JP2007298626A - 濃度分布マスクの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】1)三次元形状の等高線を表す外郭パターンデータを複数個作成する工程、2)トーンパターン(P2)用のトーンパターンデータを等高線別に対応した濃度で複数個作成する工程、3)トーンパターン(P2)のドットを縮小操作して縮小トーンパターンデータ(D2L)を複数個作成する工程、4)外郭パターンデータの各々と対応した縮小トーンパターンデータとを組み合わせ、AND演算により外郭・縮小トーンパターンデータ(D3L)を複数個作成する工程、5)外郭・縮小トーンパターンデータ(D3L)の全てをOR演算し濃度分布パターン(P4L)の濃度分布データ(D4L)を作成する工程、6)濃度分布データを用い電子ビーム描画装置にて描画する工程を具備する。
【選択図】図3
Description
ドット(D)が設けられた単位セル(C)を中心にその六角形の各辺を囲むように、次に大きい遮光膜ドット(D)を設けた残りの4個の各単位セル(C)のうちの2個の単位セル(C)が配置され、最も大きい遮光膜ドット(D)を設けた単位セル(C)を中心にその単位セル(C)の外側に沿って3段階に段階的に大きさを変化させた単位セルが同心円状に配置された構造となっている。このようにして段階的に透過濃度が変化した、すなわち階調を有するマスクの機能をもつものとなっている。
これにより、データ量が更に多い、複雑な三次元形状に対応した濃度分布マスクであっても簡便に生産できるものとなる。
1)求める三次元形状の等高線を表す外郭パターン(P1)用の外郭パターンデータ(D1)を等高線別に複数n個作成する工程と、
2)構成する複数のドットのピッチが均一で、ドットの大小によりパターンの濃度を表し、各等高線別の外郭パターン内でドットの大きさが均一なトーンパターン(P2)用のトーンパターンデータ(D2)を等高線別に対応した濃度をもたせて複数n個作成する工程と、
3)各等高線別に対応するトーンパターンデータ(D2)に基づく各トーンパターン(P2)の全ての黒ドットを各等高線別に一旦マイナス方向に任意に縮小操作(マイナス(−)リサイズ処理)して微小黒ドットによるトーンパターン(P2S)用の縮小トーンパターンデータ(D2S)を各等高線別に複数n個作成する工程と、
4)複数n個の各々外郭パターンデータ(D1)とそれに対応した各々縮小トーンパターンデータ(D2S)とをAND演算して外郭・縮小トーンパターンデータ(D3S)を各等高線別に複数n個作成する工程と、
5)黒ドットが縮小された外郭・縮小トーンパターンデータ(D3S)に基づく外郭・縮小トーンパターン(P3S)の全ての黒ドット部分を縮小操作(マイナス(−)リサイ
ズ処理)前の元のサイズに戻す(リサイズ処理する)ことにより極微小パターンの存在しないノイズパターン削除外郭・トーンパターンデータ(D3L)を各等高線別に複数n個作成する工程と、
6)複数n個のノイズパターン削除外郭・トーンパターンデータ(D3L)をOR演算して、求める三次元形状に対応したノイズパターン削除濃度分布データ(D4L)を作成する工程と、
7)ノイズパターン削除濃度分布データ(D4L)を用いて電子ビーム、レーザービーム描画装置にて感光性樹脂パターンを形成するための求める三次元形状に対応した濃度分布マスクパターンを濃度分布マスク作成用基板面のフォトレジストに描画する工程と、
を含むことを特徴とする濃度分布マスクの製造方法である。
ターンデータ(D3S)に基づく外郭・縮小トーンパターン(P3S)の全ての黒ドット部分を縮小操作前の元のサイズに戻すこと(プラス(+)リサイズ処理)により、極微小パターンの存在しないノイズパターン削除外郭・トーンパターンデータ(D3L)を各等高線別に複数n個作成し、上記ノイズパターン削除外郭・トーンパターンデータ(D3L)の全てをOR演算して、求める三次元形状に対応したノイズパターン削除濃度分布データ(D4L)を作成することができるものである。
1)図1(a)に示すように、求める三次元形状の等高線を表す外郭パターン(P1)用の外郭パターンデータ(D1)を、等高線別(又は所定間隔の同心円別)に適宜なる複数個(n個、高低はn段階)作成して、コンピュータメモリに記憶させる工程と、
2)図1(b)に示すように、構成する複数のドットのピッチが均一で、ドットの大小によりパターンの濃度を表し、各等高線別の外郭パターン内でドットの大きさが均一なトーンパターン(P2)用のトーンパターンデータ(D2)を等高線別に対応した濃度をもたせて複数n個作成して、コンピュータメモリに記憶させる工程と、
3)図1(c)に示すように、各等高線別に対応するトーンパターンデータ(D2)に基づく各トーンパターン(P2)の全ての黒ドットを各等高線別に一旦マイナス方向に任意に縮小操作(マイナス(−)リサイズ処理)して、微小黒ドットによる縮小トーンパターン(P2S)用の縮小トーンパターンデータ(D2S)を各等高線別に複数n個作成する工程と、
4)図2(a)に示す前記複数n個の外郭パターン(P1)用の各々外郭パターンデータ(D1)とそれに対応した図2(b)に示す縮小トーンパターン(P2S)用の各々縮小トーンパターンデータ(D2S)とをAND演算して、図2(c)に示す外郭・縮小トーンパターン(P3S)用の外郭・縮小トーンパターンデータ(D3S)を各等高線別に
複数n個作成する工程と、
5)図3(a)に示す黒ドットが縮小(マイナス(−)リサイズ処理)された外郭・縮小トーンパターンデータ(D3S)に基づく外郭・縮小トーンパターン(P3S)の全ての黒ドット部分をリサイズ処理して、図3(b)に示すように黒ドット部分を縮小操作(マイナス(−)リサイズ処理)前の元のサイズに戻すこと(ここではプラス(+)リサイズ処理)により極微小パターンの存在しないノイズパターン削除外郭・トーンパターン(P3L)用のノイズパターン削除外郭・トーンパターンデータ(D3L)を各等高線別に複数n個作成する工程と、
6)図3(b)に示す複数n個のノイズパターン削除外郭・トーンパターン(P3L)用のノイズパターン削除外郭・トーンパターンデータ(D3L)をOR演算して、図あ(c)に示す求める三次元形状に対応したノイズパターン削除濃度分布パターン(P4L)用のノイズパターン削除濃度分布データ(D4L)を作成する工程と、
7)ノイズパターン削除濃度分布データ(D4L)を用いて電子ビーム、レーザービーム描画装置にて感光性樹脂パターンを形成するための求める三次元形状に対応した濃度分布マスクパターンを濃度分布マスク作成用基板面のフォトレジストに描画する工程と、
を含む濃度分布マスクの製造方法である。
まず、求める三次元形状の等高線を表す外郭パターン(P1)用の外郭パターンデータ(D1)を等高線別に複数n個作成する。図1(a)に図示するように外郭パターン(P1)用の外郭パターンデータ(D1)を等高線別に複数n個(外郭1、外郭2、外郭3、・・・外郭n)作成する。一例として例えば、3段階の外郭パターン(P1)用の外郭パターンデータ(D1)を等高線別に3個(外郭1、外郭2、外郭3)作成する。尚、外郭3は背景につき外郭パターンはない。図1(a)に示すように、この一実施例では、三次元形状の等高線を表す外郭パターン(P1)として円形を用いた例であり、等高線の高低は、外郭1、外郭2、外郭3の3段階である。
次に、各等高線別の外郭パターン内でドットの大きさが均一なトーンパターン(P2)用のトーンパターンデータ(D2)を等高線別に対応した濃度をもたせて複数n個作成する。図1(b)に示すように、外郭1、外郭2、外郭3、・・・外郭nのn段階の各々に対応した濃度をもたせたトーンパターン(P2)用のトーンパターンデータ(D2)をn個(階調1、階調2、階調3、・・・階調n)作成する。一例として例えば、外郭1、外郭2、外郭3の3段階の各々に対応した濃度をもたせたトーンパターン(P2)用のトーンパターンデータ(D2)を3個作成する(階調1、階調2、階調3)。外郭1に対応した濃度は階調1、外郭2に対応した濃度は階調2、外郭3は階調3である。なお、トーンパターン(P2)を形成する各ドットの形状は、本発明においては特に限定されるものではないが、例えば、円形状、矩形状である。
次に、各等高線別に対応するトーンパターンデータ(D2)に基づく各トーンパターン
(P2)の全ての黒ドットを各等高線別に一旦マイナス方向に任意に縮小操作(リサイズ処理)して、微小黒ドットによるトーンパターン(P2S)用の縮小トーンパターンデータ(D2S)を各等高線別に複数n個作成する。図1(b)に示す各トーンパターン(P2)におけるすべての黒ドットを、各等高線別に一旦マイナス方向に任意にリサイズ処理にて縮小操作して、各トーンパターン(P2)を、図1(c)に示すような微小な黒ドット(ドットピッチは変動なし)に縮小された各縮小トーンパターン(P2S)を作成するものである。
次に、図2(a)に示す上記複数n個の各々外郭パターン(P1)用の各々外郭パターンデータ(D1)と、それに対応した図2(b)に示す上記各々縮小トーンパターン(P2S)用の各々縮小トーンパターンデータ(D2S)とを、コンピュータにてAND演算処理して、図2(c)に示すような外郭パターン(P1)内に縮小された各縮小トーンパターン(P2S)を有する外郭・縮小トーンパターン(P3S)用の外郭・縮小トーンパターンデータ(D3S)を各等高線別に複数n個作成するものである。
次に、黒ドットが縮小操作された外郭・縮小トーンパターンデータ(D3S)に基づき外郭・縮小トーンパターン(P3S)を、コンピュータ画像表示手段の画面にて可視表示する。
次に、全ての黒ドット部分をマイナス(−)リサイズ量に応じてプラス(+)リサイズ処理を行い、図3(b)に示すように、その縮小操作(マイナス(−)リサイズ処理)前の元のサイズ(トーンパターン(P2)のサイズ)に戻す(プラス(+)リサイズ処理する)。これにより、外郭パターン(P1)内に極微小パターンの存在しない各々ノイズパターン削除外郭・トーンパターン(P3L)を各等高線別に複数n個作成する。
次に、各等高線別に作成した複数n個の前記外郭・トーンパターン(P3L)を、ノイズパターン削除外郭・トーンパターンデータ(D3L)として、コンピュータ記憶手段(コンピュータメモリ、記録媒体)に記録する。
次に、複数n個のノイズパターン削除外郭・トーンパターンデータ(D3L)を、コンピュータにてOR演算処理して、求める三次元形状に対応したノイズパターン削除濃度分布データ(D4L)を作成する。図3(b)に示すように、前記外郭・トーンパターン(
P3L)用のノイズパターン削除外郭・トーンパターンデータ(D3L)を、OR演算処理することにより、図3(c)に示すような求める三次元形状に対応したノイズパターン削除濃度分布パターン(P4L)用のノイズパターン削除濃度分布データ(D4L)が作成される。
成する縦方向及び横方向に並ぶ白ドットと黒ドットが合計ドット数として偶数個配列されるように設定しても構わない。
D・・・遮光膜ドット
P1・・・外郭パターン
P2・・・トーンパターン
P3・・・外郭・トーンパターン
P4…濃度分布パターン(濃度分布マスク作成用パターン)
p4 …黒ドット(遮光ドット)
p5 …白ドット(透光ドット)
p0 …極微小端切れドットパターン
Claims (1)
- 基板上に、三次元形状の感光性樹脂パターンを形成するための濃度分布マスクの製造方法において、
1)求める三次元形状の等高線を表す外郭パターン(P1)用の外郭パターンデータ(D1)を等高線別に複数n個作成する工程と、
2)構成する複数のドットのピッチが均一で、ドットの大小によりパターンの濃度を表し、各等高線別の外郭パターン内でドットの大きさが均一なトーンパターン(P2)用のトーンパターンデータ(D2)を等高線別に対応した濃度をもたせて複数n個作成する工程と、
3)各等高線別に対応するトーンパターンデータ(D2)に基づく各トーンパターン(P2)の全ての黒ドットを各等高線別に一旦マイナス方向に任意に縮小操作(リサイズ処理)して微小黒ドットによるトーンパターン(P2S)用の縮小トーンパターンデータ(D2S)を各等高線別に複数n個作成する工程と、
4)複数n個の各々外郭パターンデータ(D1)とそれに対応した各々縮小トーンパターンデータ(D2S)とをAND演算して外郭・縮小トーンパターンデータ(D3S)を各等高線別に複数n個作成する工程と、
5)黒ドットが縮小された外郭・縮小トーンパターンデータ(D3S)に基づく外郭・縮小トーンパターン(P3S)の全ての黒ドット部分を縮小操作(リサイズ処理)前の元のサイズに戻す(リサイズする)ことにより極微小パターンの存在しないノイズパターン削除外郭・トーンパターンデータ(D3L)を各等高線別に複数n個作成する工程と、
6)複数n個のノイズパターン削除外郭・トーンパターンデータ(D3L)をOR演算して、求める三次元形状に対応したノイズパターン削除濃度分布データ(D4L)を作成する工程と、
7)ノイズパターン削除濃度分布データ(D4L)を用いて電子ビーム、レーザービーム描画装置にて感光性樹脂パターンを形成するための求める三次元形状に対応した濃度分布マスクパターンを濃度分布マスク作成用基板面のフォトレジストに描画する工程と、
を含むことを特徴とする濃度分布マスクの製造方法。
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