JP5204599B2 - レイアウト表示装置及びレイアウト表示方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 30
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 24
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 12
- 238000013461 design Methods 0.000 claims description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 4
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 25
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 11
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Description
302 処理部
304 入力部
306 表示部
Claims (5)
- マスク作製時の設計データから生成され階層構造を有する描画データもしくは検査データに定義された要素のレイアウトをピクセルマップ上に表示するために、前記階層構造の第1階層で指定された領域内に定義された第2階層の要素を検索するステップと、
検索された第2階層の要素のサイズが閾値1よりも大きい場合、前記第2階層の要素内に定義された第3階層の要素を読み込み、読み込まれた第3階層の要素に対応するピクセルを算出し、算出されたピクセルを表示処理するステップと、
検索された第2階層の要素のサイズが閾値1以下である場合、前記第2階層の要素に対応するピクセルを表示処理するステップとを含むことを特徴とするレイアウト表示方法。 - 前記検索された第2階層の要素のサイズが閾値1よりも大きい場合、
検索された第2階層の要素内に定義された第3階層の1ピクセル当たりの平均要素数を算出するステップと、
算出された平均要素数が閾値2以上である場合、前記第2階層の要素に対応するピクセルを表示処理するステップとを更に含むことを特徴とする請求項1記載のレイアウト表示方法。 - 前記第2階層の要素のサイズが前記閾値1よりも大きく閾値3以下であり、かつ、前記平均要素数が前記閾値2以上である場合、前記第2階層の要素に対応するピクセルを表示処理することを特徴とする請求項2記載のレイアウト表示方法。
- マスク作製時の設計データから生成され階層構造を有する描画データもしくは検査データに定義された要素のレイアウトをピクセルマップ上に表示するために、前記階層構造の第1階層で指定された領域内に定義された第2階層の要素を検索する検索手段と、
前記検索手段により検索された第2階層の要素のサイズが閾値1以下であるか否かを判別する判別手段と、
前記判別手段により前記第2階層の要素のサイズが閾値1以下であると判別された場合に、前記第2階層の要素に対応するピクセルを表示処理する第1表示処理手段と、
前記判別手段により前記第2階層の要素のサイズが閾値1よりも大きいと判別された場合に、前記第2階層の要素内に定義された第3階層の要素を読み込む読込手段と、
前記読込手段により読み込まれた第3階層の要素に対応するピクセルを算出し、算出したピクセルを表示処理する第2表示処理手段とを備えたことを特徴とするレイアウト表示装置。 - 前記判別手段により前記第2階層の要素のサイズが閾値1よりも大きいと判別された場合に、
前記第3階層の1ピクセル当たりの平均要素数を算出する平均要素数算出手段を更に備え、
前記判別手段により前記第2階層の要素のサイズが前記閾値1よりも大きく閾値3以下であると判別され、かつ、前記平均要素数算出手段により算出された平均要素数が閾値2以上である場合、前記第1表示処理手段により前記第2階層の要素に対応するピクセルを表示処理することを特徴とする請求項4記載のレイアウト表示装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008243189A JP5204599B2 (ja) | 2008-09-22 | 2008-09-22 | レイアウト表示装置及びレイアウト表示方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008243189A JP5204599B2 (ja) | 2008-09-22 | 2008-09-22 | レイアウト表示装置及びレイアウト表示方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010072593A JP2010072593A (ja) | 2010-04-02 |
JP5204599B2 true JP5204599B2 (ja) | 2013-06-05 |
Family
ID=42204383
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008243189A Active JP5204599B2 (ja) | 2008-09-22 | 2008-09-22 | レイアウト表示装置及びレイアウト表示方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5204599B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5466414B2 (ja) * | 2009-03-18 | 2014-04-09 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画装置およびパターン検査装置並びにレイアウト表示方法 |
JP5813379B2 (ja) * | 2011-06-03 | 2015-11-17 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マスク製造用装置 |
JP5832867B2 (ja) * | 2011-11-21 | 2015-12-16 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画装置、パターン検査装置及びレイアウト表示方法 |
JP5864334B2 (ja) * | 2012-03-30 | 2016-02-17 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画装置、パターン検査装置及びレイアウト表示方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0770576B2 (ja) * | 1988-03-22 | 1995-07-31 | 富士通株式会社 | マスクパターンデータの検証方法 |
JPH06163697A (ja) * | 1992-11-26 | 1994-06-10 | Nec Corp | 集積回路のレイアウト設計データの画面表示方式 |
JP4090720B2 (ja) * | 2001-10-19 | 2008-05-28 | 大日本印刷株式会社 | フォトマスクデータ表示装置用の面積計算装置及びフォトマスクデータの表示装置 |
JP4881074B2 (ja) * | 2006-05-30 | 2012-02-22 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電ビーム描画装置の描画回路自己診断方法および荷電ビーム描画装置 |
JP4828460B2 (ja) * | 2007-03-28 | 2011-11-30 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 描画データ作成方法及び描画データファイルを格納した記憶媒体 |
-
2008
- 2008-09-22 JP JP2008243189A patent/JP5204599B2/ja active Active
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010072593A (ja) | 2010-04-02 |
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