JPH10256386A - マスクパターンデータの作成方法 - Google Patents
マスクパターンデータの作成方法Info
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- JPH10256386A JPH10256386A JP9082052A JP8205297A JPH10256386A JP H10256386 A JPH10256386 A JP H10256386A JP 9082052 A JP9082052 A JP 9082052A JP 8205297 A JP8205297 A JP 8205297A JP H10256386 A JPH10256386 A JP H10256386A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】マスクパターンデータの下階層に配置されてい
るレイアウトセルデータを修正した場合に該レイアウト
セルデータの修正結果が自動的に反映され、人手の削除
処理や配置処理を不要とし、レイアウトセルデータのマ
スクパターンデータ下の配置情報を人為エラーの発生を
回避するマスクパターンデータ作成方法の提供。 【解決手段】入力レイアウトセルデータの配置情報を基
にダミーセルの下階層にレイアウトセルデータを配置後
マスクパターンデータの下階層にダミーセルを配置する
と共に、ダミーセルにレイアウトセルデータの配置情報
を付加し、ダミーセルの下階層に配置された前記レイア
ウトセルデータを展開処理して配置情報のうち角度に相
当する図形データを作成する。レイアウトセルデータ修
正時において、ダミーセルに付加されている配置情報を
読み出し、前記ダミーセル上の図形データを削除する。
るレイアウトセルデータを修正した場合に該レイアウト
セルデータの修正結果が自動的に反映され、人手の削除
処理や配置処理を不要とし、レイアウトセルデータのマ
スクパターンデータ下の配置情報を人為エラーの発生を
回避するマスクパターンデータ作成方法の提供。 【解決手段】入力レイアウトセルデータの配置情報を基
にダミーセルの下階層にレイアウトセルデータを配置後
マスクパターンデータの下階層にダミーセルを配置する
と共に、ダミーセルにレイアウトセルデータの配置情報
を付加し、ダミーセルの下階層に配置された前記レイア
ウトセルデータを展開処理して配置情報のうち角度に相
当する図形データを作成する。レイアウトセルデータ修
正時において、ダミーセルに付加されている配置情報を
読み出し、前記ダミーセル上の図形データを削除する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体集積回路にお
けるマスクパターンデータ作成方法に関し、特にストリ
ームデータ書式の制限に依存しないマスクパターンデー
タの作成方法及びシステムに関する。
けるマスクパターンデータ作成方法に関し、特にストリ
ームデータ書式の制限に依存しないマスクパターンデー
タの作成方法及びシステムに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のマスクパターンデータ作成方法に
ついて、図８を参照して以下に説明する。マスクパター
ンデータ作成装置８０１によって作成したマスクパター
ンデータを、ＧＤＳ（ＥＣＭＡ−９６）に代表されるス
トリームデータ書式に変換して磁気テープ等の記録媒体
にストリームデータ６０５として出力することにより、
作成されたマスクパターンデータを後工程で利用してい
る。
ついて、図８を参照して以下に説明する。マスクパター
ンデータ作成装置８０１によって作成したマスクパター
ンデータを、ＧＤＳ（ＥＣＭＡ−９６）に代表されるス
トリームデータ書式に変換して磁気テープ等の記録媒体
にストリームデータ６０５として出力することにより、
作成されたマスクパターンデータを後工程で利用してい
る。
【０００３】このマスクパターンデータ作成装置８０１
は、入出力（ユーザインターフェース）を行なうための
ＣＲＴ等のディスプレイ装置６０６及びキーボード６０
７も有している。
は、入出力（ユーザインターフェース）を行なうための
ＣＲＴ等のディスプレイ装置６０６及びキーボード６０
７も有している。
【０００４】図１０及び図１１は、マスクパターンデー
タの階層構造を模式的に示す説明図である。なお、ブロ
ック、該ブロック中のサブブロック、さらには最下位ブ
ロックである基本セル等の階層構造をもったデータを備
えたレイアウト方式については例えば特開昭６１−４５
３６４号公報等の記載が参照される。
タの階層構造を模式的に示す説明図である。なお、ブロ
ック、該ブロック中のサブブロック、さらには最下位ブ
ロックである基本セル等の階層構造をもったデータを備
えたレイアウト方式については例えば特開昭６１−４５
３６４号公報等の記載が参照される。
【０００５】図１０及び図１１に示すように、階層構造
を持つマスクパターンデータ１００１の作成において、
ストリームデータ書式における下階層に配置するレイア
ウトセルデータ１００２の配置角度が９０度単位である
という制限がある場合、マスクパターン作成装置８０１
のマスクパターンデータ作成機能８０２において、レイ
アウトセルデータ１００２の配置角度が９０度単位以外
を取れないという制限を設けることにより、ストリーム
データ書式の制限の抵触を避けていた。
を持つマスクパターンデータ１００１の作成において、
ストリームデータ書式における下階層に配置するレイア
ウトセルデータ１００２の配置角度が９０度単位である
という制限がある場合、マスクパターン作成装置８０１
のマスクパターンデータ作成機能８０２において、レイ
アウトセルデータ１００２の配置角度が９０度単位以外
を取れないという制限を設けることにより、ストリーム
データ書式の制限の抵触を避けていた。
【０００６】しかし、この方法では、９０度単位以外、
例えば１５度、３０度等の任意の角度の配置角度を持つ
レイアウトセルデータを作成することはできない。
例えば１５度、３０度等の任意の角度の配置角度を持つ
レイアウトセルデータを作成することはできない。
【０００７】ところで、例えば特開平７−１４６９４５
号公報には、ワードプロセッサやＤＴＰ（デスクトップ
パブリッシング）において、任意回転角度で連続模様を
展開できるようにした情報処理装置が提案されている。
上記特開平７−１４６９４５号公報記載の情報処理装置
の機能を、図８に示した従来のマスクパターンデータ作
成機能８０２に実装すると、その構成は、図９に示すよ
うなものとなる。すなわち、上記公報に提案される情報
処理装置は、マスクパターン作成装置そのものではない
が、以下では、任意の回転角度で連続模様を展開する機
能を備えた、上記従来の情報処理装置をマスクパターン
データ作成に適用した場合について説明を行う。なお、
この構成も本発明者の創案によるものである。
号公報には、ワードプロセッサやＤＴＰ（デスクトップ
パブリッシング）において、任意回転角度で連続模様を
展開できるようにした情報処理装置が提案されている。
上記特開平７−１４６９４５号公報記載の情報処理装置
の機能を、図８に示した従来のマスクパターンデータ作
成機能８０２に実装すると、その構成は、図９に示すよ
うなものとなる。すなわち、上記公報に提案される情報
処理装置は、マスクパターン作成装置そのものではない
が、以下では、任意の回転角度で連続模様を展開する機
能を備えた、上記従来の情報処理装置をマスクパターン
データ作成に適用した場合について説明を行う。なお、
この構成も本発明者の創案によるものである。
【０００８】図９を参照すると、マスクパターンデータ
作成機能８０２は、制御部９０１を介してキーボード６
０７（図８参照）から入力された任意の角度θ（図１３
の１３０１参照）をメモリ上に記憶する回転角度記憶部
９０２を備え、レイアウトセルデータ（図１０、図１１
の１００２）からメモリ上に格納された任意の角度θを
持つスーパーセルを作成するスーパーセル作成手段９０
３と、このスーパーセルを、マスクパターンデータ上
で、階層構造を持たない図形データ（図１２、及び図１
３の１２０１）として展開する展開手段（フラット化手
段）９０４と、を備え、擬似的に任意の角度θを持つレ
イアウトセルデータを、マスクパターンデータ（図１
２、図１３の１００１）下に作成することができる。な
お、実際には、展開処理された図形データ１２０１（図
１２、図１３参照）であるため、マスクパターンデータ
１０１上に存在している。
作成機能８０２は、制御部９０１を介してキーボード６
０７（図８参照）から入力された任意の角度θ（図１３
の１３０１参照）をメモリ上に記憶する回転角度記憶部
９０２を備え、レイアウトセルデータ（図１０、図１１
の１００２）からメモリ上に格納された任意の角度θを
持つスーパーセルを作成するスーパーセル作成手段９０
３と、このスーパーセルを、マスクパターンデータ上
で、階層構造を持たない図形データ（図１２、及び図１
３の１２０１）として展開する展開手段（フラット化手
段）９０４と、を備え、擬似的に任意の角度θを持つレ
イアウトセルデータを、マスクパターンデータ（図１
２、図１３の１００１）下に作成することができる。な
お、実際には、展開処理された図形データ１２０１（図
１２、図１３参照）であるため、マスクパターンデータ
１０１上に存在している。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】上記したように、階層
構造を持つマスクパターンデータ（図１０、及び図１１
の１００１参照）においては、下階層に配置されている
レイアウトセルデータ（図１０、及び図１１の１００２
参照）を修正した場合、当該レイアウトセルデータの修
正結果が反映されるのに対して、疑似的に任意の角度θ
を持つレイアウトセルデータは、実際には、展開処理さ
れた図形データ（図１２、及び図１３の１２０１）であ
るために、レイアウトセルデータの修正結果が反映され
ない。
構造を持つマスクパターンデータ（図１０、及び図１１
の１００１参照）においては、下階層に配置されている
レイアウトセルデータ（図１０、及び図１１の１００２
参照）を修正した場合、当該レイアウトセルデータの修
正結果が反映されるのに対して、疑似的に任意の角度θ
を持つレイアウトセルデータは、実際には、展開処理さ
れた図形データ（図１２、及び図１３の１２０１）であ
るために、レイアウトセルデータの修正結果が反映され
ない。
【００１０】すなわち、マスクパターンの下階層に配置
されるレイアウトセルデータを任意の角度θで回転する
場合、レイアウトセルデータを展開した上で（すなわち
レイアウトセルデータの階層構造をフラット化した図形
データ１２０１として）、回転しており、この場合、レ
イアウトセルデータは、図１２に示すように、階層構造
を持たない図形データに変換され、このマスクパターン
データ１２０１からは、例えばレイアウトセルデータの
情報を辿るといったことはできず、このため、元のレイ
アウトセルデータに修正の必要等が生じた場合には、元
のレイアウトセルデータを修正した後、再び、配置・展
開・回転処理を行う、ことが必要とされる。
されるレイアウトセルデータを任意の角度θで回転する
場合、レイアウトセルデータを展開した上で（すなわち
レイアウトセルデータの階層構造をフラット化した図形
データ１２０１として）、回転しており、この場合、レ
イアウトセルデータは、図１２に示すように、階層構造
を持たない図形データに変換され、このマスクパターン
データ１２０１からは、例えばレイアウトセルデータの
情報を辿るといったことはできず、このため、元のレイ
アウトセルデータに修正の必要等が生じた場合には、元
のレイアウトセルデータを修正した後、再び、配置・展
開・回転処理を行う、ことが必要とされる。
【００１１】より詳細には、人手により該当する疑似的
に任意の回転角度θを持つレイアウトセルデータ（図形
データ）を削除してから、修正されたレイアウトセルデ
ータの配置処理を行なった後に、前記レイアウトセルデ
ータから任意の回転角度θを持つスーパーセルを作成す
る処理と、そのスーパーセルをマスクパターンデータ上
で階層構造を持たない図形データとして展開する展開処
理を、再度行なう必要がある。
に任意の回転角度θを持つレイアウトセルデータ（図形
データ）を削除してから、修正されたレイアウトセルデ
ータの配置処理を行なった後に、前記レイアウトセルデ
ータから任意の回転角度θを持つスーパーセルを作成す
る処理と、そのスーパーセルをマスクパターンデータ上
で階層構造を持たない図形データとして展開する展開処
理を、再度行なう必要がある。
【００１２】この時、レイアウトセルデータのマスクパ
ターンデータ下における配置座標、回転角度θ、および
レイアウトセルデータの在りか（格納場所）等を、人為
的なミス等によって、誤って指定するという不具合が発
生する恐れがある。
ターンデータ下における配置座標、回転角度θ、および
レイアウトセルデータの在りか（格納場所）等を、人為
的なミス等によって、誤って指定するという不具合が発
生する恐れがある。
【００１３】したがって、本発明は、上記問題点に鑑み
てなされたものであって、その目的は、階層構造を有す
るマスクパターンデータにおいて、下階層に配置されて
いるレイアウトセルデータを修正した場合に該レイアウ
トセルデータの修正結果が自動的に反映され、これによ
り人手による削除処理や配置処理を行なうことを不要と
し、レイアウトセルデータのマスクパターンデータ下の
配置情報を人為的なミスによる誤りの発生を回避するよ
うにした、マスクパターンデータの作成方法を提供する
ことにある。
てなされたものであって、その目的は、階層構造を有す
るマスクパターンデータにおいて、下階層に配置されて
いるレイアウトセルデータを修正した場合に該レイアウ
トセルデータの修正結果が自動的に反映され、これによ
り人手による削除処理や配置処理を行なうことを不要と
し、レイアウトセルデータのマスクパターンデータ下の
配置情報を人為的なミスによる誤りの発生を回避するよ
うにした、マスクパターンデータの作成方法を提供する
ことにある。
【００１４】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明のマスクパターンデータの作成方法は、入力
したレイアウトセルデータの配置情報を基に、ダミーセ
ルよりも下の階層にレイアウトセルデータを配置した
後、マスクパターンデータの下の階層に前記ダミーセル
を配置すると共に、前記ダミーセルに前記レイアウトセ
ルデータの配置情報を付加情報として付加し、前記ダミ
ーセルの下階層に配置された前記レイアウトセルデータ
を展開処理して前記配置情報のうち角度に相当する図形
データを作成する、ようにしたことを特徴とする。
め、本発明のマスクパターンデータの作成方法は、入力
したレイアウトセルデータの配置情報を基に、ダミーセ
ルよりも下の階層にレイアウトセルデータを配置した
後、マスクパターンデータの下の階層に前記ダミーセル
を配置すると共に、前記ダミーセルに前記レイアウトセ
ルデータの配置情報を付加情報として付加し、前記ダミ
ーセルの下階層に配置された前記レイアウトセルデータ
を展開処理して前記配置情報のうち角度に相当する図形
データを作成する、ようにしたことを特徴とする。
【００１５】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態について以下
に説明する。本発明は、その好ましい実施の形態におい
て、レイアウトセルデータの配置情報を入力する配置情
報入力手段（図１の１０２を「ダミーセル」と呼んでい
る）と、この配置情報を基に、ダミーセル（ここでは仮
想的もしくは暫定的なセルデータ）の下階層にレイアウ
トセルデータを配置してからマスクパターンデータの下
階層にこのダミーセルを配置するダミーセル配置手段
（図１の１０５）と、このダミーセルに、レイアウトセ
ルデータの配置情報を付加情報として付加する情報付加
手段（図１の１０４）と、ダミーセル下のレイアウトセ
ルデータを展開処理して上記配置情報に基づいた図形デ
ータを作成する配置展開処手段（図１の１０６）と、を
有し、レイアウトセルデータの修正時において、ダミー
セルに付加されている配置情報読み出す配置情報取得手
段（図１の１０７）と、ダミーセル上の図形データを削
除する削除手段（図１の１０８）と、を有する。
に説明する。本発明は、その好ましい実施の形態におい
て、レイアウトセルデータの配置情報を入力する配置情
報入力手段（図１の１０２を「ダミーセル」と呼んでい
る）と、この配置情報を基に、ダミーセル（ここでは仮
想的もしくは暫定的なセルデータ）の下階層にレイアウ
トセルデータを配置してからマスクパターンデータの下
階層にこのダミーセルを配置するダミーセル配置手段
（図１の１０５）と、このダミーセルに、レイアウトセ
ルデータの配置情報を付加情報として付加する情報付加
手段（図１の１０４）と、ダミーセル下のレイアウトセ
ルデータを展開処理して上記配置情報に基づいた図形デ
ータを作成する配置展開処手段（図１の１０６）と、を
有し、レイアウトセルデータの修正時において、ダミー
セルに付加されている配置情報読み出す配置情報取得手
段（図１の１０７）と、ダミーセル上の図形データを削
除する削除手段（図１の１０８）と、を有する。
【００１６】上記のように構成されてなる本発明の実施
の形態においては、階層構造を持つマスクパターンデー
タにおいて、下階層に配置されているレイアウトセルデ
ータを修正した場合に、当該レイアウトセルデータの修
正結果が反映されるように構成し、人手の介入による削
除処理や配置処理を不要としたことにより、レイアウト
セルデータのマスクパターンデータ下の配置情報を人為
的なミス等により誤って指定する、という不具合の発生
を確実に回避することを可能としたものである。
の形態においては、階層構造を持つマスクパターンデー
タにおいて、下階層に配置されているレイアウトセルデ
ータを修正した場合に、当該レイアウトセルデータの修
正結果が反映されるように構成し、人手の介入による削
除処理や配置処理を不要としたことにより、レイアウト
セルデータのマスクパターンデータ下の配置情報を人為
的なミス等により誤って指定する、という不具合の発生
を確実に回避することを可能としたものである。
【００１７】なお、本発明の実施の形態において、上記
各手段の各機能は、情報処理装置上でプログラムを実行
させることにより実現されるものである。
各手段の各機能は、情報処理装置上でプログラムを実行
させることにより実現されるものである。
【００１８】
【実施例】上記した本発明の実施の形態について更に詳
細に説明すべく、本発明の実施例について図面を参照し
て以下に説明する。図１は、本発明の一実施例における
マスクパターンデータ作成機能の一部の処理フローを模
式的に説明するための図である。図２は、本実施例にお
ける、配置展開処理１０６の前のマスクパターンデータ
の階層構造を模式的に示したものであり、図３は、本実
施例における、マスクパターンデータを示したものであ
る。また、以下に掲げる表１は、メモリに、格納および
ダミーセルの付加情報として付加する配置情報を示す例
である。
細に説明すべく、本発明の実施例について図面を参照し
て以下に説明する。図１は、本発明の一実施例における
マスクパターンデータ作成機能の一部の処理フローを模
式的に説明するための図である。図２は、本実施例にお
ける、配置展開処理１０６の前のマスクパターンデータ
の階層構造を模式的に示したものであり、図３は、本実
施例における、マスクパターンデータを示したものであ
る。また、以下に掲げる表１は、メモリに、格納および
ダミーセルの付加情報として付加する配置情報を示す例
である。
【００１９】図１を参照すると、任意の角度を持たせる
レイアウトセルデータを新規に作成する場合（修正判定
処理１０１のｙｅｓ分岐）、先ず、配置情報入力処理１
０２で、レイアウトセルデータ２０３（図２参照）の名
称（表１のＣｅｌｌＮａｍｅ）と、その在りか（記憶装
置の位置）を示すディレクトリパス（表１のＤｉｒＰａ
ｔｈ）と、レイアウトセルデータ２０３の配置座標（表
１のＣｏｏｒｄｉｎａｔｅ、例えばＸ−Ｙ座標）、角度
θ（表１のＡｎｇｌｅ）を、例えばキーボード１０３か
ら入力して、配置情報としてメモリに格納する。
レイアウトセルデータを新規に作成する場合（修正判定
処理１０１のｙｅｓ分岐）、先ず、配置情報入力処理１
０２で、レイアウトセルデータ２０３（図２参照）の名
称（表１のＣｅｌｌＮａｍｅ）と、その在りか（記憶装
置の位置）を示すディレクトリパス（表１のＤｉｒＰａ
ｔｈ）と、レイアウトセルデータ２０３の配置座標（表
１のＣｏｏｒｄｉｎａｔｅ、例えばＸ−Ｙ座標）、角度
θ（表１のＡｎｇｌｅ）を、例えばキーボード１０３か
ら入力して、配置情報としてメモリに格納する。
【００２０】次に、情報付加処理１０４により、メモリ
上に格納されている配置情報（表１参照）を、ダミーセ
ル２０２の付加情報として付加する。
上に格納されている配置情報（表１参照）を、ダミーセ
ル２０２の付加情報として付加する。
【００２１】次に、ダミーセル配置処理１０５により、
ダミーセル２０２の下階層にレイアウトセルデータ２０
３を配置する。
ダミーセル２０２の下階層にレイアウトセルデータ２０
３を配置する。
【００２２】
【表１】
【００２３】図４は、本実施例における、配置展開処理
１０６の後のマスクパターンデータの階層構造を示し、
図５は、マスクパターンデータを示したものである。
１０６の後のマスクパターンデータの階層構造を示し、
図５は、マスクパターンデータを示したものである。
【００２４】配置展開処理１０６において、レイアウト
セルデータ２０３をメモリ上の配置情報の角度θ（表１
のＡｎｇｌｅ、５０１）を持つ図形データとして、前述
した従来技術と同様の処理を行なって、展開処理し、角
度θ５０１（図５参照）を持つ図形データ４０１とした
後、ダミーセル２０２を、マスクパターンデータ２０１
の下階層に配置する。すなわち、マスクパターンデータ
２０１からは下の階層のダミーセル２０２をみることが
でき、レイアウトセルデータを展開して回転処理した図
形データが配置されたダミーセル２０２には元のレイア
ウトセルデータの名称や格納場所、配置情報、回転情報
等の付加情報（属性情報）が付加されている。
セルデータ２０３をメモリ上の配置情報の角度θ（表１
のＡｎｇｌｅ、５０１）を持つ図形データとして、前述
した従来技術と同様の処理を行なって、展開処理し、角
度θ５０１（図５参照）を持つ図形データ４０１とした
後、ダミーセル２０２を、マスクパターンデータ２０１
の下階層に配置する。すなわち、マスクパターンデータ
２０１からは下の階層のダミーセル２０２をみることが
でき、レイアウトセルデータを展開して回転処理した図
形データが配置されたダミーセル２０２には元のレイア
ウトセルデータの名称や格納場所、配置情報、回転情報
等の付加情報（属性情報）が付加されている。
【００２５】次に、レイアウトセルデータ２０２が修正
されている場合（図１の判定処理１０１のｎｏ）、先
ず、配置情報取得処理１０７において、ダミーセル２０
２の付加情報として付加されている配置情報を取得し
て、メモリ上（表１参照）に格納する。
されている場合（図１の判定処理１０１のｎｏ）、先
ず、配置情報取得処理１０７において、ダミーセル２０
２の付加情報として付加されている配置情報を取得し
て、メモリ上（表１参照）に格納する。
【００２６】次に、削除処理１０８により、ダミーセル
２０２をマスクパターンデータ２０１から削除した後、
配置情報のレイアウトセルデータ２０３の名称（表１の
ＣｅｌｌＮａｍｅ）とその在りかを示すディレクトリパ
ス（表１のＤｉｒＰａｔｈ）から新たな（すなわち修正
されている）レイアウトセルデータ２０３を取り込んで
配置展開処理１０６の処理を行なうことにより、ストリ
ームデータ書式の制限に依存しないマスクパターンデー
タの作成が可能になる。
２０２をマスクパターンデータ２０１から削除した後、
配置情報のレイアウトセルデータ２０３の名称（表１の
ＣｅｌｌＮａｍｅ）とその在りかを示すディレクトリパ
ス（表１のＤｉｒＰａｔｈ）から新たな（すなわち修正
されている）レイアウトセルデータ２０３を取り込んで
配置展開処理１０６の処理を行なうことにより、ストリ
ームデータ書式の制限に依存しないマスクパターンデー
タの作成が可能になる。
【００２７】本発明の第１の実施例では、任意の角度θ
を持つレイアウトセルデータの全てを展開処理するため
に、マスクパターンデータの容量が増大することになる
が、マスクパタンデータの容量の増大を抑止低減するよ
うにした本発明の第２の実施例について以下に説明す
る。
を持つレイアウトセルデータの全てを展開処理するため
に、マスクパターンデータの容量が増大することになる
が、マスクパタンデータの容量の増大を抑止低減するよ
うにした本発明の第２の実施例について以下に説明す
る。
【００２８】図６は、本発明の第２の実施例のマスクパ
ターンデータ作成装置の構成をブロック図にて示したも
のであり、図７は、本発明の第２の実施例における整合
処理機能を説明する処理フローを説明するための図であ
る。また以下の表２は、メモリ上に格納されている書式
制限の一例を示したものである。
ターンデータ作成装置の構成をブロック図にて示したも
のであり、図７は、本発明の第２の実施例における整合
処理機能を説明する処理フローを説明するための図であ
る。また以下の表２は、メモリ上に格納されている書式
制限の一例を示したものである。
【００２９】図６を参照して、本発明の第２の実施例に
おけるマスクパターン作成機能６０２は、図８、図９を
参照して説明したマスクパターン作成機能８０２（図８
参照）のうち、展開手段９０４（図９参照）を、本発明
の第１の実施例で説明した情報付加処理１０４に置き換
えた他は、同一の機能を有する。
おけるマスクパターン作成機能６０２は、図８、図９を
参照して説明したマスクパターン作成機能８０２（図８
参照）のうち、展開手段９０４（図９参照）を、本発明
の第１の実施例で説明した情報付加処理１０４に置き換
えた他は、同一の機能を有する。
【００３０】次に、本発明の第２の実施例における整合
処理機能６０３について説明する。図７を参照すると、
先ず、書式情報入力処理７０１にて、ストリームデータ
６０５のレイアウトセルデータの配置角度が９０度単位
である書式制限を格納した書式指定ファイル７０２から
読み込みメモリ上に格納する（表２のＡｎｇｌｅ）。
処理機能６０３について説明する。図７を参照すると、
先ず、書式情報入力処理７０１にて、ストリームデータ
６０５のレイアウトセルデータの配置角度が９０度単位
である書式制限を格納した書式指定ファイル７０２から
読み込みメモリ上に格納する（表２のＡｎｇｌｅ）。
【００３１】
【表２】
【００３２】次に、マスクパターンデータの下階層に配
置されている全てのレイアウトセルデータの検索を行い
（処理７０３〜処理７０５）、検索の結果見つかったレ
イアウトセルデータに対して、書式制限（表２参照）と
照合して、この制限に抵触する場合（判定処理７０４の
ｎｏ分岐）には、前記第１の実施例で説明した配置情報
取得処理１０７、ダミーセル配置処理１０５、配置展開
処理１０６を行うことにより、ストリームデータ書式の
制限に依存しないマスクパターンデータの作成が可能に
なる。
置されている全てのレイアウトセルデータの検索を行い
（処理７０３〜処理７０５）、検索の結果見つかったレ
イアウトセルデータに対して、書式制限（表２参照）と
照合して、この制限に抵触する場合（判定処理７０４の
ｎｏ分岐）には、前記第１の実施例で説明した配置情報
取得処理１０７、ダミーセル配置処理１０５、配置展開
処理１０６を行うことにより、ストリームデータ書式の
制限に依存しないマスクパターンデータの作成が可能に
なる。
【００３３】また、上記各実施例では、ストリームデー
タ書式の角度制限に限って説明してきたが、本発明はこ
の角度制限に限定されるものでなく、その他の制限につ
いても同様の処理を行なうことにより、上記と同様の作
用効果を得ることができる。このように、上記各実施例
で説明した本発明は、例えば半導体集積回路、固体撮像
素子、液晶装置、電子回路等のレイアウトのためのマス
クパターンデータ作成に適用した場合に作業効率、信頼
性の向上に貢献すること極めて大である。
タ書式の角度制限に限って説明してきたが、本発明はこ
の角度制限に限定されるものでなく、その他の制限につ
いても同様の処理を行なうことにより、上記と同様の作
用効果を得ることができる。このように、上記各実施例
で説明した本発明は、例えば半導体集積回路、固体撮像
素子、液晶装置、電子回路等のレイアウトのためのマス
クパターンデータ作成に適用した場合に作業効率、信頼
性の向上に貢献すること極めて大である。
【００３４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
階層構造を持つマスクパターンデータでは下階層に配置
されているレイアウトセルデータを修正した場合に、当
該レイアウトセルデータの修正結果が反映されるように
構成し、人手による削除処理や配置処理を行なうことを
不要としたことにより、レイアウトセルデータのマスク
パターンデータ下の配置情報を人為的なミス等により誤
って指定する、という不具合の発生を確実に回避するこ
とを可能とし、作業効率、信頼性、及び生産性を向上す
ることができる、という効果を奏する。
階層構造を持つマスクパターンデータでは下階層に配置
されているレイアウトセルデータを修正した場合に、当
該レイアウトセルデータの修正結果が反映されるように
構成し、人手による削除処理や配置処理を行なうことを
不要としたことにより、レイアウトセルデータのマスク
パターンデータ下の配置情報を人為的なミス等により誤
って指定する、という不具合の発生を確実に回避するこ
とを可能とし、作業効率、信頼性、及び生産性を向上す
ることができる、という効果を奏する。
【図１】本発明の一実施例におけるマスクパターンデー
タ作成機能の要部の処理フローを示す図である。
タ作成機能の要部の処理フローを示す図である。
【図２】本発明の一実施例を説明するための図であり、
マスクパターンデータの階層構造の説明図である。
マスクパターンデータの階層構造の説明図である。
【図３】本発明の一実施例を説明するための図であり、
マスクパターンデータの説明図である。
マスクパターンデータの説明図である。
【図４】本発明の一実施例を説明するための図であり、
配置展開処理後のマスクパターンデータの階層構造の説
明図である。
配置展開処理後のマスクパターンデータの階層構造の説
明図である。
【図５】本発明の一実施例を説明するための図であり、
配置展開処理後のマスクパターンデータの説明図であ
る。
配置展開処理後のマスクパターンデータの説明図であ
る。
【図６】本発明の第２の実施例のマスクパターンデータ
作成装置のブロック図である。
作成装置のブロック図である。
【図７】本発明の第２の実施例における整合処理機能の
処理フローを説明するための図である。
処理フローを説明するための図である。
【図８】従来のマスクパターンデータ作成装置の構成を
示すブロック図である。
示すブロック図である。
【図９】従来技術の情報処理装置の機能を実装したマス
クパターン作成機能の機能構成を成すブロック図であ
る。
クパターン作成機能の機能構成を成すブロック図であ
る。
【図１０】従来のマスクパターンデータの階層構造を模
式的に示す説明図である。
式的に示す説明図である。
【図１１】従来のマスクパターンデータを模式的に示す
説明図である。
説明図である。
【図１２】従来の方法を説明するための図であり、図形
データの階層構造を模式的に説明する図である。
データの階層構造を模式的に説明する図である。
【図１３】従来の方法を説明するための図であり、図形
データを模式的に説明する図である。
データを模式的に説明する図である。
１０１ 修正判定処理 １０２ 配置情報入力処理 １０３ キーボード １０４ 情報付加処理 １０５ ダミーセル配置処理 １０６ 配置展開処理 １０７ 配置情報取得処理 １０８ 削除処理 ２０１ マスクパターンデータ ２０２ ダミーセル ２０３ レイアウトセルデータ ４０１ 図形データ ６０１ マスクパターン作成装置 ６０２ マスクパターン作成機能 ６０３ 整合処理機能 ６０４ ストリームデータ入出力機能 ６０５ ストリームデータ ６０６ ディスプレイ装置 ６０７ キーボード ７０１ 書式情報入力処理 ７０２ 書式指定ファイル ７０３ 検索処理 ７０４ 検索結果判定処理 ７０５ 終了判定処理 ８０１ マスクマターン作成装置 ８０２ マスクマターン作成機能 ９０１ 制御部 ９０２ 回転角度記憶部 ９０３ スーパーセル作成手段 ９０４ 展開手段 １００１ マスクパターンデータ １００２ レイアウトセルデータ １２０１ 図形データ
Claims (7)
- 【請求項１】入力したレイアウトセルデータの配置情報
を基に、ダミーセルよりも下の階層にレイアウトセルデ
ータを配置した後、マスクパターンデータの下の階層に
前記ダミーセルを配置すると共に、前記ダミーセルに前
記レイアウトセルデータの配置情報を付加情報として付
加し、 前記ダミーセルの下階層に配置された前記レイアウトセ
ルデータを展開処理して前記配置情報のうち指定角度分
回転させた図形データを作成する、ようにしたことを特
徴とするマスクパターンデータの作成方法。 - 【請求項２】レイアウトセルデータの配置情報を入力す
る配置情報入力手段と、 前記配置情報を基にダミーセルよりも下の階層にレイア
ウトセルデータを配置してからマスクパターンデータの
下階層に前記ダミーセルを配置し、かつ、前記ダミーセ
ルに前記配置情報を付加情報として付加するダミーセル
配置手段と、 前記ダミーセルの下の階層のレイアウトセルデータを展
開処理して前記配置情報の角度に相当する図形データを
作成する配置展開手段と、 を備えたことを特徴とするマスクパターンデータの作成
システム。 - 【請求項３】レイアウトセルデータ修正時において、前
記ダミーセルに付加されている配置情報読み出す配置情
報取得手段と、 前記ダミーセル上の前記図形データを削除する削除手段
と、 を有することを特徴とする請求項２記載のマスクパター
ンデータの作成システム。 - 【請求項４】マスクパターンデータを出力する場合の書
式制限に抵触するレイアウトセルデータの配置情報を取
得する配置情報取得手段を備えたことを特徴とする請求
項２記載のマスクパターンデータの作成システム。 - 【請求項５】（ａ）レイアウトセルデータの配置情報を
入力する配置情報入力処理と、 （ｂ）前記配置情報をもとにダミーセルの下階層にレイ
アウトセルデータを配置してからマスクパターンデータ
の下階層に前記ダミーセルを配置し、かつ、前記ダミー
セルに前記配置情報を付加情報として付加するダミーセ
ル配置処理と、 （ｃ）前記ダミーセル下のレイアウトセルデータを展開
処理して前記配置情報の角度θに相当する図形データを
作成する配置展開処理と、 の上記（ａ）〜（ｃ）の各処理を情報処理装置で実行さ
せることによりマスクパターンデータの作成を行うプロ
グラムを記録した記録媒体。 - 【請求項６】（ｄ）レイアウトセルデータ修正時におい
て、前記ダミーセルに付加されている配置情報読み出す
配置情報取得処理、及び、 （ｅ）前記ダミーセル上の図形データを削除する削除処
理と、の上記（ｄ）、（ｅ）の各処理を更に情報処理装
置で実行させることによりマスクパターンデータの作成
を行うプログラムを記録した請求項５記載の記録媒体。 - 【請求項７】（ｆ）マスクパターンデータを出力する場
合の書式制限に抵触するレイアウトセルデータの配置情
報を取得する配置情報取得処理を、更に情報処理装置で
実行させることによりマスクパターンデータの作成を行
うプログラムを記録した請求項５記載の記録媒体。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9082052A JP3042443B2 (ja) | 1997-03-14 | 1997-03-14 | マスクパターンデータの作成方法 |
| CN98100906A CN1109997C (zh) | 1997-03-14 | 1998-03-13 | 掩模图形数据产生方法 |
| US09/042,084 US6237133B1 (en) | 1997-03-14 | 1998-03-13 | Mask pattern data creation method and system that are not subject to data stream data format limitations |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9082052A JP3042443B2 (ja) | 1997-03-14 | 1997-03-14 | マスクパターンデータの作成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10256386A true JPH10256386A (ja) | 1998-09-25 |
| JP3042443B2 JP3042443B2 (ja) | 2000-05-15 |
Family
ID=13763752
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9082052A Expired - Fee Related JP3042443B2 (ja) | 1997-03-14 | 1997-03-14 | マスクパターンデータの作成方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6237133B1 (ja) |
| JP (1) | JP3042443B2 (ja) |
| CN (1) | CN1109997C (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100399867C (zh) * | 2003-09-26 | 2008-07-02 | 英业达股份有限公司 | 以软件自动执行电路布局的方法 |
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|---|---|---|---|---|
| JP2000250960A (ja) * | 1999-03-02 | 2000-09-14 | Sony Corp | 描画装置用データの検証方法およびフォトマスクの製造方法 |
| US6678879B1 (en) * | 1999-06-02 | 2004-01-13 | Cypress Semiconductor Corp. | Method and apparatus for automated design of integrated circuits |
| KR100304711B1 (ko) * | 1999-10-06 | 2001-11-02 | 윤종용 | 집적 회로 장치의 래이아웃 검증 방법 |
| US6842888B2 (en) * | 2002-04-23 | 2005-01-11 | Freescale Semiconductor, Inc. | Method and apparatus for hierarchically restructuring portions of a hierarchical database based on selected attributes |
| US7448012B1 (en) | 2004-04-21 | 2008-11-04 | Qi-De Qian | Methods and system for improving integrated circuit layout |
| JP5141028B2 (ja) * | 2007-02-07 | 2013-02-13 | 富士通セミコンダクター株式会社 | マスクレイアウトデータ作成方法、マスクレイアウトデータ作成装置及び半導体装置の製造方法 |
| JP5024141B2 (ja) * | 2008-03-21 | 2012-09-12 | 富士通セミコンダクター株式会社 | パターンデータの作成方法、そのパターンデータを作成するプログラム、及び、そのプログラムを含む媒体 |
| CN103034644B (zh) * | 2011-09-30 | 2015-08-05 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | Gds文件的扩展方法 |
| KR20130129639A (ko) * | 2012-05-21 | 2013-11-29 | 삼성전자주식회사 | 파일 머지 시스템 |
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|---|---|---|---|---|
| JPH067387B2 (ja) | 1984-08-10 | 1994-01-26 | 株式会社日立製作所 | 自動レイアウト方法 |
| US5046012A (en) * | 1988-06-17 | 1991-09-03 | Fujitsu Limited | Pattern data processing method |
| JPH04330568A (ja) | 1991-05-02 | 1992-11-18 | Toppan Printing Co Ltd | パターンレイアウト用ｃａｄ |
| JPH05266135A (ja) * | 1992-03-17 | 1993-10-15 | Fujitsu Ltd | マスクパターンデータ処理装置及びパターン形成方法 |
| JPH05267454A (ja) | 1992-03-18 | 1993-10-15 | Fujitsu Ltd | ハードマクロのパターンデータ生成方法 |
| JPH0620003A (ja) | 1992-07-06 | 1994-01-28 | Mitsubishi Electric Corp | 論理合成方法 |
| JPH06223132A (ja) * | 1993-01-25 | 1994-08-12 | Fuji Xerox Co Ltd | マスクパターン検証装置 |
| JPH07146945A (ja) | 1993-11-25 | 1995-06-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 情報処理装置 |
| JP3190514B2 (ja) * | 1994-03-17 | 2001-07-23 | 富士通株式会社 | レイアウトデータ生成装置及び生成方法 |
| US5633807A (en) * | 1995-05-01 | 1997-05-27 | Lucent Technologies Inc. | System and method for generating mask layouts |
-
1997
- 1997-03-14 JP JP9082052A patent/JP3042443B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-03-13 CN CN98100906A patent/CN1109997C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1998-03-13 US US09/042,084 patent/US6237133B1/en not_active Expired - Fee Related
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| CN100399867C (zh) * | 2003-09-26 | 2008-07-02 | 英业达股份有限公司 | 以软件自动执行电路布局的方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1109997C (zh) | 2003-05-28 |
| CN1197252A (zh) | 1998-10-28 |
| US6237133B1 (en) | 2001-05-22 |
| JP3042443B2 (ja) | 2000-05-15 |
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