JP2992081B2 - パターン作成装置 - Google Patents
パターン作成装置Info
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- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
- Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体ディバイス又はプ
リント配線板の多層配線等を形成するためのウェハ等の
基板上にパターン形成するパターン作成装置に関し、特
に露光時における高精度な任意角パターンの作成ができ
るパターン作成装置に関する。近年、半導体ディバイス
の微細化・高密度化に伴いパターン作成に対する要求も
多様になってきている。特にメモリーディバイスにおい
ては最も高密度配置・微細パターンが要求されており、
チップサイズの制約などから任意角（４５°の倍数以外
の角度）を持ったパターンの作成が望まれておりより高
速でより高精度な任意角パターンの製造・検証に対する
要求が益々強まっている。
リント配線板の多層配線等を形成するためのウェハ等の
基板上にパターン形成するパターン作成装置に関し、特
に露光時における高精度な任意角パターンの作成ができ
るパターン作成装置に関する。近年、半導体ディバイス
の微細化・高密度化に伴いパターン作成に対する要求も
多様になってきている。特にメモリーディバイスにおい
ては最も高密度配置・微細パターンが要求されており、
チップサイズの制約などから任意角（４５°の倍数以外
の角度）を持ったパターンの作成が望まれておりより高
速でより高精度な任意角パターンの製造・検証に対する
要求が益々強まっている。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種のパターン作成装置として
第８図及び第９図に示すものがあった。この第８図は従
来のパターン作成装置の構成ブロック図、第９図は従来
装置のパターン作成動作説明図を示す。前記各図におい
て従来のパターン作成装置は、Ｘ−Ｙ座標系において半
導体ディバイスのパターンをＸ方向・Ｙ方向に各グリッ
トで特定される設計データを作成する設計データ作成部
１と、前記半導体ディバイスのパターンに関するＸ−Ｙ
座標の各ｘ、ｙ軸に対して４５°の倍数の成分のパター
ンデータをライブライリとして記憶するパターンデータ
記憶部２と、前記設計データからパターンデータに基づ
いて描画データを作成する描画データ作成部６とを備
え、前記描画データに基づいて電子光学系７及び試料９
を搭載したステージ８を制御する構成である。
第８図及び第９図に示すものがあった。この第８図は従
来のパターン作成装置の構成ブロック図、第９図は従来
装置のパターン作成動作説明図を示す。前記各図におい
て従来のパターン作成装置は、Ｘ−Ｙ座標系において半
導体ディバイスのパターンをＸ方向・Ｙ方向に各グリッ
トで特定される設計データを作成する設計データ作成部
１と、前記半導体ディバイスのパターンに関するＸ−Ｙ
座標の各ｘ、ｙ軸に対して４５°の倍数の成分のパター
ンデータをライブライリとして記憶するパターンデータ
記憶部２と、前記設計データからパターンデータに基づ
いて描画データを作成する描画データ作成部６とを備
え、前記描画データに基づいて電子光学系７及び試料９
を搭載したステージ８を制御する構成である。
【０００３】次に、上記構成に基づく従来装置の動作に
ついて説明する。まず、第９図に示すような図形パター
ンの設計データをＣＡＤ等で構成される設計データ作成
部１で作成する。この設計データが描画データ作成部６
に入力され、この描画データ作成部６はパターンデータ
記憶部２にライブラリとして格納されるＸ−Ｙ座標にお
ける各軸に対して直交成分（９０°成分）又は４５°成
分から設計データの各部分に近似する成分を読出す。こ
の読出したパターンデータに基づいて、描画データ作成
部６は第９図（Ｂ）のような任意のグリッドの幅に対応
する短冊状に分割し、階段近似により描画データを作成
する。また、第９図（Ｃ）のような任意の角度成分を４
５°成分のパターンで近似して描画データを作成する。
ついて説明する。まず、第９図に示すような図形パター
ンの設計データをＣＡＤ等で構成される設計データ作成
部１で作成する。この設計データが描画データ作成部６
に入力され、この描画データ作成部６はパターンデータ
記憶部２にライブラリとして格納されるＸ−Ｙ座標にお
ける各軸に対して直交成分（９０°成分）又は４５°成
分から設計データの各部分に近似する成分を読出す。こ
の読出したパターンデータに基づいて、描画データ作成
部６は第９図（Ｂ）のような任意のグリッドの幅に対応
する短冊状に分割し、階段近似により描画データを作成
する。また、第９図（Ｃ）のような任意の角度成分を４
５°成分のパターンで近似して描画データを作成する。
【０００４】この描画データに基づいて電子光学系７及
びステージ８を駆動制御することにより試料９上に第９
図（Ｄ）又は（Ｅ）に示すような形状の露光を行なう。
びステージ８を駆動制御することにより試料９上に第９
図（Ｄ）又は（Ｅ）に示すような形状の露光を行なう。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従来のパターン作成装
置は以上のように構成されていたことから、パターンデ
ータ記憶部にライブラリとして格納されるパターンデー
タ以外のパターン例えば、４５°の倍数以外の任意の角
度については予め格納されたパターンデータを利用して
近似的に描画データを作成しなければならず、この描画
データに基づいて露光した場合にエッジ部分の精度が低
下するという課題を有していた。また、このエッジ部分
の精度を向上させるために最小グリッド（レティクル上
で０．１μｍ程度）とした場合には、処理データ量が膨
大なものとなり、処理工程（Ｔ．Ａ．Ｔ．）が複雑化す
る等の課題を有していた。さらに、このような細かなグ
リットを採用したとしても設計データの任意角度の成分
から外れる場合があり、各パターン相互間の間隔が区々
となる等の課題を有していた。
置は以上のように構成されていたことから、パターンデ
ータ記憶部にライブラリとして格納されるパターンデー
タ以外のパターン例えば、４５°の倍数以外の任意の角
度については予め格納されたパターンデータを利用して
近似的に描画データを作成しなければならず、この描画
データに基づいて露光した場合にエッジ部分の精度が低
下するという課題を有していた。また、このエッジ部分
の精度を向上させるために最小グリッド（レティクル上
で０．１μｍ程度）とした場合には、処理データ量が膨
大なものとなり、処理工程（Ｔ．Ａ．Ｔ．）が複雑化す
る等の課題を有していた。さらに、このような細かなグ
リットを採用したとしても設計データの任意角度の成分
から外れる場合があり、各パターン相互間の間隔が区々
となる等の課題を有していた。
【０００６】本発明は前記課題を解決するためになされ
たもので、素子・配線等のパターン配置の柔軟性を向上
させると共にパターンの集約度を向上させることができ
るパターン作成装置を提供することを目的とする。
たもので、素子・配線等のパターン配置の柔軟性を向上
させると共にパターンの集約度を向上させることができ
るパターン作成装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】図１は本発明のパターン
作成装置の原理説明図を示す。同図において本発明のパ
ターン作成装置はＸ−Ｙ座標系において素子・配線等の
パターンをＸ方向のグリッド及びＹ方向のグリッドで特
定する設計データを作成する設計データ作成手段１と、
前記素子・配線等のパターンに関する特定成分のパター
ンデータを記憶する記憶手段２と、前記記憶手段２に記
憶されたパターンデータに合致する表示形態に前記設計
データのＸ方向のグリッド及びＹ方向のグリッドの比率
を変更してグリッドイメージの中間データを出力するグ
リッドイメージ変換手段３と、前記中間データにおける
Ｘ方向のグリッド及びＹ方向のグリッドを前記変更比率
の逆比率に基づいて再変換して描画データを出力する描
画データ再変換手段４とを備え、前記描画データに基づ
いて素子・配線等の任意角パターンを作成するものであ
る。
作成装置の原理説明図を示す。同図において本発明のパ
ターン作成装置はＸ−Ｙ座標系において素子・配線等の
パターンをＸ方向のグリッド及びＹ方向のグリッドで特
定する設計データを作成する設計データ作成手段１と、
前記素子・配線等のパターンに関する特定成分のパター
ンデータを記憶する記憶手段２と、前記記憶手段２に記
憶されたパターンデータに合致する表示形態に前記設計
データのＸ方向のグリッド及びＹ方向のグリッドの比率
を変更してグリッドイメージの中間データを出力するグ
リッドイメージ変換手段３と、前記中間データにおける
Ｘ方向のグリッド及びＹ方向のグリッドを前記変更比率
の逆比率に基づいて再変換して描画データを出力する描
画データ再変換手段４とを備え、前記描画データに基づ
いて素子・配線等の任意角パターンを作成するものであ
る。
【０００８】
【作用】本発明においては設計データを予め格納された
パターンデータのフォーマットに変換した後、露光段階
において当初の設計データのフォーマットと同じフォー
マットに再変換して描画データを作成し、この描画デー
タに基づいて露光処理を実行することにより、予め準備
されていないパターンデータに適合しない任意角等の成
分を含むフォーマットであっても描画データの作成及び
パターン描画処理を総て高速化し、描画処理のパターン
精度を向上させる。特に、大容量メモリディバイス等の
パターン作成においてパターン配置の柔軟性、素子集約
の高精度且つ高密度化が図られる。
パターンデータのフォーマットに変換した後、露光段階
において当初の設計データのフォーマットと同じフォー
マットに再変換して描画データを作成し、この描画デー
タに基づいて露光処理を実行することにより、予め準備
されていないパターンデータに適合しない任意角等の成
分を含むフォーマットであっても描画データの作成及び
パターン描画処理を総て高速化し、描画処理のパターン
精度を向上させる。特に、大容量メモリディバイス等の
パターン作成においてパターン配置の柔軟性、素子集約
の高精度且つ高密度化が図られる。
【０００９】
【実施例】（ａ）本発明の一実施例の説明 以下、本発明の一実施例を図２、図３に基づいて説明す
る。この図２は本実施例の構成図、図３は図２記載実施
例のデータ変換説明図を示す。同図において本実施例に
係るパターン作成装置は、前記図８記載の従来装置と同
様に設計データ作成部１、パターンデータ記憶部２及び
露光装置２０を共通して備え、この構成に加え、前記パ
ターンデータ記憶部に記憶されるパターンデータの表示
形態（フォーマット）に設計データを変換してグリッド
イメージの中間データを出力するグリッドイメージ変換
部３と、前記中間データを再変換して描画データを出力
する描画データ再変換部４とを備え、前記描画データを
露光装置２０の露光制御部６に出力することにより試料
９上に所定パターンを作成する構成である。
る。この図２は本実施例の構成図、図３は図２記載実施
例のデータ変換説明図を示す。同図において本実施例に
係るパターン作成装置は、前記図８記載の従来装置と同
様に設計データ作成部１、パターンデータ記憶部２及び
露光装置２０を共通して備え、この構成に加え、前記パ
ターンデータ記憶部に記憶されるパターンデータの表示
形態（フォーマット）に設計データを変換してグリッド
イメージの中間データを出力するグリッドイメージ変換
部３と、前記中間データを再変換して描画データを出力
する描画データ再変換部４とを備え、前記描画データを
露光装置２０の露光制御部６に出力することにより試料
９上に所定パターンを作成する構成である。
【００１０】上記構成に基づく本実施例装置の動作につ
いて説明する。まず、設計データ作成部１はＣＡＤ等で
ＣＡＤデータとして図３（Ａ）に示す形状の設計データ
をグリッドイメージ変換部３に出力する。このグリッド
イメージ変換部３はパターンデータ記憶部２に予め記憶
される４５°の倍数に相当するフォーマットに設計デー
タのＸ方向、Ｙ方向の各グリッドを所定の比率で変更し
て図３（Ｂ）に示すようなグリッドイメージの中間デー
タに変換する。
いて説明する。まず、設計データ作成部１はＣＡＤ等で
ＣＡＤデータとして図３（Ａ）に示す形状の設計データ
をグリッドイメージ変換部３に出力する。このグリッド
イメージ変換部３はパターンデータ記憶部２に予め記憶
される４５°の倍数に相当するフォーマットに設計デー
タのＸ方向、Ｙ方向の各グリッドを所定の比率で変更し
て図３（Ｂ）に示すようなグリッドイメージの中間デー
タに変換する。
【００１１】前記変換された中間データが描画データ再
変換部４に入力され、この描画データ再変換部４は前記
グリッドイメージ変換部３において変換した比率の逆比
率に基づいて再変換して描画データを作成して露光装置
２０に出力する。この描画データは、前記図３（Ａ）に
示す形状のフォーマットと同様な図３（Ｃ）に示すフォ
ーマットのＸ、Ｙの各グリット幅とするＸ、Ｙピッチを
有するととなる。
変換部４に入力され、この描画データ再変換部４は前記
グリッドイメージ変換部３において変換した比率の逆比
率に基づいて再変換して描画データを作成して露光装置
２０に出力する。この描画データは、前記図３（Ａ）に
示す形状のフォーマットと同様な図３（Ｃ）に示すフォ
ーマットのＸ、Ｙの各グリット幅とするＸ、Ｙピッチを
有するととなる。
【００１２】前記露光装置２０において露光制御部６は
描画データに基づいて電子光学系７及びステージ８を駆
動制御する。この駆動制御により試料９上図３（Ｃ）に
示すＸピッチ、Ｙピッチの図形パターンが作成できるこ
ととなる。 （ｂ）本発明の他の実施例の説明 図４〜図６は他の実施例の動作フローチャート及びデー
タ変換説明図を示す。この他の実施例装置は前記図２記
載の実施例と同様に構成され、この構成に基づく動作を
実にする。以下、この動作について前記図２を参照して
説明する。
描画データに基づいて電子光学系７及びステージ８を駆
動制御する。この駆動制御により試料９上図３（Ｃ）に
示すＸピッチ、Ｙピッチの図形パターンが作成できるこ
ととなる。 （ｂ）本発明の他の実施例の説明 図４〜図６は他の実施例の動作フローチャート及びデー
タ変換説明図を示す。この他の実施例装置は前記図２記
載の実施例と同様に構成され、この構成に基づく動作を
実にする。以下、この動作について前記図２を参照して
説明する。
【００１３】前記各図において、図６（Ａ）に示す形状
に設計データをＣＡＤデータとして設計データ作成部１
で作成又は入力する（ステップ１）。この設計データを
グリッドイメージ変換部３において任意の複数領域に分
割してパターンデータを図６（Ｂ）に示すように分類
し、分解する（ステップ２）。前記分類、分解された設
計データの各パターン（形状）が４５°の倍数の角度
（４５°〜３１５°）のみを含む領域か、４５°の倍数
以外の角度（任意角）を含む領域かを判断する（ステッ
プ３）。この任意角を含む領域を図６（Ｃ）に示し、４
５°の倍数の角度のみを含む領域を図６（Ｄ）に示す。
前記ステップ３において任意角を含むと判断された場合
には、任意角を含む領域において、任意角のＸグリッド
とＹグリッドとの比（Ｘ／Ｙ比）を演算し、図６（Ｅ）
に示すように任意角のＸ／Ｙ比を角度４５°のＸ／Ｙ比
（１：１）にグリッドキメージを変換する（ステップ
４）。なお、図６（Ｄ）のように任意角を含まない４５
°の倍数角度のみを含む領域についてはこのような変換
処理（ステップ４）を行うことなく次のステップに進
む。このように、図６（Ｅ）、（Ｆ）に示すようにＣＡ
Ｄデータである設計データから描画データとしてのデー
タフォーマットへ変換されることとなる（ステップ
５）。
に設計データをＣＡＤデータとして設計データ作成部１
で作成又は入力する（ステップ１）。この設計データを
グリッドイメージ変換部３において任意の複数領域に分
割してパターンデータを図６（Ｂ）に示すように分類
し、分解する（ステップ２）。前記分類、分解された設
計データの各パターン（形状）が４５°の倍数の角度
（４５°〜３１５°）のみを含む領域か、４５°の倍数
以外の角度（任意角）を含む領域かを判断する（ステッ
プ３）。この任意角を含む領域を図６（Ｃ）に示し、４
５°の倍数の角度のみを含む領域を図６（Ｄ）に示す。
前記ステップ３において任意角を含むと判断された場合
には、任意角を含む領域において、任意角のＸグリッド
とＹグリッドとの比（Ｘ／Ｙ比）を演算し、図６（Ｅ）
に示すように任意角のＸ／Ｙ比を角度４５°のＸ／Ｙ比
（１：１）にグリッドキメージを変換する（ステップ
４）。なお、図６（Ｄ）のように任意角を含まない４５
°の倍数角度のみを含む領域についてはこのような変換
処理（ステップ４）を行うことなく次のステップに進
む。このように、図６（Ｅ）、（Ｆ）に示すようにＣＡ
Ｄデータである設計データから描画データとしてのデー
タフォーマットへ変換されることとなる（ステップ
５）。
【００１４】次に、前記変換作成された描画データが描
画データ再変換部４へ入力され（ステップ６）、この描
画データ再変換部４において各分解された領域が任意角
を含むか否かが判断される（ステップ７）。このステッ
プ７で任意角を含むと判断された領域は前記Ｘ／Ｙ比に
応じたパターン展開の再変換処理を実行して描画データ
を作成する（ステップ８）。なお、任意角を含まない領
域についてはパターン展開の再変換処理はなされない。
画データ再変換部４へ入力され（ステップ６）、この描
画データ再変換部４において各分解された領域が任意角
を含むか否かが判断される（ステップ７）。このステッ
プ７で任意角を含むと判断された領域は前記Ｘ／Ｙ比に
応じたパターン展開の再変換処理を実行して描画データ
を作成する（ステップ８）。なお、任意角を含まない領
域についてはパターン展開の再変換処理はなされない。
【００１５】前記作成された描画データが露光装置２０
に入力され、この露光装置２０の露光制御部６は描画デ
ータに基づいて電子光学系７及びステージ８をＸ、Ｙ方
向に移動制御して露光動作を実行する（ステップ９）。
なお、前記各実施例においてはグリッドイメージから描
画データへ再変換を描画データ再変換部４で電子光学系
７及びステージ８を移動制御する構成としたが、図７に
示すように構成することもできる。この図７において描
画データの再変換処理は電子光学系７からの光の照射方
向に対してステージ８を傾斜角θだけ傾斜させて配置
し、この傾斜角θにより一方の配置ピッチを変化させる
ことによりＸ／Ｙ比を変化させて任意角パターンを描画
データとして再変換するものである。
に入力され、この露光装置２０の露光制御部６は描画デ
ータに基づいて電子光学系７及びステージ８をＸ、Ｙ方
向に移動制御して露光動作を実行する（ステップ９）。
なお、前記各実施例においてはグリッドイメージから描
画データへ再変換を描画データ再変換部４で電子光学系
７及びステージ８を移動制御する構成としたが、図７に
示すように構成することもできる。この図７において描
画データの再変換処理は電子光学系７からの光の照射方
向に対してステージ８を傾斜角θだけ傾斜させて配置
し、この傾斜角θにより一方の配置ピッチを変化させる
ことによりＸ／Ｙ比を変化させて任意角パターンを描画
データとして再変換するものである。
【００１６】また、電子光学系７は、ステージ８に対し
て直交する方向に光を照射する第１の電子光学系７１
と、ステージ８に対して傾斜角θだけ傾斜させて光を照
射する第２の電子光学系７２とを備る構成とすることも
できる。この場合には任意角度を含む領域と４５°倍数
角度のみを含む領域との各パターンを同時に描画できる
こととなる。
て直交する方向に光を照射する第１の電子光学系７１
と、ステージ８に対して傾斜角θだけ傾斜させて光を照
射する第２の電子光学系７２とを備る構成とすることも
できる。この場合には任意角度を含む領域と４５°倍数
角度のみを含む領域との各パターンを同時に描画できる
こととなる。
【００１７】
【発明の効果】以上のように本発明においては設計デー
タを予め格納されたパターンデータのフォーマットに変
換した後、露光段階において当初の設計データのフォー
マットと同じフォーマットに再変換して描画データを作
成し、この描画データに基づいて露光処理を実行するこ
とにより、予め準備されていないパターンデータに適合
しない任意角等の成分を含むフォーマットであっても描
画データの作成及びパターン描画処理を総て高速化し、
描画処理のパターン精度を向上させる効果を有する。特
に、大容量メモリディバイス等のパターン作成において
パターン配置の柔軟性、素子集約の高精度且つ高密度化
が図られる効果を有する。
タを予め格納されたパターンデータのフォーマットに変
換した後、露光段階において当初の設計データのフォー
マットと同じフォーマットに再変換して描画データを作
成し、この描画データに基づいて露光処理を実行するこ
とにより、予め準備されていないパターンデータに適合
しない任意角等の成分を含むフォーマットであっても描
画データの作成及びパターン描画処理を総て高速化し、
描画処理のパターン精度を向上させる効果を有する。特
に、大容量メモリディバイス等のパターン作成において
パターン配置の柔軟性、素子集約の高精度且つ高密度化
が図られる効果を有する。
【図１】本発明パターン作成装置の原理構成を説明する
ための、ブロック構成図である。
ための、ブロック構成図である。
【図２】本発明の一実施例を説明するための、概略構成
ブロック図である。
ブロック図である。
【図３】図２記載実施例のデータ変換動作を説明するた
めの、データ変換説明図である。
めの、データ変換説明図である。
【図４】本発明の他の実施例を説明するための、データ
フォーマット変換動作フローチャートである。
フォーマット変換動作フローチャートである。
【図５】本発明の他の実施例を説明するための、描画デ
ータ再変換動作フローチャートである。
ータ再変換動作フローチャートである。
【図６】図４、５の他の実施例の動作を説明するため
の、データ変換説明図である。
の、データ変換説明図である。
【図７】本発明の他の実施例を説明するための、描画デ
ータ再変換説明図である。
ータ再変換説明図である。
【図８】従来のパターン作成装置の構成図である。
【図９】従来装置のデータ変換説明図である。
１…設計データ作成部 ２…パターンデータ記憶部 ３…グリッドイメージ変換部 ４、５…描画データ再変換部 ６…露光制御部 ７…電子光学系 ８…ステージ ９…試料 １０…データ変換作成部 ２０…露光装置
Claims (4)
- 【請求項１】 Ｘ−Ｙ座標系において素子・配線等のパ
ターンをＸ方向のグリッド及びＹ方向のグリッドで特定
する設計データを作成する設計データ作成手段（１）
と、前記素子・配線等のパターンに関する特定成分のパ
ターンデータを記憶する記憶手段（２）と、前記記憶手
段（２）に記憶されたパターンデータに合致する表示形
態に前記設計データのＸ方向のグリッド及びＹ方向のグ
リッドの比率を変更してグリッドイメージの中間データ
を出力するグリッドイメージ変換手段（３）と、前記中
間データにおけるＸ方向のグリッド及びＹ方向のグリッ
ドを前記変更比率の逆比率に基づいて再変換して描画デ
ータを出力する描画データ再変換手段４とを備え、前記
描画データに基づいて素子・配線等の任意角パターンを
作成することを特徴とするパターン作成装置。 - 【請求項２】 前記請求項記載のパターン作成装置にお
いて、前記設計データ作成手段（１）はＸ−Ｙ座標系に
おいてＸ方向のグリッドとＹ方向のグリッドとの各大き
さを異ならせて設計データを作成することを特徴とする
パターン作成装置。 - 【請求項３】 前記請求項１記載のパターン作成装置に
おいて、前記描画データ再変換手段（４）はＸ方向の描
画ピッチとＹ方向の描画ピッチとのいずれか一方を縮小
又は拡大して描画データを出力することを特徴とするパ
ターン作成装置。 - 【請求項４】 前記請求項１記載のパターン作成装置に
おいて、前記描画データ再変換手段（４）は描画対象と
なる試料に対する露光用光線の投射角度を変化させ、当
該投射角度の変化に基づいて描画データに対応する任意
角パターンの作成を制御することを特徴とするパターン
作成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP40118990A JP2992081B2 (ja) | 1990-12-10 | 1990-12-10 | パターン作成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP40118990A JP2992081B2 (ja) | 1990-12-10 | 1990-12-10 | パターン作成装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04213767A JPH04213767A (ja) | 1992-08-04 |
| JP2992081B2 true JP2992081B2 (ja) | 1999-12-20 |
Family
ID=18511041
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP40118990A Expired - Lifetime JP2992081B2 (ja) | 1990-12-10 | 1990-12-10 | パターン作成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2992081B2 (ja) |
-
1990
- 1990-12-10 JP JP40118990A patent/JP2992081B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04213767A (ja) | 1992-08-04 |
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| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19991005 |