JP2008244196A - 描画データ作成方法及び描画データファイルを格納した記憶媒体 - Google Patents

Abstract

【目的】処理効率の優れた描画データを提供すると共にその作成方法を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の描画データ作成方法は、回路の設計データから荷電粒子線を用いて描画するための描画データ作成方法において、少なくとも１つの図形から構成されるセルのサイズを示すサイズデータとセルのパターンデータとを含む第１のデータファイルを描画データの一部として作成する第１のデータファイル作成工程と、セルの配置位置を示す配置位置データとセルのサイズデータ含む第２のデータファイルを描画データの一部として作成する第２のデータファイル作成工程と、を備えたことを特徴とする。本発明によれば、データ量の多いパターンデータのファイルを読み込むことなく、セルのサイズデータを得ることができる。
【選択図】図１

Description

本発明は、描画データ作成方法、および作成した描画データファイルを格納した記憶媒体に係り、特に、電子線描画装置に用いられる描画データの作成方法とそのデータファイルに関する。

半導体デバイスの微細化の進展を担うリソグラフィ技術は半導体製造プロセスのなかでも唯一パターンを生成する極めて重要なプロセスである。近年、ＬＳＩの高集積化に伴い、半導体デバイスに要求される回路線幅は年々微細化されてきている。これらの半導体デバイスへ所望の回路パターンを形成するためには、高精度の原画パターン（レチクル或いはマスクともいう。）が必要となる。ここで、電子線（電子ビーム）描画技術は本質的に優れた解像性を有しており、高精度の原画パターンの生産に用いられる。

図１２は、可変成形型電子線描画装置の動作を説明するための概念図である。
可変成形型電子線（ＥＢ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｂｅａｍ）描画装置は、以下のように動作する。まず、第１のアパーチャ４１０には、電子線４４２を成形するための矩形例えば長方形の開口４１１が形成されている。また、第２のアパーチャ４２０には、開口４１１を通過した電子線４４２を所望の矩形形状に成形するための可変成形開口４２１が形成されている。荷電粒子ソース４３０から照射され、開口４１１を通過した電子線４４２は、偏向器により偏向される。そして、可変成形開口４２１の一部を通過して、ステージ上に搭載された試料に照射される。ステージは、描画中、所定の一方向（例えば、Ｘ方向とする）に連続的に移動している。このように、開口４１１と可変成形開口４２１との両方を通過できる矩形形状が、試料４４０の描画領域に描画される。開口４１１と可変成形開口４２１との両方を通過させ、任意形状を作成する方式を可変成形方式という。

かかる電子ビーム描画を行なうにあたり、まず、半導体集積回路のレイアウトが設計され、レイアウトデータ（設計データ）が生成される。そして、かかるレイアウトデータが変換され、電子線描画装置に入力される描画データが生成される。そして、描画データに基づいて、さらに、電子線描画装置内のフォーマットのデータに変換されて描画される。

ここで、図形情報と図形の配置位置情報とを組みとした情報が１つのデータファイルに一続きに羅列された描画データを作成する技術についての記載が文献に開示されている（例えば、特許文献１参照）。
特開２００４−２１４５３８号公報

ＬＳＩの高集積化に伴い、描画されるパターンのデータ量も増大している。そのため、描画装置に入力するための描画データを描画装置内で処理するにあたって更なる効率化が求められている。ここで、試料に描画されるパターンの全体を見た場合、一般に、複数のチップデータが再構成されて配置されるものが多い。上記特許文献１に記載されている描画データでは、基本パターンデータと配置情報とがそれぞれ混在した状態で一続きに羅列したデータファイルとなっている。しかし、これでは、データの自由度が低く配置情報の再構成を行なう場合に多大な時間がかかってしまうといった問題が残る。

そのため、公知とはなっていないが、セルのパターンデータとそのセルを配置する位置を示す配置データとを別々のファイルに構成することでデータ処理の効率化を図ることが試みられている。すなわち、パターンデータには、そのセルのサイズとセル内に配置されている図形の形状やサイズ、位置等が定義され、配置データにはそのセルを配置する座標位置が定義されるといった具合である。このように別々のファイルに構成することで再構成の処理を行ない易くすることができるというメリットがある。

ここで、通常、描画データを使って、ユーザが、例えばマスク全面に配置されているパターンのレイアウト状況を確認するために、任意の領域を設定して、その領域内に定義されているパターンの輪郭だけを配置したものを装置のモニタ等に表示させる処理を行う場合がある。しかしながら、装置は、表示させるべきセルを選択するにあたって、セル原点の配置座標とセルサイズがわからないと選択することができない。配置データでは、各セルの原点位置が示されているだけであるので、そのセル原点位置が指定の領域外のとき、そのセルのサイズがわからないとその領域内に入るセルなのかどうかが判断できない場合がある。そのため、この表示処理を行う際には、該当する配置データとそれに対応する全てのパターンデータの両方を演算装置が読み込む必要が生じてしまう。上述したように、パターンデータは膨大なデータ量となるためその処理に相当な時間を費やす結果となってしまい、処理効率が悪いといった問題がある。セルサイズが配置データ側に格納されていれば、事前に配置データファイルを読み、該当するセルを選別し、選別されたセルのパターンデータのみを読み込むようにすると、全体の処理時間を短縮することができる。

また、描画装置内に入力された描画データが、装置特有の内部フォーマットへと変換される際には、描画領域を複数の小領域に仮想分割された小領域毎にデータを振り分けられて、小領域毎に分散処理されると効率的である。そのためには、小領域毎にセルを振り分ける処理を行う必要がある。ここでも、配置データでは、各セルの原点位置が示されているだけであるので、そのセルのサイズがわからないとその領域内に入るセルなのかどうかが判断できない。そのため、ここでも配置データファイルとパターンデータファイルの両方を演算装置が読み込む必要が生じてしまう。

一方、パターンデータにとっては、パターンデータのクラスタ分割や装置特有の内部フォーマットへの変換の際に、セルのサイズが必要となるので、データ内にセルのサイズを定義しておくことが望まれる。或いはすぐに参照できるようにしておくことが望まれる。

以上のように、パターンデータと配置データとを別々のファイルに構成する場合でも様々な問題がある。

そこで、本発明は、かかる問題点を克服し、処理効率の優れた描画データを提供すると共にその作成方法を提供することを目的とする。

本発明の一態様の描画データ作成方法は、
回路の設計データから荷電粒子線を用いて描画するための描画データ作成方法において、
少なくとも１つの図形から構成されるセルのサイズを示すセルサイズデータとセルのパターンデータとを含む第１のデータファイルを描画データの一部として作成する第１のデータファイル作成工程と、
セルの配置位置を示す配置位置データとセルのサイズデータとを含む第２のデータファイルを描画データの一部として作成する第２のデータファイル作成工程と、
を備えたことを特徴とする。

セルのサイズデータを配置データ側のデータファイルに定義しておくことで、上述したような課題のある処理を行うにあたり、膨大なデータ量のパターンデータファイルを読み込まなくても済ますことができる。

或いは、次のように構成しても好適である。すなわち、本発明の他の態様の描画データ作成方法は、
回路の設計データから荷電粒子線を用いて描画するための描画データ作成方法において、
少なくとも１つの図形から構成されるセルのサイズを示すサイズデータとセルのパターンデータとを含む第１のデータファイルを描画データの一部として作成する第１のデータファイル作成工程と、
セルの配置位置を示す配置位置データと所定のインデックスデータとを含む第２のデータファイルを描画データの一部として作成する第２のデータファイル作成工程と、
パターンデータと配置位置データとをリンクさせるためのリンクデータと、所定のインデックスデータが示すデータ位置に定義されたセルのサイズデータとを含む第３のデータファイルを描画データの一部として作成する第３のデータファイル作成工程と、
を備えたことを特徴とする。

かかる構成により、膨大なデータ量のパターンデータファイルとは異なるリンクデータが格納されたデータファイルを参照することができる。

或いは、さらに、次のように構成しても好適である。すなわち、本発明の他の態様の描画データ作成方法は、
回路の設計データから荷電粒子線を用いて描画するための描画データ作成方法において、
少なくとも１つの図形から構成されるセルのパターンデータと所定のインデックスデータとを含む第１のデータファイルを描画データの一部として作成する第１のデータファイル作成工程と、
セルの配置位置を示す配置位置データと所定のインデックスデータとを含む第２のデータファイルを描画データの一部として作成する第２のデータファイル作成工程と、
パターンデータと配置位置データとをリンクさせるためのリンクデータと、所定のインデックスデータが示すデータ位置に定義されたセルのサイズデータとを含む第３のデータファイルを描画データの一部として作成する第３のデータファイル作成工程と、
を備えたことを特徴とする。

かかる構成の場合、パターンデータの処理の際にもセルのサイズデータを求めてリンクデータが格納されたデータファイルを参照することになる。しかし、セルのサイズデータを１つのデータファイルに定義することで、描画データ全体としてもデータ量を低減することができる。

以上のようにして、作成された描画データファイルは、流通或いはデータ転送のために記憶媒体に格納される。すなわち、本発明の一態様の描画データファイルを格納した記憶媒体は、
荷電粒子線を用いて試料に所定のパターンを描画するための描画データファイルを格納した記憶媒体において、
少なくとも１つの図形から構成されるセルのサイズを示すサイズデータとセルのパターンデータとを含む第１のデータファイルと、
セルの配置位置を示す配置位置データとセルのサイズデータとを含む第２のデータファイルと、
を備えたことを特徴とする。

或いは、本発明の他の態様の描画データファイルを格納した記憶媒体は、
荷電粒子線を用いて試料に所定のパターンを描画するための描画データファイルを格納した記憶媒体において、
少なくとも１つの図形から構成されるセルのサイズを示すサイズデータとセルのパターンデータとを含む第１のデータファイルと、
セルの配置位置を示す配置位置データと所定のインデックスデータとを含む第２のデータファイルと、
パターンデータと配置位置データとをリンクさせるためのリンクデータと、所定のインデックスデータが示すデータ位置に定義されたセルのサイズデータとを含む第３のデータファイルと、
を備えたことを特徴とする。

或いは、本発明の他の態様の描画データファイルを格納した記憶媒体は、
荷電粒子線を用いて試料に所定のパターンを描画するための描画データファイルを格納した記憶媒体において、
少なくとも１つの図形から構成されるセルのパターンデータと所定のインデックスデータとを含む第１のデータファイルと、
セルの配置位置を示す配置位置データと所定のインデックスデータとを含む第２のデータファイルと、
パターンデータと配置位置データとをリンクさせるためのリンクデータと、所定のインデックスデータが示すデータ位置に定義されたセルのサイズデータとを含む第３のデータファイルと、
を備えたことを特徴とする。

本発明によれば、セルの枠の情報のみでセルの図形情報を必要としないような処理では、一般的に膨大な図形情報を含んでいるセルパターンデータファイルを読み込むひつようがなくなる。一方で、セルパターンに対して処理を実施する場合にもセルパターンデータ単独で処理が可能になる。各処理によって必要となる対象データファイルをしぼりこむことがで、全体として、データ処理を効率的に行うことができる。

以下、実施の形態では、荷電粒子線（荷電粒子ビーム）の一例として、電子線（電子ビーム）を用いた構成について説明する。但し、荷電粒子線は、電子線に限るものではなく、イオン線等の荷電粒子を用いたビームでも構わない。

実施の形態１．
図１は、実施の形態１における描画データ作成装置の主要構成を示すブロック図である。
図１において、描画データ作成装置３００は、セル配置データファイル作成回路３１０、セルパターンデータファイル作成回路３２０、リンクデータファイル作成回路３３０、モニタ３４０、記憶装置３５０、インターフェース（Ｉ／Ｆ）回路３６２，３６４を備えている。図１では、実施の形態１を説明する上で必要な構成部分については記載している。描画データ作成装置３００にとって、通常、必要なその他の構成が含まれても構わないことは言うまでもない。

図２は、実施の形態１における電子線描画データの作成方法の要部工程を示すフローチャート図である。
図２に示すように、設計データ１０を描画データ作成装置にて変換して描画データ１２を作成する。そして、作成された描画データ１２は、描画装置内に入力されることになる。図２において、電子線描画データの作成方法は、セル配置データファイル作成工程（Ｓ１０２）と、セルパターンデータファイル作成工程（Ｓ１０４）と、リンクデータファイル作成工程（Ｓ１０６）という一連の工程を実施する。

半導体集積回路を製造するにあたって、まず、半導体集積回路のレイアウトが設計され、設計データ１０が生成される。次に、設計データ１０が描画データ作成装置３００により変換され、描画データ１２が生成される。設計データ１０では、チップ上に複数のセルが配置され、そして、各セルには、かかるセルを構成する要素パターンとなる１つ以上の図形が配置されている。そして、作成される描画データ１２では、描画領域が、チップの層、チップ領域を描画面と平行するある方向例えばｙ方向に向かって短冊状に仮想分割したフレームの層、フレーム領域を所定の大きさの領域に仮想分割したブロックの層、上述したセルの層、かかるセルを構成するパターンとなる図形の層といった一連の複数の内部構成単位ごとに階層化される。尚、ここではフレームについてチップ領域をｙ方向（所定の方向）に向かって短冊状に分割した領域としてあるが、これは一例であり、描画面と平行しｙ方向と直交するｘ方向に分割する場合もありうる。或いは描画面と平行するその他の方向であっても構わない。

まず、設計データ１０は、Ｉ／Ｆ回路３６２を介して、描画データ作成装置３００に入力される。そして、Ｓ（ステップ）１０２において、セル配置データファイル作成工程として、セル配置データファイル作成回路３１０は、設計データ１０に基づいて、セル配置データファイルを描画データ１２の一部として作成する。

また、Ｓ１０４において、セルパターン情報ファイル作成工程として、セルパターンデータファイル作成回路３２０は、設計データ１０に基づいて、セルパターンデータファイルを描画データ１２の一部として作成する。

また、Ｓ１０６において、リンク情報ファイル作成工程として、リンクデータファイル作成回路３３０は、設計データ１０に基づいて、リンクデータファイルを描画データ１２の一部として作成する。

図３は、実施の形態１における描画データの一例を示す図である。
描画装置でパターンを描画する際には、例えば、フレームを描画単位として描画される。図３では、一例として、あるチップにおける番号”ｎ”で識別されるフレーム領域に位置しているデータについて説明する。そして、そのフレーム用の描画データ１２として、セル配置データ、リンクデータ、セルパターンデータが作成される。図３において、描画データ１２は、一例として、セル配置データファイル２２、リンクデータファイル２４、セルパターンデータファイル２６を有している。これらのファイルがフレームごとに作成される。描画データ１２は、さらに、一つ以上のフレームで構成されるチップに対して、各フレームの構成情報やチップ全体で共通のパラメータ等を定義するチップ構成ファイル２０を有している。また、図３では、セル配置データファイル２２とリンクデータファイル２４とセルパターンデータファイル２６内の各データの対応関係の一例を示している。試料に所望するパターンを描画する場合には、一つのマスクに対して、一つ以上のチップで構成される。そのような場合、これらのファイルで構成されるチップデータが複数存在し、それらをマスク上に配置するためのレイアウト情報を有する。

セル配置データファイル２２は、設計データ１０に含まれるあるチップのパターンデータに対応するセルを配置するための配置データ（配置情報）を含む。セル配置データファイル２２には、ブロック領域ごとに、配置されるセルのいずれかを配置するための配置データが含まれる。図３では、一例として、配置されるセルの一部となるセル（ｉ）〜（ｌ）のいずれかを配置するための配置データを示している。セル配置データは、セルの基準点の配置位置を示す座標等で示される。図３において、セル配置データファイル２２は、ファイルヘッダに続き、ブロック（０，０）ヘッダ、ブロック（０，０）内に配置されたセル配置データ（ｐ）、セル配置データ（ｑ）、セル配置データ（ｒ）、ブロック（０，１）ヘッダ、ブロック（０，１）内に配置されたセル配置データ（ｓ）、ブロック（１，０）ヘッダ、ブロック（１，０）内に配置されたセル配置データ（ｔ）、が定義（格納）される。そして、その他の配置データがさらに格納される。

図４は、実施の形態１におけるセル配置データの一例を示す図である。
各セル配置データ３２には、セルサイズ（Ｓ_Ｘ，Ｓ_Ｙ）、セル配置座標（ｘ，ｙ）、及びリンクデータインデックス（Ｋｍ）が含まれている。セルサイズ（Ｓ_Ｘ，Ｓ_Ｙ）は、セルのサイズを示すサイズデータの一例となる。セル配置座標（ｘ，ｙ）は、セルの配置位置を示す配置位置データの一例となる。かかるデータにより、セル配置データファイル２２では、各ブロックに配置されるセルの枠情報を表すセルのサイズや座標、そして後述するセルパターンデータへとリンクさせるための情報を把握することができる。

次に、セルパターンデータファイル２６には、あるチップのフレームｎに配置される複数のセルの各パターンデータが含まれている。図３では、一例として、セル（ｉ）〜（ｌ）の各パターンデータを示している。ここでは、セルパターンデータファイル２６には、その一部として、パターンデータセグメント（０）、セル（ｉ）のパターンデータを示すセルパターンデータ（ｉ）、セル（ｊ）のパターンデータを示すセルパターンデータ（ｊ）が順に１回ずつ格納されている。続いて、パターンデータセグメント（１）、セル（ｋ）のパターンデータを示すセルパターンデータ（ｋ）が格納されている。さらに、その他のデータが格納され、その後に、パターンデータセグメント（４）、セル（ｌ）のパターンデータを示すセルパターンデータ（ｌ）が格納されている。一般的に、各セルの中に配置される図形は一セルパターンデータ当たり複数個格納され、一図形は形状種別と大きさと配置座標等で定義されるため、セルパターンデータ内で図形データが占める割合は大きい。したがって、描画データ全体に対して、セルパターンデータは非常に大きいが多い。図３では、セルパターンデータ（ｉ）は、セル配置データ（ｐ）と（ｒ）とで必要となり、セルパターンデータ（ｊ）は、セル配置データ（ｑ）で必要となる。また、セルパターンデータ（ｋ）は、セル配置データ（ｓ）で必要となる。また、セルパターンデータ（ｌ）は、セル配置データ（ｔ）で必要となる。それぞれの配置ごとにセルパターンデータを何度も繰り返し記載するとデータ量が膨大なものになるが、特に、データ量が大きくなるセルパターンデータを何度も繰り返し記載せず、図３に示すように、１つのセグメントに順に１回ずつ格納することによりデータ量の圧縮を図ることができる。

図５は、実施の形態１におけるセルパターンデータの一例を示す図である。
セルパターンデータ３６には、データ長とセルサイズ（Ｓ_Ｘ，Ｓ_Ｙ）と図形情報であるパターンデータとが格納（定義）される。

また、リンクデータファイル２４には、各セル配置データから各セルパターンデータ参照するためのリンク情報やセルパターンデータへのオペレーション情報が含まれている。図３では、リンクデータファイル２４には、その一部として、セル配置データ（ｐ）をセルパターンデータ（ｉ）に関連させるための関係データ（ａ）、セル配置データ（ｑ）をセルパターンデータ（ｊ）に関連させるための関係データ（ｂ）、セル配置データ（ｒ）をセルパターンデータ（ｉ）に関連させるための関係データ（ｃ）、セル配置データ（ｓ）をセルパターンデータ（ｋ）に関連させるための関係データ（ｄ）、セル配置データ（ｔ）をセルパターンデータ（ｌ）に関連させるための関係データ（ｅ）がその他のデータと共に格納されている。

図６は、実施の形態１における関係データの一例を示す図である。
関係データ３４には、パターンデータセグメントインデックスとセルパターンデータポインタとオペレーション情報とが格納されている。パターンデータセグメントインデックスは、セルパターンデータファイル２６内でのパターンデータセグメントの先頭のアドレスを示している。そして、セルパターンデータポインタは、パターンデータセグメント内でのセルパターンデータの先頭アドレスを示している。これらは、セル配置データが参照するためのセルパターンデータへのリンク情報となる。オペレーション情報は、リンクさせられるパターンデータの反転情報と回転情報とスケーリング情報とフォーマット種別情報等の情報が定義（格納）されている。

そして、作成された描画データ１２となるファイル群は、Ｉ／Ｆ回路３６４を介して外部に出力される。或いは、リードオンリメモリ（ＲＯＭ）やフレキシブルディスク（ＦＤ）やコンパクトディスク（ＣＤ）やＤＶＤやＭＯやハードディスク装置等の記憶媒体となる記憶装置に記憶される。また、データ作成中或いは作成後のデータ内容はモニタ３４０で表示することができる。

そして、描画装置に入力される。
図７は、実施の形態１における描画装置の要部構成の一例を示す概念図である。
図７において、描画装置１００は、描画部１５０と制御部１６０を備えている。描画装置１００は、荷電粒子ビーム描画装置の一例となる。そして、描画装置１００は、試料１０１に描画データ１２に基づくパターンを描画する。制御部１６０は、制御回路１１０、描画データ処理回路１２０、記憶装置１２２及びモニタ１２４を備えている。描画部１５０は、電子鏡筒１０２、描画室１０３を有している。電子鏡筒１０２内には、電子銃２０１、照明レンズ２０２、第１のアパーチャ２０３、投影レンズ２０４、偏向器２０５、第２のアパーチャ２０６、対物レンズ２０７、偏向器２０８が配置されている。また、描画室１０３内には、移動可能に配置されたＸＹステージ１０５が配置されている。また、ＸＹステージ１０５上には、試料１０１とファラデーカップ２０９が配置されている。試料１０１として、例えば、ウェハにパターンを転写する露光用のマスクが含まれる。また、このマスクは、例えば、まだ何もパターンが形成されていないマスクブランクスが含まれる。また、図７では、実施の形態１を説明する上で必要な構成部分について記載している。描画装置１００にとって、通常、必要なその他の構成が含まれても構わないことは言うまでもない。

上述したように描画データ作成装置３００において、描画データ１２を作成し、ハードディスク装置等の記憶装置１２２に出力する。そして、描画データ処理回路１２０は、記憶装置１２２から入力した描画データ１２を読み出し、装置内部データに変換する。そして、かかる装置内部データに沿って、制御回路１１０により描画部１５０が制御される。そして、描画部１５０により試料１０１に所望する図形パターンが描画される。具体的には以下のようにして描画される。

電子銃２０１から出た電子ビーム２００は、照明レンズ２０２により矩形、例えば長方形の穴を持つ第１のアパーチャ２０３全体を照明する。ここで、電子ビーム２００をまず長方形に成形する。そして、第１のアパーチャ２０３を通過した第１のアパーチャ像の電子ビーム２００は、投影レンズ２０４により第２のアパーチャ２０６上に投影される。かかる第２のアパーチャ２０６上での第１のアパーチャ像の位置は、偏向器２０５によって制御される。これにより、ビーム形状と寸法を変化させることができる。そして、第２のアパーチャ２０６を通過した第２のアパーチャ像の電子ビーム２００は、対物レンズ２０７により焦点を合わせられる。そして、電子ビーム２００は、偏向器２０８により偏向される。このようにして、ＸＹステージ１０５上の試料１０１の所望する位置に照射される。また、ビーム強度等はファラデーカップ２０９に電子ビーム２００を照射して測定することができる。

以上のように、実施の形態１における描画データ１２では、セルパターンデータファイル２６とは独立して、セル配置データファイル２２にセルサイズが格納されている構成について説明した。このように構成することで、例えば、課題となっていたビューア処理を行う際には、セル配置データファイル２２だけで、表示させるべきセルを選択することができる。すなわち、セル配置データファイル２２にセルサイズと位置座標が定義されているので、設定される任意の領域内に入るセルなのかどうかを判断することができる。事前にセルを選別することで、読み込み対象となるセルパターンデータファイル２６の量を狭めることができる。一般的にデータ量の多いセルパターンデータファイルの読み込み量を減らすことができる。

また、描画装置内に入力された描画データが、装置特有の内部フォーマットへと変換される際に小領域（ここでは、ブロック）毎にセルを振り分ける処理を行う際にも同様のことが言える。すなわち、セル配置データファイル２２にセルサイズと位置座標が定義されているので、そのブロック内に入るセルなのかどうかを判断することができる。事前にセルを選別することで、読み込み対象となるセルパターンデータファイル２６の量を狭めることができる。一般的にデータ量の多いセルパターンデータファイルの読み込み量を減らすことができる。よって、より効率的なデータ処理を行うことができる。

一方、パターンデータにとっては、パターンデータのクラスタ分割や装置特有の内部フォーマットへの変換の際に、セルのサイズが必要となるが、セルパターンデータファイル２６内にセルサイズが定義されているので、データ処理に支障は起こさない。

実施の形態２．
実施の形態１では、配置データファイルにセルのサイズが格納されている構成について説明した。実施の形態２では、リンクデータファイルにセルのサイズが格納されている構成について説明する。描画データ作成装置３００や描画装置１００の構成は実施の形態１と同様である。また、描画データ作成方法や、その後の描画方法についても実施の形態１と同様である。また、描画データ１２のファイル構成も図３と同様である。実施の形態２では、セル配置データファイル２２内のセル配置データとリンクデータファイル２４内の関係データ以外は、実施の形態１と同様である。

図８は、実施の形態２におけるセル配置データの一例を示す図である。
各セル配置データ４２には、セル配置座標（ｘ，ｙ）、及びリンクデータインデックス（Ｋｍ）が含まれている。実施の形態２では、セルサイズ（Ｓ_Ｘ，Ｓ_Ｙ）を定義していない。その他は、実施の形態１と同様である。

図９は、実施の形態２における関係データの一例を示す図である。
関係データ４４には、パターンデータセグメントインデックスとセルパターンデータポインタとオペレーション情報とセルサイズ（Ｓ_Ｘ，Ｓ_Ｙ）が格納されている。

以上のように、実施の形態２では、セル配置データ４２の代わりに、関係データ４４にセルサイズ（Ｓ_Ｘ，Ｓ_Ｙ）が格納されている。その他は、実施の形態１と同様である。このように構成することで、例えば、課題となっていたビューア処理を行う際には、セル配置データファイル２２とリンクデータファイル２４とで、表示させるべきセルを選択することができる。すなわち、リンクデータファイル２４にセルサイズが定義され、セル配置データファイル２２に位置座標が定義されているので、セル配置データファイル２２の他にリンクデータファイル２４を参照することで設定される任意の領域内に入るセルなのかどうかを判断することができる。リンクデータファイル２４を参照する場合には、リンクデータインデックスに従ってデータを探せばよい。事前にセルを選別することで、読み込み対象となるセルパターンデータファイル２６の量を狭めることができる。一般的にデータ量の多いセルパターンデータファイルの読み込み量を減らすことができる。よって、より効率的なデータ処理を行うことができる。

また、描画装置内に入力された描画データが、装置特有の内部フォーマットへと変換される際に小領域（ここでは、ブロック）毎にセルを振り分ける処理を行う際にも同様のことが言える。すなわち、リンクデータファイル２４にセルサイズが定義され、セル配置データファイル２２に位置座標が定義されているので、セル配置データファイル２２の他にリンクデータファイル２４を参照することでそのブロック内に入るセルなのかどうかを判断することができる。事前にセルを選別することで、読み込み対象となるセルパターンデータファイル２６の量を狭めることができる。一般的にデータ量の多いセルパターンデータファイルの読み込み量を減らすことができる。よって、より効率的なデータ処理を行うことができる。

一方、パターンデータにとっては、パターンデータのクラスタ分割や装置特有の内部フォーマットへの変換の際に、セルのサイズが必要となるが、セルパターンデータファイル２６内にセルサイズが定義されているので、データ処理に支障は起こさない。

実施の形態３．
実施の形態２では、リンクデータファイルとパターンデータファイルとにセルのサイズが格納されている構成について説明した。実施の形態３では、リンクデータファイルだけにセルのサイズが格納されている構成について説明する。描画データ作成装置３００や描画装置１００の構成は実施の形態１と同様である。また、描画データ作成方法や、その後の描画方法についても実施の形態１と同様である。また、描画データ１２のファイル構成も図３と同様である。実施の形態３では、セルパターンデータファイル２６内のセルパターンデータ以外は、実施の形態２と同様である。

図１０は、実施の形態３におけるセルパターンデータの一例を示す図である。
セルパターンデータ４６には、データ長とリンクデータインデックスとパターンデータとが格納（定義）される。すなわち、セルサイズ（Ｓ_Ｘ，Ｓ_Ｙ）の代わりにリンクデータインデックスが格納されている。

以上のように、実施の形態３では、セルパターンデータ４６からもセルサイズ（Ｓ_Ｘ，Ｓ_Ｙ）を除き、代わりにリンクデータファイル２４内のセルサイズ（Ｓ_Ｘ，Ｓ_Ｙ）を参照できるようにリンクデータインデックスが格納されている。その他は、実施の形態２と同様である。このように構成することで、例えば、課題となっていたビューア処理を行う際や小領域（ここでは、ブロック）毎にセルを振り分ける処理を行う際のフローは実施の形態２で説明したようにより効率的なデータ処理を行うことができる。

一方、パターンデータのクラスタ分割や装置特有の内部フォーマットへの変換の際には、セルパターンデータファイル２６とリンクデータファイル２４とで、クラスタ分割やフォーマット変換を行なうことができる。すなわち、リンクデータファイル２４にセルサイズが定義され、セルパターンデータファイル２６にパターンデータが定義されているので、セルパターンデータファイル２６の他にリンクデータファイル２４を参照することでクラスタ分割やフォーマット変換を行なうことができる。よって、データ処理に支障は起こさない。さらに、リンクデータインデックスよりもデータ量が大きいセルサイズのデータをリンクデータファイル２４だけに定義することで描画データ１２全体から見てデータ量を低減することができる。

以上の説明において、「〜回路」或いは「〜工程」と記載したものは、コンピュータで動作可能なプログラムにより構成することができる。或いは、ソフトウェアとなるプログラムだけではなく、ハードウェアとソフトウェアとの組合せにより実施させても構わない。或いは、ハードウェアとファームウェアとの組合せでも構わない。また、プログラムにより構成される場合、プログラムは、磁気ディスク装置、磁気テープ装置、ＦＤ、ＣＤ、ＤＶＤ、ＭＯ或いはＲＯＭ等の記録媒体に記録される。

図１１は、プログラムにより構成する場合のハードウェア構成の一例を示すブロック図である。
コンピュータとなるＣＰＵ５０は、バス７４を介して、ＲＡＭ（ランダムアクセスメモリ）５２、ＲＯＭ５４、磁気ディスク（ＨＤ）装置６２、キーボード（Ｋ／Ｂ）５６、マウス５８、外部インターフェース（Ｉ／Ｆ）６０、モニタ６４、プリンタ６６、ＦＤ６８、ＤＶＤ７０、ＣＤ７２に接続されている。ここで、ＲＡＭ（ランダムアクセスメモリ）５２、ＲＯＭ５４、磁気ディスク（ＨＤ）装置６２、ＦＤ６８、ＤＶＤ７０、ＣＤ７２は、記憶装置の一例である。キーボード（Ｋ／Ｂ）５６、マウス５８、外部インターフェース（Ｉ／Ｆ）６０、ＦＤ６８、ＤＶＤ７０、ＣＤ７２は、入力手段の一例である。外部インターフェース（Ｉ／Ｆ）６０、モニタ６４、プリンタ６６、ＦＤ６８、ＤＶＤ７０、ＣＤ７２は、出力手段の一例である。

以上、具体例を参照しつつ実施の形態について説明した。しかし、本発明は、これらの具体例に限定されるものではない。例えば、各実施の形態では、内部構成要素として、セル情報を中心として記載したが、これに限るものではなく、別の階層データを中心にデータ構成しても構わない。

また、装置構成や制御手法等、本発明の説明に直接必要しない部分等については記載を省略したが、必要とされる装置構成や制御手法を適宜選択して用いることができる。例えば、描画装置１００を制御する制御部構成については、記載を省略したが、必要とされる制御部構成を適宜選択して用いることは言うまでもない。

その他、本発明の要素を具備し、当業者が適宜設計変更しうる全ての電子線描画データの作成方法、電子線描画データの変換方法、及びそれらの装置は、本発明の範囲に包含される。

実施の形態１における描画データ作成装置の主要構成を示すブロック図である。 実施の形態１における電子線描画データの作成方法の要部工程を示すフローチャート図である。 実施の形態１における描画データの一例を示す図である。 実施の形態１におけるセル配置データの一例を示す図である。 実施の形態１におけるセルパターンデータの一例を示す図である。 実施の形態１における関係データの一例を示す図である。 実施の形態１における描画装置の要部構成の一例を示す概念図である。 実施の形態２におけるセル配置データの一例を示す図である。 実施の形態２における関係データの一例を示す図である。 実施の形態３におけるセルパターンデータの一例を示す図である。 プログラムにより構成する場合のハードウェア構成の一例を示すブロック図である。 可変成形型電子線描画装置の動作を説明するための概念図である。

符号の説明

１０ 設計データ
１２ 描画データ
２０ チップ構成ファイル
２２ セル配置データファイル
２４ リンクデータファイル
２６ セルパターンデータファイル
３２，４２ セル配置データ
３４，４４ 関係データ
３６，４６ セルパターンデータ
５０ ＣＰＵ
５２ ＲＡＭ
５４ ＲＯＭ
５６ Ｋ／Ｂ
５８ マウス
６０ Ｉ／Ｆ
６２ ＨＤ装置
６４ モニタ
６６ プリンタ
６８ ＦＤ
７０ ＤＶＤ
７２ ＣＤ
７４ バス
１００ 描画装置
１０１，４４０ 試料
１０２ 電子鏡筒
１０３ 描画室
１０５ ＸＹステージ
１１０ 制御回路
１２０ 描画データ処理回路
１２２，３５０ 記憶装置
１２４，３４０ モニタ
１５０ 描画部
１６０ 制御部
２００ 電子ビーム
２０１ 電子銃
２０２ 照明レンズ
２０３，４１０ 第１のアパーチャ
２０６，４２０ 第２のアパーチャ
２０４ 投影レンズ
２０５，２０８ 偏向器
２０７ 対物レンズ
２０９ ファラデーカップ
３００ 描画データ作成装置
３１０ セル配置データファイル作成回路
３２０ セルパターンデータファイル作成回路
３３０ リンクデータファイル作成回路
３６２，３６４ Ｉ／Ｆ回路
４１１ 開口
４２１ 可変成形開口
４３０ 荷電粒子ソース
４４２ 電子線

Claims (6)

1. 回路の設計データから荷電粒子線を用いて描画するための描画データ作成方法において、
   少なくとも１つの図形から構成されるセルのサイズを示すサイズデータと前記セルを構成する図形情報を示すパターンデータとを含む第１のデータファイルを前記描画データの一部として作成する第１のデータファイル作成工程と、
   前記セルの配置位置を示す配置位置データと前記セルのサイズデータとを含む第２のデータファイルを前記描画データの一部として作成する第２のデータファイル作成工程と、
   を備えたことを特徴とする描画データ作成方法。
2. 回路の設計データから荷電粒子線を用いて描画するための描画データ作成方法において、
   少なくとも１つの図形から構成されるセルのサイズを示すサイズデータと前記セルを構成する図形情報を示すパターンデータとを含む第１のデータファイルを前記描画データの一部として作成する第１のデータファイル作成工程と、
   前記セルの配置位置を示す配置位置データと所定のインデックスデータとを含む第２のデータファイルを前記描画データの一部として作成する第２のデータファイル作成工程と、
   前記パターンデータと前記配置位置データとをリンクさせるためのリンクデータと、前記所定のインデックスデータが示すデータ位置に定義された前記セルのサイズデータとを含む第３のデータファイルを前記描画データの一部として作成する第３のデータファイル作成工程と、
   を備えたことを特徴とする描画データ作成方法。
3. 回路の設計データから荷電粒子線を用いて描画するための描画データ作成方法において、
   少なくとも１つの図形から構成されるセルのパターンデータと所定のインデックスデータとを含む第１のデータファイルを前記描画データの一部として作成する第１のデータファイル作成工程と、
   前記セルの配置位置を示す配置位置データと前記所定のインデックスデータとを含む第２のデータファイルを前記描画データの一部として作成する第２のデータファイル作成工程と、
   前記パターンデータと前記配置位置データとをリンクさせるためのリンクデータと、前記所定のインデックスデータが示すデータ位置に定義された前記セルのサイズデータとを含む第３のデータファイルを前記描画データの一部として作成する第３のデータファイル作成工程と、
   を備えたことを特徴とする描画データ作成方法。
4. 荷電粒子線を用いて試料に所定のパターンを描画するための描画データファイルを格納した記憶媒体において、
   少なくとも１つの図形から構成されるセルのサイズを示すサイズデータと前記セルの図形情報を示すパターンデータとを含む第１のデータファイルと、
   前記セルの配置位置を示す配置位置データと前記セルのサイズデータとを含む第２のデータファイルと、
   を備えたことを特徴とする描画データファイルを格納した記憶媒体。
5. 荷電粒子線を用いて試料に所定のパターンを描画するための描画データファイルを格納した記憶媒体において、
   少なくとも１つの図形から構成されるセルのサイズを示すサイズデータと前記セルを構成する図形情報を示すパターンデータとを含む第１のデータファイルと、
   前記セルの配置位置を示す配置位置データと所定のインデックスデータとを含む第２のデータファイルと、
   前記パターンデータと前記配置位置データとをリンクさせるためのリンクデータと、前記所定のインデックスデータが示すデータ位置に定義された前記セルのサイズデータとを含む第３のデータファイルと、
   を備えたことを特徴とする描画データファイルを格納した記憶媒体。
6. 荷電粒子線を用いて試料に所定のパターンを描画するための描画データファイルを格納した記憶媒体において、
   少なくとも１つの図形から構成されるセルのパターンデータと所定のインデックスデータとを含む第１のデータファイルと、
   前記セルの配置位置を示す配置位置データと前記所定のインデックスデータとを含む第２のデータファイルと、
   前記パターンデータと前記配置位置データとをリンクさせるためのリンクデータと、前記所定のインデックスデータが示すデータ位置に定義された前記セルのサイズデータとを含む第３のデータファイルと、
   を備えたことを特徴とする描画データファイルを格納した記憶媒体。

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