JPH06291004A - 半導体製造装置のパラメータ管理システム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 各装置のレシピ等の主要なパラメータをホス
トコントローラで一元管理することを可能にする。 【構成】 ホストコントローラ１にオンライン接続され
る複数の装置２ａ、２ｂ、２ｃ毎に設定される補正パラ
メータ７を、ホストコントローラ１で、標準パラメータ
６と合成する。これにより前記装置２ａ、２ｂ、２ｃ毎
の実行パラメータ８を生成する。前記装置２ａ、２ｂ、
２ｃ毎に、ホストコントローラ１から送られる実行パラ
メータ８を、各装置２ａ、２ｂ、２ｃ毎に有する標準レ
シピ４と合成することにより、実行レシピ５を生成す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は半導体製造装置のパラメ
ータ管理システムに関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、半導体の製造において、用いら
れる複数の製造装置がたとえ同じ種類のものであって
も、各装置により微妙に特性が異なる。そのため、レシ
ピの管理はオフラインの各装置毎に行なわれている。そ
して、各装置のレシピ値の変更は、オペレータによる各
装置の調整つまみの操作または各装置のＣＲＴ画面への
キー操作入力により行なわれていた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】従来のパラメータ管理
方法は、以上のように、各装置のレシピ管理を各装置毎
に行なっていた。このため、レシピの変更を行なう時
に、オペレータは、各装置を直接操作しなければならな
かった。このため、オペレータにとってこれらの操作は
非常に面倒であった。しかも、どの装置のどのレシピが
どのように変更されて処理が行なわれたかについての情
報管理ができないという問題もあった。さらに、各装置
はオフラインでそれぞれ独立している。このため、装置
全体の一元管理ができず、どの装置がどの半導体ウエハ
をいつどのように処理したか等についてもまとめて知る
ことができないという問題もあった。

【０００４】本発明の目的は、上記従来技術の問題点を
解消しようとするもので、各装置の主要なレシピをホス
トコントローラで一元管理することを可能としたパラメ
ータ管理システムを提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明の半導体製造装置
のパラメータ管理システムは、ホストコントローラとそ
れにオンライン接続された複数の半導体製造装置側コン
トローラとを備え、前記ホストコントローラは、標準パ
ラメータと補正パラメータとから、前記各装置側コント
ローラ毎に実行パラメータを生成するものとして構成さ
れ、前記各装置側コントローラは、前記ホストコントロ
ーラから送られる前記実行パラメータと、自己が有する
標準レシピとから、実行レシピを生成するものとして構
成されている。

【０００６】

【作用】複数の装置側コントローラをオンライン接続す
るホストコントローラにおいて、各装置側コントローラ
においてレシピをパラメータ定義し、標準パラメータと
各装置毎に対応する補正パラメータとして管理してお
く。これらの標準パラメータと補正パラメータとにより
得られる各装置側コントローラ毎の実行パラメータを各
装置側コントローラに与える。各装置側コントローラに
おいては、これらの実行パラメータと標準レシピとから
実行レシピを生成する。これにより、ホストコントロー
ラにおいて、それに接続される全ての装置側コントロー
ラのパラメータ管理を行なわれる。

【０００７】

【実施例】以下、図面を参照しながら本発明の実施例を
説明する。

【０００８】図１は本発明の一実施例が適用されるシス
テムの概略構成図である。図において示すように、半導
体の製造装置等の装置（装置側コントローラ）２ａ、２
ｂ、２ｃはホストコントローラ１に接続され、ホストコ
ントローラ１にはホストコントローラ端末３ａ、３ｂが
接続されている。ホストコントローラ端末３ａ、３ｂ
は、オペレータや装置の管理者が、ホストコントローラ
１にアクセスできるように設けられたものである。ホス
トコントローラ１は、装置２ａ、２ｂ、２ｃのレシピ等
のパラメータを管理する機能を有するものである。

【０００９】次に、装置２ａ、２ｂ、２ｃのレシピとキ
ーパラメータについて以下のように定義する。

【００１０】先ず、レシピとは、ロット処理に必要な処
理条件の集合であり、全てのパラメータのことである。
そして、レシピには標準レシピと実行レシピの２種類が
ある。ここで、標準レシピとは、装置２ａ、２ｂ、２ｃ
が備えている標準のレシピで複数存在する。一方、実行
レシピとは装置２ａ、２ｂ、２ｃが処理を実行する時の
レシピで、１つまたは複数存在する。

【００１１】一方、キーパラメータとは、ロット処理上
に重要なパラメータの集合であり、主要なパラメータの
ことである。そして、キーパラメータには、標準パラメ
ータ、補正パラメータ及び実行パラメータの３種類があ
る。ここで、標準パラメータとは、ホストコントローラ
１で管理している標準のキーパラメータであり、複数存
在する。また、補正パラメータとは、装置２ａ、２ｂ、
２ｃによる特性の違いを補正するキーパラメータで、複
数存在する。一方、実行パラメータとは、ホストコント
ローラ１で設定される処理を実行するときのキーパラメ
ータで、１つまたは複数存在する。

【００１２】さて、レシピとキーパラメータの概要を図
２の説明図に示す。同図において、Ｐ１〜Ｐ５０はパラ
メータであり、標準レシピ４にはパラメータＰ１〜Ｐ５
０が、実行レシピ５にはパラメータＰ１〜Ｐ５０が、標
準パラメータ６にはパラメータＰ１、Ｐ１３、Ｐ１９、
Ｐ３１が、補正パラメータ７にはパラメータＰ１、Ｐ１
３、Ｐ１９、Ｐ３１が、実行パラメータ８にはパラメー
タＰ１、Ｐ１３、Ｐ１９、Ｐ３１がそれぞれ割り当てら
れているとする。

【００１３】ここで、実行パラメータの生成と実行レシ
ピの生成について説明する。

【００１４】実行パラメータと実行レシピは、ロット処
理の時に、一時的に次のようにして生成される。先ず、
標準パラメータと補正パラメータとから実行パラメータ
を生成する。次に、この実行パラメータと標準レシピか
ら実行レシピを生成する。

【００１５】以上の処理についての処理フローを図３の
フロー図に示す。図３に示すように、ホストコントロー
ラ１は標準パラメータ６と補正パラメータ７を管理して
おり、この２つを合成して実行パラメータ８を生成して
いる。装置２は標準レシピ４を管理しており、標準レシ
ピ４と実行パラメータ８を合成して実行レシピ５を生成
している。

【００１６】次に、パラメータの指定方法について図４
のフロー図に基づいて説明する。

【００１７】複数存在している標準パラメータ、補正パ
ラメータ、標準レシピの中から、それぞれを指定して処
理を行なわせたい場合を考える。その時は、まずホスト
コントローラ端末３ａで処理を開始するメニューを選択
する。次に、選択したい標準パラメータ、補正パラメー
タ、標準レシピをパラメータ名、レシピ名で指定する。
パラメータ名とはそれぞれの標準パラメータ、補正パラ
メータに付けられた名前である。それにより、ホストコ
ントローラ１で指定された標準パラメータ、補正パラメ
ータが合成され実行パラメータが生成される。次に、実
行パラメータとレシピ名が装置２ａに送られ、指定され
た標準レシピと実行パラメータが合成され、実行レシピ
が生成される。それから、実行レシピによりロット処理
が行なわれる。

【００１８】実行パラメータと実行レシピが生成される
ときのパラメータ生成の規則について表１に示す。ちな
みに、表１においてＶＰｓ、ＶＰｒ、ＶＲｓはパラメー
タの値である。

【００１９】

【表１】 これから、パラメータの値として半導体ウエハに対する
露光時間を引用し、パラメータ生成の規則に基づいたパ
ラメータ生成について説明する。ある装置について、標
準パラメータ、補正パラメータ、標準レシピをそれぞれ
指定し、処理を行なわせるとする。その時、指定した標
準パラメータ、補正パラメータ、標準レシピの露光時間
が、標準パラメータで３００ｍｓｅｃ、補正パラメータ
で３３０ｍｓｅｃ、標準レシピで３２０ｍｓｅｃだった
とする。ホストコントローラ１で標準パラメータと補正
パラメータが合成され実行パラメータが生成されるとき
は、表１に従い、補正パラメータの値が優先され、実行
パラメータの露光時間が３３０ｍｓｅｃに設定される。
次に、装置２ａで実行パラメータと標準レシピが合成さ
れて実行レシピが生成されるときは、これも表１に従
い、実行パラメータの値が優先され、実行レシピの露光
時間が３３０ｍｓｅｃに設定される。

【００２０】なお、図３においては、標準パラメータ
（固定値）を補正パラメータ（固定値）で補正する場合
について示したが、図５に示すように、固定値としての
補正パラメータに代えて補正値生成機構２０からの補正
パラメータＡＰを用いることができる。即ち、必要と認
める場合には、外部より要求加工値ＲＰＶを補正値生成
機構２０に入力する。これにより、補正値生成機構２０
は、それに入力された要求加工値ＲＰＶに応じた値の補
正パラメータＡＰを生成する。この補正パラメータＡＰ
によって標準パラメータ６を補正して実行パラメータ８
を生成する。このようにすることにより、必要な場合に
おいてよりきめ細かく且つ適切な実行パラメータの生成
が可能となる。

【００２１】

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、ホスト
コントローラと装置側コントローラをオンライン接続
し、ホストコントローラでパラメータの管理および生
成、装置側コントローラへのパラメータ転送、装置側コ
ントローラの情報管理を行なうようにしたので、パラメ
ータ指定による装置側コントローラの実行レシピ指定と
装置側コントローラの一元管理が可能になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例の概略構成図である。

【図２】レシピとキーパラメータの概要を示す説明図で
ある。

【図３】パラメータ生成の流れを示すフロー図である。

【図４】パラメータ指定方法を示すフロー図である。

【図５】異なる実施例におけるパラメータ生成の流れを
示すフロー図である。

【符号の説明】

１ ホストコントローラ ２、２ａ、２ｂ、２ｃ 装置 ３ａ、３ｂ ホストコントローラ端末 ４ 標準レシピ ５ 実行レシピ ６ 標準パラメータ ７ 補正パラメータ ８ 実行パラメータ

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】ホストコントローラとそれにオンライン接
   続された複数の半導体製造装置側コントローラとを備
   え、 前記ホストコントローラは、標準パラメータと補正パラ
   メータとから、前記各装置側コントローラ毎に実行パラ
   メータを生成するものとして構成され、 前記各装置側コントローラは、前記ホストコントローラ
   から送られる前記実行パラメータと、自己が有する標準
   レシピとから、実行レシピを生成するものとして構成さ
   れている、半導体製造装置のパラメータ管理システム。
2. 【請求項２】前記ホストコントローラは、予め格納した
   複数の補正パラメータの複数のもののうちから、前記実
   行パラメータの生成に用いる前記補正パラメータを選択
   するものである、請求項１に記載の半導体製造装置のパ
   ラメータ管理システム。
3. 【請求項３】前記ホストコントローラは、前記実行パラ
   メータの生成に用いる前記補正パラメータを、外部から
   の要求加工値に応じたものとして生成する補正値生成手
   段を備えるものである、請求項１記載の半導体製造装置
   のパラメータ管理システム。
4. 【請求項４】前記ホストコントローラにおいて、標準パ
   ラメータと補正パラメータとから実行パラメータを生成
   するに当り、補正パラメータの指定がある場合には、標
   準パラメータに拘らず、補正パラメータを実行パラメー
   タとなし、補正パラメータの指定のない場合には標準パ
   ラメータを実行パラメータとする、請求項１〜３のいず
   れかに記載の半導体製造装置のパラメータ管理システ
   ム。
5. 【請求項５】前記各装置側コントローラにおいて、標準
   レシピと実行パラメータとから実行レシピを生成するに
   当っては、実行パラメータの指定がある場合には、標準
   レシピに拘らず、その実行パラメータを実行レシピとな
   し、実行パラメータの指定がない場合にはその実行パラ
   メータを実行レシピとする、請求項１〜３のいずれかに
   記載の半導体製造装置のパラメータ管理システム。