JPH0290608A - 電子ビーム描画装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 （産業上の利用分野） 本発明は電子ビーム描画装置に関するものであって、特
にマスクＲＯＭのパターン描画に使用されるものである
。

（従来の技術） 一般にマスクＲＯＭは、製造工程における特定の層のパ
ターンが所望するデータに対応して形成され、固有のデ
ータを持つＲＯＭとして実現される。

以下第３図を用いて従来の電子ビーム描画装置を説明す
る。

ＰＲＯＭｇのデータをＰＲＯＭデータ読込部９において
読込み、この読込んだデータを大型計算機１０へ送る。

大型計算機１０では、パターン発生情報１１に基づいて
ＰＲＯＭ８から読み込んだバイナリデータのビットに対
応したパターンデータを発生する。そしてこのパターン
データは大型計算機において、電子ビーム描画装置１４
がパターンを描画するためのフォーマット（以下、ＥＢ
フォーマットともいう）に変換され、磁気テープ装置１
２を介して磁気テープ１３に書き込まれる。

磁気テープ装置１５、計算機１６、描画制御部１７、お
よびパターン描画部１８からなる電子ビーム描画装置１
４においては、ＥＢフォーマットのデータが書込まれた
磁気テープ１３のデータを磁気テープ装置１５を介して
計算機１６に入力する。そしてこの入力されたデータを
描画制御部１７を介してパターン描画部１８へ送り、パ
ターン描画を行ってマスクＲＯＭ用のフォトマスク１９
を作る。

（発明が解決しようとする課題） このように従来は、ＰＲＯＭからデータを読み、ビット
単位でＥＢフォーマットのパターンデータに変換するた
め、データ量が数十倍に増大し、大容量のＰＲＯＭでは
データの取扱いが困難になる。

例えば１６ＭビットのマスクＲＯＭでは、ＥＢフォーマ
ットデータは数十Ｍパイトル２００Ｍバイト程度の膨大
なデータになってしまう。このため、（１）大型計算機
での処理時間が多大になり（数十時間）、（２）大型計
算機での処理コストが高くなるとともに、（３）磁気テ
ープへのデータ書込時間が多大となる（数時間）という
間通があった。ちなみに３６００フイートの磁気テープ
に書込めるデータ量は、１００Ｍバイト程度であって、
読出し時間は２時間程度である。

本発明は上記問題点を考慮してなされたものであって、
高速処理が可能な電子ビーム描画装置を提供することを
目的とする。

〔発明の構成〕

（課題を解決するための手段） 本発明による電子ビーム描画装置は、ＰＲＯＭに書かれ
たバイナリデータを読込む読込手段と、この読込手段を
介して読込まれたバイナリデータのビット位置に対応し
たパターンデータを発生する専用の計算機と、このパタ
ーンデータに基いて電子ビームを走査し、マスクＲＯＭ
上にパターンを描画する描画手段とを備えていることを
特徴とする。

（作　用） このように構成された本発明による電子ビーム描画装置
によれば、読込手段を介して読込まれたバイナリデータ
のビット位置に対応したパターンデータの作成が専用の
計算機を用いて行われるため高速処理可能となる。

（実施例） 第１図および第２図を用いて本発明による電子ビーム描
画装置の実施例を説明する。この実施例の電子ビーム描
画装置は、ＰＲＯＭデータ読込部２と、専用計算機５と
、描画制御部６と、パターン描画部７とを備えている。

ＰＲＯＭｌのデータはＰＲＯＭデータ読込部２によって
読込まれ、専用計算機５に送られる。なお、データ通信
手段を介して他のシステムから直接データを専用計算機
に送信することも可能である。

これらのバイナリデータのビット位置に対応したフォト
マスク描画用のパターンデータが専用計算機５によって
発生される。このパターンデータは、描画制御部６を介
してパターン描画部７へ送られ、フォトマスクのパター
ンがマスクＲＯＭ上に描画される。

バイナリデータに対応したフォトマスク用パターン発生
の一例を以下に説明する。第２図（ａ）。

（ｂ）は８ビツトＸｎバイトのバイナリデータに基づい
てパターンデータを発生する場合のモデル図である。第
２図（ａ）は８ビツトからなる１バイトのバイナリデー
タのｎバイトのビット位置イメージ図であり、第２図（
ｂ）は、バイナリデータのビット位置に対応して発生す
るパターンデータの発生イメージ図である。なお、専用
計算機５は、パターンを発生させるための情報をマスク
ＲＯＭの種類ごとに予め記憶しておく。このパターンを
発生させるための情報は、第２図（ｂ）の例では、パタ
ーン発生の基準となる座標位置Ｑ　（ｘ。

ｙ）、発生するパターンの大きさ！、ｍ、およびパター
ンの配列ピッチＰｘ、Ｐｙである。これらの情報によっ
てビットデータごとのパターン発生位置を決定する。

第２図（ａ）の第１バイト第０ビツトに対応するパター
ン発生位置は第２図（ｂ）のＰＩＯであり、データが１
の場合パターンを発生する。なおデータが０の場合はパ
ターンを発生しない。第１ビツトに対応するパターン発
生位置はＰｌｌである。以下同様にして第１バイトから
第ｎバイト迄のバイトデータに対応させ、第１行から第
ｎ行違、各ビットのデータが１ならばパターンを発生さ
せ、各ビットのデータがＯの場合パターンを発生させな
い。

以上説明したように本実施例によれば、専用計算機５を
用いてパターンデータ変換処理を行うことにより高速処
理が可能となる。

また、従来のものと異なり、大型計算機を使う必要がな
いため、計算処理コストを低減することができる。

〔発明の効果〕

本発明によれば、高速処理をすることができる。

・・・専用計算機、６・・・描画制御部、７・・・パタ
ーン描画部。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. ＰＲＯＭに書かれたバイナリデータを読込む読込手段と
   、この読込手段を介して読込まれたバイナリデータのビ
   ット位置に対応したパターンデータを発生する専用の計
   算機と、このパターンデータに基いて電子ビームを走査
   し、マスクＲＯＭ上にパターンを描画する描画手段とを
   備えていることを特徴とする電子ビーム描画装置。