JP2008304716A - レチクル設計システム及びプログラム - Google Patents

Abstract

【課題】 フラットパネルディスプレイに応じた正確なレチクルを容易に作成できるようにすること。
【解決手段】 ショット枠に対応する切断枠１５９によって水平方向の配線１５１と斜め配線１５２を切断する場合、配線１５１の切断端部には所定大きさの長方形の補正パターン１５４、１５５を形成すると共に、斜め配線１５２の切断端部には所定大きさの平行四辺形の補正パターン１５６、１５７を生成した後、補正パターン１５４〜１５７の外縁に所定幅のブラインド枠１５８を生成して、露光要素である繰り返し要素を作成する。
【選択図】 図１６

Description

本発明は、フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）を製造する際にガラス基板用に設計されたパネルレイアウトデータからレチクルデータを作成するレチクル設計システム及びコンピュータに実行させることによって前記レチクル設計システムを構築するのに適したプログラムに関する。

従来、レチクルデータは長方形のショット枠を規定して作成され、露光装置にてガラス基板上に転写されていた。ショット枠の作成にあたっては、パネルレイアウトデータに対して枠を規定することになるが、これに関連する従来技術としては特許文献１に記載された発明の様に、フロアプラン機能を提供する半導体集積回路のレイアウト設計装置がある。
特許文献１には、素子特性情報、回路接続情報、プロセス情報、レイアウト情報、アナログコア及び機能ブロック分割手段、フロアプランによる最適化手段、機能ブロックの合成手段、アナログコアの配置手段、信号配線の配線手段、電源配線の配線手段、レイアウトデータを有する半導体集積回路のレイアウト設計装置が記載されている。

フラットパネルディスプレイ製造用のガラス基板の大きさは、一般的に露光装置の露光範囲を大幅に超える大きさである。したがって、露光装置に装着するレチクルはガラス基板より小さく、レチクル上にはガラス基板上の部分を露光データのショット枠として配置しこれを繰り返し露光することによりフラットパネルディスプレイ向けガラス基板を製造する。
このため、各種のフラットパネルディスプレイに応じた正確なレチクルデータを容易に生成することが要望される。

また、レチクル上に配置する露光データのショット枠が囲う領域が小さければ小さいほど共通な部分としての露光データとして抽出が容易であるがガラス基板に対する露光の回数は多くなってしまう。反対に、ショット枠の領域を大きく取ると露光回数は減るが、この場合には共通な部分として採用できる可能性が少なくなるため一枚のレチクルでは規定できずレチクルの枚数が増えてしまう事になる。
従って、いかにして共通性の高いより大きな露光データのショット枠領域を抽出するかが重要な問題となる。特許文献１記載の発明では、前記要望や問題には対処することができない。
特開２００５−１８２５７２号公報

本発明は、フラットパネルディスプレイに応じた正確なレチクルを容易に作成することが可能なレチクル設計システムを提供することを課題としている。
また、本発明は、共通性の高いより大きな露光データのショット枠領域を抽出できるようにして、効率良いレチクルを作成することが可能なレチクル設計システムを提供すること課題としている。
また、本発明は、コンピュータに実行させることにより、前記レチクル設計システムを構築するのに好適なレチクル設計用プログラムを提供することを課題としている。

本発明によれば、操作手段と、少なくとも、ガラス基板のパネルレイアウトデータを表示するガラス基板ウインドウ、レチクルレイアウトデータを表示するレチクルウインドウ及び前記操作手段のコマンドを表示するメニューウインドウを表示する表示手段と、前記操作手段によって前記ガラス基板ウィンドウ上に設定されたショット枠に対応するパネルレイアウトデータを切り取って部分パネルレイアウトデータとして抽出し、前記部分パネルレイアウトデータに切断データが含まれる場合には該切断データの端部に補正パターンを形成すると共に、内縁が前記補正パターンの外縁に対応するブラインド枠を形成することにより、前記部分パネルレイアウトデータに対応する露光要素データを前記レチクルウインドウ上に生成するレチクルデータ生成手段とを備えて成ることを特徴とするレチクル設計システムが提供される。

表示手段は、少なくとも、ガラス基板のパネルレイアウトデータを表示するガラス基板ウインドウ、レチクルレイアウトデータを表示するレチクルウインドウ及び前記操作手段のコマンドを表示するメニューウインドウを表示する。レチクルデータ生成手段は、操作手段によって前記ガラス基板ウィンドウ上に設定されたショット枠に対応するパネルレイアウトデータを切り取って部分パネルレイアウトデータとして抽出し、前記部分パネルレイアウトデータに切断データが含まれる場合には該切断データの端部に補正パターンを形成すると共に、内縁が前記補正パターンの外縁に対応するブラインド枠を形成することにより、前記部分パネルレイアウトデータに対応する露光要素データを前記レチクルウインドウ上に生成する。

ここで、前記操作手段によって前記ガラス基板ウインドウ上に多角形のショット枠が設定された場合、前記レチクルデータ生成手段は、前記多角形に対応する内縁を有する前記ブラインド枠を形成するように構成してもよい。
また、前記ショット枠は斜線部を有する多角形に形成されて成るように構成してもよい。
また、前記操作手段は、前記メニューウインドウに表示されるコマンドを入力することによって、前記ガラス基板のパネルレイアウトデータ上に設定された前記ショット枠に対して繰り返し配列を指定すると共に、前記ショット枠と前記繰り返し配列が指定された領域に対応するパネルレイアウトデータが一致するか否かを比較照合する繰り返し検証手段を備えて成るように構成してもよい。

また、前記繰り返し検証手段は、前記ショット枠と繰り返し配列が指定された領域に対応するパネルレイアウトデータを複数のブロック領域に分割すると共に、前記各ブロック領域に属するデータを表すテーブルを作成し、対応する前記ブロック領域に属するデータを比較照合することにより、前記ショット枠と前記繰り返し配列が指定された領域に対応するパネルレイアウトデータが一致するか否かの比較照合を行うように構成してもよい。

また、前記パネルレイアウトデータを切断可能な条件、補正パターンの幅及びブラインド枠間の最小距離を含む生成条件を記憶する記憶手段を有し、前記レチクルデータ生成手段は、前記生成条件を満足するように前記露光要素データを生成するように構成してもよい。
また、前記記憶手段には、前記操作手段によって設定した生成条件が記憶されるように構成してもよい。

また、前記レチクルデータ生成手段は、切断データの形状に応じて、長方形又は平行四辺形の補正パターンを生成するように構成してもよい。
また、前記レチクルデータ生成手段は、前記切断データの内側、外側及び両側に対する指定された補正パターン長に基づいて前記補正パターンを生成するように構成してもよい。
また、前記レチクルデータ生成手段は、前記ショット枠を指定された量シフトした切断枠に沿って前記パネルレイアウトデータを切り取るように構成してもよい。

また、複数の前記ブラインド枠が存在する場合に、ブラインド枠間の最小間隔を検証するブラインド枠間隔検証手段を備えて成るように構成してもよい。
また、前記ブラインド枠は、一筆書きのデータ形式として一定のデータ順序にて構成され、オーバラップ指定に従いブラインド枠としてオーバラップ領域が構成されるようにしてもよい。

また、本発明によれば、コンピュータを、前記いずれか一に記載のレチクル設計システムとして機能させるためのプログラムが提供される。
コンピュータは、プログラムを実行することにより、前記いずれか一に記載のレチクル設計システムとして機能する。

本発明に係るレチクル設計システムによれば、フラットパネルディスプレイに応じた正確なレチクルを容易に設計することが可能になる。また、共通性の高いより大きな露光データのショット枠領域を抽出できるようにして、効率の良いレチクルデータを生成することが可能になる。
また、本発明に係るプログラムは、コンピュータが実行することによって前記レチクル設計システムを構築することが可能になる。

以下、本発明の実施の形態に係るレチクル設計システム及びレチクル設計用プログラムについて説明する。尚、各図において、同一部分には同一符号を付している。
図１は、本発明の実施の形態におけるフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）用ガラス基板とレチクルの関係を示す図で、同図（ａ）は平面図、同図（ｂ）は側面図である。
図１において、１０１はガラス基板、１０２は特性が保証された露光装置（図示せず）の露光領域、１０３は露光装置の露光可能領域、１０４は光源系機構、１０５は遮光系機構、１０６はレチクル、１０７は露光面である。

近年のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）は、液晶ディスプレイパネルやプラズマディスプレイパネルに見られるように大型化され露光装置がガラス基板１０１を一括して露光できない（図１（ａ）の平面図参照）。従って何らかの形で露光領域を分割し、繰り返し露光を行う必要が出てくる。露光装置とガラス基板１０１の位置関係は、光源から見て光源系機構１０４、遮光系機構１０５、レチクル１０６、露光面１０７、ガラス基板１０１となり、図１には記載されていないがこれにレンズ系機構が加わる（図１（ｂ）の側面図参照）。尚、遮光系機構１０５とは、光源からの光を機械的に遮蔽するための長方形の機械的な機構である。

図２は、本発明の実施の形態におけるガラス基板上のパネルレイアウトデータとレチクル上のレチクルレイアウトデータの関係を示す図である。
図２において、液晶パネル２０１はパネルレイアウトデータ２１１として一種類の大型パネルレイアウトデータＡ１がガラス基板２１０上にひとつ存在する例である。液晶パネル２０１の場合には、パネルレイアウトデータＡ１を分割して、繰り返し構造をもつデータ群をショット枠２１３に対応付けて抽出し、これをレチクル２０５上に配置してレチクルレイアウトデータ２０６とする。尚、２１２は特性が保証された露光領域である。

液晶パネル２０２は、パネルレイアウトデータとして、中型パネルレイアウトデータＡ２とＡ３が存在する場合である。この場合もパネルレイアウトデータＡ２とＡ３を分割して繰り返し構造をもつデータ群をショット枠２１３に対応付けて作成するのが通例である。
液晶パネル２０３は、パネルレイアウトデータとして、小型パネルレイアウトデータＡ４とＡ５がガラス基板上に複数配列された場合である。このような場合には複数のパネルレイアウトデータＡ４と複数のパネルレイアウトデータＡ５を各々ショット枠２１３に対応付けて生成し、該生成したレチクルレイアウトデータ２０６をレチクル２０５上に配置して露光の回数を減らす操作が必要となる。

液晶パネル２０４は、中型パネルレイアウトデータＡ２と小型パネルレイアウトデータＡ４、Ａ５の３種類のパネルレイアウトデータがガラス基板上に存在する場合である。このような場合には、中型パネルレイアウトデータＡ２は分割してショット枠２１３に対応付けて生成し、小型レイアウトデータＡ４、Ａ５は分割せずにショット枠２１３に対応付けて生成し、レチクルレイアウトデータ２０６とする。
このように、ガラス基板２１０のパネルレイアウトデータ２１１等から繰り返し構造をもつデータ群を抽出し、これをレチクル２０５上に複数のショット枠２１３として配置し、レチクルレイアウトデータを作成するのが本実施の形態の処理概要である。この際、共通性が高く、より大きなショット枠領域を抽出することが重要となる。

図３〜図５は、図２に示した例２０１において、ガラス基板２１０上に配設されたパネルレイアウトデータ２１１中のパネルレイアウトデータＡ１の分割処理と、ショット枠２１３とレチクルレイアウトデータ２０６の関係を示す図である。
図３〜図５において、パネルレイアウトデータＡ１の画面に相当する部分は、ショット枠分割線３０１によって４個の共通繰り返しデータＡ１＿１に分割され、左右パネルレイアウトデータＬとＲは各々パネルレイアウトデータＬ１とＲ１に分割され、上下パネルレイアウトデータＵとＤは各々Ｕ１とＤ１に分割され、各々ショット枠２１３に対応するレチクルレイアウトデータ２０６としてレチクル２０５上に配置される。コーナ部は通常共通化されることが少なく、本実施の形態でも、４個のショット枠Ｃ１〜Ｃ４がレチクル２０５上にショット枠として配置されることになる。

図６及び図７は、本実施の形態においてパネルレイアウトデータからレチクルレイアウトデータを作成する際の全体的な処理手順を示す図で、図６はレチクル設計システムの表示部１に表示される表示内容及びレチクル設計システムから出力されるレチクルデータを示す図、図７はレチクル設計システムの中央処理装置（ＣＰＵ）の処理を示すフローチャートである。

図６（ａ）にはガラス基板２１０上のパネルレイアウトデータ２１１を示し、同図（ｂ）にはガラス基板２１０上へのショット枠２１３の設定と、レチクル２０５上へのショット枠２１３の配置とを示し、同図（ｃ）にはガラス基板２１０上のパネルレイアウトデータ２１１の切断（例えばショット枠２１３に沿った切断）を行うことによる抽出、補正パターン（図示せず）生成及びブラインド枠（図示せず）生成を行う際の処理を示している。

また同図（ｄ）には本実施の形態に係るレチクル設計システムから出力されるレチクル座標情報を示している。前記座標情報には、露光要素データである各ショット枠に対応するレチクルレイアウトデータ（本実施の形態では繰り返し要素とも称する。）の幅と高さの情報、繰り返し要素を繰り返して配置する位置の情報（繰り返し配置情報）、及び、アライメントマークの配置情報が含まれている。

図６及び図７を用いて本実施の形態に係るレチクル設計システムの概略動作を説明すると、マウス等の操作部（図示せず）の操作によって、まずガラス基板２１０上でパネルレイアウトデータ２１１に対して複数のショット枠２１３を設定し、これに対応するショット枠２１３をレチクル２０５上に配置して、レチクルレイアウトデータを作成する（図７のステップＳ７０１）。

続いて検証作業に入る（ステップＳ７０２）。即ち、処理ステップＳ７０２の検証作業では、まずショット枠２１３が指定された回数の繰り返しについて正しくパネルレイアウトデータ２１１を反映しているか繰り返し構造の検証を行う。続いてレチクルデータ２０６上のショット枠２１３の外側に作成されるブラインド枠（図示せず）が複数存在する場合にはブラインド枠同士の最小間隔検証を行う。

次にショット枠２１３に基づいて配線データの切断を行う（ステップＳ７０３）。これは通常、前記操作部によって指定されたショット枠２１３の直下には配線データが存在しこれを切断しなければならないからである。
次にデータ切断部分に補正パターン（図示せず）を生成させる（ステップＳ７０４）。次に指定された幅でブラインド枠（図示せず）を生成させる（ステップＳ７０５）。詳細は後述するが、補正パターンは配線パターンよりも幅広のパターンによって構成され、又、ブラインド枠はその内縁が前記補正パターンの外縁に対応するように構成される。

最後に座標情報及びレイアウトデータを出力して処理が終了する（ステップＳ７０６）。尚、前記レイアウトデータは、レチクルレイアウトデータ、及び、前記操作部によって定義されたショット枠２１３のデータが追加されたパネルレイアウトデータである。
ここで、レチクルレイアウトデータとは、図形データとして長方形図形、一筆書き図形、中心線に幅が定義された図形、及びこれら図形データを構成する中間モジュールから構成されるデータファイルである。

図８は、本実施の形態に係るレチクル設計システムの構成を示すブロック図で、コンピュータ及び前記コンピュータに実行させるプログラムによって構成した例である。本実施の形態に係るレチクル設計システムは、中央処理装置（ＣＰＵ）上で走行する複数のプログラム群と、キーボードやマウスによって構成された入力装置と、表示装置を備えている。
図８において、レチクル設計システムは、液晶ディスプレイパネル等によって構成された表示部１、キーボード２やマウス３によって構成された操作部１６、中央処理装置（ＣＰＵ）７、磁気ディスク装置や半導体メモリ等によって構成された記憶部８を備えている。

表示部１上には、ガラス基板１２上のパネルレイアウトデータを操作するガラス基板ウィンドウ９、レチクル１３上のレチクルレイアウトデータを操作するレチクルウィンドウ１０、操作部１６による操作を指示するメニューウィンドウ１１の少なくも３つのウィンドウを表示するように構成される。ガラス基板ウィンドウ９上で設定されたショット枠をレチクルウィンドウ１０上にショット枠として設定する操作をウィンドウ間で行う。

この作業に際して、操作部１６によってメニューウィンドウ１１上に表示されたショット枠設定コマンドを選択することにより、操作部１６にショット枠設定指示機能を持たせ、操作部１６を操作してガラス基板ウインドウ９上でショット枠の設定をった後、ガラス基板ウインドウ９とレチクルウインドウ１０間の移動を行って、レチクルウインドウ１０上に対応するショット枠の設定を行うことになる。
記憶部８は、ＣＰＵ７が実行するレチクルデータ生成用プログラムを記憶するプログラム記憶部４、入出力データや処理途中の中間データ等のデータファイルを記憶するデータファイル記憶部５、ルールファイルやライブラリファイルといった参照ファイルを記憶するファイル記憶部６を備えている。

前記プログラムの構成としては、ショット枠設定プログラム、繰り返し構造検証プログラム、ブラインド枠間最小間隔検証プログラム、データ切断プログラム、補正パターン生成プログラム、ブラインド枠生成プログラム、座標情報リスト出力プログラム、各種データの入出力プログラム、といったプログラムから構成される。これらショット枠設定、繰り返し構造検証、ブラインド枠間最小間隔検証、データ切断、補正パターン生成、ブラインド枠生成、座標情報リスト出力といった機能はすべてメニューウィンドウ上に表示されたコマンドを操作部１６によって選択することにより実行される。

ファイル構成としては、入力ファイルとしてのパネルレイアウトデータファイルと出力ファイルとしてのレチクルレイアウトデータファイルと座標情報リストファイルのほか参照ファイルとしてのライブラリファイルとルールファイルから構成される。
データファイルであるパネルレイアウトデータファイル、レチクルレイアウトデータファイル及び座標情報リストファイルはデータファイル記憶部５に記憶される。参照ファイルであるライブラリファイル及びルールファイルは参照ファイル記憶部６に記憶される。
このようにしてレチクルレイアウトを実施するレチクル設計システムが構成されることになる。

ここで、表示部１、操作部１６、記憶部８は、各々、表示手段、操作手段、記憶手段を構成している。
表示手段は、少なくとも、ガラス基板のパネルレイアウトデータを表示するガラス基板ウインドウ、レチクルレイアウトデータを表示するレチクルウインドウ及び前記操作手段のコマンドを表示するメニューウインドウを表示することができる。
操作手段は、メニューウインドウに表示されるコマンドを選択して入力する。これにより、ガラス基板のパネルレイアウトデータ上に設定されたショット枠に対して繰り返し配列を指定する等の操作を行うことができる。

記憶手段は、主記憶装置及び外部記憶装置として機能することができる。記憶手段には、パネルレイアウトデータを切断可能な条件、補正パターンの幅及びブラインド枠間の最小距離を含む生成条件を記憶することができる。また、記憶手段には、操作手段によって設定した生成条件を記憶することができる。

また、ＣＰＵ７は、レチクルデータ生成手段、繰り返し検証手段、ブラインド枠間隔検証手段を構成している。レチクルデータ生成手段は、前記操作手段によって前記ガラス基板ウィンドウ上に設定されたショット枠に対応するパネルレイアウトデータを切り取って部分パネルレイアウトデータとして抽出し、前記部分パネルレイアウトデータに切断データが含まれる場合には該切断データの端部に補正パターンを形成すると共に、内縁が前記補正パターンの外縁に対応するブラインド枠を形成することにより、前記部分パネルレイアウトデータに対応する露光要素データを前記レチクルウインドウ上に生成することができる。また、レチクルデータ生成手段は、前記生成条件を満足するように前記露光要素データを生成することができる。

前記レチクルデータ生成手段は、前記操作手段によって前記ガラス基板ウィンドウ上に設定されたショット枠に対応するパネルレイアウトデータを切り取って部分パネルレイアウトデータとして抽出する抽出手段、前記部分パネルレイアウトデータに切断データが含まれる場合には該切断データの端部に補正パターンを形成する補正パターン生成手段、及び、内縁が前記補正パターンの外縁に対応するブラインド枠を形成するブラインド枠生成手段を有し、前記部分パネルレイアウトデータに対応する露光要素データを前記レチクルウインドウ上に生成することができる。
また、繰り返し検証手段は、ショット枠と繰り返し配列が指定された領域に対応するパネルレイアウトデータが一致するか否かを比較照合することができる。
また、ブラインド枠間隔検証手段は、複数の前記ブラインド枠が存在する場合に、ブラインド枠間が所定の最小間隔以上に離れているか否かを検証することができる。

図９は、ＣＰＵ７が繰り返し構造検証プログラムを実行することによって行う繰り返し構造検証処理を示す図である。主として、中央部の薄膜トランジスタアレイショット部における繰り返し構造の検証に利用される。ガラス基板１２上からレチクル１３上に設定されたショット枠（Ａ１＿１）２１３をガラス基板上にて、例えば（２×３−１）回繰り返し配置して、繰り返し構造が得られるかの検証を行うものである。

図９において、まずガラス基板１２上でショット枠２１３を設定する場合、多角形の各頂点Ｐ（Ｐ１〜Ｐ４）を指定して決定される。ここで頂点Ｐはグリッド格子平面にて表現されるＸＹ座標によって定義され、グリッド上の点として指定され、整数にて表現される。
続いて、繰り返し要素の数（繰り返し回数＋１）が指定される。この例では２×３が指定される。

繰り返し構造検証プログラムを実行することにより、データの切断を伴う場合にはショット２１３枠にてのデータ切断を前提とし、指定された繰り返し回数の領域のデータと一致するか否かの繰り返し検証を行う。実際のデータ切断は本検証で一致が確認された後に行うことになるが、ルーチンとしては切断のルーチンを利用する。検証の内容は指定されたショット枠領域と繰り返し指定されたショット枠の領域におけるデータの比較照合である。尚、図９において、１５は特性が保証された露光領域である。

図１０及び図１１は、ガラス基板１２上の指定されたショット枠２１３と繰り返し指定されたショット枠２１３とのデータ比較照合の概念を示す図である。
操作部１６によって指定されたショット枠２１３と繰り返し指定されたショット枠１００１にてデータの切断を行い、もって指定されたショット枠２１３内領域のデータＡ１＿１と繰り返し指定されたショット枠１００１内領域のデータＡ１＿１＿１〜Ａ１＿１＿５を比較照合することになる。

図１２は、各ショット枠内領域データのデータ構造を示す図である。
本検証を実行するに当たっては事前に切断条件を満たしているか否かの検査を行う必要がある。それは、トランジスタモジュールとスルーホールは切断禁止であるという条件である。トランジスタは切断すると特性が変わるので切断禁止である。スルーホールも切断すると断線の可能性が高くなるので切断禁止である。これらの条件はライブラリに切断禁止フラグを立てることにより制御する。トランジスタモジュールはモジュールライブラリに切断禁止フラグが立っていてこれを判別する。スルーホールはやはりスルーホールライブラリに切断禁止フラグが立っていてこれを判別する。従って、通常、切断可能なのは配線データのみとなる。

結果として、ショット枠２１３内領域に属するデータＡ１＿１は、切断された配線データ及び切断対象にならなかった配線データ１２１、トランジスタモジュールのような配置モジュールデータ１２２、スルーホールデータ１２３及び中間階層配置モジュール１２４によって構成されることになる。配線データ１２１は、配線タイプを保有しており、この配線タイプはライブラリファイル１２８内の配線タイプライブラリにて幅（Ｗ）が指定されている。

スルーホールデータ１２３もタイプがライブラリファイル１２８内のスルーホールライブラリにて指定されており、このタイプにてスルーホールの大きさと上下に被せるメタルの大きさが指定されている。また、配置モジュールデータ１２２もライブラリファイル１２８内のモジュールライブラリによって指定されている。
中間階層配置モジュールに関しても、これを構成する配置モジュール１２５、配線データ１２６及びスルーホールデータ１２７はライブラリファイル１２８のモジュールライブラリ、配線タイプライブラリ及びスルーホールライブラリによって指定されている。

図１３は、ショット枠内の領域分割を示す図である。図１３において、ショット枠２１３は複数のブロック１３１に分割される。この例では４ｘ４の１６ブロックに分割される。各ブロック１３１は名称を持つ。この例では、Ｂ１１からＢ４４までである。このショット枠２１３に配置されているデータは、下方左下の座標点をそのデータの代表座標とし、代表座標が属するブロックに登録される。尚、１３２は配置されたスルーホール、１３３は配置されたトランジスタモジュール、１３４は配置された中間階層モジュール、１３５は切断された配線データである。

各例をもって説明する。まずスルーホール１３２である。スルーホール１３２の場合は、中心座標一点が配置座標となるので、この中心座標Ｐ１が属するブロック（この場合、Ｂ１１）に登録される。トランジスタモジュール１３３の場合は、通常長方形にてモジュール形状がライブラリ登録されており、下方左下の座標Ｐ２が属するブロック（この場合、Ｂ１２）に登録される。中間階層のモジュール１３４も通常は長方形にてモジュール形状がライブラリ登録されており、下方左下の座標Ｐ３が属するブロック（この場合、Ｂ３２）に登録される。

切断された配線データに関しては、切断される前の配線データは線幅の中心を走る線の座標にて記述され、配線タイプ名からライブラリにて幅（Ｗ）が指定されている。切断により斜めの切断面が生ずる場合には、この中心線の座標と幅（Ｗ）では表現できず一筆書きの形式にて表現されることになるが、それは実際の切断を行う場合であり繰り返し構造検証の段階ではあくまでも中心線の座標と幅（Ｗ）のデータ形式にて表現される。

これは、比較照合においては斜めの記述をしなくても十分だからである。これによりデータ形式が複雑になるのを避け検証時間を少なくすることが出来る。この場合、配線データはＰ４、Ｐ５、Ｐ６と表現されるが、下方左下の座標対象とするのは端点のみでありＰ４とＰ６になり、下方左下の規則は下方の方が強いのでＰ４が本配線データを代表する座標となり、ブロックＢ４４に登録される。

比較照合するためのテーブル構造は図１４に示すように、ブロック領域アドレスの名称と、登録されたデータ個数と、データタイプと、そのデータを代表する下方左下座標と、配線の場合には実データへのポインタから構成される。実データとしてこの例では切断された配線データを示している。このように構成されたふたつのテーブル同士を比較照合するのは比較的容易である。

即ち、各ブロックからデータを取り出し、下方左下座標を比較し一致すればデータタイプを比較し一致すればデータタイプが配線の場合には実データのポインタから実データを取り出しこれを比較する。データタイプがスルーホールであれば、両者のタイプ名が一致すればよく、トランジスタモジュールや中間階層モジュールもライブラリ名が一致すればよいことになる。

中間階層モジュールを展開して、トランジスタモジュールとスルーホールと配線データに分解して比較照合を取ることも可能であるが、処理時間の都合上、中間階層モジュールは切断の対象になっていない場合にはこれを展開しないで比較照合するのが一般的である。本テーブル構造によれば、各ブロック領域アドレスに登録されたデータ数を比較して差異があれば不一致ということで詳細な比較を行わずに終了することが出来る。

もともと本繰り返し構造検証の目的は、人間が領域を定義する際に起こすケアレスミスを防ぐことにあり、所謂勘違いによる領域設定と繰り返し設定を防止することにあり、各ブロックに登録されたデータ数の不一致を報告するだけでユーザはミスに気付くことが多く、各ブロックに登録されているデータ数の違いだけを報告する方法は処理時間上極めて効果的である。

また、図１３はパネルレイアウトデータ並びにレチクルレイアウトデータは基本的にグリッド格子平面上にて記述されている事も示している。即ち、ショット枠２１３や各配置データの座標位置であるＰ１からＰ６までの座標位置は、ＸＹ平面を細かな格子で区切ったグリッド格子によるＸＹ座標位置（整数）で表現されている。ここでグリッド格子の間隔は、液晶パネルの場合で０．２５ミクロンから０．１０ミクロン程度である。これにより実寸にてデータを保有するよりはるかに少ないデータ量にてデータ表現を可能にしている。

図１５及び図１６は、ＣＰＵ７がデータ切断プログラム、補正パターン生成プログラム、ブラインド枠生成プログラムを各々実行することによって行うデータ切断処理、補正パターン生成処理、ブラインド枠生成処理を示す図であり、表示部１の表示内容を示している。
図１５及び図１６の例は、ショット枠２１３に基づいて第１層メタル配線１５１と第２層メタル配線１５２を切断する場合の例であり、第１層メタル配線１５１は水平方向（Ｘ方向）に延在する配線データ（水平配線データ）で、第２層メタル配線１５２は斜め方向（Ｘ方向に対して９０度以外の所定角度傾斜する方向）に延在する配線データ（斜め配線データ）である。

通常、データの切断はショット枠２１３に沿って、換言すれば、ショット枠２１３に一致する切断枠１５９に沿って行う。補正パターンは水平または垂直な配線データに対しては長方形の補正パターン、斜め配線のデータに対しては平行四辺形の補正パターンを生成する。図１６の例では、水平な配線データ１５１に対しては長方形の補正パターン１５４、１５５、斜め配線のデータ１５２に対しては平行四辺形の補正パターン１５６、１５７を生成する。切断した配線の端部に、該配線の長さ方向に所定長突出すると共に該配線の幅よりも所定長幅広の補正パターンを一体形成することにより、作成したレチクルを用いて配線を露光形成した際に、他の切断データとの接続を良好に確保することが可能になる。

補正パターンの生成の際には、切断される配線の内側（配線の長さ方向）への幅と外側（配線の幅方向）への幅がそれぞれルールファイルに記憶されており、操作部１６の操作によって前記ルールファイルから予め補正パターンの幅を設定しておくことにより、自動的に前記設定した幅の補正パターンを生成するように構成できる。補正パターンの生成の際には、切断される配線の内側（配線の長さ方向）への幅と外側（配線の幅方向）への幅がそれぞれ独立に指定可能である。これらの幅の数値を操作部１６から入力して設定するように構成してもよい。

図１６には、長方形の補正パターン１５４、１５５の場合には、配線１５１の長さ方向に沿って配線１５１の内側に補正値ΔＩＮ、配線１５１の外側に補正値ΔＯＵＴにて示されている。また、平行四辺形の補正パターン１５６、１５７の場合には、配線１５２の長さ方向に沿って配線１５２の内側に補正値ΔａｎｇＩＮ、配線１５２の外側に補正値ΔａｎｇＯＵＴにて示すように一体形成されている。
加えて補正パターン１５４〜１５７では、切断される配線データ１５１、１５２の幅方向に対する長さも指定される。通常これは各配線１５１、１５２を挟んで両側の２箇所に同じ値が設定される。

長方形の補正パターン１５４、１５５の場合には配線１５１の幅方向両側に補正値ΔＳＩＤＥ、平行四辺形の補正パターン１５６、１５７の場合には配線１５２の幅方向両側に補正値ΔａｎｇＳＩＤＥにて示すように一体形成されている。
このように、ショット枠に対応する切断枠１５９によって水平方向の配線１５１と斜め配線１５２を切断する場合、配線１５１の切断端部には所定大きさの長方形の補正パターン１５４、１５５を形成すると共に、斜め配線１５２の切断端部には所定大きさの平行四辺形の補正パターン１５６、１５７を生成した後、補正パターン１５４〜１５７の外縁に所定幅のブラインド枠１５８を生成して、露光要素である繰り返し要素を作成する。これにより、フラットパネルディスプレイに応じた正確なレチクルを容易に作成できる。

次に、ＣＰＵ７がブラインド枠生成プログラムを実行することによって行うブラインド枠生成処理について説明する。
ブラインド枠１５８は生成された補正パターン１５４〜１５７の外縁にて生成され、水平方向の幅Ｗｈと垂直方向の幅Ｗｖとが独立に指定可能である。
ブラインド枠１５８の生成の際には、幅Ｗｖ、Ｗｈがそれぞれルールファイルに記憶されており、操作部１６の操作によって前記ルールファイルから予めブラインド枠１５８の幅を設定しておくことにより、自動的に前記設定した幅のブラインド枠１５８を生成するように構成できる。ブラインド枠１５８の幅Ｗｖ、Ｗｈの数値を各々独立に操作部１６から入力して設定するように構成してもよい。

通常、ブラインド枠１５８の内縁の大きさは、ショット枠２１３（図１６の例では、換言すれば切断枠１５９）の値に補正パターン１５４〜１５７の配線長さ外方向への幅値、この場合補正値ΔＯＵＴと補正値ΔａｎｇＯＵＴの値をそれぞれ加えたものとなる。即ち、生成された補正パターン１５４〜１５７の外縁がブラインド枠１５８の内縁に対応すると共に所定枠幅を持ったブラインド枠データ１５８が生成される。ブラインド枠１５８の外縁は、機械的な遮光系機構１０５に関連するので長方形となる（図１参照）。

図１７〜図１９は、指定されたショット枠２１３に対して切断枠１５９をシフトさせて処理する場合のＣＰＵ７の処理を示す図で、表示部１の表示を示している。
図１７は、ガラス基板上のパネルレイアウトデータ（図１７では配線データ１５１、１５２）に対するショット枠２１３の設定を示す図である。
図１８は、ショット枠２１３に対して切断枠１５９をシフトさせ、該切断枠１５９に沿って水平配線データ１５１の切断処理を行い、補正パターン１５４、１５５及びブラインド枠１５８の生成処理を行う場合の図である。

図１９はショット枠２１３に対して切断枠１５９をシフトさせて斜め配線データ１５２について切断処理、補正パターン１５６、１５７生成処理及びブラインド枠１５８生成処理を行う場合の図である。
通常、斜め配線の切断はデータ量も増えるので極力避けたい所であり、切断位置の多少のシフトで済むのであればショット枠と切断枠をずらすように構成した方が効率的である。これには水平方向のシフト量ΔｃｕｔＸと垂直方向のシフト量ΔｃｕｔＹのふたつの値を正負にて与える。また切断枠１５９は各配線層について独立に設定できる。

従って、第１層メタルであれば、第１層メタルの切断された配線データ、第１層メタルの補正パターン及び第１層メタルのブラインド枠のデータが生成されることになる。第２層も同様である。
尚、ショット枠２１３と切断枠１５９の相対的なシフト量は複数種類、ルールファイルに記憶されており、操作部１６の操作によって前記ルールファイルから予めシフト量を設定しておくことにより、自動的に前記設定したシフト量だけシフトした切断枠１５９を生成するように構成できる。また、前記シフト量の数値を操作部１６から入力して設定するように構成してもよい。

図２０〜図２２は、ＣＰＵ７が、斜線部２００２を有するショット枠２１３における切断プログラム、補正パターン生成プログラム、ブラインド枠生成プログラムを各々実行することによって行う処理を示す図であり、表示部１の表示内容を示している。
斜線部２００２を有するショット枠２１３が設定できると繰り返し構造の抽出が容易に出来る場合があり有効である。図２０に示すように、ショット枠２１３は各頂点Ｐ１〜Ｐ６が斜線部２００２も含めて指定される。

補正パターン２００３、２００４は、切断された配線データ２００１の長さ方向に沿って内側方向と外側方向について補正値ΔａｎｇａｎｇＩＮと補正値ΔｎａｇａｎｇＯＵＴが指定される。配線データ２００１の幅方向に対する補正パターン２００３、２００４の値は、配線データ２００１を挟む幅方向の両側について、各々、補正値ΔａｎｇａｎｇＳＩＤＥにて指定される。ブラインド枠１５８の幅は前記同様に水平方向Ｗｈと垂直方向Ｗｖにて指定可能である。水平に切断した端部に対応する補正パターン２００３は矩形であり、斜線部２００２に対応する補正パターン２００４は平行四辺形である。

図２３、図２４は、斜線部２００２を含むショット枠２１３に対するブラインド枠生成処理をより詳細に示す図である。
データは多角形の形状の各頂点を記述する形式で保持され、所謂一筆書きの形式で保持されている。この例は、点Ｐ１から始まって点Ｐ１２まで行き、点Ｐ１に再び戻るデータの例である。この際、一筆書きのデータ保持の場合には間隙が生ずる部分がありえるので、間隙が生じないように操作部１６からオーバラップ幅２４１を指定するように構成することが出来る。

図２４では点Ｐ５と点Ｐ６の頂点がこれに当たる。図２４には示していないが、本オーバラップ幅２４１の指定は、長方形やＬ字型矩形のショット枠に対するブラインド枠生成に対しても適用可能である。即ち、本ブラインド枠生成プログラムが生成するブラインド枠データ構造は、矩形等の多角形において一筆書きのデータ形式としてデータの一定順序にて構成され、かつオーバラップ指定に従いブラインド枠としてオーバラップ領域が形成されるデータ構造を有する。

尚、ブラインド枠１５８の内縁は斜線部２００２を有する多角形形状であるが、その外縁は矩形である。
また、図２３、図２４に示される点Ｐ１から点Ｐ１２までの座標位置は、グリッド格子上の座標によって表現されるている。

図２５は、斜線部２００２を含む多角形ショット枠が何故有効かを示す図である。斜線を含む多角形（即ち、内角に鋭角や鈍角を含む多角形）は、単なる長方形に比べ領域定義の自由度が格段に増すため、長方形では定義できなかった極めて汎用的な共通領域が定義可能となる。
図２５では斜線部２００２を含むショット枠が可能となったために、パネルレイアウトデータ（Ａ ａ）、（Ｂ ｂ）、（Ｃ ｃ）を含む３種類のショット枠２５１〜２５３が定義できる。

これにより、多様なパネルレイアウトデータを少ないショット枠によって定義することが可能になり、これに応じたブラインド枠２５４〜２５６を作成すればよいことになる。
もちろん、図２６に示す様に、斜線部２００２を含まない多角形（即ち、全ての内角が直角の多角形）のショット枠２６１〜２６３で可能な場合もあり、これに応じたブラインド枠２６４〜２６６を作成できる場合がある。しかしながら、斜線部２００２を含む多角形ショット枠２５１〜２５３の方がより汎用的に定義可能となる。

図２７は、斜線を含むショット枠定義の有効性を示す別の例であり、領域定義の自由度が高い斜線を含む多角形ショット枠でのみ適用可能な例である。同図には、ショット枠２７３の一部を示している。この例は、並行した複数の同層配線２７１が途中で並行してクランクしているものである。
このような場合、長方形等の斜線を含まないショット枠ではクランク部分２７２の斜め配線を切断することになる。

もちろん、それでもレチクルデータ作成は可能であるがデータ量の増加等の問題からユーザは、出来れば斜め配線は切断対象から外したい要望を持つ。もしくは、切断せずに分割できるのであれば余計な切断はしたくない。
このような場合には斜線を含む多角形ショット枠のみがユーザ要望に答えることができる。即ち、斜線部２７４を含む多角形ショット枠２７３を定義可能とすることは、分割の自由度を増すことになり、結果としてデータ切断を引き起こさずに又、データ量を極力増大させずに分割可能となる効果がある。

図２８は、切断によって斜線部が生じた配線データと平行四辺形の補正パターンのデータ形式を示す図である。この場合には、一筆書き形式にて表現される。
図２８（ａ）は、ショット枠２１３による切断によって生じた斜線部２８２、２８３を有する配線データ２８１の例で、点Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、Ｐ１にて表現される。ショット枠２１３はグリッド格子（黒丸点）上の点によって定義される。配線データは斜め切断処理時に補正処理され、配線データを表す四隅の点は、最寄りのグリッド格子（×点）上の点Ｐ１〜Ｐ４に強制的にアサインされる。

図２８（ｂ）は、平行四辺形の補正パターン２８４、２８５の例で、補正パターン２８４はグリッド上の点Ｐ５、Ｐ６、Ｐ７、Ｐ８、Ｐ５にて表現される。補正パターン２８５も同様に、グリッド上の点によって表される。
図２８（ｃ）は、斜線部２８６を有するショット枠２１３により切断された斜線部２８７を有する配線データ２８１の例で、点Ｐ９、Ｐ１０、Ｐ１１、Ｐ１２、Ｐ９にて表現される。

ここで斜線部２８７を有する配線データ２８１と平行四辺形の補正パターン２８８とグリッド格子の関係について述べる。
これらの配線データ２８１や補正パターン２８８のデータもすべてグリッド格子（黒丸点や×点）上にて表現される。ここでグリッド格子の間隔は、液晶パネルの場合で０．２５ミクロンから０．１０ミクロン程度である。

図２８（ａ）の場合、当初の配線データ２８１は中心線２８９に幅Ｗを有するタイプ（ライブラリに登録された配線タイプ）にて規定され、グリッド格子（黒丸点）上にて表現されているが、斜め切断を行い端点である点Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４を強制的に最寄りのグリッド格子（×点）上にアサインすると幅が変化してＷダッシュとなる。幅Ｗと幅Ｗダッシュの差は最大で一グリッド間隔程度である。図２８にて示された一筆書きデータは、もはや配線タイプには属さずライブラリに登録されている配線タイプの幅（Ｗ）は有しない。一筆書きデータとして登録されることになる。

図２９は、ＣＰＵ７が座標情報出力プログラムを実行することによって行う座標情報出力処理示す図であり、ガラス基板及びレチクルに対する繰り返し要素の数値表現と配置規定を示している（アライメントマークを含む）。
図２９において、２９１はガラス基板、２９２はパネルレイアウトデータ、２９３はガラス基板のＸＹ中心座標（本例では、４つのショット枠Ａの中心座標に一致している。）（０，０）、２９４はアライメントマーク（その座標はガラス基板２９１の中心座標（０，０）を基準とする座標（Ｘ０，Ｙ０）である。）である。

２９５、２９８、２９１１はレチクル、２９７は特性が保証された露光領域である。また、２９６、２９９、２９１０、２９１２、２９１３は、各々、ショット枠Ａ、Ｂ１、Ｃ１、Ｂ２、Ｃ２に対応する繰り返し要素である。
図２９の例では、１つの繰り返し要素２９６がレチクル２９５に形成され、２つの繰り返し要素２９９、２９１０がレチクル２９８に形成され、２つの繰り返し要素２９１２、２９１３がレチクル２９１１に形成されている。

ブラインド枠まで含めた露光データが繰り返し要素２９６、２９９、２９１０、２９１２、２９１３として各々レチクル２９５、２９８、２９１１上に作成されることになる。即ち、繰り返し要素とは、ブラインド枠、切断されたデータ、補正パターン及び切断対象とならなかったデータから成る露光データにて構成される。これがショット情報の基本となる。

本実施の形態では、繰り返しがなくても繰り返し要素と称する。繰り返しがない場合の繰り返し数は０である。図２９の例では、ショット枠Ａに対応する繰り返し要素２９６の数は２×２（＝４）（繰り返し回数は２×２−１）であり（これにより、繰り返し要素Ａの集合である繰り返し集合２９１４が形成される。）、ショット枠Ｂ１、Ｃ１、Ｂ２、Ｃ２に対応する繰り返し要素２９９、２９１０、２９１２、２９１３の繰り返し回数は０である。

各繰り返し要素は名称を持つ。各繰り返し要素は各繰り返し要素自体の座標中心に対して幅（Ｗ）と高さ（Ｈ）が与えられる。各繰り返し要素は、その繰り返し要素よって構成される繰り返し集合の中心座標を基準として配置される。図の例ではガラス基板２９１の中心座標（０，０）がこれに当たり、中心座標（０，０）を基準とする位置に配置される。

一方、レチクルのレイアウトデータとしては、各繰り返し要素はその中心位置がレチクルの中心座標の位置を基準とする座標に配置される。
アライメントマークについては、ガラス基板２９１についてはガラス基板２９１の中心座標（０，０）を基準とする位置に配置され、レチクルについてはレチクルの中心座標を基準とする位置に配置される。アライメントマークについてはライブラリファイルにて格納定義されている。

図３０も前記同様に、ＣＰＵ７が座標情報出力プログラムを実行することによって行う座標情報出力処理示す図であり、座標情報出力の例を示している。図２９に示したように、ガラス基板２９１上のパネルレイアウトデータ２９２から繰り返し要素が配置された３つのレチクル２９５、２９８、２９１１を生成する場合の出力結果を示している。
ここでは、露光ショット情報として、ガラス基板上でのショット情報として繰り返し要素の名称と繰り返し数と幅と高さと配列指定された配置位置と、レチクル上でのショット情報として同繰り返し要素名称と幅と高さと配置位置とが座標情報としてユーザに提供される例を示している。

図３１は、パネルレイアウトデータの構造を示す図である。最上位のモジュールをトップモジュール３１１と称し、これが１つ存在する。他のモジュールはすべてこのトップモジュール３１１に隷属する。これがレイアウトデータ下位モジュール３１２〜３１５であり、これは階層化されていてもよい。モジュールが有するレイアウトデータとは、例えば液晶パネルの場合には、薄膜トランジスタや液晶ドライバ部の各トランジスタの配置データ３１６、配線データ３１７、スルーホールデータ３１８がある。

これらのトランジスタ、配線、スルーホールは、名称（配置データはライブラリ名、配線データは配線タイプ名、スルーホールデータはスルーホール名）を持っており、その内容はライブラリファイル（配置モジュールライブラリ、配線タイプライブラリ、スルーホールライブラリ）３１９に格納されていて、ライブラリとは名称一致にて確認されることになる。

図３２は、レチクルレイアウトデータの構造を示す図である。基本的にはパネルレイアウトデータと同様な構造である。トップモジュール３２１は同様に１つ存在する。トップモジュール３２１の下には繰り返し要素３２２、３２３が下位モジュールとして存在し、これがレチクルレイアウトデータの基本単位となる。
露光要素である繰り返し要素を構成するデータとしては、まずは露光対象データとしてブラインド枠データ３２４、補正パターンデータ３２５、切断されたデータ及び切断対象とならなかったデータ３２６、ショット枠データ３２７がある。その他、繰り返し要素の幅と高さデータ３２８、繰り返し要素配置データ３２９、切断後のショット枠内レイアウト下位モジュールデータ３３０、配置データ３３５、スルーホールデータ３３６がある。

モジュールが有するレイアウトデータとは、パネルレイアウトデータと同様に、例えば液晶パネルの場合には、薄膜トランジスタや液晶ドライバ部の各トランジスタの配置データ３３１、配線データ３３２、スルーホールデータ３３３がある。これらのトランジスタ等の配置データ３３１、配線データ３３２、スルーホールデータ３３３は名称を持ち、その内容はライブラリファイル（配置モジュールライブラリ、配線タイプライブラリ、スルーホールライブラリ、アライメントマークライブラリ）３３４に格納されていて、ライブラリとは名称一致にて確認されることになる。
パネルの場合と同様であり、全てライブラリファイルにて名称一致をもって確定させるデータ構造となっている。また、露光時にはもはや使用しないがショット枠データも保有する。

図３３は、物理層、各データクラス及び層コードの例をメタル１層と２層の場合において示すテーブルである。
例えばメタル１層（アルミ第１層）の場合、ショット枠データは層コード１０１、ブラインド枠データは層コード１０２、パターンデータは層コード１０４、補正パターンは層コード１０５という具合に、メタル２層（アルミ第２層）についても同様に規定され、各層コードを独立とし、独立に処理可能としている。これらの層コードは、各繰り返し要素において共通に使用される。即ち、物理層とデータクラスが同一であれば、各繰り返し要素間において層コードは共通である。

図３２及び図３３で示したレチクルレイアウトデータは最終的にファイル出力されるが、その内容は、長方形図形、一筆書き図形、中心線に幅が定義された図形、及び、これら図形データをまとめたモジュールを中間階層モジュールまたはライブラリモジュールとして有するモジュールから構成される。中間階層モジュールまたはライブラリモジュールとして活用されるのはトランジスタモジュールである。

トランジスタモジュールはその数が多く、展開して保有するとデータ量が膨大となるため、通常はライブラリモジュールとして中間階層定義された形式にて出力される。
ここで、図形データは、本実施の形態に関連する分野におけるデファクトスタンダードとして利用されるＧＤＳフォーマットに対比させれば、長方形図形はレクトアングル、一筆書き図形はバウンダリ、中心線に幅が定義された図形はパス、これら図形データをまとめたモジュールはセルと称されるものである。

図３４は、本発明の他の実施の形態に係るレチクル設計システムのブロック図で、複数の中型又は小型パネルが同種配置されており、データ切断を必要としない場合のレチクル設計システムのブロック図である。この場合は、データ切断プログラムを必要としないので補正パターンが存在しないことになり、従って、前述した切断を必要とする場合のハードウェア構成及びプログラム集合（図８参照）の部分集合にて処理可能であることになる。

図３５、図３６は、本発明の他の実施の形態において、データ切断を伴わない例の場合の繰り返し構造検証の説明図である。
データ切断を伴わない場合でも人為的ミスを防ぐため繰り返し構造検証は必要である。即ち、指定されたショット枠２１３を指定された配列に従って繰り返し処理をしたとして、データの整合性が取れるのか否かの検証である。

ここで検出されるエラーの多くの場合は、ショット枠２１３のサイズと繰り返し配列（図３５、図３６の例では正しい繰り返し回数は２×２−１）の記述を誤り、ショット枠２１３内領域データと繰り返し指定された領域データ同士のデータ整合性が相似的には合っているが、ＸＹ座標の意味で不一致する場合である。繰り返し配列は人間が指定するので、人為的ミスはよく発生する。

図３５に示すように、中規模パネルＡ２におけるショット枠２１３設定と繰り返し構造検証を行う場合、正しいショット枠２１３（ショット枠Ａ２）の繰り返し構造が得られたか否かの検証は、ガラス基板２１０上からレチクル２０５上に設定されたショット枠２１３を、ガラス基板２１０上にて（２×２−１）回繰り返し配置して、正しい繰り返し構造が得られるか否かによって行う。

同様に、図３６に示すように、小型パネルＡ４におけるショット枠２１３設定と繰り返し構造検証を行う場合、正しいショット枠２１３（２×２個のショット枠Ａ４）の繰り返し構造の検証は、ガラス基板２１０上からレチクル２０５上に設定されたショット枠２１３を、ガラス基板２１０上にて（２×２−１）回繰り返し配置して、正しい繰り返し構造が得られるか否かによって行う。

図３７、図３８は、本発明の他の実施の形態において、ＣＰＵ７がブラインド枠生成プログラムを実行することによって行うブラインド枠生成処理示す図で、データ切断を伴わない場合の例であり、表示部１の表示内容を示す図である。この例は、中規模又は小規模同一の複数ショット枠のみが存在する場合にブラインド枠１５８を生成する例である。
切断を伴わない場合、多くの場合ショット枠は長方形が指定され、ブラインド枠１５８の内縁３７１はショット枠の外縁に対応する形状にて生成される。データ構造は、図１５に示した斜線を含む多角形のブランド枠データ構造と同じ一筆書きにて形成され、オーバラップ領域の指定が可能である点も同じである。

図３９は、本発明の実施の形態に係るレチクル設計システムにおいて、図８のＣＰＵ７が記憶部８に記憶したショット枠設定プログラムを実行することによって行うショット枠設定処理のフローチャートである。
ガラス基板ウィンドウ９上で設定したショット枠をレチクルウィンドウ１０上にマウス３等の操作部１６を使用して移動させるインタラクティブな処理となる。

この際、ショット枠に付随するパネルレイアウトデータ１２のデータ群が認知され、後に続くデータ切断の対象となり最終的に露光データとなる。
また、ここでは後段の処理に必要となる種々のパラメータを必要に応じて設定する。パラメータの内容は、ショット枠の層コード、切断データの層コード、補正パターンの層コード、ブラインド枠の層コード、補正パターンの数値指定、ブラインド枠の数値指定、切断枠のシフト指定等である。

これらは通常、ファイル記憶部６に記憶されたルールファイルに記載されているため、ルールファイルに記載されているパラメータが１種類の数値の場合には当該数値を自動的に選択することにより、複数種類の数値が記載されている場合にはルールファイルを参照して操作部１６によって選択することにより、あるいは、ルールファイルに記載されていない数値の場合には操作部１６から数値を入力することにより、必要に応じて本プログラムの実行段階にて設定が可能である。
その意味において、本プログラムは、レチクルデータを作成するに当たっての初期条件を設定する役割を担っている。

図３９に沿ってショット枠設定処理を説明すると、ＣＰＵ７は、マウス３等の操作部１６によってガラス基板ウインドウ９上でショット枠が選択されたか否かを判断し（ステップＳ３９１）、ショット枠が選択されたと判断した場合には、選択されたショット枠領域を、操作部１６によって指定されたレチクルウインドウ１０上の所定位置へ移動する（ステップＳ３９２）。

このとき、操作部１６によってメニューウィンドウ１１上に表示されたショット枠設定コマンドを選択することにより、操作部１６にショット枠設定指示機能を持たせ、操作部１６を操作してガラス基板ウインドウ９上でショット枠の設定をった後、ガラス基板ウインドウ９とレチクルウインドウ１０間の移動を行って、レチクルウインドウ１０上に対応するショット枠の設定を行うことになる。

ＣＰＵ７は、前記移動が完了するまで行い、前記移動が完了したと判断すると（ステップＳ３９３）、ファイル記憶部６に記憶されたルールファイルを参照して自動的にあるいは操作部１６による選択によって、あるいは操作部１６からパラメータ数値の入力を行うことによって、露光データを生成するための各種パラメータを設定する（ステップＳ３９４）。このようにして設定した数値は前記ルールファイル内に記憶して使用される。
ＣＰＵ７は、ショット枠の移動処理及びパラメータの設定処理が正常に行われた場合には処理を終了し、正常に行われなかった場合には、表示部１にエラー表示を行う等のエラー処理を行う（ステップＳ３９５）。

図４０は、本発明の実施の形態に係るレチクル設計システムにおいて、図８のＣＰＵ７が記憶部８に記憶した繰り返し構造検証プログラムを実行することによって行う繰り返し構造検証処理のフローチャートである。繰り返し構造検証のためには一旦データ切断を行う必要があり、データ切断プログラムと同一のルーチンを使用してこれを行っている。但し、補正パターンや斜線切断処理は行わない。比較照合するに当たり、このような処理は必要ないからである。

ＣＰＵ７は、先ず、ガラス基板１２上にてショット枠と配列数Ｍ×Ｎが指定されたか否かを判断し（ステップＳ４０１）、ショット枠及び配列数Ｍ×Ｎの双方が指定されていない場合には前提条件がエラーとなるため、表示部１にエラーを表示する等のエラー処理を行う（ステップＳ４０８）。
ＣＰＵ７は、ガラス基板１２上にてショット枠と配列数Ｍ×Ｎが指定されたと判断すると、指定されたショット枠でパネルレイアウトデータを切断し、当該ショット枠に対応するデータ切断領域を配列数Ｍ×Ｎ個生成して、パネルレイアウトデータの繰り返し領域をＭ×Ｎ個の前記ショット枠対応のデータ切断領域に分割する（ステップＳ４０２）。

ＣＰＵ７は、切断に当たり、トランジスタモジュール、スルーホール又は中間階層モジュールが切断線直下に存在するか否かを検証する（ステップＳ４０３、Ｓ４０４）。トランジスタモジュールにせよスルーホールにせよ、大きさがライブラリに登録されているので、ライブラリを参照して切断線直下に存在しているか否かを検証する。切断面直下に中間階層モジュールが存在する場合も通常は切断禁止であるから、これもモジュールライブラリを参照して切断線直下に存在するか否かを検証する。

尚、中間階層モジュールが切断線直下に存在しても本切断処理を行いたい場合には、本中間階層モジュールを展開して配線データとスルーホールとトランジスタモジュールにし、スルーホール及びトランジスタモジュールが切断線直下に存在しない様にして本切断処理を行う。
ＣＰＵ７は、これらのデータが切断線直下に存在しないと判断した場合、配線データの切断を行う。指定されたショット枠と繰り返し指定されたショット枠すべての領域について切断を行う。続いて各ショット枠を図１３に示す様にブロック分割し、各データの代表座標である下方左側の座標を決定し、所属するブロックに登録して図１４に示すテーブルを作成する（ステップＳ４０５）。

次にＣＰＵ７は、各ショット枠のテーブルが作成されたら、指定されたショット枠のテーブルと繰り返し指定されたショット枠のテーブル内容を比較照合し、一致しているか否かを検証する（ステップＳ４０６、Ｓ４０７）。
ＣＰＵ７は、前記照合結果が一致する場合には繰り返し構造検証結果は満足（ＯＫ）と判断して表示部１に繰り返し構造検証を満足する旨表示し（ステップＳ４０９）、前記照合結果が一致しない場合には繰り返し違反が存在すると判断して表示部１に繰り返し違反する旨の表示を行う（ステップＳ４１０）。

本繰り返し構造検証処理は、図３４〜図３８に示すような切断を伴わない場合においても有効である。即ち、本検証処理は、人間のケアレスミスを防止するためになされるものであり、たとえ配線の切断を伴わないような場合でも、繰り返し指定は人間が行うので、よく間違えるからである。この場合には配線の切断処理を除いた処理手順にて本処理は行われる。

図４１は、本発明の実施の形態に係るレチクル設計システムにおいて、図８のＣＰＵ７が記憶部８に記憶したブラインド枠最小間隔検証プログラムを実行することによって行うブラインド枠最小間隔検証処理のフローチャートである。
複数の隣接するブラインド枠が一定の間隔を保たないと露光処理をする際に製造上の問題を起こすので、ブラインド枠間の最小間隔が所定の間隔を有しているか否かを検証するものである。

これは、ブラインド枠は機械的な遮光機構に制御されるので（図１参照）、ある一定の最小間隔がブラインド枠間において保障される必要があることによる。従って、このプログラムは、複数のブラインド枠がレチクルレイアウト上に設定された場合にのみ適用されることになる。レチクルデータを作成する際のショット枠の配置は人間が行うので、本検証は重要である。

図４１に沿ってブラインド枠最小間隔検証処理を説明すると、ＣＰＵ７は、全てのブラインド枠についての処理を終了した場合には処理を終了し、全てのブラインド枠についての処理を終了していない場合には（ステップＳ４１１）、次のブラインド枠を設定する（ステップＳ４１２）。
次にＣＰＵは、全てのブラインド枠（既存のブラインド枠と前記新たに設定したブラインド）間が所定の最小間隔を満足しているか否かを検証する（ステップＳ４１３）。

ＣＰＵ７は、全てのブラインド枠間の間隔が前記最小間隔を満足していれば処理ステップＳ４１１に移行し、いずれかのブラインド枠間の間隔が前記最小間隔を満足していない場合にはエラーレポートを作成した後に処理ステップＳ４１１に移行する（ステップＳ４１４）。前記エラーレポートにより、最小間隔を満足しない全てのブラインド枠を知ることができる。

図４２は、本発明の実施の形態に係るレチクル設計システムにおいて、図８のＣＰＵ７が記憶部８に記憶したデータ切断プログラム、補正パターン生成プログラム及びブラインド枠生成プログラムを実行することによって繰り返し要素単位にて行う、データ切断処理、補正パターン生成処理及びブラインド枠生成処理から成る一連の処理を示すフローチャートである。この一連の自動処理工程は、データ切断を必要とするレチクルレイアウト設計工程において採用される基本工程となる。この処理は各ショット枠単位に行われ、かつ各レイヤ単位にまとめられて最終的に繰り返し要素単位にて出力され、全繰り返し要素の処理を終えて終了する。

図４２に沿って、繰り返し要素単位に行われるデータ切断処理、補正パターン生成処理、ブラインド枠生成処理から成る一連の処理について説明する。
ＣＰＵ７は、全ての繰り返し要素についての処理を終了した場合には処理を終了し、全ての繰り返し要素についての処理を終了していない場合には（ステップＳ４２１）、操作部１６によって設定されたショット枠に基づいてパネルレイアウトデータの切断処理を行い、前記ショット枠に対応する切断データを生成する（ステップＳ４２２）。

次にＣＰＵ７は、記憶部６に記憶されたルールファイルを参照して自動的に、あるいは、操作部１６によってルールファイルから選択され又は操作部１６から入力され前記ルールファイル内に記憶された補正パターン幅の数値に基づいて、前記切断データに対して補正パターンを一体に生成する（ステップＳ４２３）。

次にＣＰＵ７は、記憶部６に記憶されたルールファイルを参照して自動的に、あるいは、操作部１６によってルールファイルから選択され又は操作部１６から入力され前記ルールファイル内に記憶されたブラインド枠幅の数値に基づいて、前記補正パターンが形成された各切断データに対して、ショット順番に応じてブラインド枠を一体形成する（ステップＳ４２４）。

次にＣＰＵ７は、各データ（切断データ、補正パターンデータ及びブラインド枠データ）を繰り返し要素データ（露光要素データ）としてまとめ、最終的なレチクルデータ（図３０の露光ショット情報）をデータファイル記憶部５にファイル出力して記憶した後、処理ステップＳ４２１に戻る（ステップＳ４２５）。

以上述べた様に、本実施の形態に係るレチクル設計システムは、操作部１６と、少なくとも、ガラス基板のパネルレイアウトデータを表示するガラス基板ウインドウ９、レチクルレイアウトデータを表示するレチクルウインドウ１０及び操作部のコマンドを表示するメニューウインドウ１１を表示する表示部１と、操作部１６によってガラス基板ウィンドウ９上に設定されたショット枠に対応するパネルレイアウトデータを切り取って部分パネルレイアウトデータとして抽出し、前記部分パネルレイアウトデータに切断データが含まれる場合には該切断データの端部に補正パターンを形成すると共に、内縁が前記補正パターンの外縁に対応するブラインド枠を形成することにより、前記部分パネルレイアウトデータに対応する露光要素データを操作部１６によって指定されたレチクルウインドウ１０上の位置に生成するレチクルデータ生成手段とを備えている。

したがって、ガラス基板ウィンドウ９、レチクルウィンドウ１０及びメニューウィンドウ１１の３ウィンドウを用いて操作することにより、ガラス基板上のパネルレイアウトデータにショット枠を設定し、これをレチクルウィンドウ１０に移動させてレチクル設計を容易に行うことが可能になる。
また繰り返し構造検証やブラインド枠最小間隔検証は、人為的ミスを撲滅させる意味において多大な効果があり、フラットパネルディスプレイに応じた正確なレチクルを容易に設計することが可能になる。

また、データ切断、補正パターン生成、ブラインド枠生成といった一連の自動化処理工程はレチクルレイアウト設計上極めて重要な処理工程であり、適正なレチクルを容易に自動設計することが可能になる。
また、ガラス基板とレチクルとの露光ショット情報に関する座標情報リストファイルの提供は、ユーザにとって極めて重要な情報提示であり、前記情報の有効活用を図ることが可能になる。

また、ショット枠定義の機能として、斜線部を含むショット枠定義を可能とすることにより、共通性が高くより領域の大きな繰り返し構造の抽出が極めて容易となる。
また、本斜線部を含むショット枠定義が可能となることによって、無駄な配線切断なしに領域を分割することも可能となり、したがって、共通性の高いより大きな露光データのショット枠領域を抽出できるようにして、効率良いレチクルを設計することが可能になる。

また、本実施の形態によれば、表示部、操作部、ＣＰＵ及び記憶部を有するコンピュータに実行させることによって前記レチクル設計システムを構築するレチクル設計用プログラムを提供することが可能になる。また、前記効果を奏するレチクル設計方法が提供される。

尚、本実施の形態では、１つのコンピュータを用いてレチクル設計システムを構築するようにしたが、複数のコンピュータを用いて構築するようにしてもよい。この場合、前記各プログラムは、システム構成に応じて適宜分割した構成とすることができる。

液晶ディスプレイ等の各種ディスプレイ製造用レチクルを作成するレチクル設計システムに利用可能である。また、コンピュータを各種ディスプレイ製造用レチクルを作成するレチクル設計システムとして機能させるプログラムに利用可能である。

本発明の実施の形態におけるフラットパネルディスプレイ用ガラス基板とレチクルとの関係を示す図である。 本発明の実施の形態におけるガラス基板上のパネルレイアウトデータとレチクル上のレチクルレイアウトデータの関係を示す図である。 本発明の実施の形態におけるパネルレイアウトデータを示す図である。 本発明の実施の形態におけるパネルレイアウトデータの分割処理を説明する図である。 本発明の実施の形態におけるショット枠とレチクルレイアウトデータの関係を示す図である。 本発明の実施の形態においてレチクルデータを生成する際の全体的な表示内容を示す図である。 本発明の実施の形態においてレチクルデータを生成する際の全体的な処理を示すフローチャートである。 本発明の実施の形態に係るレチクル設計システムのブロック図である。 本発明の実施の形態における繰り返し構造検証処理を示す図である。 本発明の実施の形態におけるショット枠のデータ比較照合の概念を示す図である。 本発明の実施の形態におけるショット枠のデータ比較照合の概念を示す図である。 本発明の実施の形態におけるショット枠内領域データのデータ構造を示す図である。 本発明の実施の形態におけるショット枠内の領域分割を示す図である。 本発明の実施の形態におけるショット枠内データのテーブル構造を示す図である。 本発明の実施の形態におけるデータ切断処理、補正パターン生成処理、ブラインド枠生成処理を説明する図である。 本発明の実施の形態におけるデータ切断処理、補正パターン生成処理、ブラインド枠生成処理を説明する図である。 本発明の実施の形態において切断枠をシフトさせて処理する場合の説明図である。 本発明の実施の形態において切断枠をシフトさせて処理する場合の説明図である。 本発明の実施の形態において切断枠をシフトさせて処理する場合の説明図である。 本発明の実施の形態において、斜線部を有する場合のデータ切断処理、補正パターン生成処理、ブラインド枠生成処理を示す図である。 本発明の実施の形態において、斜線部を有する場合のデータ切断処理、補正パターン生成処理、ブラインド枠生成処理を示す図である。 本発明の実施の形態において、斜線部を有する場合のデータ切断処理、補正パターン生成処理、ブラインド枠生成処理を示す図である。 本発明の実施の形態において、斜線部を有する場合のブラインド枠生成処理の詳細を示す図である。 本発明の実施の形態において、斜線部を有する場合のブラインド枠生成処理の詳細を示す図である。 本発明の実施の形態におけるショット枠の有効性を示す図である。 本発明の実施の形態におけるショット枠の有効性を示す図である。 本発明の実施の形態におけるショット枠の有効性を示す図である。 本発明の実施の形態における配線データと補正パターンのデータ形式を示す図である。 本発明の実施の形態における座標情報出力処理示す図である。 本発明の実施の形態における座標情報出力処理示す図である。 本発明の実施の形態におけるパネルレイアウトデータの構造を示す図である。 本発明の実施の形態におけるレチクルレイアウトデータの構造を示す図である。 本発明の実施の形態におけるデータを示すテーブルである。 本発明の他の実施の形態に係るレチクル設計システムのブロック図である。 本発明の他の実施の形態における繰り返し構造検証の説明図である。 本発明の他の実施の形態における繰り返し構造検証の説明図である。 本発明の他の実施の形態におけるブラインド枠生成処理示す図である。 本発明の他の実施の形態におけるブラインド枠生成処理示す図である。 本発明の実施の形態におけるショット枠設定処理のフローチャートである。 本発明の実施の形態における繰り返し構造検証処理のフローチャートである。 本発明の実施の形態におけるブラインド枠最小間隔検証処理のフローチャートである。 本発明の実施の形態における一連の処理を示すフローチャートである。

符号の説明

１・・・表示部
２・・・キーボード
３・・・マウス
４・・・プログラム記憶部
５・・・データファイル記憶部
６・・・ファイル記憶部
７・・・ＣＰＵ
８・・・記憶部
９・・・ガラス基板ウインドウ
１０・・・レチクルウインドウ
１１・・・メニューウインドウ
１２、１０１、２１０、２９１・・・ガラス基板
１３、１０６、２０５、２９５、２９８、２９１１・・・レチクル
１６・・・操作部
１０２、２１２・・・露光領域
１０３・・・露光可能領域
１０４・・・光源系機構
１０５・・・遮光系機構
１０７・・・露光面
１３１・・・ブロック
１３２・・・スルーホール
１３３・・・トランジスタモジュール
１３４・・・中間階層モジュール
１３５、１５１、１５２、２７１、２８１、２００１・・・配線データ
１５４〜１５７、２８４、２８５、２８８、２００３、２００４・・・補正パターン
１５８、２５４〜２５６、２６４〜２６６・・・ブラインド枠
１５９・・・切断枠
２０１〜２０４・・・液晶パネル
２０６・・・レチクルレイアウトデータ
２１１、２９２・・・パネルレイアウトデータ
２１３、２５１〜２５３、２６１〜２６３、２７３・・・ショット枠
２４１・・・オーバラップ幅
２７２・・・クランク部
２７４、２８２、２８３、２８６、２８７、２００２・・・斜線部
２８９・・・中心線
２９３・・・中心座標
２９４・・・アライメントマーク
２９６、２９９、２９１０、２９１２、２９１３・・・繰り返し要素
２９７・・・露光領域
３０１・・・ショット枠分割線
３７１・・・内縁
２９１４・・・繰り返し集合

Claims (13)

1. 操作手段と、
   少なくとも、ガラス基板のパネルレイアウトデータを表示するガラス基板ウインドウ、レチクルレイアウトデータを表示するレチクルウインドウ及び前記操作手段のコマンドを表示するメニューウインドウを表示する表示手段と、
   前記操作手段によって前記ガラス基板ウィンドウ上に設定されたショット枠に対応するパネルレイアウトデータを切り取って部分パネルレイアウトデータとして抽出し、前記部分パネルレイアウトデータに切断データが含まれる場合には該切断データの端部に補正パターンを形成すると共に、内縁が前記補正パターンの外縁に対応するブラインド枠を形成することにより、前記部分パネルレイアウトデータに対応する露光要素データを前記レチクルウインドウ上に生成するレチクルデータ生成手段とを備えて成ることを特徴とするレチクル設計システム。
2. 前記操作手段によって前記ガラス基板ウインドウ上に多角形のショット枠が設定された場合、前記レチクルデータ生成手段は、前記多角形に対応する内縁を有する前記ブラインド枠を形成することを特徴とする請求項１記載のレチクル設計システム。
3. 前記ショット枠は斜線部を有する多角形に形成されて成ることを特徴とする請求項２記載のレチクル設計システム。
4. 前記操作手段は、前記メニューウインドウに表示されるコマンドを入力することによって、前記ガラス基板のパネルレイアウトデータ上に設定された前記ショット枠に対して繰り返し配列を指定すると共に、
   前記ショット枠と前記繰り返し配列が指定された領域に対応するパネルレイアウトデータが一致するか否かを比較照合する繰り返し検証手段を備えて成ることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一に記載のレチクル設計システム。
5. 前記繰り返し検証手段は、前記ショット枠と繰り返し配列が指定された領域に対応するパネルレイアウトデータを複数のブロック領域に分割すると共に、前記各ブロック領域に属するデータを表すテーブルを作成し、対応する前記ブロック領域に属するデータを比較照合することにより、前記ショット枠と前記繰り返し配列が指定された領域に対応するパネルレイアウトデータが一致するか否かの比較照合を行うことを特徴とする請求項４記載のレチクル設計システム。
6. 前記パネルレイアウトデータを切断可能な条件、補正パターンの幅及びブラインド枠間の最小距離を含む生成条件を記憶する記憶手段を有し、
   前記レチクルデータ生成手段は、前記生成条件を満足するように前記露光要素データを生成することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一に記載のレチクル設計システム。
7. 前記記憶手段には、前記操作手段によって設定した生成条件が記憶されることを特徴とする請求項６記載のレチクル設計システム。
8. 前記レチクルデータ生成手段は、切断データの形状に応じて、長方形又は平行四辺形の補正パターンを生成することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一に記載のレチクル設計システム。
9. 前記レチクルデータ生成手段は、前記切断データの内側、外側及び両側に対する指定された補正パターン長に基づいて前記補正パターンを生成することを特徴とする請求項１乃至８のいずれか一に記載のレチクル設計システム。
10. 前記レチクルデータ生成手段は、前記ショット枠を指定された量シフトした切断枠に沿って前記パネルレイアウトデータを切り取ることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか一に記載のレチクル設計システム。
11. 複数の前記ブラインド枠が存在する場合に、ブラインド枠間の最小間隔を検証するブラインド枠間隔検証手段を備えて成ることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか一に記載のレチクル設計システム。
12. 前記ブラインド枠は、一筆書きのデータ形式として一定のデータ順序にて構成され、オーバラップ指定に従いブラインド枠としてオーバラップ領域が構成されることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか一に記載のレチクル設計システム。
13. コンピュータを、請求項１乃至１２のいずれか一に記載のレチクル設計システムとして機能させるためのプログラム。

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