JP2008085248A

JP2008085248A - 荷電粒子ビーム描画データの作成方法及び荷電粒子ビーム描画データの変換方法

Info

Publication number: JP2008085248A
Application number: JP2006266290A
Authority: JP
Inventors: Atsushi Kasahara; 淳笠原; Shigehiro Hara; 重博原; Shinji Sakamoto; 信二坂本
Original assignee: Nuflare Technology Inc
Current assignee: Nuflare Technology Inc
Priority date: 2006-09-29
Filing date: 2006-09-29
Publication date: 2008-04-10

Abstract

【目的】できるだけデータ量の増大を抑えながらより高精度な描画と検査とを実現する描画データを作成する手法を提供する。
【構成】設計データから描画データ１２を作成する本発明の電子ビーム描画データの作成方法は、設計データに含まれる図形パターンが任意角をもつ場合に、任意角を用いずに４５度角等の規定角で構成される規定角図形パターン部分と任意角図形パターン部分とに振り分ける振分工程（Ｓ１２２）と、任意角図形パターン部分について、任意角のままのデータを作成する任意角図形パターンデータ作成工程（Ｓ１２４）と、任意角図形パターン部分を規定角の図形パターンに分割したデータを作成する分割図形パターンデータ作成工程（Ｓ１２６）と、規定角図形パターン部分について、規定角のデータを作成する規定角図形パターンデータ作成工程（Ｓ１２８）と、を備えたことを特徴とする。本発明によれば、データ転送時間の短縮を図ることができる。
【選択図】図１

Description

本発明は、荷電粒子ビーム描画データの作成方法及び荷電粒子ビーム描画データの変換方法に係り、特に、電子線描画装置とパターン検査装置に用いられる描画データの作成方法と電子線描画装置内で処理される描画データの変換方法に関する。

半導体デバイスの微細化の進展を担うリソグラフィ技術は半導体製造プロセスのなかでも唯一パターンを生成する極めて重要なプロセスである。近年、ＬＳＩの高集積化に伴い、半導体デバイスに要求される回路線幅は年々微細化されてきている。これらの半導体デバイスへ所望の回路パターンを形成するためには、高精度の原画パターン（レチクル或いはマスクともいう。）が必要となる。ここで、電子線（電子ビーム）描画技術は本質的に優れた解像性を有しており、高精度の原画パターンの生産に用いられる。

図２０は、従来の可変成形型電子線描画装置の動作を説明するための概念図である。
可変成形型電子線描画装置（ＥＢ（Ｅｌｅｃｔｒｏｎｂｅａｍ）描画装置）における第１のアパーチャ４１０には、電子線４４２を成形するための矩形例えば長方形の開口４１１が形成されている。また、第２のアパーチャ４２０には、第１のアパーチャ４１０の開口４１１を通過した電子線４４２を所望の矩形形状に成形するための可変成形開口４２１が形成されている。荷電粒子ソース４３０から照射され、第１のアパーチャ４１０の開口４１１を通過した電子線４４２は、偏向器により偏向され、第２のアパーチャ４２０の可変成形開口４２１の一部を通過して、所定の一方向（例えば、Ｘ方向とする）に連続的に移動するステージ上に搭載された試料に照射される。すなわち、第１のアパーチャ４１０の開口４１１と第２のアパーチャ４２０の可変成形開口４２１との両方を通過できる矩形形状が、Ｘ方向に連続的に移動するステージ上に搭載された試料４４０の描画領域に描画される。第１のアパーチャ４１０の開口４１１と第２のアパーチャ４２０の可変成形開口４２１との両方を通過させ、任意形状を作成する方式を可変成形方式という。

かかる電子ビーム描画を行なうにあたり、まず、半導体集積回路のレイアウトが設計され、レイアウトデータ（設計データ）が生成される。そして、かかるレイアウトデータが変換され、電子線描画装置に入力される描画データが生成される。そして、生成された描画データは、一方で電子線描画装置に入力され、他方でパターン検査装置にも入力される。そして、電子線描画装置内では、入力された描画データが電子線描画装置内のフォーマットのデータに変換されて所定のパターンが描画される。また、パターン検査装置では、描画データに基づいて、製作されたマスク等の試料に形成されたパターンの出来が検査される。このように、通常、電子線描画装置に入力されるデータとパターン検査装置に入力されるデータは同じ描画データが使用される。

ここで、データ量を低減することを目的として、基本パターンデータとかかる基本パターンデータを配置する配置情報とを組みとした情報が１つのデータファイルに一続きに羅列された描画データを作成する技術についての記載が文献に開示されている（例えば、特許文献１参照）。
特開平５−２９２０２号公報

ここで、描画装置がパターンを描画する際に、４５度や９０度といった規定角で構成される三角形、長方形、台形といった図形であればそのままその図形の形で描画することができるが、３０度や６０度といった規定角以外の任意角をもつ図形については、規定角で構成される三角形、長方形、台形といった図形に分割され、これら規定角で構成される三角形、長方形、台形といった図形のみで定義されるように近似されて描画する場合が多い。これにより、描画装置の成形アパーチャに合った図形で描画することができるからである。そのため、このような任意角を持つ図形パターンについては、描画装置に入力するための描画データを作成する段階、或いは描画データが描画装置内に入力された後で、規定角で構成される三角形、長方形、台形といった図形パターンに分割することが必要になる。

ここで、描画装置に入力するための描画データを作成する段階で任意角を持つ図形パターンを規定角の図形パターンに分割する場合、描画データはパターン検査装置にも送付されるため、検査装置では、分割された各規定角の図形パターンに基づいて製作されたマスク等の試料に描かれたパターンを検査することになる。そのため、本来設計データが所望している形は任意角を持つ図形パターンであるにも関わらず、規定角の図形パターンで検査することになってしまう。やはり理想的には、検査装置では、分割以前の設計データと同じ任意角を持つ図形パターンデータと比較して精度よく描画されたかどうかを検査することが望ましい。また、設計データ（ＣＡＤデータ）で定義される任意角を持つ図形パターンは、任意角度で引かれた線を持つ任意角図形パターン部分と４５度や９０度といった規定角度で引かれた線で構成される規定角図形パターン部分とに振り分けることができるパターンが多く含まれるのが一般的である。ここで、理想を求めるためには、任意角を持つ図形パターンについて任意角度で引かれた線をそのままの角度で維持した図形パターン部分のデータと規定角図形パターン部分のデータとで構成される図形パターンデータを検査装置用に用意することになる。そして、描画装置用に、任意角を持つ図形パターン部分も規定角で構成される図形パターンに分割した図形パターンデータを用意することになる。このように両方のデータをそれぞれ用意する必要がある。

図２１は、ＣＡＤデータで定義される任意角を持つ図形パターンの一例を示す図である。
図２２は、描画装置用に用意する規定角で構成される図形パターンに分割した図形パターンデータの一例を示す図である。
図２３は、検査装置用に用意する任意角で構成される図形パターンを含む図形パターンデータの一例を示す図である。
例えば、図２１に示すような任意角を持つ図形パターンを描画する場合、描画装置用には、図２２に示すような規定角図形パターン部分にあたる矩形パターン２２と任意角を持つ図形パターン部分を規定角で構成される図形パターンに分割した複数の分割図形パターン２４とで構成される描画データを用意する必要がある。そして、検査装置用には、図２３に示すような規定角図形パターン部分にあたる矩形パターン２２と任意角を持つ図形パターン部分にあたる任意角図形パターン２６とで構成される描画データを用意する必要がある。このように、２種類のデータの両方をそれぞれ用意するとなるとデータ量は膨大なものとなってしまうといった問題がある。上述したように、ＬＳＩの高集積化に伴って電子線描画装置が処理するデータ量は膨大なものとなっている昨今においてできるだけデータ量の圧縮が求められている中で、よりデータ量を膨大なものにしてしまうといった問題があった。

一方、描画データが描画装置内に入力された後で任意角を持つ図形パターンを規定角の図形パターンに分割する場合、描画データの段階では任意角を持つ図形パターンデータが残っている。よって、描画データを入力した検査装置では、任意角を持つ図形パターンデータに基づいて製作されたマスク等の試料に描かれたパターンを検査することができる。しかしながら、描画装置内に入力された後で任意角を持つ図形パターンを規定角の図形パターンに分割する手法では、分割処理にエラーが生じた場合でもそのまま描画されてしまう恐れが大きいといった問題がある。すなわち、描画装置に入力する前に、描画データを作成する段階で任意角を持つ図形パターンを規定角の図形パターンに分割しておけば、描画装置に入力する前にパターンエラーを検出することが可能となる。これに対し、一端、描画装置内に入力されてしまうとデータ変換におけるパターンエラーを検出することが困難となってしまう。そのため、異常マスクや異常ウェハ等を描画（製造）し続け、２次被害を引き起こす場合もある。

本発明は、上述した問題点を克服し、できるだけデータ量の増大を抑えながらより高精度な描画と検査とを実現する描画データを作成する手法を提供すると共に、かかる描画データの変換手法を提供することを目的とする。

本発明の一態様の荷電粒子ビーム描画データの作成方法は、
回路の設計データから荷電粒子ビームを用いて描画するための描画データを作成する荷電粒子ビーム描画データの作成方法において、
設計データに含まれる図形パターンが４５度角、９０度角及び１３５度とは異なる任意角をもつ場合に、任意角を用いずに４５度角、９０度角或いは１３５度の規定角で構成される規定角図形パターン部分と任意角図形パターン部分とに振り分ける振分工程と、
任意角図形パターン部分について、任意角のままの任意角図形パターンを示す任意角図形パターンデータを描画データの一部として作成する任意角図形パターンデータ作成工程と、
任意角図形パターン部分を４５度角、９０度角或いは１３５度を用いて構成される複数の図形パターンに分割した各分割図形パターンを示す複数の分割図形パターンデータを描画データの一部として作成する分割図形パターンデータ作成工程と、
規定角図形パターン部分について、規定角の規定角図形パターンを示す規定角図形パターンデータを描画データの一部として作成する規定角図形パターンデータ作成工程と、
を備えたことを特徴とする。

かかる構成により、任意角のままの任意角図形パターンを示す任意角図形パターンデータを描画データの中に作成することができる。一方で、任意角図形パターンを描画しやすいように分割した各分割図形パターンを示す複数の分割図形パターンデータも得ることができる。言い換えれば、任意角図形パターン部分については、任意角のままの任意角図形パターンデータと規定角で構成される複数の分割図形パターンデータとの両方を作成し、規定角図形パターン部分については、２重にデータが作成されないようにすることができる。

さらに、複数の分割図形パターンデータと規定角図形パターンデータとを第１のグループとして、任意角図形パターンデータを第２のグループとして描画データ内に識別可能に定義すると好適である。

第１のグループと第２のグループとに識別可能に定義することにより、第１のグループのデータを描画装置用のデータとして用いることができる。他方、第１のグループのうちの規定角図形パターン部分を示す規定角図形パターンデータと、第２のグループのデータを検査装置用のデータとして用いることができる。

或いは、複数の分割図形パターンデータと規定角図形パターンデータと任意角図形パターンデータとをそれぞれ識別可能に前記描画データ内に定義するようにしても好適である。

上述した描画データを用いる本発明の一態様の荷電粒子ビーム描画データの変換方法は、
所定の任意角図形パターンを分割した複数の分割図形パターンデータと所定の規定角図形パターンを示す規定角図形パターンデータとを第１のグループとして、上述した所定の任意角図形パターンを示す任意角図形パターンデータを第２のグループとして識別可能に定義された描画データを入力する入力工程と、
描画する図形パターンが所定の任意角図形パターンと所定の規定角図形パターンとの組み合わせにより構成される場合に、入力された描画データに含まれる複数の分割図形パターンデータと規定角図形パターンデータと任意角図形パターンデータとのうち、第１のグループとなる複数の分割図形パターンデータと規定角図形パターンデータとを描画装置内で用いるための装置内フォーマットのデータに変換する装置内フォーマット変換工程と、
を備えたことを特徴とする。

かかる構成により、グループを識別することができる。よって、所定の任意角図形パターンを分割した複数の分割図形パターンデータと所定の規定角図形パターンを示す規定角図形パターンデータの他に、任意角図形パターンデータが含まれた描画データであっても任意角図形パターンデータを装置内フォーマットのデータに変換しないようにすることができる。その結果、任意角図形パターンデータを用いずに規定角の図形パターンで描画することができる。そして、検査装置では、第１のグループのうちの規定角図形パターン部分を示す規定角図形パターンデータと、第２のグループのデータを用いればよい。

或いは、本発明の他の態様の荷電粒子ビーム描画データの変換方法は、
所定の任意角図形パターンを分割した複数の分割図形パターンデータと所定の規定角図形パターンを示す規定角図形パターンデータと所定の任意角図形パターンを示す任意角図形パターンデータとがそれぞれ識別可能に定義された描画データを入力する入力工程と、
描画する図形パターンが所定の任意角図形パターンと所定の規定角図形パターンとの組み合わせにより構成される場合に、入力された描画データに含まれる複数の分割図形パターンデータと規定角図形パターンデータと任意角図形パターンデータとのうち、複数の分割図形パターンデータと規定角図形パターンデータとを描画装置内で用いるための装置内フォーマットのデータに変換する装置内フォーマット変換工程と、
を備えても好適である。

かかる構成により、複数の分割図形パターンデータと規定角図形パターンデータと任意角図形パターンデータとを識別することができる。よって、これらのデータの中から複数の分割図形パターンデータと規定角図形パターンデータとを選択することができる。よって、任意角図形パターンデータを装置内フォーマットのデータに変換しないようにすることができる。その結果、任意角図形パターンデータを用いずに規定角の図形パターンで描画することができる。他方、検査装置では、規定角図形パターン部分を示す規定角図形パターンデータと任意角図形パターンデータを用いればよい。

本発明によれば、規定角図形パターン部分については、２重にデータが作成されないようにすることができるので、検査装置用の独立した図形パターンデータと描画装置用の独立した図形パターンデータとの両方の図形パターンデータが定義された描画データを作成する場合に比べてデータ量を低減することができる。その結果、描画装置や検査装置へのデータ転送時間の短縮を図ることができる。

以下、実施の形態では、荷電粒子ビームの一例として、電子ビームを用いた構成について説明する。但し、荷電粒子ビームは、電子ビームに限るものではなく、イオンビーム等の荷電粒子を用いたビームでも構わない。

実施の形態１．
図１は、実施の形態１における電子ビーム描画データの作成方法と電子ビーム描画データの変換方法との要部工程を示すフローチャート図である。
図１に示すように、設計データ１０（ＣＡＤデータ）を描画データ作成装置にて変換して描画データ１２を作成する。そして、描画データ１２を作成するに当たっては、設計データに基づいて、規定角図形パターンデータ１６、スリット分割図形パターンデータ１７、任意角図形パターンデータ１８を作成し、これらを利用して描画データ１２を作成する。そして、作成された描画データ１２を電子ビーム描画装置内に入力して装置内部データ１４に変換する。他方、作成された描画データ１２をパターン検査装置内に入力して製作されたマスク等の試料のパターンの出来を検査する。図１において、電子ビーム描画データの作成方法は、配置情報ファイル作成工程の一例となるセル配置情報ファイル作成工程（Ｓ１１０）と、パターン情報ファイル作成工程の一例となるセルパターン情報ファイル作成工程（Ｓ１２０）と、リンク情報ファイル作成工程（Ｓ１３０）という一連の工程を実施する。そして、セルパターン情報ファイル作成工程（Ｓ１２０）内では、振分工程（Ｓ１２２）、規定角図形パターンデータ作成工程（Ｓ１２４）、スリット分割図形パターンデータ作成工程（Ｓ１２６）、任意角図形パターンデータ作成工程（Ｓ１２８）、ファイル作成工程（Ｓ１２９）という一連の工程を実施する。そして、電子ビーム描画データの変換方法は、入力工程（Ｓ２１２）、振分工程（Ｓ２１４）、装置内フォーマット変換工程（Ｓ２１６）、描画工程（Ｓ２１８）という一連の工程を実施する。また、パターン検査方法は、入力工程（Ｓ３１２）、振分工程（Ｓ３１４）、検査工程（Ｓ３１６）という一連の工程を実施する。

図２は、実施の形態１における描画装置の要部構成の一例を示す概念図である。
図２において、荷電粒子ビーム描画装置の一例となる可変成形型の描画装置１００は、描画部１５０と制御部１６０を備えている。制御部１６０は、制御回路１１０、描画データ処理回路１２０を備えている。描画部１５０は、電子鏡筒１０２、ＸＹステージ１０５、電子銃２０１、照明レンズ２０２、第１のアパーチャ２０３、投影レンズ２０４、偏向器２０５、第２のアパーチャ２０６、対物レンズ２０７、偏向器２０８、ファラデーカップ２０９を有している。図２では、本実施の形態１を説明する上で必要な構成部分以外については記載を省略している。描画装置１００にとって、通常、必要なその他の構成が含まれることは言うまでもない。

また、描画データ作成装置３００において、描画データ１２を作成し、描画データ処理回路１２０に出力する。そして、描画データ作成装置３００は、作成した描画データ１２を検査装置４００にも出力する。そして、描画データ処理回路１２０は、入力した描画データ１２を装置内部データ１４に変換して、かかる装置内部データ１４に沿って、制御回路１１０により描画部１５０が制御され、試料に所望する図形パターンが描画される。

描画装置１００では、電子銃２０１から出た電子ビーム２００が、照明レンズ２０２により矩形、例えば長方形の穴を持つ第１のアパーチャ２０３全体を照明する。ここで、電子ビーム２００をまず正方形に成形する。そして、第１のアパーチャ２０３を通過した第１のアパーチャ像の電子ビーム２００は、投影レンズ２０４により第２のアパーチャ２０６上に投影される。かかる第２のアパーチャ２０６上での第１のアパーチャ像の位置は、偏向器２０５によって制御され、ビーム形状と寸法を変化させることができる。そして、第２のアパーチャ２０６を通過した第２のアパーチャ像の電子ビーム２００は、対物レンズ２０７により焦点を合わせ、偏向器２０８により偏向されて、移動可能に配置されたＸＹステージ１０５上の試料１０１の所望する位置に照射される。また、ビーム強度等はファラデーカップ２０９に電子ビーム２００を照射して測定することができる。

他方、検査装置４００では、入力した描画データ１２に従って、描画装置１００で描画され、その後の現像、エッチング等を経て製作されたマスク等の試料１０１に形成されたパターンの出来具合を検査する。例えば、図示していないが、レーザ光を試料１０１に照射して、その透過光或いは反射光を光電変換して得られたパターン像と描画データ１２とを比較することでパターンを検査することができる。

図３は、実施の形態１における描画データ作成装置の主要構成を示すブロック図である。
図３において、描画データ作成装置３００は、セル配置情報ファイル作成回路３１０、セルパターン情報ファイル作成回路３２０、リンク情報ファイル作成回路３３０を備えている。セルパターン情報ファイル作成回路３２０内では、振分回路３２２、規定角図形パターンデータ作成回路３２４、スリット分割図形パターンデータ作成回路３２６、任意角図形パターンデータ作成回路３２８、ファイル作成回路３２９を有している。図３では、本実施の形態１を説明する上で必要な構成部分以外については記載を省略している。描画データ作成装置３００にとって、通常、必要なその他の構成が含まれることは言うまでもない。例えば、入出力手段等の図示は省略している。

図４は、実施の形態１におけるデータの階層構造の一例を示す図である。
設計データ１０では、チップ上に複数のセルが配置され、そして、各セルには、かかるセルを構成するパターンとなる図形が配置されている。そして、描画データ１２では、図４に示すように、描画領域が、チップの層、チップ領域を例えばｙ方向に向かって短冊状に分割したフレームの層、フレーム領域を所定の大きさの領域に分割したブロックの層、上述したセルの層、かかるセルを構成するパターンとなる図形の層といった一連の複数の内部構成単位ごとに階層化されている。そして、装置内部データ１４は、さらに、クラスタの層を内部構成単位として有している。図４では、階層数が多い装置内部データ１４を一例として記載している。

半導体集積回路を製造するにあたって、まず、半導体集積回路のレイアウトが設計され、設計データ１０が生成される。次に、設計データ１０が描画データ作成装置３００により変換され、電子ビーム描画装置の一例である可変成形型の描画装置１００において用いられる描画データ１２が生成される。かかる描画データ１２が描画装置１００に入力されると、描画データ処理回路１２０において、装置内フォーマットに変換され、装置内部データ１４が生成され、描画装置１００がマスク等の試料１０１にデータに含まれる図形パターンを電子ビーム２００で描画することになる。

図５は、実施の形態１におけるセル配置の一例を示す図である。
例えば、あるフレームの一部の各ブロックに図５に示すようなセルＡ、セルＢ、セルＣが配置されているとする。具体的に言えば、各ブロックの位置を座標で示し、ブロック（０，０）には、座標Ｐ１にセルＡが、座標Ｐ２にセルＣが配置されている。どのブロックに配置されるかについてはセルの基準点の位置により決めればよい。ブロック（０，１）には、座標Ｐ３にセルＣが、座標Ｐ４にセルＡが配置されている。ブロック（１，０）には、座標Ｐ５にセルＢが、座標Ｐ６にもセルＢが配置されている。ブロック（１，１）には、座標Ｐ７にセルＣが配置されている。

Ｓ（ステップ）１１０において、セル配置情報ファイル作成工程として、設計データ１０が描画データ作成装置３００に入力されると、セル配置情報ファイル作成回路３１０は、設計データ１０に基づいて、セル配置情報ファイルを作成する。

図６は、実施の形態１におけるセル配置情報ファイルとセルパターン情報ファイルの一例を示す図である。
図６（ａ）に示すように、セル配置情報ファイルには、描画する領域を複数のブロック領域に仮想分割した複数のブロック領域のブロック領域ごとに、複数の構成要素パターンであるセルＡ〜Ｃのいずれかを配置するための配置情報が含まれている。セル配置情報は、セルの基準点の配置位置を示す座標等で示される。ここでは、セル配置情報ファイルのファイルヘッダに続き、ブロック（０，０）ヘッダ、ブロック（０，０）内に配置されたセル配置情報L１、セル配置情報L２、ブロック（０，１）ヘッダ、ブロック（０，１）内に配置されたセル配置情報L３、セル配置情報L４、ブロック（１，０）ヘッダ、ブロック（１，０）内に配置されたセル配置情報L５、セル配置情報L６、ブロック（１，１）ヘッダ、ブロック（１，１）内に配置されたセル配置情報L７が格納されている。

図７は、実施の形態１におけるセル配置情報の一例を示す図である。
各セル配置情報Ｌｎには、セル配置座標Ｐｎ（Ｘｎ，Ｙｎ）、リンク情報インデックス（ｋ）が含まれている。かかるデータにより、セル配置情報ファイルでは、各ブロックに配置されるセルの位置を表す座標、そして後述するセルパターン情報へとリンクさせるための情報を把握することができる。

Ｓ１２０において、セルパターン情報ファイル作成工程として、設計データ１０が描画データ作成装置３００に入力されると、セルパターン情報ファイル作成回路３２０は、設計データ１０に基づいて、セルパターン情報ファイルを作成する。以下、セルパターン情報ファイル作成工程（Ｓ１２０）の内部工程について説明する。

図８は、実施の形態１におけるあるセル内の任意角を持つ図形パターンの一例を示す図である。
ここでは、図８（ａ）に示す図形パターン３０が座標Ｐ１と座標Ｐ４とに配置されるセルＡを構成する図形の１つであるとする。ここでは、図形パターン３０を図形パターンＡ_１とする。設計データ（ＣＡＤデータ）に含まれる図形パターン３０は、図８（ａ）に示すように、図上、右の部分が、４５度角、９０度角及び１３５度とは異なる任意角をもっている。

Ｓ１２２において、振分工程として、振分回路３２２は、設計データに含まれる図形パターンが４５度角、９０度角及び１３５度とは異なる任意角をもつ場合に、前記任意角を用いずに４５度角、９０度角或いは１３５度の規定角で構成される規定角図形パターン部分と任意角図形パターン部分とに振り分ける。図７の例では、図形パターン３０が任意角をもっているので、図８（ｂ）に示す規定角で構成される規定角図形パターン部分となる矩形パターン３２と図８（ｃ）に示す任意角で構成される任意角図形パターン部分となる任意角図形パターン３６とに振り分ける。各図形パターンのデータは図形を表現するための図形コードの情報を持っているので、振分回路３２２は、この図形コードの情報を使って任意角部分を識別すればよい。ここで、設計データに含まれる図形パターンが規定角図形パターンのみで構成される場合には、任意角図形パターン部分を振り分ける必要がないことは言うまでもない。また、逆に任意角をもった三角形のように任意角図形パターンのみで構成される場合には、規定角図形パターン部分を振り分ける必要がないことも言うまでもない。

Ｓ１２４において、規定角図形パターンデータ作成工程として、規定角図形パターンデータ作成回路３２４は、規定角図形パターン部分となる矩形パターン３２について、規定角の規定角図形パターンを示す規定角図形パターンデータ１６を描画データ１２の一部として作成する。図８（ｂ）では、規定角図形パターン部分を規定角図形パターンＡ_１１として記載している。

Ｓ１２６において、分割図形パターンデータ作成工程の一例となるスリット分割図形パターンデータ作成工程として、スリット分割図形パターンデータ作成回路３２６は、任意角図形パターン部分となる任意角図形パターン３６を４５度角、９０度角或いは１３５度の規定角を用いて構成される複数の図形パターンに分割した各分割図形パターンを示す複数の分割図形パターンデータを描画データ１２の一部として作成する。図８の例では、三角形の任意角図形パターン３６を長方形の矩形パターンである複数の分割図形パターン３４でスリット状に分割することで近似している。そして、各分割図形パターン３４のデータとして、各スリット分割図形パターンデータ１７を作成する。図８（ｂ）では、各分割図形パターンを分割図形パターンＡ_１２〜Ａ_１ｎとしてそれぞれ記載している。

Ｓ１２８において、任意角図形パターンデータ作成工程として、任意角図形パターンデータ作成回路３２８は、任意角図形パターン部分となる任意角図形パターン３６について、任意角のままの任意角図形パターンを示す任意角図形パターンデータ１８を描画データ１２の一部として作成する。図８（ｃ）では、任意角図形パターンを任意角図形パターンＡ_１ｎ＋１として記載している。

Ｓ１２９において、ファイル作成工程として、ファイル作成回路３２９は、作成された各図形パターンデータを用いて、セルパターン情報ファイルを作成する。ここで、実施の形態１では、元々設計データ上で１つの図形パターンについては、規定角図形パターンデータ１６と各スリット分割図形パターンデータ１７とで同じレイヤーのデータとして作成し、任意角図形パターンデータ１８については別のレイヤーのデータとして作成するようにする。ここでは、規定角図形パターンＡ_１１を示す規定角図形パターンデータ１６と複数の分割図形パターンデータＡ_１２〜Ａ_１ｎを示す各スリット分割図形パターンデータ１７をレイヤー１（第１のグループの一例）のデータとしてファイルを作成する。そして、任意角図形パターンＡ_１ｎ＋１を示す任意角図形パターンデータ１８のみをレイヤー２（第２のグループの一例）のデータとして識別可能に定義してセルパターン情報ファイルを作成する。このように構成することで、共通する規定角図形パターンＡ_１１についてのデータを１つのレイヤー（ここでは、レイヤー１）のみに定義することができる。よって、それぞれのレイヤーで重複して規定角図形パターンＡ_１１のデータを定義する場合に比べてデータ量を低減することができる。

そして、図６（ｂ）に示すように、セルパターン情報ファイルには、複数の構成要素パターンであるセルＡ〜Ｃの各セルパターン情報が含まれている。ここでは、セルパターン情報ファイルのファイルヘッダに続き、パターンデータセグメント１ヘッダ、セルＡのパターンデータを示すセルパターンデータＡ、セルＢのパターンデータを示すセルパターンデータＢ、セルＣのパターンデータを示すセルパターンデータＣが順に１回ずつ格納されている。セルパターンデータには、後述するようにセルパターンを構成するデータ量が大きい図形パターンデータ等が含まれる。図５に示すようなレイアウトでセルが配置された場合、セルパターンデータＡは、セル配置情報L１とL４とで必要となり、セルパターンデータＢは、セル配置情報L５とL６とで必要となり、セルパターンデータＣは、セル配置情報L２とL３とL７とで必要となる。それぞれの配置ごとにセルパターンデータを何度も繰り返し記載するとデータ量が膨大なものになるが、特に、データ量が大きくなるセルパターンデータを何度も繰り返し記載せず、図６（ｂ）に示すように、１つのセグメントに順に１回ずつ格納することによりデータ量の圧縮を図ることができる。

図９は、実施の形態１におけるセルパターンデータの一例を示す図である。
各セルパターンデータには、セルパターンの長さやサイズ等が定義されたセルパターンデータヘッダ、セルを構成する各図形パターンデータが含まれている。かかるデータにより、セルパターンの長さやサイズ、セルを構成する各図形パターンデータを把握することができる。図９では、一例として、図形パターンデータＮ_１、図形パターンデータＮ_２、・・・で構成されるセルパターンデータＮについて記載している。

図１０は、実施の形態１における図形パターンデータの一例を示す図である。
図１０では、図８（ｂ）と図８（ｃ）とで示した各データで定義される図８（ａ）で示した図形パターンＡ_１のデータ（図形パターンデータＡ_１）を示している。図形パターンデータには、図形パターンの図形コードやレイヤー番号等が定義された図形パターンデータヘッダ、各図形パターンの位置、長さＬ１×Ｌ２についてのデータが含まれている。そして、ここでは、図形パターンデータ毎にレイヤー属性を持たせるように構成する例を示している。ここでは、図形パターンデータにレイヤー属性を持たせているので、図形パターンデータＡ_１を図形パターンデータＡ_１’と図形パターンデータＡ_１”とに分け、レイヤー１のデータを図形パターンデータＡ_１’に、レイヤー２のデータを図形パターンデータＡ_１”に定義する。図形パターンデータＡ_１’には、図形パターンの図形コード（ここでは長方形のコード）やレイヤー番号「１」等が定義された図形パターンデータヘッダ、規定角図形パターンＡ_１１の位置と長さＬ１×Ｌ２についてのデータ、分割図形パターンＡ_１２の位置と長さＬ１×Ｌ２についてのデータ、分割図形パターンＡ_１３の位置と長さＬ１×Ｌ２についてのデータ、・・・、分割図形パターンＡ_１ｎの位置と長さＬ１×Ｌ２についてのデータが含まれている。続いて、図形パターンデータＡ_１”には、図形パターンの図形コード（ここでは直角三角形のコード）やレイヤー番号「２」等が定義された第２番目の図形パターンデータヘッダ、任意角図形パターンＡ_１ｎ＋１の位置と長さＬ１×Ｌ２についてのデータが含まれている。

Ｓ１３０において、リンク情報ファイル作成工程として、設計データ１０が描画データ作成装置３００に入力されると、リンク情報ファイル作成回路３３０は、設計データ１０に基づいて、リンク情報ファイルを作成する。

図１１は、リンク情報ファイルの一例を示す図である。
図１１に示すように、リンク情報ファイルには、セル配置情報とセルパターン情報とをリンクさせるリンク情報が含まれる。ここでは、リンク情報ファイルのファイルヘッダに続き、各セルパターンデータに対応してセルパターン情報ファイル内でのパターンデータセグメントの先頭のアドレスとそのパターンデータセグメント内でのセルパターンデータの先頭アドレスとを一組とするリンク情報が複数格納されている。例えば、図６に示すように、セル配置情報Ｌ１からセルＡが参照される。そこで、セルパターンデータＡの属するパターンデータセグメントのアドレスとセルパターンデータＡのアドレスの組みがリンクファイル内で何番目に格納されたかを示すインデックスの値を、図７に示すセル配置情報Ｌｎ（ここではｎ＝１）にリンク情報インデックス（ｋ）として格納する。ここではパターン情報ファイルにおいてパターンデータセグメントが一つしかないため、全てのリンク情報で同一のパターンデータセグメントアドレスの値が格納される。

以上のように、描画データ作成装置３００において、描画データ１２の一部として、セル配置情報ファイルと、規定角図形で構成される図形パターンデータと任意角部分のデータを併せ持つセルパターン情報ファイルと、リンク情報ファイルとを作成することで、データ量を圧縮しながら効率良くデータを読みに行くことができる描画データ１２を作成することができる。

また、描画装置では、近接効果補正等を行なうにあたって、隣り合うチップからの影響を考慮する必要から複数のチップを１つにまとめてセルを特定の領域に振り分けるチップマージ処理を行なうことが一般的である。ここで、チップマージ処理といった配置情報の再構成処理を行なうにあたり、セル配置情報とセルパターン情報とが混在したデータファイルでは、配置情報の再構成処理を行なうことが困難、或いは処理時間が長くなってしまう。しかしながら、本実施の形態のように、セル配置情報ファイルとセルパターン情報ファイルとを別のファイルとして作成することにより、配置情報の再構成を自由に行なうことができ、配置情報の再構成処理を行ない易くすることができる。

以上のように作成された描画データ１２を描画装置１００と検査装置４００とに出力する。そして、描画装置１００と検査装置４００とでは、それぞれ、入力した描画データ１２を使用してその後の処理を進めていくことになる。

まず、描画装置１００での処理について説明する。
Ｓ２１２において、入力工程として、描画データ処理回路１２０は、描画データ作成装置３００において作成された描画データ１２を入力する。ここでは、上述したように、所定の任意角図形パターンを分割した複数の分割図形パターンデータと所定の規定角図形パターンを示す規定角図形パターンデータとをレイヤー１(第１のグループ)として、上述した所定の任意角図形パターンを示す任意角図形パターンデータをレイヤー２(第２のグループ)として識別可能に定義された描画データ１２を入力する。

ここで、短い数値や識別子といった情報で構成可能なセル配置情報ファイルやリンク情報ファイルと比べ、上述したように、特に、データ量が大きくなるセルパターンデータについて、描画用と検査用とで共通する規定角図形パターンデータ１６を重複させずに定義することによりデータ量の圧縮を図っているため、重複させる場合に比べて入力処理（データ転送処理）にかかる時間を大きく短縮することができる。さらに、図６（ｂ）に示すように、１つのセグメントに順に１回ずつ格納することによりデータ量の圧縮を図っているため、この点でも入力処理（データ転送処理）にかかる時間を大きく短縮することができる。

図１２は、実施の形態１における描画データ処理回路の主要構成を示すブロック図である。
図１２において、描画データ処理回路１２０は、振分回路１２２、装置内フォーマット変換回路１２４を備えている。装置内フォーマット変換回路１２４内には、複数のデータ変換回路１２５が配置されている。図１２では、本実施の形態１を説明する上で必要な構成部分以外については記載を省略している。描画データ処理回路１２０にとって、通常、必要なその他の構成が含まれることは言うまでもない。例えば、入出力手段等の図示は省略している。

Ｓ２１４において、振分工程として、振分回路１２２は、描画する図形パターンが所定の任意角図形パターンと所定の規定角図形パターンとの組み合わせにより構成される場合に、入力された描画データ１２に含まれる複数のスリット分割図形パターンデータ１７と規定角図形パターンデータ１６と任意角図形パターンデータ１８とのうち、レイヤー１となる複数のスリット分割図形パターンデータ１７及び規定角図形パターンデータ１６と、レイヤー２となる任意角図形パターンデータ１８とを振り分ける。

Ｓ２１６において、装置内フォーマット変換工程として、装置内フォーマット変換回路１２４は、描画データ１２を装置内フォーマットに変換して装置内部データ１４を生成する。例えば、クラスタ分割処理やショットデータ作成といった分散処置を行う。ここでは、装置内フォーマット変換回路１２４は、振り分けられたレイヤー１となる複数のスリット分割図形パターンデータ１７及び規定角図形パターンデータ１６を描画装置１００内で用いるための装置内フォーマットのデータに変換する。

ここで、１つ１つの処理を直列に順に行なっていたのでは処理時間が膨大なものとなってしまう。描画装置１００に入力する際の描画データ１２は、一つのパターンデータセグメント中に全セルパターンデータが格納されていたため、そのまま並列処理を行う場合には、装置内フォーマット変換回路１２４内の複数のデータ変換回路１２５それぞれが全セルパターンデータを入力とし、その中から必要なセルパターンデータを探し、読み出して、処理しなくてはならなくなる。そのため、入力処理に時間がかかり、並列処理の効率がわるくなる。よって、装置内フォーマット変換工程の前工程として、描画データ処理回路１２０は、入力された描画データ１２におけるセルパターン情報ファイルをブロック領域ごとに配置される構成要素パターンであるセルパターン情報をそれぞれ格納したパターン情報ファイルに再作成しておくと好適である。すなわち、ブロック領域ごとに配置されるセルパターンデータを１つのセグメントとしてまとめて（ローカライズして）、ブロック領域ごとにセルパターンデータを格納したファイルに再作成しておくと好適である。これにより、各データ変換回路１２５は必要な１セグメントだけを入力とすればよいため、ローカライズ処理を行わなかった場合に比べ入力データ量が大幅に小さくて済み、入力処理を短縮させることができる。

以上のように、レイヤー番号がヘッダ内に定義されていることにより描画するためのデータグループを識別することができる。よって、任意角図形パターン部分を分割した複数のスリット分割図形パターンデータ１７と元々の規定角図形パターン部分を示す規定角図形パターンデータ１６の他に、任意角図形パターンデータ１８が含まれた描画データ１２であっても任意角図形パターンデータ１８を装置内フォーマットのデータに変換しないようにすることができる。以上のようにして装置内部データ１４を作成する。

Ｓ２１８において、描画工程として、作成された装置内部データ１４を用いて、描画装置１００は試料１０１にパターンを描画する。このように、任意角図形パターンデータ１８が含まれた描画データ１２であっても任意角図形パターンデータ１８を振り分けて排除しておくことで、任意角図形パターンデータ１８を用いずに規定角の図形パターンで描画することができる。

次に、検査装置４００での処理について説明する。
Ｓ３１２において、入力工程として、検査装置４００は、描画データ作成装置３００において作成された描画データ１２を入力する。ここでは、上述したように、所定の任意角図形パターンを分割した複数の分割図形パターンデータと所定の規定角図形パターンを示す規定角図形パターンデータとをレイヤー１(第１のグループ)として、上述した所定の任意角図形パターンを示す任意角図形パターンデータをレイヤー２(第２のグループ)として識別可能に定義された描画データ１２を入力する。

Ｓ３１４において、振分工程として、検査装置４００内の図示していない振分回路は、描画される図形パターンが所定の任意角図形パターンと所定の規定角図形パターンとの組み合わせにより構成される場合に、入力された描画データ１２に含まれる複数のスリット分割図形パターンデータ１７と規定角図形パターンデータ１６と任意角図形パターンデータ１８とのうち、レイヤー２となる任意角図形パターンデータ１８及びレイヤー１のうちのスリット分割図形パターンデータ１７以外の規定角図形パターンデータ１６とレイヤー１のうちのスリット分割図形パターンデータ１７とを振り分ける。

Ｓ３１６において、検査工程として、検査装置４００は、レイヤー２となる任意角図形パターンデータ１８及びレイヤー１のうちのスリット分割図形パターンデータ１７以外の規定角図形パターンデータ１６を使って、製作されたマスク等の試料１０１のパターンの出来を検査する。

以上のように、本実施の形態におけるデータ構成によれば、描画用と検査用とで共通する規定角図形パターンデータ１６については、重複して定義していないので、データ量を低減させることができる。よって、転送時間を短縮させることができる。さらに、本実施の形態における描画データ１２を用いることで、一方で描画装置１００では、任意角図形部分をスリット分割した図形で描画でき、他方で検査装置４００では、任意角図形部分を任意角のままの図形で検査することができる。よって、より高精度な描画及び検査を行なうことができる。

実施の形態２．
実施の形態１では、図形パターンデータヘッダにレイヤー情報（番号）を定義することで図形パターンデータにレイヤー属性を持たせて、レイヤー毎に図形パターンデータのヘッダを分けて図形パターンを構成する各構成要素の図形パターンデータを定義していた。しかしながら、これに限るものではなく他のデータ構成でも構わない。実施の形態２では、図形パターンデータの上層にあたるセルパターンデータにレイヤー属性を持たせる構成について説明する。実施の形態２では、セル配置情報ファイルとセルパターン情報ファイルのデータ構成以外は、実施の形態１と同様で構わないので、各装置構成及び描画データ作成の各工程、描画装置１００内および検査装置４００内の各処理工程については、説明を省略する。

図１３は、実施の形態２におけるセルパターンデータの一例を示す図である。
各セルパターンデータには、セルパターンの長さやサイズやレイヤー番号等が定義されたセルパターンデータヘッダ、セルを構成する同一レイヤーの図形パターンデータが含まれている。ここでは、図形パターンデータとして、セルＡを構成する図形パターンの１つとなる図８（ａ）で示した図形パターンＡ_１のデータ（図形パターンデータＡ_１）を一例として示している。ここでは、セルパターンデータにレイヤー属性を持たせているので、セルパターンデータＡをセルパターンデータＡ’とセルパターンデータＡ”とに分け、レイヤー１のデータをセルパターンデータＡ’に、レイヤー２のデータをセルパターンデータＡ”に定義する。ここでは、セルパターンデータＡ’に、セルパターンの長さやサイズやレイヤー番号「１」等が定義されたセルパターンデータヘッダ、図形パターンの図形コード（ここでは長方形のコード）等が定義された図形パターンデータヘッダ、規定角図形パターンＡ_１１の位置と長さＬ１×Ｌ２についてのデータ、分割図形パターンＡ_１２の位置と長さＬ１×Ｌ２についてのデータ、分割図形パターンＡ_１３の位置と長さＬ１×Ｌ２についてのデータ、・・・分割図形パターンＡ_１ｎの位置と長さＬ１×Ｌ２についてのデータが含まれている。続いて、セルパターンデータＡ”に、セルパターンの長さやサイズやレイヤー番号「２」等が定義されたセルパターンデータヘッダ、図形パターンの図形コード（ここでは直角三角形のコード）等が定義された図形パターンデータヘッダ、任意角図形パターンＡ_１ｎ＋１の位置と長さＬ１×Ｌ２についてのデータが含まれている。

図１４は、実施の形態２におけるセル配置情報ファイルとセルパターン情報ファイルの一例を示す図である。
図１４（ａ）に示すように、セル配置情報ファイルには、描画する領域を複数のブロック領域に仮想分割した複数のブロック領域のブロック領域ごとに、複数の構成要素パターンであるセルＡ〜Ｃのいずれかを配置するための配置情報が含まれている。セル配置情報は、セルの基準点の配置位置を示す座標等で示される。図１４（ｂ）に示すように、セルパターン情報ファイルには、複数の構成要素パターンであるセルＡ〜Ｃの各セルパターン情報が含まれている。実施の形態２では、上述したようにセルパターンデータＡについてセルパターンデータＡ’とセルパターンデータＡ”とに分けた。よって、セルＡを配置するセル配置情報Ｌ１についても、セルパターンデータＡ’用のセル配置情報Ｌ１’とセルパターンデータＡ”用のセル配置情報Ｌ１”とに分ける。同様に、セルＡを配置するセル配置情報Ｌ４についても、セルパターンデータＡ’用のセル配置情報Ｌ４’とセルパターンデータＡ”用のセル配置情報Ｌ４”とに分ける。その他は、図６と同様であるので説明を省略する。

以上のように、レイヤー属性は、セルパターンデータに持たせても好適である。

実施の形態３．
実施の形態１では、図形パターンデータヘッダにレイヤー情報（番号）を定義することで図形パターンデータにレイヤー属性を持たせて、レイヤー毎に図形パターンデータのヘッダを分けて図形パターンを構成する各構成要素の図形パターンデータを定義していた。実施の形態２では、図形パターンデータの上層にあたるセルパターンデータにレイヤー属性を持たせる構成にして、レイヤー毎にセルパターンデータのヘッダを分けて図形パターンを構成する各構成要素の図形パターンデータを定義していた。しかしながら、これに限るものではなく他のデータ構成でも構わない。実施の形態３では、セルパターンデータの上層にあたるパターンデータセグメントにレイヤー属性を持たせる構成について説明する。実施の形態３では、セル配置情報ファイルとセルパターン情報ファイルのデータ構成以外は、実施の形態１や実施の形態２と同様で構わないので、各装置構成及び描画データ作成の各工程、描画装置１００内および検査装置４００内の各処理工程については、説明を省略する。

図１５は、実施の形態３におけるセル配置情報ファイルとセルパターン情報ファイルの一例を示す図である。
図１５（ａ）に示すように、セル配置情報ファイルには、描画する領域を複数のブロック領域に仮想分割した複数のブロック領域のブロック領域ごとに、複数の構成要素パターンであるセルＡ〜Ｃのいずれかを配置するための配置情報が含まれている。セル配置情報は、セルの基準点の配置位置を示す座標等で示される。図１５（ｂ）に示すように、セルパターン情報ファイルには、複数の構成要素パターンであるセルＡ〜Ｃの各セルパターン情報が含まれている。ここでは、パターンデータセグメントにレイヤー属性を持たせているので、パターンデータセグメント１をパターンデータセグメント１’とパターンデータセグメント１”とに分け、レイヤー１のデータをパターンデータセグメント１’に、レイヤー２のデータをパターンデータセグメント１”に定義する。実施の形態３では、上述したようにパターンデータセグメント１についてパターンデータセグメント１’とパターンデータセグメント１”とに分けた。ここでは、図形パターンデータとして、セルＡを構成する図形パターンの１つとなる図８（ａ）で示した図形パターンＡ_１のデータ（図形パターンデータＡ_１）を一例として示している。図形パターンデータＡ_１）をレイヤー１，２と分けているので、上層のセルパターンデータＡについてもセルパターンデータＡ’とセルパターンデータＡ”とに分かれている。また、ここでは、その他のセルパターンデータＢ，Ｃについては、レイヤー１に属するものとする。よって、ここでは、セルパターン情報ファイルのファイルヘッダに続き、レイヤー番号「１」が定義されたパターンデータセグメント１’ヘッダ、セルＡのパターンデータを示すセルパターンデータＡ’、セルＢのパターンデータを示すセルパターンデータＢ、セルＣのパターンデータを示すセルパターンデータＣが順に１回ずつ定義されている。続いて、レイヤー番号「２」が定義されたパターンデータセグメント１”ヘッダ、セルＡのパターンデータを示すセルパターンデータＡ”が定義されている。

以上のように、セルパターンデータＡについてもセルパターンデータＡ’とセルパターンデータＡ”とに分かれているので、セルＡを配置するセル配置情報Ｌ１についても、セルパターンデータＡ’用のセル配置情報Ｌ１’とセルパターンデータＡ”用のセル配置情報Ｌ１”とに分ける。同様に、セルＡを配置するセル配置情報Ｌ４についても、セルパターンデータＡ’用のセル配置情報Ｌ４’とセルパターンデータＡ”用のセル配置情報Ｌ４”とに分ける。その他は、図６と同様であるので説明を省略する。

図１６は、実施の形態３におけるセルパターンデータの一例を示す図である。
ここでは、パターンデータセグメント１’に定義されるセルパターンデータＡ’とパターンデータセグメント１”に定義されるセルパターンデータＡ”とに分けているので、レイヤー１のデータをセルパターンデータＡ’に、レイヤー２のデータをセルパターンデータＡ”に定義する。ここでは、図１６（ａ）に示すように、セルパターンデータＡ’に、セルパターンの長さやサイズ等が定義されたセルパターンデータヘッダ、図形パターンの図形コード（ここでは長方形のコード）等が定義された図形パターンデータヘッダ、規定角図形パターンＡ_１１の位置と長さＬ１×Ｌ２についてのデータ、分割図形パターンＡ_１２の位置と長さＬ１×Ｌ２についてのデータ、分割図形パターンＡ_１３の位置と長さＬ１×Ｌ２についてのデータ、・・・分割図形パターンＡ_１ｎの位置と長さＬ１×Ｌ２についてのデータが含まれている。続いて、図１６（ｂ）に示すように、セルパターンデータＡ”に、セルパターンの長さやサイズ等が定義されたセルパターンデータヘッダ、図形パターンの図形コード（ここでは直角三角形のコード）等が定義された図形パターンデータヘッダ、任意角図形パターンＡ_１ｎ＋１の位置と長さＬ１×Ｌ２についてのデータが含まれている。

以上のように、レイヤー属性は、パターンデータセグメントに持たせても好適である。

上述した実施の形態１〜３について、レイヤーの属性を持たせる層を異なるように構成したが、データ量の圧縮という観点からは、最も下層に属性を持たせた実施の形態１が一番望ましく、描画装置１００や検査装置４００でのデータ振分の観点からは最も上層に属性を持たせた実施の形態３が一番望ましい。

実施の形態４．
実施の形態１〜３では、図８で説明したように、共通する規定角図形パターン１６についてスリット分割図形パターン１７と同じレイヤーに定義して、２つのレイヤーに分ける構成としたが、これに限るものではない。実施の形態４では、３つのレイヤーに分ける場合について説明する。実施の形態４では、図形パターンのレイヤー分けを２つから３つにする以外は、実施の形態１〜３と同様で構わないので、各装置構成及び描画データ作成の各工程、描画装置１００内および検査装置４００内の各処理工程については、説明を省略する。また、レイヤー属性をどの層に持たせるかについても実施の形態１〜３のいずれの構成を用いても成り立つ。

図１７は、実施の形態４におけるあるセル内の任意角を持つ図形パターンの一例を示す図である。
ここでは、図１７（ａ）に示す図形パターン３０が図８（ａ）と同じように座標Ｐ１と座標Ｐ４とに配置されるセルＡを構成する図形の１つであるとする。ここでは、図形パターン３０を図形パターンＡ_１とする。設計データ（ＣＡＤデータ）に含まれる図形パターン３０は、図１７（ａ）に示すように、図上、右の部分が、４５度角、９０度角及び１３５度とは異なる任意角をもっている。

そして、それぞれ、規定角図形パターンデータ１６と各スリット分割図形パターンデータ１７と任意角図形パターンデータ１８とを描画データ１２の一部として作成するまでは、上述した各実施の形態と同様である。実施の形態４では、図１のファイル作成工程（Ｓ１２９）において、セルパターン情報ファイルを作成する場合に、規定角図形パターンデータ１６と各スリット分割図形パターンデータ１７と任意角図形パターンデータ１８についてはそれぞれ別のレイヤーのデータとして作成するようにする。ここでは、規定角図形パターンＡ_１１を示す規定角図形パターンデータ１６をレイヤー１のデータとしてファイルを作成する。そして、複数の分割図形パターンデータＡ_１２〜Ａ_１ｎを示す各スリット分割図形パターンデータ１７をレイヤー２のデータとしてファイルを作成する。そして、任意角図形パターンＡ_１ｎ＋１を示す任意角図形パターンデータ１８のみをレイヤー３のデータとして識別可能に定義してセルパターン情報ファイルを作成する。このように構成することで、共通する規定角図形パターンＡ_１１についてのデータを１つのレイヤー（ここでは、レイヤー１）のみに定義することができる。よって、レイヤー２，３のデータ用に重複して規定角図形パターンＡ_１１のデータを定義する場合に比べてデータ量を低減することができる。

図１８は、実施の形態４における図形パターンデータの一例を示す図である。
図１８では、実施の形態１と同様、図形パターンデータ毎にレイヤー属性を持たせるように構成する例を示している。ここでは、図形パターンデータにレイヤー属性を持たせているので、図形パターンデータＡ_１を図形パターンデータＡ_１’と図形パターンデータＡ_１”と図形パターンデータＡ_１’’’とに分け、レイヤー１のデータを図形パターンデータＡ_１’に、レイヤー２のデータを図形パターンデータＡ_１”に、レイヤー３のデータを図形パターンデータＡ_１’’’に定義する。図形パターンデータＡ_１’には、図形パターンの図形コード（ここでは長方形のコード）やレイヤー番号「１」等が定義された図形パターンデータヘッダ、規定角図形パターンＡ_１１の位置と長さＬ１×Ｌ２についてのデータが含まれている。続いて、図形パターンデータＡ_１”には、図形パターンの図形コード（ここでは長方形のコード）やレイヤー番号「２」等が定義された図形パターンデータヘッダ、分割図形パターンＡ_１２の位置と長さＬ１×Ｌ２についてのデータ、分割図形パターンＡ_１３の位置と長さＬ１×Ｌ２についてのデータ、・・・、分割図形パターンＡ_１ｎの位置と長さＬ１×Ｌ２についてのデータが含まれている。続いて、図形パターンデータＡ_１’’’には、図形パターンの図形コード（ここでは直角三角形のコード）やレイヤー番号「３」等が定義された第２番目の図形パターンデータヘッダ、任意角図形パターンＡ_１ｎ＋１の位置と長さＬ１×Ｌ２についてのデータが含まれている。

以上のように、共通する規定角図形パターンＡ_１１のデータを独立したレイヤーとして定義しても好適である。その他、実施の形態２のように、セルパターンデータ毎にレイヤー属性を持たせるように構成する場合や、実施の形態３のように、パターンデータセグメント毎にレイヤー属性を持たせるように構成する場合についてはレイヤー数が増えただけでその他は同様であるので説明を省略する。

以上のように、任意角部分以外は共通する情報であるため、１つにまとめて共通化することで処理時間やデータ転送時間等の短縮を図ることができる。

以上の説明において、「〜回路」或いは「〜工程」と記載したものは、コンピュータで動作可能なプログラムにより構成しても構わない。或いは、ソフトウェアとなるプログラムだけではなく、ハードウェアとソフトウェアとの組合せにより実施させても構わない。或いは、ハードウェアとファームウェアとの組合せでも構わない。或いは、電気回路等のハードウェアにより実施させても構わない。また、プログラムにより構成される場合、プログラムは、磁気ディスク装置、磁気テープ装置、ＦＤ、或いはＲＯＭ（リードオンリメモリ）等の記録媒体に記録される。

図１９は、プログラムにより構成する場合のハードウェア構成の一例を示すブロック図である。
描画データ作成装置３００、描画装置１００、或いは検査装置４００は、図１９に示すようなハードウェア構成を備えていてもよい。
図１９において、コンピュータとなるＣＰＵ５０は、バス７４を介して、ＲＡＭ（ランダムアクセスメモリ）５２、ＲＯＭ５４、磁気ディスク（ＨＤ）装置６２、キーボード（Ｋ／Ｂ）５６、マウス５８、外部インターフェース（Ｉ／Ｆ）６０、モニタ６４、プリンタ６６、ＦＤ６８、ＤＶＤ７０、ＣＤ７２に接続されている。ここで、ＲＡＭ（ランダムアクセスメモリ）５２、ＲＯＭ５４、磁気ディスク（ＨＤ）装置６２、ＦＤ６８、ＤＶＤ７０、ＣＤ７２は、記憶装置の一例である。キーボード（Ｋ／Ｂ）５６、マウス５８、外部インターフェース（Ｉ／Ｆ）６０、ＦＤ６８、ＤＶＤ７０、ＣＤ７２は、入力手段の一例である。外部インターフェース（Ｉ／Ｆ）６０、モニタ６４、プリンタ６６、ＦＤ６８、ＤＶＤ７０、ＣＤ７２は、出力手段の一例である。

以上、具体例を参照しつつ実施の形態について説明した。しかし、本発明は、これらの具体例に限定されるものではない。例えば、上述したような４５度角、９０度角或いは１３５度の規定角のアパーチャをもった描画装置での斜線図形の分割に限らず、元のデータ中の任意の図形を近似する場合に、その近似方法（レベル）ごとに複数レイヤーに分けて定義するデータの作成方法とそのデータを入力できる装置にも適応可能である。

また、各実施の形態では、内部構成要素として、セル情報を中心として記載したが、これに限るものではなく、別の階層データを中心にデータ構成しても構わない。また、各実施の形態では、配置情報とパターン情報とをリンク情報ファイルにおけるリンク情報によりリンクさせているが、これに限るものではない。配置情報に配置されるべきパターン情報が得られる手段であればよい。例えば、配置情報に所望するパターン情報へとアクセスするための識別子（例えば、パターン情報のアドレス）が格納されていてもよい。

また、装置構成や制御手法等、本発明の説明に直接必要しない部分等については記載を省略したが、必要とされる装置構成や制御手法を適宜選択して用いることができる。例えば、描画装置１００を制御する制御部構成については、記載を省略したが、必要とされる制御部構成を適宜選択して用いることは言うまでもない。

その他、本発明の要素を具備し、当業者が適宜設計変更しうる全ての荷電粒子ビーム描画データの作成方法及び荷電粒子ビーム描画データの変換方法、及びそれらの装置は、本発明の範囲に包含される。

実施の形態１における電子ビーム描画データの作成方法と電子ビーム描画データの変換方法との要部工程を示すフローチャート図である。実施の形態１における描画装置の要部構成の一例を示す概念図である。実施の形態１における描画データ作成装置の主要構成を示すブロック図である。実施の形態１におけるデータの階層構造の一例を示す図である。実施の形態１におけるセル配置の一例を示す図である。実施の形態１におけるセル配置情報ファイルとセルパターン情報ファイルの一例を示す図である。実施の形態１におけるセル配置情報の一例を示す図である。実施の形態１におけるあるセル内の任意角を持つ図形パターンの一例を示す図である。実施の形態１におけるセルパターンデータの一例を示す図である。実施の形態１における図形パターンデータの一例を示す図である。リンク情報ファイルの一例を示す図である。実施の形態１における描画データ処理回路の主要構成を示すブロック図である。実施の形態２におけるセルパターンデータの一例を示す図である。実施の形態２におけるセル配置情報ファイルとセルパターン情報ファイルの一例を示す図である。実施の形態３におけるセル配置情報ファイルとセルパターン情報ファイルの一例を示す図である。実施の形態３におけるセルパターンデータの一例を示す図である。実施の形態４におけるあるセル内の任意角を持つ図形パターンの一例を示す図である。実施の形態４における図形パターンデータの一例を示す図である。プログラムにより構成する場合のハードウェア構成の一例を示すブロック図である。従来の可変成形型電子線描画装置の動作を説明するための概念図である。ＣＡＤデータで定義される任意角を持つ図形パターンの一例を示す図である。描画装置用に用意する規定角で構成される図形パターンに分割した図形パターンデータの一例を示す図である。検査装置用に用意する任意角で構成される図形パターンを含む図形パターンデータの一例を示す図である。

符号の説明

１０設計データ
１２描画データ
１４装置内部データ
１６規定角図形パターンデータ
１７スリット分割図形パターンデータ
１８任意角図形パターンデータ
３０図形パターン
２２，３２矩形パターン
２４，３４分割図形パターン
２６，３６任意角図形パターン
５０ＣＰＵ
５２ＲＡＭ
５４ＲＯＭ
５６Ｋ／Ｂ
５８マウス
６０Ｉ／Ｆ
６２ＨＤ装置
６４モニタ
６６プリンタ
６８ＦＤ
７０ＤＶＤ
７２ＣＤ
７４バス
１００描画装置
１０１，４４０試料
１０２電子鏡筒
１０５ＸＹステージ
１１０制御回路
１２０描画データ処理回路
１２２振分回路
１２４装置内フォーマット変換回路
１２５データ変換回路
１５０描画部
１６０制御部
２００電子ビーム
２０１電子銃
２０２照明レンズ
２０３，４１０第１のアパーチャ
２０６，４２０第２のアパーチャ
２０４投影レンズ
２０５，２０８偏向器
２０７対物レンズ
２０９ファラデーカップ
３００描画データ作成装置
３１０セル配置情報ファイル作成回路
３２０セルパターン情報ファイル作成回路
３２２振分回路
３２４規定角図形パターンデータ作成回路
３２６スリット分割図形パターンデータ作成回路
３２８任意角図形パターンデータ作成回路
３２９ファイル作成回路
３３０リンク情報ファイル作成回路
４００検査装置
４１１開口
４２１可変成形開口
４３０荷電粒子ソース
４４２電子線

Claims

回路の設計データから荷電粒子ビームを用いて描画するための描画データを作成する荷電粒子ビーム描画データの作成方法において、
前記設計データに含まれる図形パターンが４５度角、９０度角及び１３５度とは異なる任意角をもつ場合に、前記任意角を用いずに４５度角、９０度角或いは１３５度の規定角で構成される規定角図形パターン部分と任意角図形パターン部分とに振り分ける振分工程と、
前記任意角図形パターン部分について、任意角のままの任意角図形パターンを示す任意角図形パターンデータを前記描画データの一部として作成する任意角図形パターンデータ作成工程と、
前記任意角図形パターン部分を４５度角、９０度角或いは１３５度を用いて構成される複数の図形パターンに分割した各分割図形パターンを示す複数の分割図形パターンデータを前記描画データの一部として作成する分割図形パターンデータ作成工程と、
前記規定角図形パターン部分について、前記規定角の規定角図形パターンを示す規定角図形パターンデータを前記描画データの一部として作成する規定角図形パターンデータ作成工程と、
を備えたことを特徴とする荷電粒子ビーム描画データの作成方法。
前記複数の分割図形パターンデータと前記規定角図形パターンデータとを第１のグループとして、前記任意角図形パターンデータを第２のグループとして前記描画データ内に識別可能に定義することを特徴とする請求項１記載の荷電粒子ビーム描画データの作成方法。
前記複数の分割図形パターンデータと前記規定角図形パターンデータと前記任意角図形パターンデータとをそれぞれ識別可能に前記描画データ内に定義することを特徴とする請求項１記載の荷電粒子ビーム描画データの作成方法。
所定の任意角図形パターンを分割した複数の分割図形パターンデータと所定の規定角図形パターンを示す規定角図形パターンデータとを第１のグループとして、前記所定の任意角図形パターンを示す任意角図形パターンデータを第２のグループとして識別可能に定義された描画データを入力する入力工程と、
描画する図形パターンが前記所定の任意角図形パターンと前記所定の規定角図形パターンとの組み合わせにより構成される場合に、入力された前記描画データに含まれる前記複数の分割図形パターンデータと前記規定角図形パターンデータと前記任意角図形パターンデータとのうち、前記第１のグループとなる複数の分割図形パターンデータと前記規定角図形パターンデータとを描画装置内で用いるための装置内フォーマットのデータに変換する装置内フォーマット変換工程と、
を備えたことを特徴とする荷電粒子ビーム描画データの変換方法。
所定の任意角図形パターンを分割した複数の分割図形パターンデータと所定の規定角図形パターンを示す規定角図形パターンデータと前記所定の任意角図形パターンを示す任意角図形パターンデータとがそれぞれ識別可能に定義された描画データを入力する入力工程と、
描画する図形パターンが前記所定の任意角図形パターンと前記所定の規定角図形パターンとの組み合わせにより構成される場合に、入力された前記描画データに含まれる前記複数の分割図形パターンデータと前記規定角図形パターンデータと前記任意角図形パターンデータとのうち、前記複数の分割図形パターンデータと前記規定角図形パターンデータとを描画装置内で用いるための装置内フォーマットのデータに変換する装置内フォーマット変換工程と、
を備えたことを特徴とする荷電粒子ビーム描画データの変換方法。