JPH05266135A - マスクパターンデータ処理装置及びパターン形成方法 - Google Patents
マスクパターンデータ処理装置及びパターン形成方法Info
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- JPH05266135A JPH05266135A JP4058509A JP5850992A JPH05266135A JP H05266135 A JPH05266135 A JP H05266135A JP 4058509 A JP4058509 A JP 4058509A JP 5850992 A JP5850992 A JP 5850992A JP H05266135 A JPH05266135 A JP H05266135A
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- pattern
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Abstract
(57)【要約】
【目的】階層化されたマスクパターン設計データを効率
よく処理し、また、展開したデータの圧縮を効率よく行
うことを目的とする。 【構成】セルのパターンデータに対しサイジング等の図
形処理を行い、矩形パターンデータに変換した後に、セ
ル配置データを矩形パターンデータで展開する。この展
開の際、セル配置データに含まれているセル繰り返し配
置情報に基づいて展開後の矩形パターンの繰り返し回数
及びピッチを求め、これを用いることにより圧縮した矩
形パターンデータを直接生成する。
よく処理し、また、展開したデータの圧縮を効率よく行
うことを目的とする。 【構成】セルのパターンデータに対しサイジング等の図
形処理を行い、矩形パターンデータに変換した後に、セ
ル配置データを矩形パターンデータで展開する。この展
開の際、セル配置データに含まれているセル繰り返し配
置情報に基づいて展開後の矩形パターンの繰り返し回数
及びピッチを求め、これを用いることにより圧縮した矩
形パターンデータを直接生成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、階層化設計されたマス
クパターンＣＡＤデータを加工し露光装置用又は検査装
置用のデータに変換するマスクパターンデータ処理装置
及びこのデータに基づいてパターンを形成する方法に関
する。
クパターンＣＡＤデータを加工し露光装置用又は検査装
置用のデータに変換するマスクパターンデータ処理装置
及びこのデータに基づいてパターンを形成する方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】階層化設計されたマスクパターンＣＡＤ
データは、セルのパターンデータとセル配置データとで
構成される。
データは、セルのパターンデータとセル配置データとで
構成される。
【０００３】例えば図４に示すような階層構造のマスク
パターン設計データでは、ブロックＡは５０個のブロッ
クＢと１０個のブロックＣとを有し、ブロックＢは１個
のブロックＤと１００個のブロックＥとを有し、ブロッ
クＥは１０個のブロックＨを有し、ブロックＨは１個の
ブロックＬを有している。ブロックＣは１０個のブロッ
クＦと１００個のブロックＧとを有し、ブロックＦは４
個のブロックＩを有し、ブロックＩは１個のブロックＭ
を有している。同様に、ブロックＧは１０個のブロック
Ｊと１個のブロックＫとを有し、ブロックＪは８個のブ
ロックＮを有し、ブロックＮは１個のブロックＯを有し
ている。
パターン設計データでは、ブロックＡは５０個のブロッ
クＢと１０個のブロックＣとを有し、ブロックＢは１個
のブロックＤと１００個のブロックＥとを有し、ブロッ
クＥは１０個のブロックＨを有し、ブロックＨは１個の
ブロックＬを有している。ブロックＣは１０個のブロッ
クＦと１００個のブロックＧとを有し、ブロックＦは４
個のブロックＩを有し、ブロックＩは１個のブロックＭ
を有している。同様に、ブロックＧは１０個のブロック
Ｊと１個のブロックＫとを有し、ブロックＪは８個のブ
ロックＮを有し、ブロックＮは１個のブロックＯを有し
ている。
【０００４】この場合、ブロックＡは、５０×１００×
１０×１＝５０，０００個のブロックＬと、５０個のブ
ロックＤと、１０×１０×４×１＝４００個のブロック
Ｍと、１０×１００×１０×８×１＝８０，０００個の
ブロックＯと、１０×１００×１＝１，０００個のブロ
ックＫとを有している。
１０×１＝５０，０００個のブロックＬと、５０個のブ
ロックＤと、１０×１０×４×１＝４００個のブロック
Ｍと、１０×１００×１０×８×１＝８０，０００個の
ブロックＯと、１０×１００×１＝１，０００個のブロ
ックＫとを有している。
【０００５】各ブロックＡ〜Ｏは、不図示のパターンデ
ータａ〜ｏを有している。末端のブロックＤ、Ｌ及びＫ
はそれぞれパターンデータｄ、ｌ及びｋである。
ータａ〜ｏを有している。末端のブロックＤ、Ｌ及びＫ
はそれぞれパターンデータｄ、ｌ及びｋである。
【０００６】従来では、セル配置データをセルのパター
ンデータで展開した後に、サイジング等の図形処理を行
い、次に矩形分解処理を行っていた。
ンデータで展開した後に、サイジング等の図形処理を行
い、次に矩形分解処理を行っていた。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】このため、繰り返しパ
ターンが多数あっても繰り返し情報を有効利用できず、
データ処理に長時間を要し、また、展開したデータの圧
縮を効率よく行うことができなかった。
ターンが多数あっても繰り返し情報を有効利用できず、
データ処理に長時間を要し、また、展開したデータの圧
縮を効率よく行うことができなかった。
【０００８】本発明の目的は、このような問題点に鑑
み、マスクパターン設計データを効率よく処理すること
ができ、また、展開したデータの圧縮を効率よく行うこ
とができるマスクパターンデータ処理装置及びマスクパ
ターン設計データを効率よく処理してパターンを形成す
るパターン形成方法を提供することにある。
み、マスクパターン設計データを効率よく処理すること
ができ、また、展開したデータの圧縮を効率よく行うこ
とができるマスクパターンデータ処理装置及びマスクパ
ターン設計データを効率よく処理してパターンを形成す
るパターン形成方法を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段及びその作用】図１は、本
発明に係るマスクパターンデータ処理装置の原理構成を
示す。
発明に係るマスクパターンデータ処理装置の原理構成を
示す。
【００１０】このマスクパターンデータ処理装置は、セ
ルのパターンデータとセル配置データとを用いて階層化
したマスクパターン設計データが格納されたマスクパタ
ーン設計データ記憶手段１と、格納された該パターンデ
ータに対しサイジング等の図形処理を行う図形処理手段
２と、図形処理されたパターンを矩形分解して矩形パタ
ーンデータを得る矩形分解手段３と、格納された該セル
配置データを該矩形パターンデータで展開する展開手段
４とを備えている。
ルのパターンデータとセル配置データとを用いて階層化
したマスクパターン設計データが格納されたマスクパタ
ーン設計データ記憶手段１と、格納された該パターンデ
ータに対しサイジング等の図形処理を行う図形処理手段
２と、図形処理されたパターンを矩形分解して矩形パタ
ーンデータを得る矩形分解手段３と、格納された該セル
配置データを該矩形パターンデータで展開する展開手段
４とを備えている。
【００１１】本発明に係るパターン形成方法では、セル
のパターンデータとセル配置データとを用いて階層化さ
れたマスクパターン設計データの該パターンデータに対
し図形処理を行い、図形処理されたパターンを矩形分解
して矩形パターンデータを得、該セル配置データを該矩
形パターンデータで展開し、展開した該矩形パターンに
基づいて基板上にパターンを描画する。
のパターンデータとセル配置データとを用いて階層化さ
れたマスクパターン設計データの該パターンデータに対
し図形処理を行い、図形処理されたパターンを矩形分解
して矩形パターンデータを得、該セル配置データを該矩
形パターンデータで展開し、展開した該矩形パターンに
基づいて基板上にパターンを描画する。
【００１２】本装置及び方法の発明では、パターンデー
タに対し図形処理を行い、矩形パターンデータに変換し
た後にセル配置データを矩形パターンデータで展開する
ので、展開の際にセル配置データに含まれている繰り返
し情報を有効利用でき、マスクパターン設計データを効
率よく処理することができ、また、マスクパターン設計
データを効率よく処理してパターンを形成することがで
きる。
タに対し図形処理を行い、矩形パターンデータに変換し
た後にセル配置データを矩形パターンデータで展開する
ので、展開の際にセル配置データに含まれている繰り返
し情報を有効利用でき、マスクパターン設計データを効
率よく処理することができ、また、マスクパターン設計
データを効率よく処理してパターンを形成することがで
きる。
【００１３】本装置発明の第１態様では、展開手段４
は、セル配置データに含まれているセル繰り返し配置情
報に基づいて展開後の矩形パターンの繰り返し回数及び
ピッチを求め、該繰り返し回数及び該ピッチを用いるこ
とにより圧縮した上記矩形パターンデータを直接生成す
る。
は、セル配置データに含まれているセル繰り返し配置情
報に基づいて展開後の矩形パターンの繰り返し回数及び
ピッチを求め、該繰り返し回数及び該ピッチを用いるこ
とにより圧縮した上記矩形パターンデータを直接生成す
る。
【００１４】この構成の場合、展開しながら矩形パター
ンデータの圧縮を効率よく行うことができる
ンデータの圧縮を効率よく行うことができる
【００１５】本装置発明の第２態様では、マスクパター
ン設計データ記憶手段１には、上記パターンデータと上
記セル配置データとが互いに異なるファイル１ａ、１ｂ
として格納されている。
ン設計データ記憶手段１には、上記パターンデータと上
記セル配置データとが互いに異なるファイル１ａ、１ｂ
として格納されている。
【００１６】この構成の場合、処理を容易に行うことが
できる。
できる。
【００１７】
【実施例】以下、図面に基づいて本発明の一実施例を説
明する。
明する。
【００１８】図２は、マスクパターンデータ処理装置の
ハードウエア構成を示す。コンピュータ１０は、後述の
如くマスクパターン設計データファイル１２に基づいて
セル配置データファイル１４及びパターンデータファイ
ル１６を作成し、パターンデータファイル１６に対しサ
イジング等の図形処理を行った後、矩形分解を行い、そ
のデータでセル配置データファイル１４を展開し同時に
圧縮してマスクパターン展開データファイル１８を作成
する。マスクパターン設計データファイル１２は、例え
ば図４に示すような上述のブロックＡ〜Ｏ及びブロック
Ａ〜Ｏに含まれる不図示のパターンデータａ〜ｏを備え
た階層構造となっている。
ハードウエア構成を示す。コンピュータ１０は、後述の
如くマスクパターン設計データファイル１２に基づいて
セル配置データファイル１４及びパターンデータファイ
ル１６を作成し、パターンデータファイル１６に対しサ
イジング等の図形処理を行った後、矩形分解を行い、そ
のデータでセル配置データファイル１４を展開し同時に
圧縮してマスクパターン展開データファイル１８を作成
する。マスクパターン設計データファイル１２は、例え
ば図４に示すような上述のブロックＡ〜Ｏ及びブロック
Ａ〜Ｏに含まれる不図示のパターンデータａ〜ｏを備え
た階層構造となっている。
【００１９】次に、コンピュータ１０による処理の詳細
を図３に基づいて説明する。
を図３に基づいて説明する。
【００２０】以下、括弧内の数値は図中のステップ識別
番号を表す。
番号を表す。
【００２１】（２０）マスクパターン設計データファイ
ル１２からパターンデータを抽出しかつそのセル名をコ
ピーしてパターンデータファイル１６を作成し、残りの
データをセル配置データファイル１４として保存する。
セル配置データは、セル名、セル配置位置及び繰り返し
情報（繰り返し配置数及びピッチ）を有し、パターンデ
ータが存在していたところにはセル名が残っている。
ル１２からパターンデータを抽出しかつそのセル名をコ
ピーしてパターンデータファイル１６を作成し、残りの
データをセル配置データファイル１４として保存する。
セル配置データは、セル名、セル配置位置及び繰り返し
情報（繰り返し配置数及びピッチ）を有し、パターンデ
ータが存在していたところにはセル名が残っている。
【００２２】（２２）ポリゴンデータで表現されたパタ
ーンデータａ〜ｏをベクトルデータで表現されたパター
ンデータａ’〜ｏ’に変換する。ポリゴンデータは多角
形の各頂点の座標の集合であり、例えば図５（Ａ）に示
すような矩形パターンは、各頂点Ａ〜Ｄの座標からなる
ポリゴンデータで表される。このポリゴンデータは、各
辺のベクトルＡＢ、ＢＣ、ＣＤ及びＤＡからなるベクト
ルデータに変換される。データ量は一般に、変換前の約
２〜３倍になる。
ーンデータａ〜ｏをベクトルデータで表現されたパター
ンデータａ’〜ｏ’に変換する。ポリゴンデータは多角
形の各頂点の座標の集合であり、例えば図５（Ａ）に示
すような矩形パターンは、各頂点Ａ〜Ｄの座標からなる
ポリゴンデータで表される。このポリゴンデータは、各
辺のベクトルＡＢ、ＢＣ、ＣＤ及びＤＡからなるベクト
ルデータに変換される。データ量は一般に、変換前の約
２〜３倍になる。
【００２３】（２４）ベクトルデータで表現されたパタ
ーンデータａ’〜ｏ’に対し、サイジング等の図形処理
を行った後、矩形分解し、矩形データで表現されたパタ
ーンデータａ”〜ｏ”に変換する。この矩形データは、
例えば図５（Ｂ）に示す如く、基準点Ａの座標と横の長
さＷと縦の長さＨとで表現される。矩形データ表現によ
り、データ量はベクトルデータ表現の場合の約１／４に
なる。
ーンデータａ’〜ｏ’に対し、サイジング等の図形処理
を行った後、矩形分解し、矩形データで表現されたパタ
ーンデータａ”〜ｏ”に変換する。この矩形データは、
例えば図５（Ｂ）に示す如く、基準点Ａの座標と横の長
さＷと縦の長さＨとで表現される。矩形データ表現によ
り、データ量はベクトルデータ表現の場合の約１／４に
なる。
【００２４】（２６）セル配置データの下層から上層に
向けて、矩形データで表現されたパターンデータａ”〜
ｏ”でセル配置データを展開する。この際、セル配置デ
ータに含まれているセル繰り返し配置情報に基づいて、
展開後の矩形パターンの繰り返し数及びピッチを求め、
この繰り返し数及びピッチを用いることによりデータ圧
縮した矩形パターンデータを直接生成する。これによ
り、展開しながら効率よく圧縮された矩形パターンデー
タが得られる。
向けて、矩形データで表現されたパターンデータａ”〜
ｏ”でセル配置データを展開する。この際、セル配置デ
ータに含まれているセル繰り返し配置情報に基づいて、
展開後の矩形パターンの繰り返し数及びピッチを求め、
この繰り返し数及びピッチを用いることによりデータ圧
縮した矩形パターンデータを直接生成する。これによ
り、展開しながら効率よく圧縮された矩形パターンデー
タが得られる。
【００２５】次に、展開された矩形パターンデータを電
子ビーム露光走査順にソートし、これをマスクパターン
展開データファイル１８とする。
子ビーム露光走査順にソートし、これをマスクパターン
展開データファイル１８とする。
【００２６】なお、本発明には外にも種々の変形例が含
まれる。例えば、上記実施例ではステップ２２及び２４
の各々において全てのパターンデータを一括処理する場
合を説明したが、個々のパターンデータについて、ステ
ップ２２及び２４の処理を繰り返し実行してもよい。
まれる。例えば、上記実施例ではステップ２２及び２４
の各々において全てのパターンデータを一括処理する場
合を説明したが、個々のパターンデータについて、ステ
ップ２２及び２４の処理を繰り返し実行してもよい。
【００２７】
【発明の効果】以上説明した如く、本発明に係るマスク
パターンデータ処理装置及びパターン形成方法では、パ
ターンデータに対し図形処理を行い、矩形パターンデー
タに変換した後にセル配置データを矩形パターンデータ
で展開するので、展開の際にセル配置データに含まれて
いる繰り返し情報を有効利用でき、マスクパターン設計
データを効率よく処理することができ、また、マスクパ
ターン設計データを効率よく処理してパターンを形成す
ることができるという優れた効果を奏し、処理時間短縮
に寄与するところが大きい。
パターンデータ処理装置及びパターン形成方法では、パ
ターンデータに対し図形処理を行い、矩形パターンデー
タに変換した後にセル配置データを矩形パターンデータ
で展開するので、展開の際にセル配置データに含まれて
いる繰り返し情報を有効利用でき、マスクパターン設計
データを効率よく処理することができ、また、マスクパ
ターン設計データを効率よく処理してパターンを形成す
ることができるという優れた効果を奏し、処理時間短縮
に寄与するところが大きい。
【００２８】本装置発明の第１態様では、セル配置デー
タに含まれているセル繰り返し配置情報に基づいて展開
後の矩形パターンの繰り返し回数及びピッチを求め、こ
れを用いることにより圧縮した矩形パターンデータを直
接生成するので、展開しながら矩形パターンデータの圧
縮を効率よく行うことができるという効果を奏し、展開
時間及びその後のデータ処理時間の短縮に寄与するとこ
ろが大きい。
タに含まれているセル繰り返し配置情報に基づいて展開
後の矩形パターンの繰り返し回数及びピッチを求め、こ
れを用いることにより圧縮した矩形パターンデータを直
接生成するので、展開しながら矩形パターンデータの圧
縮を効率よく行うことができるという効果を奏し、展開
時間及びその後のデータ処理時間の短縮に寄与するとこ
ろが大きい。
【００２９】本装置発明の第２態様では、パターンデー
タとセル配置データとが互いに異なるファイルとして記
憶手段に格納されているので、処理を容易に行うことが
できるという効果を奏する。
タとセル配置データとが互いに異なるファイルとして記
憶手段に格納されているので、処理を容易に行うことが
できるという効果を奏する。
【図１】本発明に係るマスクパターンデータ処理装置の
原理構成を示すブロック図である。
原理構成を示すブロック図である。
【図２】マスクパターンデータ処理装置のハードウエア
構成図である。
構成図である。
【図３】マスクパターンデータ処理手順を示すフローチ
ャートである。
ャートである。
【図４】マスクパターン設計データの階層構造の一例を
示す図である。
示す図である。
【図５】パターンの表現方法説明図である。
１０ コンピュータ １２ マスクパターン設計データファイル １４ セル配置データファイル １６ パターンデータファイル １８ マスクパターン展開データファイル
Claims (4)
- 【請求項１】 セルのパターンデータとセル配置データ
とを用いて階層化したマスクパターン設計データが格納
されたマスクパターン設計データ記憶手段（１）と、 格納された該パターンデータに対し図形処理を行う図形
処理手段（２）と、 図形処理されたパターンを矩形分解して矩形パターンデ
ータを得る矩形分解手段（３）と、 格納された該セル配置データを該矩形パターンデータで
展開する展開手段（４）と、 を有することを特徴とするマスクパターンデータ処理装
置。 - 【請求項２】 前記展開手段（４）は、前記セル配置デ
ータに含まれているセル繰り返し配置情報に基づいて展
開後の矩形パターンの繰り返し回数及びピッチを求め、
該繰り返し回数及び該ピッチを用いることにより圧縮し
た前記矩形パターンデータを直接生成することを特徴と
する請求項１記載のマスクパターンデータ処理装置。 - 【請求項３】 前記マスクパターン設計データ記憶手段
（１）には、前記パターンデータと前記セル配置データ
とが互いに異なるファイル（１ａ、１ｂ）として格納さ
れていることを特徴とする請求項１又は２記載のマスク
パターンデータ処理装置。 - 【請求項４】 セルのパターンデータとセル配置データ
とを用いて階層化されたマスクパターン設計データの該
パターンデータに対し図形処理を行い、 図形処理されたパターンを矩形分解して矩形パターンデ
ータを得、 該セル配置データを該矩形パターンデータで展開し、 展開した該矩形パターンに基づいて基板上にパターンを
描画する、ことを特徴とするパターン形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4058509A JPH05266135A (ja) | 1992-03-17 | 1992-03-17 | マスクパターンデータ処理装置及びパターン形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4058509A JPH05266135A (ja) | 1992-03-17 | 1992-03-17 | マスクパターンデータ処理装置及びパターン形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05266135A true JPH05266135A (ja) | 1993-10-15 |
Family
ID=13086394
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4058509A Withdrawn JPH05266135A (ja) | 1992-03-17 | 1992-03-17 | マスクパターンデータ処理装置及びパターン形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05266135A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6480124B2 (en) | 1999-12-15 | 2002-11-12 | Nec Corporation | CAD data compressing method and apparatus thereof |
| CN1109997C (zh) * | 1997-03-14 | 2003-05-28 | Nec化合物半导体器件株式会社 | 掩模图形数据产生方法 |
-
1992
- 1992-03-17 JP JP4058509A patent/JPH05266135A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1109997C (zh) * | 1997-03-14 | 2003-05-28 | Nec化合物半导体器件株式会社 | 掩模图形数据产生方法 |
| US6480124B2 (en) | 1999-12-15 | 2002-11-12 | Nec Corporation | CAD data compressing method and apparatus thereof |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990518 |