JP2010072593A - レイアウト表示装置及びレイアウト表示方法 - Google Patents
レイアウト表示装置及びレイアウト表示方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010072593A JP2010072593A JP2008243189A JP2008243189A JP2010072593A JP 2010072593 A JP2010072593 A JP 2010072593A JP 2008243189 A JP2008243189 A JP 2008243189A JP 2008243189 A JP2008243189 A JP 2008243189A JP 2010072593 A JP2010072593 A JP 2010072593A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hierarchy
- data
- reference value
- layout
- elements
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 35
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 21
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 13
- 238000013461 design Methods 0.000 claims description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 4
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 25
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 11
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
【解決手段】指定領域のセルを検索する(S12)。セルのX方向及びY方向のサイズが閾値1以下である場合、セル内の図形データの読み込みを行わず、セルに対応するピクセルを塗りつぶす(S15)。セルのX方向及びY方向のサイズが閾値1よりも大きくかつ閾値3以下である場合、セルのデータ量を取得し(S16)、セル領域に対応するピクセルマップの1ピクセル当たりの平均図形数を算出する(S17)。平均図形数が閾値2以上である場合、セルに対応するピクセルを塗りつぶす(S15)。平均図形数が閾値2よりも小さい場合、セル内にある図形データを全て読み込み(S19)、図形に対応するピクセルを塗りつぶす(S20)。
【選択図】図3
Description
302 処理部
304 入力部
306 表示部
Claims (5)
- マスク作製時の設計データから生成され階層構造を有する描画データもしくは検査データに定義された要素のレイアウトをピクセルマップ上に表示するレイアウト表示方法において、
第1階層で指定された領域内に定義された第2階層の要素を検索するステップと、
検索された第2階層の要素のX方向及びY方向の長さが第1基準値よりも大きい場合、前記第2階層の要素内に定義された第3階層の要素を読み込み、読み込まれた第3階層の要素に対応するピクセルを算出し、算出されたピクセルを表示処理するステップと、
検索された第2階層の要素のX方向及びY方向の長さが第1基準値以下である場合、前記第2階層の要素に対応するピクセルを表示処理するステップとを含むことを特徴とするレイアウト表示方法。 - 検索された第2階層の要素内に定義された第3階層の1ピクセル当たりの平均要素数を算出するステップと、
算出された平均要素数が第2基準値以上である場合、前記第2階層の要素に対応するピクセルを表示処理するステップとを更に含むことを特徴とする請求項1記載のレイアウト表示方法。 - 前記第2階層の要素のX方向及びY方向の長さが前記第1基準値よりも大きく第3基準値以下であり、かつ、前記平均要素数が前記第2基準値以上である場合、前記第2階層の要素に対応するピクセルを表示処理することを特徴とする請求項2記載のレイアウト表示方法。
- マスク作製時の設計データから生成され階層構造を有する描画データもしくは検査データに定義された要素のレイアウトをピクセルマップ上に表示するレイアウト表示装置において、
第1階層で指定された領域内に定義された第2階層の要素を検索する検索手段と、
前記検索手段により検索された第2階層の要素のX方向及びY方向の長さが第1基準値以下であるか否かを判別する判別手段と、
前記判別手段により前記第2階層の要素のX方向及びY方向の長さが第1基準値以下であると判別された場合に、前記第2階層の要素に対応するピクセルを表示処理する第1表示処理手段と、
前記判別手段により前記第2階層の要素のX方向及びY方向の長さが第1基準値よりも大きいと判別された場合に、前記第2階層の要素内に定義された第3階層の要素を読み込む読込手段と、
前記読込手段により読み込まれた第3階層の要素に対応するピクセルを算出し、算出したピクセルを表示処理する第2表示処理手段とを備えたことを特徴とするレイアウト表示装置。 - 前記第3階層の1ピクセル当たりの平均要素数を算出する平均要素数算出手段を更に備え、
前記判別手段により前記第2階層の要素のX方向及びY方向の長さが前記第1基準値よりも大きく第3基準値以下であると判別され、かつ、前記平均要素数算出手段により算出された平均要素数が第2基準値以上である場合、前記第1表示処理手段により前記第2階層の要素に対応するピクセルを表示処理することを特徴とする請求項4記載のレイアウト表示装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008243189A JP5204599B2 (ja) | 2008-09-22 | 2008-09-22 | レイアウト表示装置及びレイアウト表示方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008243189A JP5204599B2 (ja) | 2008-09-22 | 2008-09-22 | レイアウト表示装置及びレイアウト表示方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010072593A true JP2010072593A (ja) | 2010-04-02 |
JP5204599B2 JP5204599B2 (ja) | 2013-06-05 |
Family
ID=42204383
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008243189A Active JP5204599B2 (ja) | 2008-09-22 | 2008-09-22 | レイアウト表示装置及びレイアウト表示方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5204599B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010219371A (ja) * | 2009-03-18 | 2010-09-30 | Nuflare Technology Inc | 荷電粒子ビーム描画装置およびパターン検査装置並びにレイアウト表示方法 |
JP2012253211A (ja) * | 2011-06-03 | 2012-12-20 | Nuflare Technology Inc | マスク製造用装置 |
JP2013110237A (ja) * | 2011-11-21 | 2013-06-06 | Nuflare Technology Inc | 荷電粒子ビーム描画装置、パターン検査装置及びレイアウト表示方法 |
JP2013211320A (ja) * | 2012-03-30 | 2013-10-10 | Nuflare Technology Inc | 荷電粒子ビーム描画装置、パターン検査装置及びレイアウト表示方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01239862A (ja) * | 1988-03-22 | 1989-09-25 | Fujitsu Ltd | マスクパターンデータの検証方法 |
JPH06163697A (ja) * | 1992-11-26 | 1994-06-10 | Nec Corp | 集積回路のレイアウト設計データの画面表示方式 |
JP2003132113A (ja) * | 2001-10-19 | 2003-05-09 | Dainippon Printing Co Ltd | フォトマスクデータ表示装置用の面積計算装置及びフォトマスクデータの表示装置 |
JP2007324229A (ja) * | 2006-05-30 | 2007-12-13 | Nuflare Technology Inc | 荷電ビーム描画装置の描画回路自己診断方法および荷電ビーム描画装置 |
JP2008244196A (ja) * | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Nuflare Technology Inc | 描画データ作成方法及び描画データファイルを格納した記憶媒体 |
-
2008
- 2008-09-22 JP JP2008243189A patent/JP5204599B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01239862A (ja) * | 1988-03-22 | 1989-09-25 | Fujitsu Ltd | マスクパターンデータの検証方法 |
JPH06163697A (ja) * | 1992-11-26 | 1994-06-10 | Nec Corp | 集積回路のレイアウト設計データの画面表示方式 |
JP2003132113A (ja) * | 2001-10-19 | 2003-05-09 | Dainippon Printing Co Ltd | フォトマスクデータ表示装置用の面積計算装置及びフォトマスクデータの表示装置 |
JP2007324229A (ja) * | 2006-05-30 | 2007-12-13 | Nuflare Technology Inc | 荷電ビーム描画装置の描画回路自己診断方法および荷電ビーム描画装置 |
JP2008244196A (ja) * | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Nuflare Technology Inc | 描画データ作成方法及び描画データファイルを格納した記憶媒体 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010219371A (ja) * | 2009-03-18 | 2010-09-30 | Nuflare Technology Inc | 荷電粒子ビーム描画装置およびパターン検査装置並びにレイアウト表示方法 |
JP2012253211A (ja) * | 2011-06-03 | 2012-12-20 | Nuflare Technology Inc | マスク製造用装置 |
JP2013110237A (ja) * | 2011-11-21 | 2013-06-06 | Nuflare Technology Inc | 荷電粒子ビーム描画装置、パターン検査装置及びレイアウト表示方法 |
JP2013211320A (ja) * | 2012-03-30 | 2013-10-10 | Nuflare Technology Inc | 荷電粒子ビーム描画装置、パターン検査装置及びレイアウト表示方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5204599B2 (ja) | 2013-06-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4976071B2 (ja) | 荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 | |
JP4745089B2 (ja) | 荷電粒子ビーム描画方法、描画データ作成方法及びプログラム | |
JP5601989B2 (ja) | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | |
KR20090025162A (ko) | 하전 입자 빔 묘화 장치 및 하전 입자 빔 묘화 방법 | |
JP2012084659A (ja) | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | |
WO2011080873A1 (ja) | パターン計測条件設定装置 | |
KR101782337B1 (ko) | 하전 입자빔 묘화 장치 및 하전 입자빔 묘화 방법 | |
US9583310B2 (en) | Charged particle beam writing apparatus, charged particle beam writing method, and shot correction method of charged particle beam writing method | |
JPH0963930A (ja) | 荷電ビーム描画方法 | |
KR102355187B1 (ko) | 묘화 데이터 작성 방법 및 하전 입자빔 묘화 장치 | |
JP2010073918A (ja) | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 | |
JP2011076296A (ja) | 合成画像形成方法及び画像形成装置 | |
JP5204599B2 (ja) | レイアウト表示装置及びレイアウト表示方法 | |
JP5731257B2 (ja) | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | |
JP2006237396A (ja) | 露光データ生成装置および方法 | |
TWI603366B (zh) | Multiple charged particle beam tracing device and multiple charged particle beam tracing method | |
CN110517954B (zh) | 电子束照射方法、电子束照射装置及记录有程序的计算机可读的非易失性存储介质 | |
JP4828460B2 (ja) | 描画データ作成方法及び描画データファイルを格納した記憶媒体 | |
JP2009088213A (ja) | 描画装置及び描画時間の取得方法 | |
JP2007298626A (ja) | 濃度分布マスクの製造方法 | |
JP5864334B2 (ja) | 荷電粒子ビーム描画装置、パターン検査装置及びレイアウト表示方法 | |
JP2010267725A (ja) | 荷電粒子ビーム描画方法 | |
JP6171062B2 (ja) | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | |
JP6396200B2 (ja) | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | |
JP2007298625A (ja) | 濃度分布マスクの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110826 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20121017 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121023 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121217 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130205 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130215 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5204599 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160222 Year of fee payment: 3 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |