 2001-08-21 2013-01-17 Rosemount Analytical Inc プロセス制御システムのための共有利用方式によるデータ処理
JP2003100577A (ja) * 2001-09-25 2003-04-04 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理システム、基板処理装置管理方法、基板処理装置、プログラム及び記録媒体
JP4707903B2 (ja) * 2001-09-25 2011-06-22 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理システムおよび基板処理装置管理方法
US7282821B2 (en) 2002-01-28 2007-10-16 Canon Kabushiki Kaisha Linear motor, stage apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing apparatus
JP2015006936A (ja) * 2013-06-25 2015-01-15 株式会社クレオ 洗浄装置および洗浄システム
JP2013251570A (ja) * 2013-08-02 2013-12-12 Hitachi Kokusai Electric Inc 半導体製造装置のトレーニングシステム及びトレーニングサーバ並びに表示方法

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