JP2001022049A - マスク製作方法及びマスクパターンデータ作成装置並びに記録媒体 - Google Patents

マスク製作方法及びマスクパターンデータ作成装置並びに記録媒体

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JP2001022049A
JP2001022049A JP19663699A JP19663699A JP2001022049A JP 2001022049 A JP2001022049 A JP 2001022049A JP 19663699 A JP19663699 A JP 19663699A JP 19663699 A JP19663699 A JP 19663699A JP 2001022049 A JP2001022049 A JP 2001022049A
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武敏 小俣
Mitsuo Sakurai
光雄 櫻井
Hideji Osada
秀二 長田
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    • G—PHYSICS
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    • G03F7/70425—Imaging strategies, e.g. for increasing throughput or resolution, printing product fields larger than the image field or compensating lithography- or non-lithography errors, e.g. proximity correction, mix-and-match, stitching or double patterning
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  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】マスクをより短手番で製作し、また、露光時間
を短縮する。 【解決手段】デバイスパターンと、該デバイスパターン
を囲むスクライブパターンと該スクライブパターンで示
されるスクライブ領域内及びスクライブ領域外周の外側
に形成されるプロセス識別パターンとを含む識別・スク
ライブパターンと、該スクライブ領域外周の外側に形成
され該プロセス識別パターンを除いた外周パターンとの
データを互いに独立に作成し、該データから露光装置用
又は検査装置用のデータを作成する。外周パターンは、
複数の露光領域内のパターンに分割されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光又は紫外線やＸ
線などの放射線を選択的に透過させて露光対象物を露光
するためのオリジナルマスクやレチクルなどのマスクの
製作方法及びマスクパターンデータ作成装置、並びに、
この装置用のプログラム又は露光装置を動作させるパタ
ーンデータが記録された記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】図８は、従来のマスク製作方法説明図で
ある。図８では簡単化のために、パターンが簡略記載さ
れている。
【０００３】ＬＳＩの素子微細化及び回路大規模化に伴
い、そのレイアウトパターンデータが大量となり、その
ＣＡＤデータや露光装置用データに関し、繰り返し領域
切り出し方式、階層処理方式やライブラリ方式などのデ
ータ圧縮技術が用いられている。そこで、デバイスパタ
ーン１０とその外側のパターン１１とが別々に作成さ
れ、両データを用いてマスク１３が製作されている。
【０００４】図７は、マスクパターン作成システムの一
部の概略構成を示す。
【０００５】記録媒体２０及び２１にはそれぞれ、図８
のデバイスパターン１０及びデバイス外パターン１１の
データが格納されている。デバイス外パターン１１のデ
ータは、コンピュータ３０とこれに接続された表示装置
３１及び入力装置３２とからなるＣＡＤ装置を用いて作
成される。デバイスパターン１０のデータは、不図示の
ＣＡＤ装置を用いて作成される。
【０００６】記録媒体２０及び２１内のデータはそれぞ
れコンピュータ３３及び３４により、露光装置用データ
に変換され、さらに、製作されたマスク１３を検査する
ための検査装置用データが作成される。これらのデータ
は記録媒体３５に格納され、そのうち露光装置用データ
が露光装置３６にロードされて、ブランクマスク上に塗
布された感光材が露光され、不図示の現像装置で現像さ
れてマスク１３が製作される。
【０００７】図８に戻って、スクライブパターン１２で
示されるスクライブ領域内には、使用したマスクパター
ンをウェーハ上で確認可能にするためのデバイス識別パ
ターンＡ１２３４５、並びに、不図示の寸法測定用パタ
ーン、解像力測定用パターン及び層間位置合わせを行う
アライメントパターンなどが形成されている。スクライ
ブパターン１２の外側のパターンは、ウェーハ上に露光
されないパターンが形成されている。このパターンに
は、検査用パターン、精度測定用パターン、デバイス識
別パターンＡ１２３４５、及び、マスク１３が取り付け
られる装置、例えばステッパーに対するアライメントパ
ターンなどが含まれる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】ところが、デバイス識
別パターンＡ１２３４５はデバイスパターン１０と対応
しているので、設計変更によりデバイスパターン１０が
変わるとデバイス識別パターンＡ１２３４５も変わり、
デバイスパターン１０のみならずデバイス外パターン１
１についても図７の装置でＣＡＤデータ、露光装置用デ
ータ及び検査装置用データを再作成しなければならず、
作成工程が多くなるとともに、これにより信頼性が低下
する原因となる。
【０００９】また、露光装置用データについても上記デ
ータ圧縮の理由によりデバイスパターン１０とデバイス
外パターン１１とが独立しているので、露光装置３６が
ラスタ走査型である場合には、デバイスパターン１０に
ついて露光し、かつ、ブランクマスクの全面にわたって
デバイス外パターン１１を露光しなければならず、この
ため、デバイス外パターン１１の露光において、露光不
要領域での無駄な走査時間が長くなり、スループットが
低下する原因となる。
【００１０】本発明の目的は、このような問題点に鑑
み、マスクをより短手番で製作することが可能なマスク
製作方法及びマスクパターンデータ作成装置並びに記録
媒体を提供することにある。
【００１１】本発明の他の目的は、露光時間を短縮する
ことが可能なマスク製作方法及びマスクパターンデータ
作成装置並びに記録媒体を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段及びその作用効果】請求項
１のマスク製作方法では、デバイスパターンと、該デバ
イスパターンを囲むスクライブパターンと該スクライブ
パターンで示されるスクライブ領域内及びスクライブ領
域外周の外側に形成されるマスクパターン識別パターン
とを含む識別・スクライブパターンと、該スクライブ領
域外周の外側に形成され該マスクパターン識別パターン
を除いた外周パターンとのデータを互いに独立に作成
し、該データから露光装置用又はマスク検査装置用のデ
ータを作成する。
【００１３】このマスク製作方法によれば、もし、スク
ライブ領域外周の外側のマスクパターン識別パターンを
外周パターンに含めれば、マスクパターン識別パターン
の変更に伴い識別・スクライブパターンと外周パターン
と同時に作成しなおす必要があるが、請求項１のマスク
製作方法によれば、マスクパターンが識別・スクライブ
パターンに含まれているので、マスクパターン識別パタ
ーンの変更に対し識別・スクライブパターンのみを再作
成すればよく、短手番となるとともに、新規作成のもの
より信頼性が確保された既存パターンを使用することが
できる。
【００１４】上記マスクパターン識別パターンは例え
ば、デバイス製造プロセスに関係したもの、例えばプロ
セステクノロジーやプロセスラインなどを示すものであ
り、この場合、デバイスパターンが設計変更になって
も、識別・スクライブパターンに変更が無ければ再作成
が不要になる。
【００１５】請求項２のマスク製作方法では、請求項１
において、上記露光装置はラスタ走査型であり、上記外
周パターンは、複数の露光領域内のパターンに分割され
ている。
【００１６】このマスク製作方法によれば、分割された
各露光領域内のみラスター走査が行われるので、露光不
要領域が低減されて無駄な走査時間が少なくなり、スル
ープットが向上する。
【００１７】請求項３のマスクパターンデータ作成装置
では、デバイスパターンを囲むスクライブパターンと該
スクライブパターンで示されるスクライブ領域内及びス
クライブ領域外周の外側に形成されるマスクパターン識
別パターンとを含む識別・スクライブパターンと、該ス
クライブ領域外周の外側に形成され該マスクパターン識
別パターンを除いた外周パターンとのデータを互いに独
立に作成するプログラムがインストールされているコン
ピュータを有する。
【００１８】請求項４の記録媒体では、デバイスパター
ンを囲むスクライブパターンと該スクライブパターンで
示されるスクライブ領域内及びスクライブ領域外周の外
側に形成されるマスクパターン識別パターンとを含む識
別・スクライブパターンと、該スクライブ領域外周の外
側に形成され該マスクパターン識別パターンを除いた外
周パターンとのデータを互いに独立に作成するプログラ
ムが記録されている。
【００１９】請求項５の記録媒体では、デバイスパター
ンと、該デバイスパターンを囲むスクライブパターンと
該スクライブパターンで示されるスクライブ領域内及び
スクライブ領域外周の外側に形成されるマスクパターン
識別パターンとを含む識別・スクライブパターンと、該
スクライブ領域外周の外側に形成され該マスクパターン
識別パターンを除いた外周パターンとのデータが露光装
置を動作させるためのデータとして互いに独立に記録さ
れている。
【００２０】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施形態を説明する。
【００２１】［第１実施形態］図４（Ａ）〜（Ｃ）及び
図５（Ａ）及び（Ｂ）は、本発明の第１実施形態のマス
ク製作方法を説明するための概略パターン図である。
【００２２】マスクパターンは、図４（Ａ）〜（Ｃ）に
示す如く、デバイスパターン１０と、その外側の識別・
スクライブパターン１４と外周パターン１５とに分割さ
れ、それぞれ独立に作成される。
【００２３】識別・スクライブパターン１４は、デバイ
スパターン１０の外側に形成されたスクライブパターン
１２と、スクライブ領域内に形成されたプロセス識別パ
ターンＺ１０００、不図示の上述の寸法測定用パター
ン、解像力測定用パターン及び層間位置合わせを行うア
ライメントパターンなどと、スクライブ領域外かつ外側
に形成されたプロセス識別パターンＺ１０００とからな
る。プロセス識別パターンＺ１０００は、図８の識別パ
ターンＡ１２３４５に対応しているが、識別パターンＺ
１０００は、プロセステクノロジーやプロセスラインな
どを示しており、デバイスパターン１０が設計変更にな
っても、通常、同一である。したがって、デバイスパタ
ーン１０の設計変更により識別・スクライブパターン１
４を再作成する必要性が無くなる。
【００２４】外周パターン１５は、スクライブパターン
１２の外側のパターンのうちプロセス識別パターンＺ１
０００を除いたものであり、デバイスパターン１０の品
種毎に異なるものではなく、露光装置の変更や検査装置
の変更、追加などにより変更が生ずるものである。
【００２５】もし、スクライブパターン１２の外側のプ
ロセス識別パターンＺ１０００を外周パターン１５に含
めれば、プロセス識別パターンＺ１０００の変更に伴い
識別・スクライブパターン１４と外周パターン１５と同
時に作成しなおす必要がある。しかし、プロセス識別パ
ターンＺ１０００が識別・スクライブパターン１４に含
まれているので、プロセス識別パターンＺ１０００の変
更に対し識別・スクライブパターン１４のみを再作成す
ればよく、短手番となるとともに、新規作成のものより
信頼性が確保された既存パターンを使用することができ
る。
【００２６】外周パターン１５はさらに、図５（Ａ）に
示す如く、ラスター走査領域の単位であるパターン１５
１〜１５８に分割される。
【００２７】これらデバイスパターン１０、識別・スク
ライブパターン１４及び外周パターン１５の互いに独立
したパターンに基づいて、図５（Ｂ）に示すようなマス
ク１３Ａが製作される。
【００２８】図１は、上述のマスク製作方法を実施する
ためのシステムの一部の概略構成を示す。
【００２９】記録媒体２０、２２及び２３にはそれぞ
れ、図４のデバイスパターン１０及び識別・スクライブ
パターン１４並びに図５の外周パターン１５のデータが
格納されている。
【００３０】記録媒体２２及び２３のデータは、コンピ
ュータ３０Ａとこれに接続された表示装置３１及び入力
装置３２とからなるＣＡＤ装置を用いて作成される。す
なわち、記録媒体２２及び２３のデータはそれぞれ、コ
ンピュータ３０Ａにインストールされた識別・スクライ
ブパターン作成プログラム３０１及び外周パターン作成
プログラム３０１が実行されて作成される。コンピュー
タ３０Ａにはさらに、これらプログラム３０１及び３０
２に共通のプログラム３０３がインストールされてお
り、これには、プログラム３０１と３０２の一方を選択
して実行するためのメニュープログラムや、既存パター
ンデータの検索プログラムなどが含まれている。デバイ
スパターン１０のデータは、図７の場合と同様に、不図
示のＣＡＤ装置を用いて作成される。
【００３１】記録媒体２０内のデータはコンピュータ３
３により、記録媒体２２及び２３内のデータはコンピュ
ータ３４により、露光装置用データに変換され、さら
に、製作されたマスク１３Ａを検査するための検査装置
用データが作成される。これらのデータは、記録媒体３
５Ａに格納され、そのうち露光装置用データが露光装置
３６にロードされて、ブランクマスク上に塗布された感
光材が露光され、不図示の現像装置で現像されてマスク
１３Ａが製作される。
【００３２】記録媒体３５Ａには、デバイスパターン１
０、識別・スクライブパターン１４及び外周パターン１
５の各々についての露光装置用データ及び検査装置用デ
ータが独立して、例えば別々のファイルとして格納され
ている。これにより、これらのいずれかのデータ変更に
対し、そのデータのみ変更すればよい。また、デバイス
パターンのデータファイル及び識別・スクライブパター
ンのデータファイルに既存の外周パターンのデータファ
イルを組み合わせることができるので、露光装置用デー
タ及び検査装置用データの作成が容易になる。
【００３３】さらに、外周パターン１５の露光装置用デ
ータについては、図５（Ａ）に示すパターン１５１〜１
５８のデータがそれぞれ独立して、例えば別々のファイ
ルとして記録媒体３５Ａに格納されている。これによ
り、外周パターン１５についてはパターン１５１〜１５
８の各領域内のみラスター走査が行われるので、露光不
要領域が低減されて無駄な走査時間が少なくなり、スル
ープットが向上する。
【００３４】図２は、図１のシステムを用いて識別・ス
クライブパターン１４のＣＡＤデータ並びに露光装置用
データ及び検査装置用データを作成する手順を示す概略
フローチャートである。
【００３５】識別・スクライブパターン作成プログラム
３０１による処理では、識別・スクライブパターン１４
が既存のものではなく新規である場合のみそのパターン
を作成する。識別・スクライブパターン１４が既存のも
のであっても、その露光装置用データ又は検査装置用デ
ータが存在しなければＣＡＤデータを用いてコンピュー
タ３４Ａによりこれを作成する。
【００３６】コンピュータ３４Ａでは、従来と同様に、
図形展開、サイジング、論理処理及び露光装置３６用の
フォーマットへの変換などの処理が行われる。
【００３７】図３は、図１のシステムを用いて外周パタ
ーン１５のＣＡＤデータ並びに露光装置用データ及び検
査装置用データを作成する手順を示す概略フローチャー
トである。図３は、外周パターン１５が１０個の露光単
位領域に分割される場合を示している。
【００３８】［第２実施形態］図６は、本発明の第２実
施形態における外周パターン１５の分割方法を示す。
【００３９】外周パターン１５から、互いに異なる基本
パターン１５ａと１５ｂとが切り出される。外周パター
ン１５のパターンデータは、基本パターン１５ａ及び１
５ｂと、その繰り返し配置の方向、個数及びピッチで表
される。これにより、外周パターン１５の記録媒体上の
データ量が低減される。
【００４０】また、基本パターン１５ａ及び１５ｂの各
々は露光装置３６によるラスター走査の領域の単位でも
あるので、上記第１実施形態の場合よりも無駄な露光不
要領域走査が省略されて、スループットが向上する。
【００４１】なお、本発明には外にも種々の変形例が含
まれる。
【００４２】例えば、記録媒体２２及び２３は同一であ
ってもよく、また、コンピュータ３３及び３４Ａは同一
であってもよいことは勿論である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態に係るマスク製作システ
ムの一部の概略構成を示す図である。
【図２】図１のシステムを用いて識別・スクライブパタ
ーンのＣＡＤデータ露光装置用データ及び検査装置用デ
ータを作成する手順を示す概略フローチャートである。
【図３】図１のシステムを用いて外周パターンのＣＡＤ
データ露光装置用データ及び検査装置用データを作成す
る手順を示す概略フローチャートである。
【図４】本発明の第１実施形態のマスク製作方法を説明
するためのパターン図である。
【図５】本発明の第１実施形態のマスク製作方法を説明
するためのパターン図である。
【図６】本発明の第２実施形態の外周パターン分割方法
説明図である。
【図７】従来のマスクパターン作成システムの一部の概
略構成を示す図である。
【図８】従来のマスク製作方法を説明するためのパター
ン図である。
【符号の説明】
１０ デバイスパターン １１ デバイス外パターン １２ スクライブパターン １３、１３Ａ マスク １４ 識別・スクライブパターン １５ 外周パターン １５１〜１５８、１５ａ、１５ｂ パターン ２０〜２３、３５、３５Ａ 記録媒体 ３０、３０Ａ、３３、３４、３４Ａ コンピュータ ３１ 表示装置 ３２ 入力装置 ３６ 露光装置 Ａ１２３４５ デバイス識別パターン Ｚ１０００ プロセス識別パターン
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 長田 秀二 神奈川県川崎市中原区上小田中４丁目１番 １号 富士通株式会社内 Ｆターム(参考） 2H095 BA02 BB01 BB28 5B046 AA08 BA02 BA04 BA07 DA02 DA05 FA05 FA06

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 デバイスパターンと、該デバイスパター
    ンを囲むスクライブパターンと該スクライブパターンで
    示されるスクライブ領域内及びスクライブ領域外周の外
    側に形成されるマスクパターン識別パターンとを含む識
    別・スクライブパターンと、該スクライブ領域外周の外
    側に形成され該マスクパターン識別パターンを除いた外
    周パターンとのデータを互いに独立に作成し、 該データから露光装置用又はマスク検査装置用のデータ
    を作成することを特徴とするマスク製作方法。
  2. 【請求項２】 上記露光装置はラスタ走査型であり、 上記外周パターンは、複数の露光領域内のパターンに分
    割されていることを特徴とする請求項１記載のマスク製
    作方法。
  3. 【請求項３】 デバイスパターンを囲むスクライブパタ
    ーンと該スクライブパターンで示されるスクライブ領域
    内及びスクライブ領域外周の外側に形成されるマスクパ
    ターン識別パターンとを含む識別・スクライブパターン
    と、該スクライブ領域外周の外側に形成され該マスクパ
    ターン識別パターンを除いた外周パターンとのデータを
    互いに独立に作成するプログラムがインストールされて
    いるコンピュータを有することを特徴とするマスクパタ
    ーンデータ作成装置。
  4. 【請求項４】 デバイスパターンを囲むスクライブパタ
    ーンと該スクライブパターンで示されるスクライブ領域
    内及びスクライブ領域外周の外側に形成されるマスクパ
    ターン識別パターンとを含む識別・スクライブパターン
    と、該スクライブ領域外周の外側に形成され該マスクパ
    ターン識別パターンを除いた外周パターンとのデータを
    互いに独立に作成するプログラムが記録されていること
    を特徴とする記録媒体。
  5. 【請求項５】 デバイスパターンと、該デバイスパター
    ンを囲むスクライブパターンと該スクライブパターンで
    示されるスクライブ領域内及びスクライブ領域外周の外
    側に形成されるマスクパターン識別パターンとを含む識
    別・スクライブパターンと、該スクライブ領域外周の外
    側に形成され該マスクパターン識別パターンを除いた外
    周パターンとのデータが露光装置を動作させるためのデ
    ータとして互いに独立に記録されていることを特徴とす
    る記録媒体。
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