JPH02105259A - パターン露光装置用データ作成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体基板等における半導体集積回路パターン
を形成するパターン露光装置用のデータ作成方法に関し
、特にビットマツプ式パターンデータ作成方法に関する
。

〔従来の技術〕

従来、この種のデータ作成方法は複数の繰り返しパター
ンに関係なく、−度ある種のフォーマット（例えば、Ｃ
ａｌｍａ　Ｇ　Ｄ　Ｓ　ＩＩ　　Ｓｔｒｅａｍ　ｆｏｒ
ｍａｔ）で中間データを作成した後、パターン露光装置
用データに変換している。すなわち、繰り返しパターン
があってもこのパターンが展開されてしまい、データ量
が非常に大きくなり、変換処理時間がかかっている。

第７図はかかる従来の一例を説明するためのデータフロ
ー図である。

第７図に示すように、ビットファイルデータはまずＣＡ
Ｄ／ＣＡＭシステムによるアートヮークデータ１２に一
担変換され、あるフォーマットのアートワークデータと
して磁気テープ１３もしくは磁気ドラム１４に記録され
る０次に、この記録されたデータからパターン露光装置
用データ５への変換が行われる。しかる後、この変換デ
ータを磁気デープロあるいは磁気ドラム７に再び記憶し
、最終的にパターン露光装置８を駆動している。

かかるデータ変換を行うにあたり、同一形状の繰り返し
パターンがあっても、これをそのまま実行したり、ある
いはデータ作成を行ったりしている。

〔発明が解決しようとする課題〕

上述した従来のパターン露光装置用データ作成方法は、
例えば、ＲＯＭやＲＡＭのような同一形状の繰り返しパ
ターンの場合も前述のビットファイルをもとに一つ一つ
ある種の中間アートワークデータを作成し、しかる後パ
ターン露光装置用データに変換している。従って、ＩＭ
Ｂｉｔや４ＭＢｉｔのＲＯＭ／ＲＡＭのような大規模な
メモリＩＣにおいては、中間アートワークデータのデー
タ量が大きくなり、且つパターン露光装置用データへの
変換時間が非常にかかるという欠点がある。

本発明の目的は、中間アートワークデータのデータ、量
を大幅に削減し、且つパターン露光装置用データへの変
換時間を大幅に縮少するパターン露光装置用データ作成
方法を提供することにある。

〔課題を解決するための手段〕

本発明のパターン露光装置用データ作成方法は、半導体
基板上あるいはマスク上に半導体集積回路のパターンを
形成するパターン露光装置の露光データ作成方法におい
て、基本セル単位で同一データを繰り返すＲＯＭあるい
はＲＡＭのメモリデータに対し、データがあるかないか
の情報であるビットデータファイルと、繰り返しのパタ
ーン形状を定義するカード、パターン繰返しの原点を定
義するカードおよびパターン繰り返しのアレイ形状を定
義するデータカードとを入力してデータの変換を行なっ
た後、繰り返しパターン形状、新たな繰り返し基準座標
、二次元の繰り返し表現形状およびそれに相対するビッ
トマツプデータを出力するように構成される。

〔実施例〕

次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。

第１図は本発明の一実施例を説明するためのデータフロ
ー図である。

第１図に示すように、本実施例は二種類の情報を使用し
、一つの情報としては、ビットファイルデータがある。

これは基本図形が並べられたアレイのどのデータを出力
するかを順番に定義したものであり、１ビツトが１つの
データに対応する。

すなわち、ビットオンの時にデータを出力し、ビットオ
フの時にはデー′夕を出力しないようにしている。

また、一方もう一つの情報としては三つカードデータ２
〜４からなり、くり返しのパターン形状を定義するカー
ド（ＰＡＴＡＮカード）２とパターン形状の原点を定義
するカード（ＢＡＳＥカード）３とパターン形状のアレ
イを定義するカード（ＡＲＲＡＹカード）４とを有して
いる。

次に、これらビットファイルデータ１とカードデータ２
〜４に基づいて作成されるパターン露光装置用データ５
はビットマツプ形式のデータを想定している。すなわち
、パターンが形成される面の基準位置を示す座標Ｘ、Ｙ
の各スタートアドレスと単位区画の間隔を示すピッチ情
報および作成された各区画でこれに対応するビット情報
とが必要になる。

以下、この詳細な動作について、第２図〜第６図を参照
して説明する。

第２図は第１図に示す入力データとしてのビットファイ
ルデータの構成図である。また、以下に示す第１表は三
つのカードの入力データ、すなわち、ＰＡＴＡＮカード
、ＢＡＳＥカード。

ＡＲＲＡＹカードのデータフォーマットを示している。

第２図に示すように、このビットファイルデータ９はそ
の内容をわかりやすくするために番号をつけて表してい
る。すなわち、１がビットオンで第１表 あり、０がビットオフである。また、第１表のＰＡＴＡ
Ｎカードより繰り返しパターンの形状がわかりＢＡＳＥ
カードより基準セルの始点がわかる。一方、ＡＲＲＡＹ
カードとビットファイルデータ９の両方からアレイの形
状およびデータのオン１．オフの状態がわかる。

第３図は第１図に示すＰＡＴＡＮカードで定義されたパ
ターンデータ（基本セル）の座標位置図であり、第４図
は第１表および第２図で定義された基本セルの配列図で
ある。

第３図及び第４図に示すように、これらから上述した繰
り返しパターンの形状と、基本セルの始点とアレイの形
状およびデータのオン、オフ状態とがわかる。すなわち
、第４図において、Δの部分はピッチを固定するために
加えたダミービットであり、Ｆは１を示している。

第５図は第１表および第２図より作成したビットマツプ
の構成図である。

すなわち、第５図は第４図に示すデータをビットマツプ
データ１０として表わしたものである。

第６図はビットマツプデータフォーマットの構成図であ
る。

すなわち、第６図に示すかかるフォーマット１１は基本
図形、Ｈ光スタート位置、繰り返しピッチ、繰り返し回
数およびビットマツプから構成されているが、このビッ
トマツプ部分は第５図に示したビットマツプデータ１０
をそのまま用いる。

次に、ビットマツプデータフォーマット上の繰り返し回
数（ａ）は座標ｘ、ｙそれぞれの方向において次のよう
に求める。

すなわち、ＡＲＲＡＹカード４の繰り返しピッチをＲ３
、その時の繰り返し数をｔａとすると（０＜ｌＲｔ　　
Ｉ’＜ｌＲ２１・・・）、第１表の例ではＸ方向への繰
り返し回数は、 となり、Ｙ方向へは２回である。

また、ビットマツプデータフォーマット上の繰り返しピ
ッチはｌＲ１ｌがとられる。

最後に露光スタート位置は全てのパターンデータ（ビッ
トオン、オフに関係無く）の左上座標のうち最小のＸ座
標と最小のＹ座標となり、これが新たなくりかえし基準
座標Ｘ、Ｙとなる。

要するに、上述した実施例からも解るように、本発明は
データのオン・オフを定義するＢｉｔデータと、パター
ン形状の定義カード、パターンの原点を定義するカード
およびパターン形状のアレイ（並び）を定義するカード
のデータとからパターン露光装置用データを直接作成す
ることができる。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明のパターン露光装置用デー
タ作成方法は、コンピュータを使ってビットファイル及
び複数枚のカードとの入力により、パターン露光装置用
データを直接作成するので、中間アートワークデータも
必要なくなり、またパターン露光装置用データへの変換
時間も大幅に短縮されるという効果がある。従って、パ
ターン露光装置用データ作成の大幅なＴＡＴ短縮をはか
ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を説明するためのデータフロ
ー図、第２図は第１図に示すビットファイルデータの構
成図、第３図は第１図に示すＰＡＴＡＮカードで定義さ
れたパターンデータ（基本セル）の座標位置図、第４図
は第１表および第２図で定義された基本セルの配列図、
第５図は同じく第１表および第２図より作成したビット
マツプ構成図、第６図はビットマツプデータフォーマッ
トの構成図、第７図は従来の一例を説明するためのデー
タフロー図である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 半導体基板上あるいはマスク上に半導体集積回路のパタ
   ーンを形成するパターン露光装置の露光データ作成方法
   において、基本セル単位で同一データを繰り返すＲＯＭ
   あるいはＲＡＭのメモリデータに対し、データがあるか
   ないかの情報であるビットデータファイルと、繰り返し
   のパターン形状を定義するカード、パターン繰返しの原
   点を定義するカードおよびパターン繰り返しのアレイ形
   状を定義するデータカードとを入力してデータの変換を
   行なった後、繰り返しパターン形状、新たな繰り返し基
   準座標、二次元の繰り返し表現形状およびそれに相対す
   るビットマップデータを出力することを特徴とするパタ
   ーン露光装置用データ作成方法。