JPH10308335A - 制御装置 - Google Patents

制御装置

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JPH10308335A
JPH10308335A JP9115942A JP11594297A JPH10308335A JP H10308335 A JPH10308335 A JP H10308335A JP 9115942 A JP9115942 A JP 9115942A JP 11594297 A JP11594297 A JP 11594297A JP H10308335 A JPH10308335 A JP H10308335A
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    • G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
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    • G05B19/02—Programme-control systems electric
    • G05B19/418—Total factory control, i.e. centrally controlling a plurality of machines, e.g. direct or distributed numerical control [DNC], flexible manufacturing systems [FMS], integrated manufacturing systems [IMS], computer integrated manufacturing [CIM]
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P90/00—Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
    • Y02P90/02—Total factory control, e.g. smart factories, flexible manufacturing systems [FMS] or integrated manufacturing systems [IMS]

Abstract

(57)【要約】 【課題】 プロセスを停止することなくプロセスの変更
を行うことができる制御装置を提供すること。 【解決手段】 １つのプロセスチャンバのプロセス２６
が動作をする際には、まずＰＲＭ１８に対して当該プロ
セスに対応するパラメータを要求する（図７）。ＰＲ
Ｍ１８は、パラメータファイル２１より対応するパラメ
ータを読み出し（図７）、そのパラメータをプロセス
２６に送信する（図７）。プロセス２６を停止する際
には、プロセス２６の停止命令を入力すると（図７
）、その命令はＭＭＩ２０を介してＰＲＭ１８に入力
される（図７）。ＰＲＭ１８は、パラメータファイル
２１内の該当するパラメータを書き替える（図７）と
共に、プロセス２６に対して該当するパラメータを送信
する（図７）。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えばクラスタツ
ール装置等の半導体製造装置のプロセス制御に使われる
制御装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、半導体ウエハに対して各種の処
理、例えば成膜処理やエッチング処理、熱酸化処理等を
行うプロセスチャンバの前段側には、多数枚、例えば２
５枚のウエハを一度に収容できるカセットを収容するカ
セットチャンバが設けられており、このカセットチャン
バとプロセスチャンバとの間を搬送チャンバを介してウ
エハの受け渡しを行うようになっている。
【０００３】通常、１つの搬送チャンバに対して複数、
例えば３個のプロセスチャンバを接続し、適宜搬送チャ
ンバを介してカセットチャンバとこれら複数のプロセス
チャンバとの間でウエハを受け渡し、各種の処理が行わ
れるようになっている。
【０００４】ところで、例えば上述したプロセスチャン
バの交換や反応生成物の堆積によるチャンバの洗浄を行
う場合に一旦これらの運転を停止して保守や清掃等を行
う必要がある。その場合、例えば３個のプロセスチャン
バのうち１個のプロセスチャンバについてのみそのよう
な必要性が生じたならば、そのような必要性のあるプロ
セスチャンバについてのみ運転を停止して保守や清掃等
を行い、他の２個のプロセスチャンバについては継続し
て運転することが生産効率の点で好ましい。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、通常、
上述したプロセスチャンバ、搬送チャンバ及びカセット
チャンバの動作制御は相互に密接に関連するプロセス制
御によって行われているため、上述したように特定の１
個のプロセスチャンバについてのみ運転を停止するよう
に制御を切替えることは極めて困難である。例えば、特
定の１個のプロセスチャンバについてのみ運転を停止す
る場合には、そのプロセスチャンバに対するプログラム
を変更するだけではなく、例えば３個のプロセスチャン
バ全体を包括的に制御するプログラム、更にはカセット
チャンバや搬送チャンバのプログラム等も変更する必要
がある。
【０００６】本発明は、かかる課題を解決するためにな
されたもので、プロセスを停止することなくプロセスの
変更を行うことができる制御装置を提供することを目的
とする。
【０００７】本発明の目的は、プロセスの変更を簡単に
行うことができる制御装置を提供することでもある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、請求項１記載の本発明の制御装置は、パラメータに
応じて動作するプロセスと、前記プロセスに対する前記
パラメータを格納する格納手段と、前記プロセスに対す
る前記パラメータを設定する設定手段と、前記プロセス
からの要求に応じて対応する前記格納パラメータを返信
し、前記設定手段によりパラメータが設定されたとき当
該設定されたパラメータを前記プロセスに対して送信す
ると共に前記格納手段に格納されたパラメータを当該設
定されたパラメータに書き替える管理手段とを具備す
る。
【０００９】請求項１記載の本発明の制御装置では、プ
ロセスに対するパラメータを格納しておき、プロセスか
らの要求に応じて対応する格納パラメータを返信するよ
うに構成し、またプロセスを変更するときには変更後の
パラメータを設定すれば、設定されたパラメータをプロ
セスに対して送信すると共に格納されたパラメータを当
該設定されたパラメータに書き替えるように構成してい
るので、プロセスを停止することなくプロセスの変更を
行うことができる。
【００１０】請求項２記載の本発明の制御装置は、パラ
メータに応じて動作する複数のプロセスと、前記各プロ
セスに対する個別的な前記パラメータを格納する第１の
格納手段と、前記各プロセスに対する共通の前記パラメ
ータを共通化して格納する第２の格納手段と、前記プロ
セスに対する前記パラメータを設定する設定手段と、前
記プロセスからの要求に応じて対応する前記いずれかの
格納手段に格納されたパラメータを返信し、前記設定手
段によりパラメータが設定されたとき当該設定されたパ
ラメータを前記プロセスに対して送信すると共に前記い
ずれかの格納手段に格納されたパラメータを当該設定さ
れたパラメータに書き替える管理手段とを具備する。
【００１１】請求項２記載の本発明の制御装置では、各
プロセスに対する共通のパラメータを共通化して格納す
るようにしたので、関連するパラメータの書き替えは不
要となり、またメモリの使用量を少なくできる。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明を実施する場合の形
態について図面に基づいて説明する。
【００１３】図１は本発明の一実施形態に係る半導体ウ
エハ製造装置の構成を示す平面図である。
【００１４】この半導体ウエハ製造装置は、半導体ウエ
ハに対して各種の処理例えば成膜処理やエッチング処理
や熱酸化処理等を行う複数例えば３つのプロセスチャン
バ１，２，３と、多数枚例えば２５枚のウエハＷを収納
できるカセットＣ１、Ｃ２を収容するカセットチャンバ
４，５と、プロセスチャンバ１，２，３とカセットチャ
ンバ４，５との間でウエハＷの受け渡しを行う搬送チャ
ンバ６とを備えて構成される。各チャンバ間はゲートバ
ルブＧを介して開閉自在に連結されている。搬送チャン
バ６内には、屈伸動作及び回転動作が可能な例えば多関
節式の搬送アーム７が設けられており、この搬送アーム
７によりチャンバ間でのウエハＷの搬送が行われる。カ
セットＣ１、Ｃ２はカセットチャンバ４，５内に取り込
まれる際に90度反転されると共にそのカセットＣ１、Ｃ
２のウエハ挿脱口が搬送チャンバ６内の中心を向くよう
に回転され、以て搬送アーム７によるウエハＷの出し入
れが可能な姿勢に設置される。
【００１５】図２はこのような半導体ウエハ製造装置を
制御する制御装置の構成を示す図である。
【００１６】マシンコントローラ（ＭＣ）１１〜１６
は、各プロセスチャンバ１，２，３、カセットチャンバ
４、５、及び搬送チャンバ６を個別に制御する。これら
マシンコントローラ１１〜１６は、その上位制御手段で
あるメインコントローラ（ＥＣ）１７により統括的に制
御される。メインコントローラ（ＥＣ）１７は、管理手
段としてのパラメータ管理部（ＰＲＭ）１８、タッチパ
ネルディスプレイ１９との間のインタフェース手段（パ
ラメータを設定する設定手段）としてのマンマシンイン
タフェース部（ＭＭＩ）２０、及びパラメータを格納す
る格納手段としてのパラメータファイル２１を備える。
マシンコントローラ（ＭＣ）１１〜１６及びメインコン
トローラ（ＥＣ）１７における各部は、パラメータに応
じて動作するプロセスである。
【００１７】図３はこれらプロセスとパラメータ管理部
（ＰＲＭ）１８とパラメータファイル２１に格納された
各パラメータとの関係を示した図である。
【００１８】パラメータファイル２１には、ローカルパ
ラメータファイル２２、グローバルパラメータファイル
２３、エディットパラメータファイル２４及びパラメー
タコントロールファイル２５が格納されている。これら
各ファイルは、ソースパラメータファイルとこれらのパ
ラメータをコンパイルした例えばテキスト形式のパラメ
ータファイルの両方を有する。このようにソースパラメ
ータファイルについてテキスト形式のパラメータファイ
ルを持たせることで編集の容易化を図っている。 各ロ
ーカルパラメータファイル２２には、各プロセス２６に
対応した個々的なパラメータが格納される。ローカルパ
ラメータファイル２２に格納されたパラメータは、各プ
ロセス２６の要求に応じてパラメータ管理部（ＰＲＭ）
１８を介して各プロセス２６にマップされる。
【００１９】グローバルパラメータファイル２３には、
プロセス間で共通のパラメータが格納される。グローバ
ルパラメータファイル２３に格納されたパラメータは、
パラメータ管理部（ＰＲＭ）１８を介してグローバルメ
モリエリア２７にマップされる。グローバルメモリエリ
ア２７にマップされたパラメータは、パラメータ管理部
（ＰＲＭ）１８やプロセス２６により読み書きされる。
【００２０】エディットパラメータファイル２４には、
これらのパラメータうち編集可能なパラメータが格納さ
れる。エディットパラメータファイル２４を参照するこ
とで、パラメータが編集可能かどうかが判断できる。
【００２１】パラメータコントロールファイル２５に
は、これらパラメータの場所を示すパラメータが格納さ
れる。
【００２２】図４はローカルパラメータファイル２２の
一例を示す図であり、ここではプロセスチャンバ全体に
対するファイルを示している。
【００２３】このファイルにおいて第１行の左側より順
に、「ｕ」はコマンド、「１」は行番号、「０」はプロ
セスチャンバの台数の最小値、「３」はプロセスチャン
バの台数の最大値、「３」はプロセスチャンバの台数の
デフォルト値、「３」はプロセスチャンバの台数の現在
値をそれぞれ示している。
【００２４】図５はローカルパラメータファイル２２の
他の例を示す図であり、ここでは１つのプロセスチャン
バに対するファイルを示している。
【００２５】このファイルにおいて第１行の左側より順
に、「ｕ」はコマンド、「１」は行番号、「０」はプロ
セスチャンバ停止の値（最小値）、「１」はプロセスチ
ャンバ動作の値（最大値）、「１」はプロセスチャンバ
の停止・動作のデフォルト値（ここでは動作）、「１」
はプロセスチャンバの停止・動作の現在値（ここでは動
作）をそれぞれ示している。
【００２６】図６（ａ）はパラメータ管理部（ＰＲＭ）
１８を介して各パラメータファイルから各プロセス２６
等に送信されるデータの形式を示す図であり、データ
型、現在値、最大値、最小値の順番でデータが送信され
る。図６（ｂ）に図５のファイルの送信データの一例を
示す。
【００２７】図７は１つのプロセスチャンバが動作・停
止する際の制御装置内の処理の流れを示す図である。
【００２８】１つのプロセスチャンバのプロセス２６が
動作をする際には、まずパラメータ管理部（ＰＲＭ）１
８に対して当該プロセスに対応するパラメータを要求す
る（図７）。これに対して、パラメータ管理部（ＰＲ
Ｍ）１８は、パラメータファイル２１より対応するパラ
メータを読み出し（図７）、そのパラメータをプロセ
ス２６に送信する（図７）。これにより、プロセス２
６の動作が実行される。
【００２９】一方、このようなプロセス２６を停止する
際には、まずユーザがタッチパネルディスプレイ１９を
介してプロセス２６の停止命令を入力すると（図７
）、その命令はマンマシンインタフェース部（ＭＭ
Ｉ）２０を介してパラメータ管理部（ＰＲＭ）１８に入
力される（図７）。これに対して、パラメータ管理部
（ＰＲＭ）１８は、パラメータファイル２１内の該当す
るパラメータを書き替える（図７）と共に、プロセス
２６に対して該当するパラメータを送信する（図７
）。
【００３０】図８は１つのプロセスチャンバのプロセス
２６を停止した場合に対応するパラメータを書き替える
様子を示した図であり、同図（ａ）は動作中のファイル
を示し、同図（ｂ）は停止中のファイルを示す。これら
の図に示すように、動作中は当該行右欄の現在値が
「１」となっているが、停止すると現在値が「０」に書
き替えられる。
【００３１】ところで、このように１つのプロセスチャ
ンバを停止すると、図４に示したプロセスチャンバ全体
に対するファイルや搬送チャンバに対するファイル等も
書き替える必要がある。
【００３２】図９にプロセスチャンバ全体に対するパラ
メータを書き替える様子を示す。同図（ａ）は３つのプ
ロセスチャンバが動作中のファイルを示し、同図（ｂ）
は１つのプロセスチャンバが停止となり２つのプロセス
チャンバが動作中のファイルを示す。これらの図に示す
ように、３つのプロセスチャンバが動作中の場合は当該
行右欄の現在値が「３」となっているが、１つのプロセ
スチャンバが停止すると現在値が「２」に書き替えられ
る。なお、搬送チャンバ等についても同様に書き替えら
れる。
【００３３】このように１つのファイルのパラメータを
書き替えたときに関連するパラメータを書き替える手段
としては、例えば予め関連するパラメータを集めたファ
イルを持たせ、パラメータの書き替えがあったときには
このファイルに基づき関連するパラメータを書き替える
ようにすればよい。また、パラメータを各プロセスが共
通の値として使用できるような場合にはグローバルパラ
メータファイル２３に登録すれば、このような関連する
パラメータの書き替えは不要となり、またメモリの使用
量を少なくできる。
【００３４】本実施形態に係るシステムでは、例えば１
つのプロセスチャンバを停止する際に他のプロセスを停
止する必要がなくなる。別言すると、他のプロセスを動
作させながら１つのプロセスを停止することができる。
この結果、例えば３つのプロセスチャンバ１，２，３に
メンテナンスが必要な場合には、第２及び第３のプロセ
スチャンバ２，３の動作を継続しながら、第１のプロセ
スチャンバ１のみを停止してメンテナンスを行い、次に
第１及び第３のプロセスチャンバ１，３の動作を継続し
ながら、第２のプロセスチャンバ２のみを停止してメン
テナンスを行い、次に第１及び第２のプロセスチャンバ
１，２の動作を継続しながら、第３のプロセスチャンバ
３のみを停止してメンテナンスを行うことで、システム
全体を停止することなくシステム全体のメンテナンスを
行うことができる。
【００３５】なお、本発明は、上述した実施の形態に限
定されず、その技術思想の範囲内で様々な変形が可能で
ある。
【００３６】例えば、上述した実施形態では、プロセス
チャンバに関連するパラメータを変更する例について説
明したが、他のプロセスのパラメータを変更することも
もちろん可能である。例えば、マンマシンインタフェー
ス部（ＭＭＩ）２０におけるパラメータ、例えば言語の
パラメータ等についても変更が可能である。マンマシン
インタフェース部（ＭＭＩ）２０における言語のパラメ
ータを変更した場合の画面例を図１０及び図１１に示
す。図１０に示す「言語」の「現在値」を「英語」に変
更すると、対応するパラメータファイルにおけるパラメ
ータが書き替えられ、図１１に示すように画面表示が英
語になる。
【００３７】また、本発明に係る制御装置は、クリーン
トラックやＬＣＤ製造装置等の他の半導体製造装置にも
適用することができる。
【００３８】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
パラメータに応じて動作するプロセスと、前記プロセス
に対する前記パラメータを格納する格納手段と、前記プ
ロセスに対する前記パラメータを設定する設定手段と、
前記プロセスからの要求に応じて対応する前記格納パラ
メータを返信し、前記設定手段によりパラメータが設定
されたとき当該設定されたパラメータを前記プロセスに
対して送信すると共に前記格納手段に格納されたパラメ
ータを当該設定されたパラメータに書き替える管理手段
とを具備するので、プロセスを停止することなくプロセ
スの変更を行うことができる。
【００３９】また、本発明では、パラメータに応じて動
作する複数のプロセスと、前記各プロセスに対する個別
的な前記パラメータを格納する第１の格納手段と、前記
各プロセスに対する共通の前記パラメータを共通化して
格納する第２の格納手段と、前記プロセスに対する前記
パラメータを設定する設定手段と、前記プロセスからの
要求に応じて対応する前記いずれかの格納手段に格納さ
れたパラメータを返信し、前記設定手段によりパラメー
タが設定されたとき当該設定されたパラメータを前記プ
ロセスに対して送信すると共に前記いずれかの格納手段
に格納されたパラメータを当該設定されたパラメータに
書き替える管理手段とを具備するので、関連するパラメ
ータの書き替えは不要となり、またメモリの使用量を少
なくできる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態が採用された半導体ウエハ製
造装置の全体構成の平面図である。
【図２】図１に示した半導体ウエハ製造装置を制御する
制御装置の構成を示す図である。
【図３】図２に示したプロセスとパラメータ管理部とパ
ラメータファイルに格納された各パラメータとの関係を
示した図である。
【図４】図２に示したローカルパラメータファイル（プ
ロセスチャンバ全体）の一例を示す図である。
【図５】図２に示したローカルパラメータファイル（１
つのプロセスチャンバ）の一例を示す図である。
【図６】本発明の実施形態において送信されるデータの
形式を示す図である。
【図７】本発明の実施形態において１つのプロセスチャ
ンバが動作・停止する際の制御装置内の処理の流れを示
す図である。
【図８】本発明の実施形態において１つのプロセスチャ
ンバのプロセスを停止した場合に対応するパラメータを
書き替える様子を示した図である。
【図９】本発明の実施形態においてプロセスチャンバ全
体に対するパラメータを書き替える様子を示した図であ
る。
【図１０】本発明の実施形態における画面の一例を示す
図である。
【図１１】本発明の実施形態における画面の一例を示す
図である。
【符号の説明】
１〜３ プロセスチャンバ ４、５ カセットチャンバ １１〜１６ マシンコントローラ（ＭＣ） １７ メインコントローラ（ＥＣ） １８ パラメータ管理部（ＰＲＭ） １９ タッチパネルディスプレイ ２０ マンマシンインタフェース部（ＭＭＩ） ２１ パラメータファイル ２２ ローカルパラメータファイル ２３ グローバルパラメータファイル ２４ エディットパラメータファイル ２５ パラメータコントロールファイル ２６ プロセス ２７ グローバルメモリエリア

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 パラメータに応じて動作するプロセス
    と、 前記プロセスに対する前記パラメータを格納する格納手
    段と、 前記プロセスに対する前記パラメータを設定する設定手
    段と、 前記プロセスからの要求に応じて対応する前記格納パラ
    メータを返信し、前記設定手段によりパラメータが設定
    されたとき当該設定されたパラメータを前記プロセスに
    対して送信すると共に前記格納手段に格納されたパラメ
    ータを当該設定されたパラメータに書き替える管理手段
    とを具備することを特徴とする制御装置。
  2. 【請求項２】 パラメータに応じて動作する複数のプロ
    セスと、 前記各プロセスに対する個別的な前記パラメータを格納
    する第１の格納手段と、 前記各プロセスに対する共通の前記パラメータを共通化
    して格納する第２の格納手段と、 前記プロセスに対する前記パラメータを設定する設定手
    段と、 前記プロセスからの要求に応じて対応する前記いずれか
    の格納手段に格納されたパラメータを返信し、前記設定
    手段によりパラメータが設定されたとき当該設定された
    パラメータを前記プロセスに対して送信すると共に前記
    いずれかの格納手段に格納されたパラメータを当該設定
    されたパラメータに書き替える管理手段とを具備するこ
    とを特徴とする制御装置。
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