JP4853268B2 - フォトマスク描画レイアウト検証方法 - Google Patents
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Description
しかしながら、半導体集積回路の微細化、高集積化に伴い、比較すべきデータ量が膨大になり、実描画データを使って検証するのはデータ処理システムの大きな負担となるために行われなくなり、フォトマスクのメインパターン部のみをダイ・ツー・データベース(die to database)の外観検査により保証するのが一般的となっている。
図1は、本発明の実施形態の一例を示すフローチャートであり、図2〜図5は、図1に示したフローチャートをさらに詳しく説明するための模式図による説明図である。
本発明で用いているスマッシュデータとは、複数のフォトマスクパターンデータを配列情報に従い一つのデータ(描画データ)として合成したデータを意味するものである。
次に、本発明のレイアウト検証方法を実施例に基づいてさらに詳しく説明する。
RETICLE
OPTION M ← 配列全てパターン,座標共にY軸ミラー
*
CHIP F1,
$ (1,TESTDAT-00-03,AD=0.004,SF=1.0) ← スケーリング ×1
ROWS 101200 / 101200
*
CHIP F2,
$ (1,TESTDAT-00-04,AD=0.004,SF=0.9) ← スケーリング ×0.9
ROWS 101200 / 51200
*
CHIP F3,
$ (1M,TESTDAT-00-05,AD=0.004,SF=0.8) ← スケーリング ×0.8とパターンのY 軸ミラー(1MのM)
ROWS 51200 / 51200 OPTION M と相殺されオリジナルの向きとなる
*
CHIP F4,
$ (1,TESTDAT-00-60,AD=0.004,SF=0.7) ← スケーリング ×0.7
ROWS 51200 / 101200
*
CHIP F5,
$ (1R,TESTDAT-00-AA,AD=0.25,SF=1.0) ← スケーリング ×1でデータ反転(1R のR)
ROWS 76200 / 76200
END
;*************************************
PATH
ARRAY ( 25000.000, 1, 0.000)/( 25000.000, 1, 0.000)
ASSIGN P( 1) -> ( *, *)
AEND
ARRAY ( 25000.000, 1, 0.000)/( -25000.000, 1, 0.000)
ASSIGN P( 2) -> ( *, *)
AEND
ARRAY ( -25000.000, 1, 0.000)/( -25000.000, 1, 0.000)
ASSIGN P( 3) -> ( *, *)
AEND
ARRAY ( -25000.000, 1, 0.000)/( 25000.000, 1, 0.000)
ASSIGN P( 4) -> ( *, *)
AEND
ARRAY ( 0.000, 1, 0.000)/( 0.000, 1, 0.000)
ASSIGN P( 5) -> ( *, *)
AEND
PEND
;*************************************
; 1 -> LAYER 1
;*************************************
LAYER 1
MIRROR ,Y
P( 1) 'TESTDAT00.03.J52'
P( 2) 'TESTDAT00.04.J52'
P( 3) 'TESTDAT00.05.J52'
P( 4) 'TESTDAT00.60.J52'
P( 5) 'TESTDAT00.AA.J52'
END
12 オリジナルの簡易パターンの描画データ
13 他描画機用の簡易パターンの描画データ
14 オリジナルの配列情報
15 オリジナルのスマッシュデータ
16 他描画機用の配列情報
17 他描画機用のスマッシュデータ
Claims (7)
- フォトマスク製作用のオリジナルの描画データを他描画機用の描画データに変換したときのレイアウトの確からしさを検証するためのレイアウト検証方法であって、
前記オリジナルの描画データと同一のプロパティを持ち、パターンの向きが明らかなオリジナルの簡易パターンの描画データを作成する第1のステップと、
前記オリジナルの簡易パターンの描画データを前記他描画機用の簡易パターンの描画データに変換する第2のステップと、
前記オリジナルの簡易パターンの描画データとオリジナルの配列情報とによりオリジナルのスマッシュデータを作成する第3のステップと、
前記他描画機用の簡易パターンの描画データと他描画機用の配列情報とにより他描画機用のスマッシュデータを作成する第4のステップと、
前記オリジナルのスマッシュデータと前記他描画機用のスマッシュデータとの排他的論理和処理を行なってレイアウトの確からしさを検証する第5のステップと、
を含むことを特徴とするレイアウト検証方法。 - 請求項1に記載のレイアウト検証方法において、前記第2のステップと前記第3のステップの順番を入れ替えたことを特徴とするレイアウト検証方法。
- 請求項1に記載のレイアウト検証方法において、前記第3のステップと前記第4のステップの順番を入れ替えたことを特徴とするレイアウト検証方法。
- 前記プロパティが、データフォーマットとデータ領域とアドレスユニットであることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載のレイアウト検証方法。
- 前記オリジナルの簡易パターンの描画データが前記オリジナルの配列情報に従い配列された状態で、前記オリジナルの簡易パターンが、他データの簡易パターンと出来るだけ重ならないように配置されていることを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載のレイアウト検証方法。
- 前記オリジナルの配列情報の中でデータ反転が指定されているデータは、前記オリジナルの簡易パターンの描画データ作成時に、あらかじめデータ反転しておくことを特徴とする請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載のレイアウト検証方法。
- 前記他描画機用の簡易パターンの描画データにローテーションとサイジングの設定を行った場合には、前記排他的論理和処理の前に、前記設定を解消するためのローテーションとサイジングの逆補正を前記他描画機用のスマッシュデータに施すことを特徴とする請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載のレイアウト検証方法。
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JP2006334509A JP4853268B2 (ja) | 2006-12-12 | 2006-12-12 | フォトマスク描画レイアウト検証方法 |
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JP4695942B2 (ja) * | 2005-08-22 | 2011-06-08 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | データの検証方法 |
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2006
- 2006-12-12 JP JP2006334509A patent/JP4853268B2/ja active Active
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