JPH01239862A - マスクパターンデータの検証方法 - Google Patents
マスクパターンデータの検証方法Info
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- JPH01239862A JPH01239862A JP63065748A JP6574888A JPH01239862A JP H01239862 A JPH01239862 A JP H01239862A JP 63065748 A JP63065748 A JP 63065748A JP 6574888 A JP6574888 A JP 6574888A JP H01239862 A JPH01239862 A JP H01239862A
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- 238000012795 verification Methods 0.000 title claims abstract description 14
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims abstract description 40
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 25
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 6
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 10
- 238000013524 data verification Methods 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 238000011161 development Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- LFVLUOAHQIVABZ-UHFFFAOYSA-N Iodofenphos Chemical compound COP(=S)(OC)OC1=CC(Cl)=C(I)C=C1Cl LFVLUOAHQIVABZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
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- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
半導体集積回路のマスクパターン作成用のマスクパター
ンデータを検証するマスクパターンデータの検証方法に
関し、 検証のターンアラウンドが速く、記憶容量の不足を防止
することを目的とし、 同一のフィギャアが繰り返すマトリクスフィギャアを含
む１ｉｉｉｉ層構造のマスクパターンデータを展開し、
得られた展開マスクパターンデータによりマスクパター
ンを表示、作図して検証を行なうマスクパターンデータ
の検証方法において、該階層構造のマスクパターンデー
タ内のマトリクスフィギャアの周縁部のみのフィギャア
を展開し、中央部のフィギャアを除去したマトリクスフ
ィギャアを持つマスクパターンを表示、作図して検１を
行なうよう構成する。
ンデータを検証するマスクパターンデータの検証方法に
関し、 検証のターンアラウンドが速く、記憶容量の不足を防止
することを目的とし、 同一のフィギャアが繰り返すマトリクスフィギャアを含
む１ｉｉｉｉ層構造のマスクパターンデータを展開し、
得られた展開マスクパターンデータによりマスクパター
ンを表示、作図して検証を行なうマスクパターンデータ
の検証方法において、該階層構造のマスクパターンデー
タ内のマトリクスフィギャアの周縁部のみのフィギャア
を展開し、中央部のフィギャアを除去したマトリクスフ
ィギャアを持つマスクパターンを表示、作図して検１を
行なうよう構成する。
本発明はマスクパターンデータの検証方法に関し、半導
体集積回路のマスクパターン作成用のマスクパターンデ
ータを検証するマスクパターンデータの検証方法に関す
る。
体集積回路のマスクパターン作成用のマスクパターンデ
ータを検証するマスクパターンデータの検証方法に関す
る。
半導体集積回路のマスクパターン作成用のマスクパター
ンデータを作成する際、特にメモリ部等においては、同
一のパターン群（フィギャア）を規則的に繰り返し配置
することが多い。ここで、パターン群とは複数のパター
ンから構成されるフィギャアである。
ンデータを作成する際、特にメモリ部等においては、同
一のパターン群（フィギャア）を規則的に繰り返し配置
することが多い。ここで、パターン群とは複数のパター
ンから構成されるフィギャアである。
上記のフィギャアを縦方向ｎ行、横方向ｍ列の格子状に
配置するマトリクスフィギャアのパターンデータをマト
リクスデータと呼び、マトリクスデータはパターンを配
置するとき多用されるデータ形式である。
配置するマトリクスフィギャアのパターンデータをマト
リクスデータと呼び、マトリクスデータはパターンを配
置するとき多用されるデータ形式である。
このようにして作成されたマスクパターンデータはマト
リクスデータの階層の下にパターン群のデータの階層が
あるという階層構造を持っている。
リクスデータの階層の下にパターン群のデータの階層が
あるという階層構造を持っている。
上記の階層構造のマスクパターンデータでは各パターン
の配置及び重なりを確認することが困ツ１であり、これ
を検証する必要がある。
の配置及び重なりを確認することが困ツ１であり、これ
を検証する必要がある。
（従来の技術）
従来、階層構造のマスクパターンデータを検証する場合
、マトリクスデータの各格子についても全てパターン群
に展開し、この後、展開マスクパターンデータについて
、グラフィック表示処理又は、プロット作図処理を行な
い、得られた表示又は図面により、各パターンの配置、
重なり等をチエツクしている。
、マトリクスデータの各格子についても全てパターン群
に展開し、この後、展開マスクパターンデータについて
、グラフィック表示処理又は、プロット作図処理を行な
い、得られた表示又は図面により、各パターンの配置、
重なり等をチエツクしている。
しかし、半導体集積回路の高密度化及び大規模化に伴な
い、マスクパターンデータのデータ量が大幅に増大して
いる。
い、マスクパターンデータのデータ量が大幅に増大して
いる。
このため、マスクパターンデータを全展開するに要する
時間はもとより、グラフィック表示処理又はプロット作
図処理に要する時間が長大となり、検証のターンアラウ
ンドが遅いという問題があった。また、展開マスクパタ
ーンデータのデータ量が膨大になるため、記憶容量が不
足する等の問題があった。
時間はもとより、グラフィック表示処理又はプロット作
図処理に要する時間が長大となり、検証のターンアラウ
ンドが遅いという問題があった。また、展開マスクパタ
ーンデータのデータ量が膨大になるため、記憶容量が不
足する等の問題があった。
本発明は上記の点に鑑みなされたもので、検証のターン
アラウンドが速く、記憶容量の不足を防止するマスクパ
ターンデータの検証方法を提供することを目的とする。
アラウンドが速く、記憶容量の不足を防止するマスクパ
ターンデータの検証方法を提供することを目的とする。
本発明のマス・クパターンデータの検証方法は、同一の
フィギャアが繰り返すマトリクスフィギャアを含む階層
構造のマスクパターンデータを展開し、得られた展開マ
スクパターンデータによりマスクパターンを表示、作図
して検証を行なうマスクパターンデータの検証方法にお
いて、該階層構造のマスクパターンデータ内のマトリク
スフィギャアの周縁部のみのフィギャアを展開しく３０
〜５０）、 中央部のフィギャアを除去したマトリクスフィギ１７ア
を持つマスクパターンを表示、作図して検証を行なう。
フィギャアが繰り返すマトリクスフィギャアを含む階層
構造のマスクパターンデータを展開し、得られた展開マ
スクパターンデータによりマスクパターンを表示、作図
して検証を行なうマスクパターンデータの検証方法にお
いて、該階層構造のマスクパターンデータ内のマトリク
スフィギャアの周縁部のみのフィギャアを展開しく３０
〜５０）、 中央部のフィギャアを除去したマトリクスフィギ１７ア
を持つマスクパターンを表示、作図して検証を行なう。
本発明においては、マトリクスフィギャアの周縁部のフ
ィギャアのみが展開され、中央部のフィギャアは展開さ
れない。
ィギャアのみが展開され、中央部のフィギャアは展開さ
れない。
このため、展開マスクパターンデータのデータ数が大幅
に減少し、これを記憶する記憶装置の容量の不足が生じ
ることを防止でき、また、階層展開処理、グラフィック
表示処理、プロット作図処理夫々の処理時間が短かくな
って検証のターンアラウンドが速くなる。
に減少し、これを記憶する記憶装置の容量の不足が生じ
ることを防止でき、また、階層展開処理、グラフィック
表示処理、プロット作図処理夫々の処理時間が短かくな
って検証のターンアラウンドが速くなる。
まず、本発明のマスクパターンデータの検πＦ方法の概
要を説明するに、第２図は本発明り法を実現するための
システムの構成図、第３図は検証処理の一実施例のフロ
ーヂャートを示す。
要を説明するに、第２図は本発明り法を実現するための
システムの構成図、第３図は検証処理の一実施例のフロ
ーヂャートを示す。
第２図において、１０はＣＰＵであり、１１〜１３夫々
は記憶装置である。記憶装置１１には第１図及び第２図
に示す処理を実行するプログラムが格納されており、Ｃ
ＰＵ１０によってステップ毎に読出され実行される。記
憶装置１２には階層構造のマスクパターンデータが記憶
され、記憶装置１３には本発明方法で得られた展開マス
クパターンデータが記憶される。
は記憶装置である。記憶装置１１には第１図及び第２図
に示す処理を実行するプログラムが格納されており、Ｃ
ＰＵ１０によってステップ毎に読出され実行される。記
憶装置１２には階層構造のマスクパターンデータが記憶
され、記憶装置１３には本発明方法で得られた展開マス
クパターンデータが記憶される。
ＣＰＵ１０のグラフィック表示処理又はプロット作図処
理で得られた表示用データ又は作図用データ夫々はＣＰ
Ｕ１０からＣＲＴｌ ５．プロッタ１６夫々に供給され
、ここでマスクパターンのグラフィック表示、プロット
作図が行なわれる。
理で得られた表示用データ又は作図用データ夫々はＣＰ
Ｕ１０からＣＲＴｌ ５．プロッタ１６夫々に供給され
、ここでマスクパターンのグラフィック表示、プロット
作図が行なわれる。
なお、記憶装置１１〜１３は単一又は複数の磁気ディス
ク装置を用いて構成される。
ク装置を用いて構成される。
第３図において、ＣＰＵｌ０はステップ２０において、
初期設定を行なった後記憶装置１２に記憶されている階
層構造のマスクパターンデータを読出し、階層展開処理
（ステップ２１）を行ない、ここで得られる展開マスク
パターンデータを記憶装置１３に書込む。
初期設定を行なった後記憶装置１２に記憶されている階
層構造のマスクパターンデータを読出し、階層展開処理
（ステップ２１）を行ない、ここで得られる展開マスク
パターンデータを記憶装置１３に書込む。
この後、ステップ２ｏでグラフィック表示出力の指定か
プロット作図出力の指定かを判別しくステップ２２）、
この判別に基づいて記憶装置１３から展開マスクパター
ンデータを読出し、グラフィック表示処理（ステップ２
３）を行なってＣＲＴｌ５に表示を行なうか、又はプロ
ット作図処理（ステップ２４）を行なってプロッタ１６
で作図を行なう。
プロット作図出力の指定かを判別しくステップ２２）、
この判別に基づいて記憶装置１３から展開マスクパター
ンデータを読出し、グラフィック表示処理（ステップ２
３）を行なってＣＲＴｌ５に表示を行なうか、又はプロ
ット作図処理（ステップ２４）を行なってプロッタ１６
で作図を行なう。
ここで、第４図（Ａ）に示す如く、縦方向（Ｙ方向）ｎ
行で横方向（Ｘ方向）ｍ列の同一のフィギャアＦｏ〜Ｆ
ＴＩＴ＋１によりマトリクスフィギャアＭＦが構成され
ている場合、マトリクスデータは例えば、フィギャアＦ
ｎの種類、マスクパターン内でのマトリクス原点ＭＯの
位置、Ｘ、Ｙ方向夫々の繰り返し数ｎ、ｍ、Ｘ、Ｙ方向
夫々のピ方向上りなる。またフィギャアＦ＋＋〜Ｆｎｍ
を表わすフィギャアＦのデータは例えばフィギャアＦを
構成するパターン群の各パターンについてフィギャアＦ
内での頂点位置（各パターンが多角形のとき）のＸ、Ｙ
座標よりなる。
行で横方向（Ｘ方向）ｍ列の同一のフィギャアＦｏ〜Ｆ
ＴＩＴ＋１によりマトリクスフィギャアＭＦが構成され
ている場合、マトリクスデータは例えば、フィギャアＦ
ｎの種類、マスクパターン内でのマトリクス原点ＭＯの
位置、Ｘ、Ｙ方向夫々の繰り返し数ｎ、ｍ、Ｘ、Ｙ方向
夫々のピ方向上りなる。またフィギャアＦ＋＋〜Ｆｎｍ
を表わすフィギャアＦのデータは例えばフィギャアＦを
構成するパターン群の各パターンについてフィギャアＦ
内での頂点位置（各パターンが多角形のとき）のＸ、Ｙ
座標よりなる。
第１図は本発明方法の要部のフローチャートを示す。こ
の第１図の処理は第３図における階層展開処理中のマト
リクスデータ展開部で実行される。
の第１図の処理は第３図における階層展開処理中のマト
リクスデータ展開部で実行される。
第１図において、ステップ２８で変数Ａに「１」をセッ
トし、変数ｘ×にフィギャアＦＡＡ（添字に変数Δの値
を入れる）のＸ方向の値（Ｘ値）をセットする（ステッ
プ２９）。次にマトリクスフィギャアＭＦの下からＡ番
目の行のフィギャアのＹ値を変数ＹＹにセット（ステッ
プ３１）、変数ＸＸ、ＹＹの指示する位置にフィギャア
Ｆを配置する（ステップ３２）。これは位置情報として
（ＸＸ、ＹＹ）を付加したフィギャアＦの発生である。
トし、変数ｘ×にフィギャアＦＡＡ（添字に変数Δの値
を入れる）のＸ方向の値（Ｘ値）をセットする（ステッ
プ２９）。次にマトリクスフィギャアＭＦの下からＡ番
目の行のフィギャアのＹ値を変数ＹＹにセット（ステッ
プ３１）、変数ＸＸ、ＹＹの指示する位置にフィギャア
Ｆを配置する（ステップ３２）。これは位置情報として
（ＸＸ、ＹＹ）を付加したフィギャアＦの発生である。
この後変数Ｘ×にマトリクスデータ中のＸ方向ビッヂを
加算しくステップ３３）、ループ回数（ステップ３２．
３３の繰り返し回数）をマトリクスデータのＸ方向繰り
返し数ｍと変数Ａの値から得られる値ｍ−２（Ａ−１’
）と比較して（ステップ３４）、両名が一致するまでス
テップ３２゜３３を繰り返す。一致した場合にはステッ
プ３５に進み、変数Ｘ×にフィギャアＦＡＡのＸ ＩＵ
をセットし、マトリクスフィギャアＭＦの上からＡ番目
の行のフィギャアのＹ値を変数ＹＹにセットする（ステ
ップ３５）。次に変数ＸＸ、ＹＹの指示する位置にフィ
ギャアＦを配置しくステップ３６）、変数ＸＸにマトリ
クスデータ中のＸ方向ビッヂを加算して（ステップ３７
）、ループ回数（ステップ３６．３７の繰り返し回数）
を値ｍ−２（Ａ−１）と比較して（ステップ３８）、両
者が一致するまでステップ３６．３７を繰り返す。
加算しくステップ３３）、ループ回数（ステップ３２．
３３の繰り返し回数）をマトリクスデータのＸ方向繰り
返し数ｍと変数Ａの値から得られる値ｍ−２（Ａ−１’
）と比較して（ステップ３４）、両名が一致するまでス
テップ３２゜３３を繰り返す。一致した場合にはステッ
プ３５に進み、変数Ｘ×にフィギャアＦＡＡのＸ ＩＵ
をセットし、マトリクスフィギャアＭＦの上からＡ番目
の行のフィギャアのＹ値を変数ＹＹにセットする（ステ
ップ３５）。次に変数ＸＸ、ＹＹの指示する位置にフィ
ギャアＦを配置しくステップ３６）、変数ＸＸにマトリ
クスデータ中のＸ方向ビッヂを加算して（ステップ３７
）、ループ回数（ステップ３６．３７の繰り返し回数）
を値ｍ−２（Ａ−１）と比較して（ステップ３８）、両
者が一致するまでステップ３６．３７を繰り返す。
これによって第４図（Ｂ）に示すマトリクスフィギャア
ＭＦの最下行乏１及び最上ｎ２２のフィギャアＦη１〜
ＦＴＩＴＩ＋及びＦｎ〜Ｆ＋ｍが展開される。
ＭＦの最下行乏１及び最上ｎ２２のフィギャアＦη１〜
ＦＴＩＴＩ＋及びＦｎ〜Ｆ＋ｍが展開される。
ステップ３９では変数Ａをステップ２０において設定さ
れた周回指定数と比較し、不一致ならば変数Ａを「１」
だけインクリメントしくステップ３０）、この後ステッ
プ２９に進み、ステップ２９．３１〜３８を繰り返す。
れた周回指定数と比較し、不一致ならば変数Ａを「１」
だけインクリメントしくステップ３０）、この後ステッ
プ２９に進み、ステップ２９．３１〜３８を繰り返す。
一致ならばステップ４０で変数Ａに［１Ｊをセットし、
変数ＹＹにフィギャアＦＡＡのＹ値をセットする（ステ
ップ４１）。次にマトリクスフィギャアＭＦの左からＡ
番目の列のフィギャアのＸｌ１ｌＩな変数Ｘ×にセット
（ステップ４２）、変数ＸＸ、ＹＹの指示する位置にフ
ィギｐ７Ｆを配置する（ステップ４３）。
変数ＹＹにフィギャアＦＡＡのＹ値をセットする（ステ
ップ４１）。次にマトリクスフィギャアＭＦの左からＡ
番目の列のフィギャアのＸｌ１ｌＩな変数Ｘ×にセット
（ステップ４２）、変数ＸＸ、ＹＹの指示する位置にフ
ィギｐ７Ｆを配置する（ステップ４３）。
この後変数ＹＹにマトリクスデータ中のＹ方向ピッチを
加算しくステップ４４）、ループ回数（ステップ４３．
４４の繰り返し回数）をマトリクスデータのＹ方向線り
返し数ｎから２Ａを減じた値と比較して（ステップ４５
）、両者が一致するまでステップ４３．４４を繰り返す
。一致した場合にはステップ４６に進み、変数ＹＹにフ
ィギャアＦＡＡのＹ（ｌｌｉをセ・ントし、マトリクス
フィギャアＭＦの右からＡ番目の列のフィギャアのＸ値
を変数ＸＸにセットする（ステップ４６）。次に変数Ｘ
Ｘ、ＹＹの指示する位置にフィギャアＦを配置しくステ
ップ４７）、変数ＹＹに７トリクスデータ中のＹ方向ピ
ッチを加算して（ステップ４８）、ループ回数をｎ−２
Ａと比較して（ステップ４９）、両名が一致するまでス
テップ４７゜４８を繰り返す。
加算しくステップ４４）、ループ回数（ステップ４３．
４４の繰り返し回数）をマトリクスデータのＹ方向線り
返し数ｎから２Ａを減じた値と比較して（ステップ４５
）、両者が一致するまでステップ４３．４４を繰り返す
。一致した場合にはステップ４６に進み、変数ＹＹにフ
ィギャアＦＡＡのＹ（ｌｌｉをセ・ントし、マトリクス
フィギャアＭＦの右からＡ番目の列のフィギャアのＸ値
を変数ＸＸにセットする（ステップ４６）。次に変数Ｘ
Ｘ、ＹＹの指示する位置にフィギャアＦを配置しくステ
ップ４７）、変数ＹＹに７トリクスデータ中のＹ方向ピ
ッチを加算して（ステップ４８）、ループ回数をｎ−２
Ａと比較して（ステップ４９）、両名が一致するまでス
テップ４７゜４８を繰り返す。
これによって第４図（Ｂ）に示すマトリクスフィギャア
Ｍ Ｆの最左列２３及び最右側乏４のフィギャアＦ２１
〜Ｆη−目及びＦｚｍ〜Ｆ ｎ、＋ ｍが展開される。
Ｍ Ｆの最左列２３及び最右側乏４のフィギャアＦ２１
〜Ｆη−目及びＦｚｍ〜Ｆ ｎ、＋ ｍが展開される。
ステップ５０では八をステップ２０において設定された
周回指定数と比較し、不一致ならば変数ＡをｒｌＪだけ
インクリメントしくステップ５１）、この模ステップ４
１に進み、ステップ４１〜４９を繰り返し、また一致な
らば処理を終了する。
周回指定数と比較し、不一致ならば変数ＡをｒｌＪだけ
インクリメントしくステップ５１）、この模ステップ４
１に進み、ステップ４１〜４９を繰り返し、また一致な
らば処理を終了する。
第４図（Ｂ）は周回指定数を「１」と指定した場合に展
開されるマトリクスフィギャアＭＦを表わしており、周
回指定数を「２」とした場合には第４図（Ｂ）の内側に
隣接して１個分のフィギャアが追加展開される。
開されるマトリクスフィギャアＭＦを表わしており、周
回指定数を「２」とした場合には第４図（Ｂ）の内側に
隣接して１個分のフィギャアが追加展開される。
このようにマトリクスフィギャアＭＦの最外周のフィギ
ャアを展開していれば、マトリクスフィギャアＭＦとこ
れに隣接する他のフィギャアとの配置関係及び重なりを
検証できる。
ャアを展開していれば、マトリクスフィギャアＭＦとこ
れに隣接する他のフィギャアとの配置関係及び重なりを
検証できる。
例えばフィギャアＢ内にフィギャアＡが６４×６５個マ
トリクス配置され、このフイギャ７ＢがフィギャアＣ内
に１１２ＷＡ配置されたマスクパターンデータにおいて
は、従来の如くマトリクス全展開を行なうと展開された
マスクパターンデータ内のフィギャア△のデータは４６
５９２０個となる。これに対して本発明方式で周回指定
数を「１」とした揚台、展開されたマスクパターンデー
タ内のフイギセアＡのデータは２８４４８個となり、９
３．９ｘのデータω削減がなされる。
トリクス配置され、このフイギャ７ＢがフィギャアＣ内
に１１２ＷＡ配置されたマスクパターンデータにおいて
は、従来の如くマトリクス全展開を行なうと展開された
マスクパターンデータ内のフィギャア△のデータは４６
５９２０個となる。これに対して本発明方式で周回指定
数を「１」とした揚台、展開されたマスクパターンデー
タ内のフイギセアＡのデータは２８４４８個となり、９
３．９ｘのデータω削減がなされる。
これによって、記憶装置１３の容量が不足することを防
止でき、また従来１日がかりで行なっていた検証処理を
１８か１５分程度で終了でき、検証のターンアラウンド
が速くなる。
止でき、また従来１日がかりで行なっていた検証処理を
１８か１５分程度で終了でき、検証のターンアラウンド
が速くなる。
上述の如く、本発明のマスクパターンデータの検証方法
によれば、検証のターンアラウンドを速くでき、記憶容
量の不足を防止でき、実用上きわめて有用である。
によれば、検証のターンアラウンドを速くでき、記憶容
量の不足を防止でき、実用上きわめて有用である。
第１図は本発明方法の要部の一実施例のフローチャート
、 第２図は本発明方法を実現するためのシステムの構成図
、 第３図は検証処理の一実施例のフローチャート、第４図
は本発明方法のマトリクスフィギャアの展開を説明する
ための図である。 図において、 １０はｃｐｕ。 １１〜１３は記憶装置、 １５はＣＲＴ。 １６はプロッタ、 ２０〜５０はステップ を示す。 特許出願人 富 士 通 株式会社 代 理 人 弁理士 伊 東 忠 彦杢
さＢル９壺め平却ｎ７０−千ヤーＹ シ へ
、 第２図は本発明方法を実現するためのシステムの構成図
、 第３図は検証処理の一実施例のフローチャート、第４図
は本発明方法のマトリクスフィギャアの展開を説明する
ための図である。 図において、 １０はｃｐｕ。 １１〜１３は記憶装置、 １５はＣＲＴ。 １６はプロッタ、 ２０〜５０はステップ を示す。 特許出願人 富 士 通 株式会社 代 理 人 弁理士 伊 東 忠 彦杢
さＢル９壺め平却ｎ７０−千ヤーＹ シ へ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 同一のフィギャアが繰り返すマトリクスフィギャアを
含む階層構造のマスクパターンデータを展開し、得られ
た展開マスクパターンデータによりマスクパターンを表
示、作図して検証を行なうマスクパターンデータの検証
方法において、 該階層構造のマスクパターンデータ内のマトリクスフィ
ギャアの周縁部のみのフィギャアを展開し（３０〜５０
）、 中央部のフィギャアを除去したマトリクスフイギヤアを
持つマスクパターンを表示、作図して検証を行なうこと
を特徴とするマスクパターンデータの検証方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6574888A JPH0770576B2 (ja) | 1988-03-22 | 1988-03-22 | マスクパターンデータの検証方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6574888A JPH0770576B2 (ja) | 1988-03-22 | 1988-03-22 | マスクパターンデータの検証方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01239862A true JPH01239862A (ja) | 1989-09-25 |
| JPH0770576B2 JPH0770576B2 (ja) | 1995-07-31 |
Family
ID=13295948
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6574888A Expired - Fee Related JPH0770576B2 (ja) | 1988-03-22 | 1988-03-22 | マスクパターンデータの検証方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0770576B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010072593A (ja) * | 2008-09-22 | 2010-04-02 | Nuflare Technology Inc | レイアウト表示装置及びレイアウト表示方法 |
-
1988
- 1988-03-22 JP JP6574888A patent/JPH0770576B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010072593A (ja) * | 2008-09-22 | 2010-04-02 | Nuflare Technology Inc | レイアウト表示装置及びレイアウト表示方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0770576B2 (ja) | 1995-07-31 |
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