JP2009063653A - レチクル検証システム及びプログラム - Google Patents

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Abstract

【課題】 レチクルに設けられた露光要素による露光結果を予め検証できるようにすること。
【解決手段】 CPU7は、記憶部8のデータファイル記憶部5に記憶された露光要素の図形データ及び座標情報を参照して、前記露光要素に対応するディスプレイパネル上のパネルレイアウト要素を生成し、前記ディスプレイパネル上の複数のパネルレイアウト要素の位置関係を判別することによって前記露光要素がエラーか否かを検証する。表示部1は、パネル基板ウインドウ9又はレチクルウインドウ10内に、前記検証結果を表示する。
【選択図】 図14

Description

本発明は、所望の露光が行えるようにレチクルデータが作成されているか否かの検証を行うレチクル検証システムに関し、特に、フラットパネルディスプレイ作成用レチクルデータの検証を行うレチクル検証システムに関する。
フラットパネルディスプレイ(FPD)作成用レチクルデータは、パネルレイアウトデータ上にショット枠を規定して露光要素(以下、繰り返し要素とも証する。)として切り出して作成され、前記露光要素の図形データ及びパネル基板上の露光位置を表す座標情報を含んでいる。
前記レチクルデータを用いてFPDのパネル基板上に転写する場合、前記レチクルデータの露光要素を配置する座標情報を用いて、露光装置にてFPDのパネル基板上に転写される。
この際、レチクルに設けられた露光要素の図形データもしくは前記座標情報に誤りがあると、レチクルを無駄にしてしまうのみならずパネル基板も無駄にしてしまう事になる。特にフラットパネルディスプレイ用のレチクルデータ作成にあたっては、人手による露光領域の分割が必要である場合が多く、ミスを発生しやすい状況にある。
これを防ぐにはレチクル図形データと座標情報から露光装置をシミュレーションして検証する方法が考えられる。ここで、露光装置とシミュレーションの関係では、例えば露光装置のコスト最適化を図る技術がある。特許文献1には、シミュレータを使い露光装置において、時間と労力を低減して計測条件を最適化する、計測条件の最適化方法を提供する技術が記載されている。しかしながら、特許文献1は、計測条件の最適化を行うようにした発明が開示されているにすぎない。
一般に、フラットパネルディスプレイ用のパネル基板の大きさは、露光装置の露光範囲を大幅に超える大きさである。従って、露光装置に装着するレチクルはパネル基板より小さく、レチクル上にはパネル基板上の一部分を切り出した要素を露光要素として配設していする。
レチクルを用いて露光装置により露光する場合、レチクル上の露光要素を繰り返し配置して露光することにより、フラットパネルディスプレイ用パネル基板を製造する。
このように、レチクルを作成する際には、ディスプレイパネル領域の分割とディスプレイレイアウトデータの切断を行ってレチクルの露光要素等を作成し、その一方、ディスプレイパネルを作成する際には、これを繰り返し露光する事によってパネル基板を作成するので、レイアウトデータの切断と露光要素の繰り返し配置の際にミスを生じやすい。
またレイアウトデータの切断を伴わない場合においてもディスプレイパネル領域の分割は必要であるから、露光要素の繰り返し配置の指定は必ず実施しなければならない。この際に繰り返し配置の指示ミスが生ずる場合が極めて多い。したがって、製造前工程において露光結果を予め検証する何らかの検証手段が要望されている。
特開2006−140204号公報
本発明は、レチクルに設けられた露光要素による露光結果を予め検証可能なレチクル検証システムを提供することを課題としている。
また、本発明は、露光装置の動作をシミュレーションすることによって、露光要素による露光結果を予め検証可能なレチクル検証システムを提供することを課題としている。
また、本発明は、コンピュータに実行させることにより、前記レチクル検証システムを構築するのに好適なレチクル検証用プログラムを提供することを課題としている。
本発明によれば、フラットパネルディスプレイ露光用レチクルに含まれる露光要素の図形データと、グリッド格子点の座標によって表され、ディスプレイパネル上の前記露光要素の露光位置を表す座標情報とを記憶する記憶手段と、前記記憶手段に記憶した露光要素の図形データ及び座標情報に基づいて、前記露光要素に対応する前記ディスプレイパネル上のレイアウト図形要素を生成するレイアウト図形要素生成手段と、前記レイアウト図形要素生成手段が生成した前記ディスプレイパネル上の複数のレイアウト図形要素の位置関係に基づいて前記露光要素を検証する検証手段と、前記検証手段が検証した結果を表示する表示手段とを備えて成ることを特徴とするレチクル検証システムが提供される。
レイアウト図形要素生成手段は、記憶手段に記憶した露光要素の図形データ及び座標情報に基づいて、前記露光要素に対応する前記ディスプレイパネル上のレイアウト図形要素を生成する。検出手段は、前記レイアウト図形要素生成手段が生成した前記ディスプレイパネル上の複数のレイアウト図形要素の位置関係に基づいて前記露光要素を検証する。表示手段は、前記検証手段が検証した結果を表示する。
ここで、前記表示手段は少なくとも検証結果を表示するウインドウを有し、前記検証手段は、前記複数のレイアウト図形要素に対応するグリッド格子同士の演算処理を行うことによって前記複数の露光要素を検証し、前記表示手段は、前記検証手段による検証結果得られる図形を前記ウインドウ上に表示するように構成してもよい。
また、前記レチクルのデータはトランジスタ図形を定義する中間階層又はトランジスタ図形を定義した外部ライブラリを中間階層として有すると共に、前記トランジスタ図形を定義する中間階層又は外部ライブラリをポインタ構造により必要に応じて展開するテーブル構造を持つ展開手段を備えて成るように構成してもよい。
また、前記検証手段は、2つのレイアウト図形要素の論理OR処理を行った後、前記いずれかのレイアウト図形要素と前記論理ORの結果得られる図形要素中の当該レイアウト図形要素に対応する領域との論理XOR処理又は差分処理を行うことによって、前記2つのレイアウト図形要素の差異を抽出する差異抽出手段を有するように構成してもよい。
また、前記検証手段は、2つのレイアウト図形要素の論理AND処理を行うことによって前記2つのレイアウト図形要素のオーバラップ量を検出するオーバラップ量検出手段を備えて成るように構成してもよい。
また、前記検証手段は、前記オーバラップ量検出手段の検出したオーバラップ量が、指示されたオフセット値を満たすか否かを検証するオフセット検証手段を備えて成るように構成してもよい。
また、前記検証手段は、前記オーバラップ量検出手段が前記2つのレイアウト図形要素のオーバラップ量の無いことを検出した後、論理OR処理を行い2つのレイアウト図形要素が閉じたひとつの図形に形成される結果が確認された場合には前記2つのレイアウト図形要素は連続した図形要素であると判別する要素判別手段を備えて成るように構成してもよい。
また、前記各露光要素には図形要素及び前記図形要素を囲む所定幅のブラインド枠が含まれ、前記検証手段は、前記ブラインド枠内縁に対応する前記ディスプレイパネル上のグリッド格子に対し所定オフセット値の範囲内に、前記図形要素のレイアウト図形要素の終点が存在するか否かを検証する終点検証手段を備えて成るように構成してもよい。
また、エラーの検証結果が含まれるエラーレイヤを指定する指定手段を有し、前記表示手段が前記検証結果を表示するウィンドウ上にエラー図形情報を表示する場合、前記指定手段が指定したエラーレイヤのエラー図形情報をレイヤ単位で前記ウィンドウ上に表示するように構成してもよい。
また、前記表示手段は前記検証結果を表示するウィンドウとは異なるダイアログボックスを有し、前記指定手段は前記ダイアログボックス上にて前記エラーレイヤを指定し、前記表示手段は、前記ダイアログボックス上にてエラー個数を表示すると共に、前記指定手段によるエラーレイヤの指定に応答して当該レイヤのエラー図形情報を前記ウィンドウ上に表示するように構成してもよい。
また、本発明によれば、コンピュータを、前記いずれか一に記載のレチクル検証システムとして機能させるためのプログラムが提供される。
コンピュータは、前記プログラムを実行することにより、前記いずれか一に記載のレチクル検証システムとして機能する。
本発明に係るレチクルデータ露光検証システムは、レチクルに設けられた露光要素による露光結果を予め検証することが可能になる。
また、露光装置の動作をシミュレーションすることによって、露光要素による露光結果を予め検証することが可能になる。
また、本発明に係るプログラムは、コンピュータが実行することによって前記レチクルデータ露光検証システムを構築することが可能になる。
以下、本発明の実施の形態に係るレチクル検証システム及びレチクル検証用プログラムについて説明する。
尚、詳細は後述するが、本発明の実施の形態に係るレチクル検証システムは、1台又は複数台のコンピュータ及び前記コンピュータが実行することによってレチクル検証システムを構築するレチクル検証用プログラムとによって構成されている。前記コンピュータは、レチクルデータ作成用プログラムを実行することによって、レチクルデータを作成するためのレチクルデータ作成システムとしても機能する。また、各図において、同一部分には同一符号を付している。
図1は、本発明の実施の形態におけるフラットパネルディスプレイ(FPD)用パネル基板とレチクルの関係を示す図で、同図(a)は平面図、同図(b)は側面図である。
図1において、101はパネル基板、102は特性が保証された露光装置(図示せず)の露光領域、103は露光装置の露光可能領域、104は光源系機構、105は遮光系機構、106はレチクル、107は露光面である。ここでパネル基板101の材質は、ガラスやプラスティックフィルム等が使用可能である。
近年のフラットパネルディスプレイは、液晶ディスプレイパネルやプラズマディスプレイパネルに見られるように大型化され露光装置がパネル基板101を一括して露光できない(図1(a)の平面図参照)。従って何らかの形で露光領域を分割し、繰り返し露光を行う必要が出てくる。露光装置とパネル基板101の位置関係は、光源から見て光源系機構104、遮光系機構105、レチクル106、露光面107、パネル基板101となり、図1には記載されていないがこれにレンズ系機構が加わる(図1(b)の側面図参照)。
尚、遮光系機構105とは、光源からの光を機械的に遮蔽するための長方形の機械的な機構である。
図2は、本発明の実施の形態におけるパネル基板上のパネルレイアウトデータとレチクル上のレチクルレイアウトデータとの関係を示す図である。
図2において、液晶パネル201はパネルレイアウトデータ211として一種類の大型パネルレイアウトデータA1がパネル基板210上にひとつ存在する例である。液晶パネル201の場合には、パネルレイアウトデータA1を分割して、繰り返し構造をもつデータ群をショット枠213に対応付けて抽出し、これをレチクル205上に配置してレチクルレイアウトデータ206とする。
通常この場合には、パネルレイアウトデータA1の切断を伴う露光領域の分割が行われることになる。本実施の形態では、パネルレイアウトデータの各分割された要素(パネルレイアウト要素)に対応するレチクルレイアウトデータの各要素を、露光要素又は繰り返し要素と称する。レチクルレイアウトデータは、複数の露光要素によって構成されることになる。尚、212は特性が保証された露光領域である。
液晶パネル202は、パネルレイアウトデータとして、中型パネルレイアウトデータA2とA3が存在する場合である。この場合もパネルレイアウトデータA2とA3をパネルレイアウトデータの切断を伴う露光領域分割を行い、繰り返し構造をもつデータ群をショット枠213に対応付けて作成するのが通例である。
液晶パネル203は、パネルレイアウトデータとして、小型パネルレイアウトデータA4とA5がパネル基板上に複数配列された場合である。このような場合には複数のパネルレイアウトデータA4と複数のパネルレイアウトデータA5を各々ショット枠213に対応付けて生成し、該生成したレチクルレイアウトデータ206をレチクル205上に配置して露光の回数を減らす操作が必要となる。従って、通常この場合には露光領域の分割は必要であるがパネルレイアウトデータの切断は伴わない。
液晶パネル204は、中型パネルレイアウトデータA2と小型パネルレイアウトデータA4、A5の3種類のパネルレイアウトデータがパネル基板上に存在する場合である。このような場合には、中型パネルレイアウトデータA2はパネルレイアウトデータの切断を伴う露光領域分割を行ってショット枠213に対応付けて生成し、小型レイアウトデータA4、A5はパネルレイアウトデータの切断を伴わない露光領域分割を行ってショット枠213に対応付けて生成し、レチクルレイアウトデータ206とする。
このように、レチクルを作成する場合、パネル基板210のパネルレイアウトデータ211等から繰り返し構造をもつデータ群を抽出し、これをレチクル205上に複数のショット枠213として配置し、レチクルレイアウトデータを作成する。この際、共通性が高く、より大きなショット枠領域を抽出する。
いずれの場合においても露光装置シミュレーションを行う事により誤データがない事を確認する事が重要である。それはパネルレイアウトデータの切断を伴わない場合においても繰り返し配置を行う露光領域の分割は必ず必要であり、この繰り返し配置を指定する際にミスが生じやすいからである。尚、レチクルデータにおけるショット枠データはブラインド枠が設定された図形要素となり、これを露光要素、あるいは、繰り返し要素と称する。
本発明の実施の形態に係るレチクル検証システムについて詳説する前に、先ずレチクルデータの作成手順について概略説明する。
図3及び図4は、パネルレイアウトデータからレチクルデータを作成する際の一般的な処理手順を示す図であり、図3はレチクル検証システム(レチクルを作成する時点ではレチクル作成システムとして機能させる。)の表示部1の表示内容を示す図、図4はレチクル作成システムを構成するCPU(図示せず)の処理手順を示すフローチャートである。
図3(a)にはパネル基板210上のパネルレイアウトデータ211を示し、同図(b)にはパネル基板210上へのショット枠213の設定と、レチクル205上へのショット枠213の配置とを示し、同図(c)にはパネル基板210上のパネルレイアウトデータ211の切断(例えばショット枠213に沿った切断)を行うことによる抽出、補正パターン(図示せず)生成及びブラインド枠(図示せず)生成を行う際の処理を示している。
また同図(d)にはレチクル設計システムから出力されるレチクルの座標情報を示している。前記座標情報には、露光要素データである各ショット枠に対応するレチクルレイアウトデータ(本実施の形態では露光要素、あるいは、繰り返し要素とも称する。)の幅と高さの情報、繰り返し要素を繰り返して配置する位置の情報(繰り返し配置情報)が含まれている。
図3及び図4を用いてレチクルデータの作成処理について概略説明すると、レチクルデータを作成する場合、先ずCPUは、パネルレイアウトデータ211を読み込み(ステップS401)、パネル基板210上でパネルレイアウトデータ211に対して複数のショット枠213を設定し、これをレチクル205上にショット枠213を配置してレチクルレイアウトデータ206を作成する(ステップS402)。
次に、ショット枠213に基づいて露光領域の分割を行う。この際、通常指定されたショット枠213の直下には配線データが存在するのでこれを切断しなければならない。ここでデータ切断部分に、前記切断部分よりも幅広のパターン(補正パターン)を生成させる場合(ステップS403、S404)と発生させない場合(ステップS405)がある。
補正パターンを発生させない場合にはショット枠213をオーバラップさせて定義した後、処理ステップS406へ移行する(ステップS405)。このように構成することにより、露光する際に、露光データそのものを多重露光させる事により、微小なズレによるデータの誤切断を防ぐことができる。
補正パターンを生成させる場合には補正パターン生成後、処理ステップS406に移行する(ステップS403、S404)。補正パターンを生成した場合、補正パターンそのものが多重露光されるのが一般的であり、結果として微小なズレによる誤切断が防止される。
処理ステップS402において、データの切断を伴わない露光領域の分割の場合には、直ちに、露光領域を囲む所定幅の枠(ブラインド枠)の生成処理(ステップS406)へ移る。
処理ステップS406のブラインド枠生成処理では、指定された幅でブラインド枠を生成する。補正パターンは配線パターンよりも幅広のパターンによって構成され、又、ブラインド枠はその内縁が前記補正パターンの外縁に対応するように構成される。
これにより、露光領域のデータとブラインド枠によって構成される露光要素(繰り返し要素)が作成される。また、前記露光要素に対応付けられた座標情報が作成される。
最後に、レチクルレイアウトデータ及び前記レイアウトデータに対応付けられた座標情報を出力して処理が終了する(ステップS407)。前記レイアウトデータは、レチクルレイアウトデータ、及び、ショット枠213のデータが追加されたパネルレイアウトデータである。
ここで、レチクルレイアウトデータとは、露光要素の図形を定義する情報であり、図形データとして長方形図形、一筆書き図形、中心線に幅が定義された図形、及びこれら図形データを構成する中間モジュールから構成されるデータファイルである。
座標情報とは、前述したように、レチクルレイアウトデータに含まれる露光要素の露光位置を定義する情報であり、露光要素の名称と高さと幅と繰り返し配置情報(繰り返し回数と配置座標の情報)が記述されているテキストファイルである。
また、レチクルデータとは、前記レチクルレイアウトデータ及び座標情報によって構成される情報をいう。
図5は、パネル基板に形成されるパネルレイアウトデータの構造を示す図である。最上位のモジュールをトップモジュール511と称し、これが1つ存在する。他のモジュールはすべてこのトップモジュール511に隷属する。これがレイアウトデータ下位モジュール512〜515であり、これは階層化されていてもよい。モジュールが有するレイアウトデータとは、例えば液晶パネルの場合には、薄膜トランジスタや液晶ドライバ部の各トランジスタの配置データ516、配線データ517、スルーホール配置データ518がある。
これらのトランジスタ、配線、スルーホールは、名称(配置データはライブラリ名、配線データは配線タイプ名、スルーホールデータはスルーホール名)を持っており、その内容はライブラリファイル(配置モジュールライブラリ、配線タイプライブラリ、スルーホールライブラリ)519に格納されていて、ライブラリとは名称一致にて確認されることになる。
また、トランジスタデータは多用されるため、ライブラリ形式にてパネルレイアウトデータとは独立に管理される場合もある。
図6は、レチクルデータの構造を示す図である。基本的にはパネルレイアウトデータと同様な構造である。トップモジュール521は同様に1つ存在する。トップモジュール521の下には複数の繰り返し要素522、523が下位モジュールとして存在し、これがレチクルデータの基本単位となる。
露光要素である繰り返し要素を構成するデータとしては、まずは露光対象データとしてブラインド枠データ524、補正パターンデータ525、切断されたデータ及び切断対象とならなかったデータ526、ショット枠データ527がある。その他、繰り返し要素の幅と高さデータ528、繰り返し要素配置データ529、切断後のショット枠内レイアウト下位モジュールデータ530、配置データ535、スルーホールデータ536がある。
モジュールが有するレイアウトデータとは、パネルレイアウトデータと同様に、例えば液晶パネルの場合には、薄膜トランジスタや液晶ドライバ部の各トランジスタの配置データ531、配線データ532、スルーホールデータ533がある。これらのトランジスタ等の配置データ531、配線データ532、スルーホールデータ533は名称を持ち、その内容はライブラリファイル(配置モジュールライブラリ、配線タイプライブラリ、スルーホールライブラリ、アライメントマークライブラリ)534に格納されていて、ライブラリとは名称一致にて確認されることになる。
パネルの場合と同様であり、全てライブラリファイルにて名称一致をもって確定させるデータ構造となっている。また、露光時にはもはや使用しないがショット枠データも保有する。
また、トランジスタデータは多用されるためライブラリ形式にてレチクルデータとは独立に管理される場合もある。
図7は、レチクルレイアウトデータの物理層、各データクラス及び層コードの例をメタル1層と2層の場合において示すテーブルである。
例えばメタル1層(アルミ第1層)の場合、ショット枠データは層コード101、ブラインド枠データは層コード102、パターンデータは層コード104、補正パターンは層コード105という具合に、メタル2層(アルミ第2層)についても同様に規定され、各層コードを独立とし、独立に処理可能としている。これらの層コードは、各繰り返し要素において共通に使用される。即ち、物理層とデータクラスが同一であれば、各繰り返し要素間において層コードは共通である。
図6及び図7で示したレチクルのデータは最終的にファイル出力されるが、その内容は、長方形図形、一筆書き図形、中心線に幅が定義された図形、及び、これら図形データをまとめたモジュールを中間階層モジュールまたはライブラリモジュールとして有するモジュールから構成される。中間階層モジュールまたはライブラリモジュールとして活用されるのはトランジスタモジュールである。
トランジスタモジュールはその数が多く、展開して保有するとデータ量が膨大となるため、通常はライブラリモジュールとして中間階層定義された形式にて出力される。
ここで、図形データは、本実施の形態に関連する分野におけるデファクトスタンダードとして利用されるGDSフォーマットに対比させれば、長方形図形はレクトアングル、一筆書き図形はバウンダリ、中心線に幅が定義された図形はパス、これら図形データをまとめたモジュールはセルと称されるものである。
図8は、レチクル作成システムが座標情報出力プログラムを実行することによって行う座標情報出力処理示す図であり、パネル基板及びレチクルに対する繰り返し要素の数値表現と配置規定を示している(アライメントマークを含む)。
図8において、801はパネル基板、802はパネルレイアウトデータ、803はパネル基板のXY中心座標(本例では、4つのショット枠Aの中心座標に一致している。)(0,0)、804はアライメントマーク(その座標はパネル基板801の中心座標(0,0)を基準とする座標(X0,Y0)である。)である。
805、808、811はレチクル、807は特性が保証された露光領域である。また、806、809、810、812、813は、各々、ショット枠A、B1、C1、B2、C2に対応する繰り返し要素である。
図8の例では、1つの繰り返し要素806がレチクル805に形成され、2つの繰り返し要素809、810がレチクル808に形成され、2つの繰り返し要素812、813がレチクル811に形成されている。
ブラインド枠まで含めた露光データが繰り返し要素806、809、810、812、813として各々レチクル805、808、811上に作成されることになる。即ち、繰り返し要素とは、ブラインド枠、切断されたデータ、補正パターン及び切断対象とならなかったデータから成る露光データにて構成される。これがショット情報の基本となる。
本実施の形態では、繰り返しがなくても繰り返し要素と称する。繰り返しがない場合の繰り返し数は0である。図8の例では、ショット枠Aに対応する繰り返し要素806の数は2×2(=4)(繰り返し回数は2×2−1)であり(これにより、繰り返し要素Aの集合である繰り返し集合814が形成される。)、ショット枠B1、C1、B2、C2に対応する繰り返し要素809、810、812、813の繰り返し回数は0である。
各繰り返し要素は名称を持つ。各繰り返し要素は各繰り返し要素自体の座標中心に対して幅(W)と高さ(H)が与えられる。各繰り返し要素は、その繰り返し要素よって構成される繰り返し集合の中心座標を基準として配置される。図の例ではパネル基板801の中心座標(0,0)がこれに当たり、中心座標(0,0)を基準とする位置に配置される。
一方、レチクルのレイアウトデータとしては、各繰り返し要素はその中心位置がレチクルの中心座標の位置を基準とする座標に配置される。
アライメントマークについては、パネル基板801についてはパネル基板801の中心座標(0,0)を基準とする位置に配置され、レチクルについてはレチクルの中心座標を基準とする位置に配置される。アライメントマークについてはライブラリファイルにて格納定義されている。
図9も前記同様に、レチクル作成システムが座標情報出力プログラムを実行することによって行う座標情報出力処理示す図であり、座標情報出力の例を示している。図9に示すように、パネル基板801上のパネルレイアウトデータ802から繰り返し要素が配置された3つのレチクル805、808、811を生成する場合の出力結果を示している。
ここでは、露光ショット情報として、パネル基板上でのショット情報として繰り返し要素の名称と繰り返し数と幅と高さと配列指定された配置位置と、レチクル上でのショット情報として同繰り返し要素名称と幅と高さと配置位置とが座標情報としてユーザに提供される例を示している。
図10〜図12は、露光領域の分割処理方法を示す図で、2つの分割形態を示しており、図11は図10のパネルレイアウトデータ1003を分割して切断する際に補正パターン1004を生成する例、図12は図10のパネルレイアウトデータ1003を分割して切断する際に補正パターンを生成しない例を示している。
即ち、補正パターン1004を生成する場合、図10及び図11において、ショット枠1002直下にてデータ(例えば配線データ)1003を切断し、切断部位に所定長Δ分だけ伸張させた補正パターン1004、1004を連続的に生成する。このとき、補正パターン1004は、前記切断部位よりも所定長内側の位置から、前記切断部位よりも所定長だけ幅広に構成してもよい。このようにして、2重露光を行う部位1007に補正パターン1004が形成される。
補正パターン1004の外側位置とブラインド枠1005の内側位置が所定量のオフセットを有して所定量重なるように、所定幅のブラインド枠1005が形成される。以上のようにして、補正パターンを有する露光要素データが作成される。ブラインド枠1005の内縁1006はショット枠1002より所定長Δ分だけ伸張した部位となる。ブラインド枠1005の内縁は露光領域の外縁となる。
このように、補正パターン1004を生成させて切断する場合、データ1003の切断はショット枠1002直下にて行われ、補正パターン1004は隣接する露光要素の双方が露光される2重露光領域となり、隣接する露光要素によって形成されるパネルレイアウトデータは補正パターン1004によって接続が確保されることになる。
一方、補正パターンを生成させずに切断する場合には、レイアウトデータをオーバラップさせる。オーバラップさせる場合、図12に示すように、ショット枠1002より所定長Δ分だけ伸張させた部分で切断する。隣接するショット枠1001についても、同様に所定長Δ分だけ伸張させた部分で切断してレチクルが形成される。このようにして、2重露光を行う部位1007にオーバラップ部1008が形成される。
オーバラップ部1008の外側位置とブラインド枠1005の内側位置が所定量のオフセットを有して所定量重なるように、所定幅のブラインド枠1005が形成される。以上のようにして、オーバラップ部1008を有する露光要素データが作成される。ブラインド枠1005の内縁1006はショット枠1002よりΔ分だけ伸張した部位となる。ブラインド枠1005の内縁は露光領域の外縁となる。
図13は、斜線部1301を有するショット枠1002において切断した露光要素を示す図で、補正パターン1004を形成した露光要素の例である。
図13において、斜線部1301を有するショット枠1002が設定できると繰り返し構造の抽出が容易に出来る場合があり効果的である。
補正パターン1004、1004は、切断された配線データ1003の長さ方向に沿って内側方向と外側方向について所定の補正値が設定される。また、配線データ1003の幅方向に対する補正パターン1004、1004の値は、配線データ1003を挟む幅方向の両側について、各々、所定の補正値が設定される。ブラインド枠1005の幅は水平方向Whと垂直方向Wvにて指定可能である。
水平に切断した端部に対応する補正パターン1004は矩形であり、斜線部1301に対応する補正パターン1004は平行四辺形である。
図13に示すように、内縁1006に斜線部1301を含むブラインド枠1005を持つような場合には、補正パターン1004、1004による2重露光がデータ切断部位には必要となる。
以上、図1〜図13はレチクルレイアウトデータと座標情報がいかにして作成されるかについて説明しているものである。本実施の形態は、このようにして作成されたレチクルレイアウトデータと座標情報から合成されるパネルレイアウトデータの検証を行い、結果としてレチクルデータ露光検証を行うものである。
図14は、本実施の形態に係るレチクル検証システムの構成を示すブロック図で、コンピュータ及び前記コンピュータに実行させるプログラムによって構成した例である。本実施の形態に係るレチクル検証システムは、中央処理装置(CPU)と、前記CPU上で走行する複数のプログラム群と、プログラム群やデータを記憶する記憶装置と、キーボードやマウスによって構成された入力装置と、表示装置を備えている。
本実施の形態に係るレチクル検証システムの概要を説明すると、本実施の形態に係るレチクル検証システムは露光装置シミュレータとして機能するもので、レチクルウィンドウ上に表示されたレチクルレイアウトデータを座標情報に基づいてパネル基板ウィンドウ上に表示する。これに図形演算処理を加えて検証を行い、加えてエラー図形を表示する機能を加えればレチクル検証システムが構成される。ここでエラー図形を表示するウィンドウは、例えばパネル基板ウィンドウである。
プログラムの構成としては、初期設定としてレチクルレイアウトデータと座標情報の読み込み及び内部テーブルの作成、図形と図形のグリッド格子同士の演算処理とそれに伴う検証処理、検証結果図形の表示の3段階に分けられる。これらのプログラム機能はすべてメニューウィンドウ上に表示されたコマンドを操作することにより実行される。
図形の表示ウィンドウとしては検証結果図形の表示であるパネル基板ウィンドウが少なくとも必要であり、入力部分と演算部分に関しえは必ずしも図形表示機能は必要となれないが操作確認上図形表示機能はあった方が便利である。
図14において、レチクル検証システムは、液晶ディスプレイパネル等によって構成された表示部1、キーボード2やマウス3によって構成された操作部16、中央処理装置(CPU)7、磁気ディスク装置や半導体メモリ等によって構成された記憶部8を備えている。
表示部1上には、パネル基板12上のパネルレイアウトデータを操作するパネル基板ウィンドウ9、レチクル13上のレチクルレイアウトデータを操作するレチクルウィンドウ10、操作部16による操作を指示するメニューウィンドウ11の少なくも3つのウィンドウを表示するように構成される。パネル基板ウィンドウ9上で設定されたショット枠をレチクルウィンドウ10上にショット枠として設定する操作をウィンドウ間で行う。
レチクルデータの検証結果は、表示部1に表示されるが、パネル基板ウインドウ9、レチクルウインドウ10、メニューウインドウ11のいずれに表示するようにしてもよい。また、レチクルデータの検証結果を表示する際、前記各ウインドウ9〜11を消去して、前記各ウインドウ9〜11が存在していた領域に検証結果のみを表示するようにしてもよい。
レチクルの作成作業や検証作業は、操作部16によってメニューウィンドウ11上に表示されたコマンドを選択することにより、操作部16に当該コマンドの機能を持たせ、操作部16を操作してパネル基板ウインドウ9上でショット枠の設定、パネル基板ウインドウ9とレチクルウインドウ10間の移動、レチクルウインドウ10上に対応するショット枠の設定等の各種作業を行う。
記憶部8は、CPU7が実行するレチクルデータ生成用プログラム、レチクル検証用プログラムを記憶するプログラム記憶部4、入出力データや処理途中の中間データ等のデータファイルを記憶するデータファイル記憶部5、ルールファイルやライブラリファイルといった参照ファイルを記憶するファイル記憶部6を備えている。
前記プログラムの構成としては、レチクル作成システム用のプログラムとして、ショット枠設定プログラム、繰り返し構造検証プログラム、ブラインド枠間最小間隔検証プログラム、データ切断プログラム、補正パターン生成プログラム、ブラインド枠生成プログラム、座標情報リスト出力プログラム、各種データの入出力プログラム、といったプログラムから構成される。
これらショット枠設定、繰り返し構造検証、ブラインド枠間最小間隔検証、データ切断、補正パターン生成、ブラインド枠生成、座標情報リスト出力といった機能はすべてメニューウィンドウ上に表示されたコマンドを操作部16によって選択することにより実行される。
また、レチクルデータ検証用のプログラムとして、入力処理部用プログラム、図形演算処理による検証処理部用プログラム、検証結果表示部用プログラムが含まれている。
ファイル構成としては、レチクル作成用のファイル構成として、入力ファイルとしてのパネルレイアウトデータファイルと出力ファイルとしてのレチクルレイアウトデータファイルと座標情報リストファイルのほか参照ファイルとしてのライブラリファイルとルールファイルから構成される。また、データファイルであるパネルレイアウトデータファイル、レチクルレイアウトデータファイル及び座標情報リストファイルはデータファイル記憶部5に記憶される。参照ファイルであるライブラリファイル及びルールファイルは参照ファイル記憶部6に記憶される。
また、レチクル検証用のファイル構成としては、入力ファイルとしてのレチクルレイアウトデータと座標情報ファイル、出力ファイルとしてのレチクルデータファイルと座標情報リストファイルのほか参照ファイルとしてのライブラリファイルとルールファイルから構成される。
このようにしてレチクルレイアウトを実行するレチクル設計システムやレチクルデータの検証を行うレチクルデータ検証システムが構成されることになる。
ここで、表示部1、操作部16、記憶部8は、各々、表示手段、操作手段、記憶手段を構成している。
前記表示手段、操作手段、記憶手段は、レチクル作成システムとして機能する場合、次のように機能することができる。
例えば、表示手段は、少なくとも、パネル基板のパネルレイアウトデータを表示するパネル基板ウインドウ、レチクルレイアウトデータを表示するレチクルウインドウ及び前記操作手段のコマンドを表示するメニューウインドウを表示することができる。
操作手段は、メニューウインドウに表示されるコマンドを選択して入力する。これにより、パネル基板のパネルレイアウトデータ上に設定されたショット枠に対して繰り返し配列を指定する等の操作を行うことができる。
記憶手段は、主記憶装置及び外部記憶装置として機能することができる。記憶手段には、パネルレイアウトデータを切断可能な条件、補正パターンの幅及びブラインド枠間の最小距離を含む生成条件を記憶することができる。また、記憶手段には、操作手段によって設定した生成条件を記憶することができる。
また、CPU7は、レチクル作成システムの場合、レチクルデータ生成手段、繰り返し検証手段、ブラインド枠間隔検証手段を構成している。レチクルデータ生成手段は、前記操作手段によって前記パネル基板ウィンドウ上に設定されたショット枠に対応するパネルレイアウトデータを切り取って部分パネルレイアウトデータとして抽出し、前記部分パネルレイアウトデータに切断データが含まれる場合には該切断データの端部に補正パターンを形成すると共に、内縁が前記補正パターンの外縁に対応するブラインド枠を形成することにより、前記部分パネルレイアウトデータに対応する露光要素データを前記レチクルウインドウ上に生成することができる。また、レチクルデータ生成手段は、前記生成条件を満足するように前記露光要素データを生成することができる。
前記レチクルデータ生成手段は、前記操作手段によって前記パネル基板ウィンドウ上に設定されたショット枠に対応するパネルレイアウトデータを切り取って部分パネルレイアウトデータとして抽出する抽出手段、前記部分パネルレイアウトデータに切断データが含まれる場合には該切断データの端部に補正パターンを形成する補正パターン生成手段、及び、内縁が前記補正パターンの外縁に対応するブラインド枠を形成するブラインド枠生成手段を有し、前記部分パネルレイアウトデータに対応する露光要素データを前記レチクルウインドウ上に生成することができる。
また、繰り返し検証手段は、ショット枠と繰り返し配列が指定された領域に対応するパネルレイアウトデータが一致するか否かを比較照合することができる。
また、ブラインド枠間隔検証手段は、複数の前記ブラインド枠が存在する場合に、ブラインド枠間が所定の最小間隔以上に離れているか否かを検証することができる。
一方、前記表示手段、操作手段、記憶手段は、レチクル検証システムとして機能する場合、次のように機能することができる。
例えば、表示手段は、検証手段が検証した結果を表示することができる。また、表示手段は少なくとも検証結果を表示するウインドウを有することができる。また、表示手段は、検証手段による検証結果得られる図形を前記ウインドウ上に表示することができる。
また、表示手段は、検証結果を表示するウィンドウ上にエラー図形情報を表示する場合、指定手段が指定したエラーレイヤの検証結果図形情報をレイヤ単位でウィンドウ上に表示することができる。また、表示手段は検証結果を表示するウィンドウとは異なるダイアログボックスを有し、前記ダイアログボックス上にてエラー個数を表示すると共に、指定手段によるエラーレイヤの指定に応答して当該レイヤの検証結果図形情報を前記ウィンドウ上に表示することができる。
操作手段は、指定手段として機能することができる。指定手段は、エラーの検証結果が含まれるエラーレイヤを指定することができる。また、指定手段は、ウィンドウとは異なるダイアログボックス上にてエラーレイヤを指定することができる。
記憶手段は、フラットパネルディスプレイ露光用レチクルに含まれる露光要素の図形データと、グリッド格子点の座標によって表され、ディスプレイパネル上の前記露光要素の露光位置を表す座標情報とを記憶することができる。
また、CPU7は、レイアウト図形要素生成手段、検証手段、展開手段として機能することができる。
レイアウト図形要素生成手段は、記憶手段に記憶した露光要素の図形データ及び座標情報に基づいて、露光要素に対応するディスプレイパネル上のレイアウト図形要素を生成することができる。
検証手段は、レイアウト図形要素生成手段が生成したディスプレイパネル上の複数のレイアウト図形要素の位置関係に基づいて露光要素を検証することができる。また、露光要素の図形データは線情報に幅が定義付けられた線データと長方形データと各頂点を記述した多角形データの少なくとも3種類から構成され、検証手段は、前記複数のレイアウト図形要素に対応するグリッド格子同士の演算処理を行うことによって前記複数の露光要素を検証することができる。
検証手段は、2つのレイアウト図形要素の論理OR処理を行った後、前記いずれかのレイアウト図形要素と前記論理ORの結果得られる図形要素との論理XOR処理又は差分処理を行うことによって、前記2つのレイアウト図形要素の差異を抽出する差異抽出手段を有することができる。
検証手段は、2つのレイアウト図形要素の論理AND処理を行うことによって前記2つのレイアウト図形要素のオーバラップ量を検出するオーバラップ量検出手段を備えることができる。
検証手段は、オーバラップ量検出手段の検出したオーバラップ量が、指示されたオフセット値を満たすか否かを検証するオフセット検証手段を備えることができる。
検証手段は、オーバラップ量検出手段が2つのレイアウト図形要素のオーバラップ量の無いことを検出した後、論理OR処理を行い2つのレイアウト図形要素が閉じたひとつの図形に形成される結果が確認された場合には前記2つのレイアウト図形要素は連続した図形要素であると判別する要素判別手段を備えることができる。
また、レチクルのデータはトランジスタ図形を定義する中間階層又はトランジスタ図形を定義した外部ライブラリを中間階層として有するように構成でき、この場合、展開手段は、前記トランジスタ図形を定義する中間階層又は外部ライブラリを、ポインタ構造により必要に応じて展開するテーブル構造を持つことができる。
また、各露光要素には図形要素及び前記図形要素を囲む所定幅のブラインド枠が含まれ、検証手段は、前記ブラインド枠内縁に対応する前記ディスプレイパネル上のグリッド格子に対し所定オフセット値の範囲内に、前記図形要素のレイアウト図形要素の終点が存在するか否かを検証する終点検証手段を備えることができる。
また、記憶手段に記憶されたプログラムは、表示手段、操作手段、記憶手段及びCPUを有するコンピュータを、前記機能を有するレチクル検証システムとして機能させることができる。
図15は、本発明の実施の形態に係るレチクル検証システムの処理を示すフローチャートである。
図15において、入力されるレチクルレイアウトデータは所謂GDSフォーマットによる表現形式のデータで、座標値が既知の点である複数のグリッド格子点によって表現した形式のデータであり、中間階層構造を許す形式のデータである。前記レチクルデータファイルには、フラットパネルディスプレイ露光用レチクルに含まれる露光要素の図形データが含まれている。
通常、中間階層としてはトランジスタ階層が取られる。場合によってはトランジスタ階層は外部ライブラリとしてレチクルレイアウトデータファイルとは別途装着される場合もある。しかしながら別途装着されていても実質的には中間階層と同等である。
レチクルレイアウトデータファイルに記載されている繰り返し要素の繰り返し配置位置等を記述した座標情報は、通常テキストファイルである。前記座標情報には、グリッド格子点の座標によって表され、ディスプレイパネル上の露光要素の露光位置を表す情報が含まれている。
処理は、プログラム記憶部4に記憶した入力処理プログラムを実行する入力処理段階(ステップS151)、図形演算処理による検証処理プログラムを実行する、図形と図形のグリッド格子点同士の演算処理による検証処理段階(ステップS152、S153)、及び、検証結果表示プログラムを実行する、検証結果を表示する表示段階(ステップS154)の3段階にて構成される。
入力処理段階(ステップS151)では、CPU7は、データファイル記憶部5からレチクルレイアウトデータファイル及び座標情報ファイルを読み込む入力処理を行い、前記座標情報に基づく繰り返し要素の配置情報からパネル基板上の露光要素データ構造を作成する。
ここで、ひとつの繰り返し要素と空間的に接する他の繰り返し要素が容易にピックアップ出来るテーブル構造(後述する図17のテーブル構造1)を持った形態にて作成される。また、レチクルデータが中間階層を有している場合にはデータ量削減のため中間階層を維持しながら最下層まで容易にピックアップ出来るテーブル構造(後述するテーブル構造2)を持った形態にて作成される。
これ以降、CPU7は、図形の演算処理による検証処理に入る(ステップS152、S153)。演算には論理演算と差分演算がある。詳細は後述するが、検証すべき対象は、2重露光領域の検証、接露光その1の検証、接露光その2の検証、非露光領域の検証に大別される。
これらの検証を行うのに必要な論理演算はAND、OR及びXORである。またはXORの代わりに差分演算を適用してもよい。この論理処理または差分処理はすべてグリッド格子点同士の演算処理である。これら演算処理結果はまた図形データとして格納される。CPU7は、処理ステップS153の処理を全てのレイヤについて行う(ステップS153)。
最後にCPU7は、演算処理した結果の図形を表示部1に表示する表示処理を行う(ステップS154)。検証すべき対象は、2重露光領域の検証、接露光その1の検証、接露光その2の検証、非露光領域の検証であるため、操作部16によって設定された判定基準(パラメータ)に基づいて、これらのいずれかに該当するものを図形データ形式で表示する。この図形データはエラーを表すデータである。
ここで重要なのは、論理処理または差分処理の演算処理はレイヤ単位にて処理され、作成される露光エラーデータもデータファイル記憶部5にレイヤ単位にて格納されてゆくということである。これは、露光はレイヤ単位において行われるのでレイヤ単位にて検証しなければならないからである。加えて、表示部1での表示の際にもレイヤ単位となるから、エラーデータをレイヤ単位にて格納させておいた方がアクセス時間が早くなるからである。
尚、CPU7は、処理結果を表示部1に表示させる場合、エラーデータか否かの判定基準が設定されているときにはエラーデータのみを表示させ、エラーデータか否かの判定基準が設定されていないときには単純に処理結果を表示させるように構成してもよい。また、CPU7は、処理結果を表示部1に表示させる場合、必ずしも図形を表示する必要はなく、文字等によってエラー内容、あるいは、エラーか否かの判断を行わない場合には単に処理結果を表示するように構成してもよい。
図16はレチクル13上のレチクルレイアウトデータ162、レチクルレイアウトデータ162中の繰り返し要素163、座標情報、パネル基板12上のパネルレイアウトデータ161の関係を説明する説明図である。
また、図17は図16に示した繰り返し要素163において、多重露光、接露光その1、接露光その2の可能性のある繰り返し要素163を示すテーブル構造1であり、記憶部8のデータファイル記憶部5に記憶される。
前記テーブルは、アドレス、インスタンス名、繰り返し要素名、2重露光若しくは接露光その1あるいは接露光その2のポインタ個数およびポインタの情報が含まれている。
ここで、アドレスとは、配置された繰り返し要素データの順番を示すアドレス、インスタンス名とは配置された繰り返し要素に付けられた固有名、繰り返し要素名とはレチクルデータに記載されている繰り返し要素のライブラリ名である。尚、インスタンスとは、単一又は複数の図形要素(例えばセルやデバイス等)によって構成される、1つのまとまった単位の図形要素である。
レチクル13上に配設されたレチクルレイアウトデータ162に含まれる各繰り返し要素163は、座標情報に基づいて、パネル基板12上の所定位置に露光され、パネル基板上に対応するパネルレイアウト要素が形成される。繰り返し要素A1_1のように露光が繰り返される繰り返し要素163の場合には、座標情報によって定められた位置に定められた回数だけ露光処理がなされる。これにより、パネル基板12上に、複数のパネルレイアウト要素によって構成されたパネルレイアウトデータが形成される。
パネル基板12上に配置された繰り返し要素163間の論理処理または差分処理が主要な処理となるから、ある与えられた繰り返し要素163から隣接する繰り返し要素163を容易にピックアップ出来る構造が望ましい。
ここでは、レチクルレイアウトデータ162中の繰り返し要素163が持つ幅Wと高さHのデータを利用する。幅Wと高さHは、これを超えてデータは存在しない最小領域を示しており、テーブル構造1では各繰り返し要素163の幅Wと高さHが隣接する繰り返し要素163へのポインタを保有している。前記ポインタはアドレスポインタであり、関連する繰り返し要素163に付与されているアドレスがポインタとして使用される。
ここで、隣接には、幅W方向領域及び高さH方向領域の少なくとも一方が、オーバラップしている、接している、1グリッド格子分間隔をあけて隣に存在している、の3形態がある。外郭形状の幅Wと高さHが隣接しているのであるから、これが隣接したとしていても実際の露光データが隣接しているか否かは別問題であるが、幅Wと高さHが隣接していない限り実際の露光データは隣接しない。簡単に言えば疑わしい所について検索しやすいテーブル構造を作成しておき、毎回すべての対象物を検証の対象とはしないしくみを採用している。これにより処理時間の短縮が図れる。
図18は、レチクルレイアウトデータと座標情報から作成されるパネル基板上のデータ構造を示す図であり、図19は図18のデータ構造に対応するテーブル構造2を示す図で、階層化構造を維持したテーブル構造を示している。
図18において、階層構造の最上位に唯一位置するトップモジュールの下層には、配置された繰り返し要素182、188が設けられている。配置された繰り返し要素182、188は、例えば、トランジスタ階層である。
配置された繰り返し要素182の下層には、図形データ183、トランジスタ(TR1)184及び図形データ185から成る直列階層構造、及び、トランジスタ(TR2)186及び図形データ187から成る直列階層構造が並列に設けられている。
配置された繰り返し要素188の下層には、図形データ189、トランジスタ(TR1)190及び図形データ191から成る直列階層構造、及び、トランジスタ(TR2)192及び図形データ193から成る直列階層構造が並列に設けられている。
また、図19において、前記テーブルは、アドレス、インスタンス名、繰り返し要素名又はライブラリ名、図形データへのポインタ、中間階層モジュールインスタンス名、中間階層モジュールライブラリ名、及び、中間階層モジュールライブラリへのポインタを有している。
繰り返し要素は中間階層を有する場合があり、多くの場合これはトランジスタ階層である。このトランジスタ階層を展開してしまうとデータ量が膨大となるため、本実施の形態では中間階層を予め展開するのではなく中間階層のままポインタ構造にてデータをライブラリとして保持し、必要に応じて展開する動的(ダイナミック)な処理を行っている。
但し、ふたつの異なる中間階層に同一のより下位なる中間階層が出現したとしても、これは共通化しない手法を採用している。これは、着目している繰り返し要素に出現したトランジスタが他の繰り返し要素に出現したとしても、着目した要素のみにて完全に展開できるようにした為である。図19では、トランジスタTR1とTR2が異なる繰り返し要素に出現しているが、独立にテーブル登録されている例が示してある。
図20、図21は、図形の論理処理または差分処理と検証処理を説明する図で、片側露光領域検出のための図形論理処理または図形差分処理を示している。ここで、片側露光とは、隣接する繰り返し要素を比較した場合、隣接する部分において片側の繰り返し要素のみが露光される要素を有する場合をいう。
例えば、図20において、レチクルの繰り返し要素Aとレチクルの繰り返し要素Bがパネル基板上の指定された座標に配置される場合、繰り返し要素Aと繰り返し要素Bに対応するパネルレイアウト要素がオーバラップされて領域A’、B’としてパネル基板上に配置されるものとする。
領域A’は、繰り返し要素Aに対応するパネル基板上の領域であったとすると、この領域には繰り返し要素Bに対応するパネル基板上の領域B’の一部が投影されている。即ち、領域A’はパネル基板上の領域で繰り返し要素Aに相当する領域とオーバラップ部2001との論理和領域であり、ここには繰り返し要素Bに対応するパネルレイアウト要素B’の一部が投影されている。
同様に、領域B’はパネル基板上の領域で繰り返し要素Bに相当する領域とオーバラップ部2001との論理和領域であり、ここには繰り返し要素Aに対応するパネルレイアウト要素A’の一部が投影されている。
従って、図21に示すように、繰り返し要素Aに対応するパネル基板上のパネルレイアウト要素Aと領域A’のパネルレイアウト要素とに対してXORを取ると、一方側には存在しているが他方側には存在していない領域(片側露光領域)2101のデータが抽出されることになる。
これは通常オーバラップ指定ミスである。このミスは、レチクルデータ作成の際のショット枠指定ミスか、レチクルデータを作成する際のブラインド枠指定ミスか、配置座標の指定ミス等が考えられる。通常、オーバラップしている部位の露光データは両者完全にオーバラップされていなければならない。
尚、ここでXORといったが差分を取るという表現でも同等である。その場合には差分(A−A’)を取り、結果が正であれば繰り返し要素Aに存在していて繰り返し要素Bには存在していないデータをオーバラップさせてしまったことになるし、結果が負であれば逆に繰り返し要素Aには存在していなくて繰り返し要素Bに存在しているデータをオーバラップさせたといえる。
本例では後者である。同じ情報をXOR結果から得ようとすれば、XOR結果と繰り返し要素A、XOR結果と繰り返し要素Bの各ANDを取り、前者の結果が論理1であれば繰り返し要素Aに存在し繰り返し要素Bには存在しないデータをオーバラップさせ、後者の結果が論理1であれば繰り返し要素Aには存在せず繰り返し要素Bに存在していたデータをオーバラップさせたことになる。
差分結果は符号を有しており単なる論理処理より情報量が多く、XOR結果にて差分処理と完全に同等な情報を得ようとすれば追加のAND処理が必要ということになる。まとめれば、論理処理であればORとXORとAND、差分処理を用いればORと差分処理、によって情報として完全等価な検証結果が得られることになる。
図22〜図24は、片側露光領域検出のOR処理をグリッド格子を用いて説明する図である。
論理処理および差分処理はすべてグリッド格子同士にて行われる。ここでORの定義は、結果が論理1の場合そのグリッド格子が露光され、論理0の場合そのグリッドは露光されないことを示す。
図22では、繰り返し要素Aに対応するパネル基板上のパネルレイアウト要素Aと繰り返し要素Bに対応するパネル基板上のパネルレイアウト要素Bとの論理OR処理を行い、その結果として、繰り返し要素A、Bのパネルレイアウト要素A、Bがオーバラップ部2001によってオーバラップした状態の結果が得られている。図22には、オーバラップ部2001の中心線2201がグリッド上に表示してある。
図23は、図22に対応する表示をグリッド格子点によって表した図であり、図を分かりやすくするため対応するオーバラップ部の中心線2201を記入してある。即ち、繰り返し要素Aの露光データL、繰り返し要素Bの露光要素R、及びこれらの論理ORをとった処理結果を示している。
図24は、図23に示した各グリッド格子点に対する論理和(OR)の定義を示す論理値表である。○は論理値0であり、露光されないグリッド格子点である。●は論理値1であり、露光されるグリッド格子点である。●で囲まれた領域が露光される領域となる。
図23に示した論理OR処理結果の図は、表示部1に表示される。表示箇所は、パネル基板ウインドウ9、レチクルウインドウ10のいずれでもよい。また、パネル基板ウインドウ9、レチクルウインドウ10及びメニューウインドウ11を消去して、表示部1の全域に図23の処理結果を表示するようにしてもよい。また、文字によって表示することも可能であり、この場合には、パネル基板ウインドウ9、レチクルウインドウ10及びメニューウインドウ11のいずれかに表示しもよく、あるいは、これらのウインドウを消去して、表示部1の全域に処理結果を文字によって表示するようにしてもよい。
図25、図26は、図21の排他的論理和(XOR)処理又は差分処理を、グリッド格子点を用いて行った場合の説明図である。
図25には、レチクル上の繰り返し要素Aの露光データ(パネルレイアウト要素)をL、パネル基板上の領域A´の露光データ(パネルレイアウト要素)をR、及びこれらの論理XOR又は差分の処理結果を示している。
図26は、図25に示した露光データL、Rの各グリッド格子点に対する排他的論理和(XOR)、露光データL、Rの各グリッド格子点を用いた(L−R)差分処理の定義を示す論理値表である。
○は論理値0であり、露光データL、Rの両方に露光するデータが存在するか、あるいは、露光データL、Rの両方に露光するデータが存在しないグリッドを表している。また、●は論理値1であり、露光データL、Rのいずれか片側に露光するデータが存在するグリッドを表している。また、正●は露光データLに露光するデータが存在する場合を表し、負●は露光データRに露光するデータが存在する場合を表している。
このようにして、片側領域にのみ存在する露光される格子点が検出される。差分処理の場合は、正負の符号によって、露光される格子点がどちら側に存在していたのかの情報も付加されることになる。このように、XORの場合には結果は差異があることのみが判明するが、差分の場合には正負の符号によりどちらの領域に露光データが片側存在していたかの情報まで付加できるので便利である。
XORまたは差分処理をした結果、論理1の場合そのグリッドは露光データが片側にのみ存在する図形データを示し、論理0の場合は露光データは両側に存在するかもしくは両側に存在しないグリッドを示す。
図27、図28は、最も一般的なパネルレイアウト要素のオーバラップを示す説明図である。
図27は、レチクルの露光したいデータ2707を、露光されないグリッド格子点2704と露光されるグリッド格子点2705により表した図である。
また、図28は、分割したレチクルの繰り返し要素を座標情報に基づいて露光することにより、得られた露光データA、Bによってデータ2707が再現される様子を示す図である。
分割したい領域とその直下にある切断したい露光データ2707に対して、オーバラップ領域2703のオーバラップ量が指定されてレチクルレイアウトデータは作成されているから、これが正しく復元できているのかを検証する必要がある。
オーバラップ量がオフセット値として操作部16によって指定された場合には記憶部8に記憶され、CPU7は、その範囲内であればエラーではないと判断する。図27、図28では分かりやすくするためオーバラップ部2703の中心線2706を記入している。この例では中心線2706はオングリッドであるが、オーバラップの仕方によってはオングリッドにならない場合もある。
図29はパネル基板上に配置された繰り返し要素(パネルレイアウト要素)A(L)を示す図、図30はパネル基板上に配置された繰り返し要素B(R)を示す図、図31はパネル基板上に配置された繰り返し要素A、Bの論理積(AND)を示す説明図である。また、図32はパネル基板上に配置された繰り返し要素A、BのANDの論理値表であり、各グリッド格子点に対するANDの定義を示している。
図29〜図32において、配置された繰り返し要素A、Bは、○で表された露光されないグリッド格子点2901と、●で表された露光されるグリッド格子点2902によって、非露光領域と露光領域が表されている。
また、図31において、配置された繰り返し要素A、Bはオーバラップ部2703によってオーバラップしている。これがオーバラップによる2重露光を生成させる最も一般的な例である。検出されたオーバラップ部2703は、指定された幅プラスマイナス内の所定のオフセット値に入っていればエラーではないとする。
図33〜図36は、AND処理により抽出された2重露光領域の例を示す図である。尚、○で表された露光されないグリッド格子点と、●で表された露光されるグリッド格子点によって、非露光領域と露光領域が表されている。
図33は、図29〜図32に示した例と同じであり、パネル基板上に配置された2つの繰り返し要素A、Bがオーバラップ部2703だけオーバラップして配置された例である。配置された繰り返し要素A、BのAND処理によって、オーバラップ量(オフセット値)が3グリッド格子分となっており、通常は正常と判断される例である。
図34は、パネル基板上に配置された2つの繰り返し要素A、Bは、オーバラップ部2703として1グリッド格子分のみを共有しており、指定された幅プラスマイナスの所定オフセット値には入らず、通常はエラーと判断される例である。本実施の形態では、図34のようにオーバラップ領域が1グリッド格子の場合を接露光その1と称する。
図35の例は、パネル基板上に配置された2つの繰り返し要素A、Bが、1グリッド格子分の間隔を開けて隣接しているデータ配置である。本実施の形態では、本例を接露光その2と称し、通常はエラーと判断される。本例では、AND処理結果の領域は抽出されないが、OR処理を行うことによって1つの閉じた図形が抽出されれば接露光その2のタイプであると判断できる。
図36の例は、パネル基板上に配置された2つの繰り返し要素A、Bが、2グリッド格子以上間隔が離れているデータ配置である。本例では、AND処理結果の領域は抽出されず、且つ、パネル基板上に配置された2つの繰り返し要素A、Bが、2グリッド格子間には、1つ以上の非露光領域グリッド格子点3601が存在する。これは後述する非露光領域3601の抽出により検出される。
図37及び図38は、補正パターンを付加した繰り返し要素を有するレチクルデータに関して、2重露光を行う場合の説明図である。
図37において、設定されたショット枠1002によって、パネルレイアウトデータ中の第1層メタル配線3702及び第2層メタル配線3703が切り取られている。
補正パターンを設ける場合、図38に示すように、第1層メタル配線3702及び第2層メタル配線3703の各端部に、各々、第1層メタル配線3702や第2層メタル配線3703の幅よりも所定長幅広で、それらの長さ方向に所定長有する補正パターン1004を連続的に一体に形成する。
その内縁1006が補正パターン1004の外縁側と所定長(例えば1グリッド格子分)重なるように、所定幅のブラインド枠1005が形成される。
ブラインド枠1005の内縁1006と補正パターン1004の外縁とが所定長(例えば1グリッド格子分)重なるように、所定幅のブラインド枠1005が形成される。
尚、ブラインド枠1005と補正パターン1004は重ならずに、ブラインド枠1005内縁と補正パターン1004は接するように形成してもよい。
ここでは生成された補正パターン1004が2重露光の対象となる領域1007となる。
従って、図39、図40に示すように補正パターン1004が正しく2重露光領域となっているか否かをAND処理の結果も用いて検証することになる。
即ち、図39において、パネル基板上に配置された繰り返し要素A、Bは、ショット枠1002中の指定されたショット枠領域3903、3904が重なるように配置される。これにより、繰り返し要素Aの補正パターン1004と繰り返し要素Bの補正パターン1004が重なって2重露光されることになり、パネル基板上には、繰り返し要素Aのメタル配線3901と繰り返し要素Bのメタル配線3902とが連続して形成されることになる。
図40は、この様子をグリッド格子点を用いて示した説明図である。図40において、繰り返し要素Aのショット枠領域3903と繰り返し要素Bのショット枠領域3904を重ねて、繰り返し要素A、Bのグリッド格子点同士でAND論理処理を行った結果、連続した領域A’、B’が形成されている。尚、●は論理1で露光されるグリッド格子点を表し、○は論理0で露光されないグリッド格子点を表している。
また、図38にはブラインド枠内縁1006と図形データの2重露光検証も説明している。即ち、図形データ(図38の場合には補正パターン1004)がどれだけブラインド枠1005内部に入り込んでいるかを検証するものであり、この場合は接露光その1(図34参照)である‘1’即ち1グリッド格子分重なって接するのが通常である。即ち、通常は、オーバラップ量であるオフセット値はグリッド格子1つ分の場合を正常とする。
但し、この場合もAND処理が適用され2重露光領域が前記指定されたオフセット値より大きい場合、あるいは小さい場合にはエラーとなる。
尚、図38のブラインド枠内縁1006と図形データの2重露光検証は今回の検証の中で多少異質である。即ち、レチクルレイアウトデータのみあれば検証できるので座標情報は必要としない。しかしながら、図15に示したように一連の処理を行う場合には座標情報に基づいて展開配置した結果に対して併せて検証処理をすることも勿論可能である。
図41及び図42は、非露光領域の有無の検証処理、即ち、パネル基板の全ての領域がレチクルレイアウトデータ162によってカバーされたか否かの検証処理について説明する説明図である。
図41に示すように、レチクル13に設けられたレチクルレイアウトデータ162内の繰り返し要素163を、座標情報に基づいて擬似的にパネル基板12上に露光処理し、パネル基板12上にパネルレイアウトデータ161を擬似的に形成配置していく。
レチクルレイアウトデータ162内の繰り返し要素163を座標情報に基づいてパネル基板12上に配置する際に、図42に示すように、繰り返し要素163のブラインド枠の内縁にて包含される露光対象領域と、該露光対象領域に対応するパネル基板12の領域との論理ORを取ってゆく。これをすべての繰り返し要素163に対して行い、パネル基板12上に論理0となっているグリッド格子が存在すれば、その領域は露光対象とならなかった領域でありエラーである。
図41には、繰り返し要素R1が欠落しているため、パネル基板12上にレチクルデータでカバーされない(パネルレイアウトデータが形成されない)領域4101が発生している例を示しており、この場合、CPU7はエラーと認識する。
以上説明したレチクルデータの論理処理と検証項目との関係を整理すると次のようになる。
片側露光検証の場合、論理処理又は差分処理は、図形Aと図形Bに対して、AとBの論理和(A OR B)をとり、その結果の図形Aを含む領域A’と図形Aの排他的論理和(A’ XOR A)をとる。または、前記論理和の結果の図形Aを含む領域A’と図形Aの差分をとる。検出項目としては、図形Aを含む領域にのみ存在し図形Bを含む領域に存在したデータを検出する(図20〜図26参照)。
二重露光検証(接露光その1を含む)の場合、論理処理又は差分処理は、図形Aと図形Bに対して、AとBの論理積(A AND B)をとる。検出項目としては、二重露光領域の検出、設定されたパラメータに基づいてエラーか否かを判定し、エラーと判定した場合には該判定結果をエラーレポートとして出力する(図27〜図36、図39、図40参照)。
接露光その2の場合、論理処理又は差分処理は、図形Aと図形Bに対して、AとBの論理積(A AND B)をとる。この結果が論理0(図形なし)であり、且つ、AとBの論理和(A OR B)の結果が一つの図形を形成する場合、検出項目としては、接露光その2領域の検出を行い、設定されたパラメータに基づいてエラーか否かを判定し、エラーと判定した場合には該判定結果をエラーレポートとして出力する(図39、図40参照)。
非露光検証の場合、論理処理又は差分処理は、全レチクルレイアウトデータをパネル基板上に配置展開し、論理和(OR)処理を行う。検出項目としては、ORのビットが立たない(OR処理の結果が論理0になる)グリッド格子点を非露光領域として検出する(図41、図42参照)。
図43及び図44は、検証結果のグラフィック表示について説明する説明図で、図43は表示部1に表示されるダイアログボックス431を示す図、図44は表示部1のパネル基板ウインドウ12に表示されるグラフィックデータ形式のエラー表示を示す図である。
検証条件等の設定は、操作部16によってダイアログボックス431内の操作ボタンを操作することによって設定する。例えば、検証はすべてレイヤ単位に行われるので、操作部16から、ダイアログボック431にて表示したいレイヤの指定をおこない、続いて表示したいエラータイプを指定して検索を指示する。
ここで、表示したいエラータイプとは、片側露光、2重露光、接露光その1、接露光その2、非露光の5種類である。各エラータイプは表示する色を指定することが可能である。図44では、●は前記5種類のエラー中のいずれかのエラーを有するグリッド格子点(エラーグリッド格子点)を表し、○は前記エラーを有しないグリッド格子点を表している。
CPU7は、設定された条件に基づいて、エラー箇所が何箇所あるかをユーザに表示する。
続いて、ユーザが操作部16によって表示操作領域432内の各操作ボタンを操作して、エラーの箇所を次、前、最初、最後、と指示すればその際にパネル基板ウィンドウ12に表示されているエラー領域に対して、指示された内容が表示される。
エラー箇所は何箇所も表示されることが通例であり、例えば、その次を指定すれば、そこで表示されている解像度において上方左側を始点とし右側に移動し右側に領域が無いようであれば下方左側にジャンプして表示を行う。また拡大、縮小が指示されればその時に表示されている中心座標に対して拡大または縮小したグラフィックデータを表示する。
図45は、検出されたエラー図形のデータ構造を示す図である。エラーデータは、トップモジュール451に、エラーモジュール452、454、456、458のモジュール名を自動生成されてリンクされる。エラーとなる図形データ453、455、457、459は、各エラーモジュール452、454、456、458の直下にリンクされる。エラーモジュール452、454、456、458はインスタンス名もライブラリ名も同一であり、従って、同じ形状をしたエラーデータであっても共有化はされない。これはエラーはパネル基板において基本的には独立に発生するからである。
以上述べたように、本発明の実施の形態に係るレチクル検証システムにおいては、CPU7は、記憶部8のデータファイル記憶部5に記憶された露光要素の図形データ及び座標情報を参照して、前記露光要素に対応するディスプレイパネル上のパネルレイアウト要素(レイアウト図形要素)を生成し、複数の前記パネルレイアウト要素の位置関係に基づく検証結果を表示部1に表示する。また、エラーか否かの判断基準が設定されている場合には、複数の前記パネルレイアウト要素の位置関係を判別することによって前記露光要素がエラーか否かを検証し、検証結果を表示部1に表示する。表示部1では、パネル基板ウインドウ9又はレチクルウインドウ10内に、あるいはこれらのウインドウと関係のない表示領域に前記検証結果を表示するようにしている。
このように、本実施の形態に係るレチクル検証システムは、レチクルレイアウトデータと露光要素(繰り返し要素)の配置情報を入力とし、露光装置の動作をシミュレーションしかつ図形演算処理することにより、擬似的に露光処理を行い、レチクルによって、パネル基板上に適正なパネルレイアウトデータが形成されるか否かの検証、換言すればレチクルが適正か否かの検証を行うものである。
即ち、作成されたレチクルデータが正しいか否かを、露光装置をシミュレーションすることと図形演算処理を行うことにより、レチクルデータを検証することができる。これは特にフラットパネルディスプレイを製造するに当たって用いられるレチクルデータ検証に威力を発揮するものであり、本実施の形態によれば、レチクルレイアウトデータと座標情報から作成されるパネル基板データが正しく露光されるべきデータとなっているか否かについて検証することが可能になる。
また、露光装置の動作シミュレーションと図形演算処理に基づく検証機能を加えることによって可能となるため、製造工程に入る前に検証可能である。
この結果、フラットパネルディスプレイの製造において、作業時間をも含めた費用面に大きな効果がある。即ち、本発明の実施の形態に係るレチクル検証システムを製造前に実施しておくことにより、レチクルが正しいデータであることを確認しておけば、余計な費用負担の発生を未然に防ぐことが可能になる。
それらは、レチクル作成費用、パネル基板作成費用、誤製造した場合における人件費を含む製造時間と解析時間の費用、等でありこれら余計な出費をしなくて済むからである。この効果は領域の分割のみ必要である単純な繰り返し配置指定の場合においても全く同様である。何故なら繰り返し指定に人為的指示ミスが入る場合が多いからである。
また、本実施の形態によれば、表示部1、操作部16、CPU7及び記憶部8を有するコンピュータに実行させることによって前記レチクル検証システムを構築するレチクル検証用プログラムを提供することが可能になる。また、前記効果を奏するレチクル検証方法が提供される。
尚、前記実施の形態では、1つのコンピュータを用いてレチクル検証システムを構築するようにしたが、複数のコンピュータを用いて構築するようにしてもよい。この場合、前記各プログラムは、システム構成に応じて適宜分割した構成とすることができる。
液晶ディスプレイ等の各種ディスプレイ製造用レチクルの検証を行うレチクル検証システムに利用可能である。また、コンピュータを、各種ディスプレイ製造用レチクルの検証を行うレチクル検証システムとして機能させるプログラムに利用可能である。
本発明の実施の形態におけるフラットパネルディスプレイ用パネル基板とレチクルとの関係を示す図である。 本発明の実施の形態におけるパネル基板上のパネルレイアウトデータとレチクル上のレチクルレイアウトデータの関係を示す図である。 本発明の実施の形態においてレチクルデータを生成する際の全体的な表示内容を示す図である。 本発明の実施の形態においてレチクルデータを生成する際の全体的な処理を示すフローチャートである。 本発明の実施の形態におけるパネルレイアウトデータの構造を示す図である。 本発明の実施の形態におけるレチクルデータの構造を示す図である。 本発明の実施の形態におけるレチクルデータのテーブルである。 本発明の実施の形態における座標情報出力処理示す図である。 本発明の実施の形態における座標情報出力処理示す図である。 本発明の実施の形態における露光領域の分割処理方法を示す説明図である。 本発明の実施の形態における露光領域の分割処理方法を示す説明図である。 本発明の実施の形態における露光領域の分割処理方法を示す説明図である。 本発明の実施の形態における露光要素を示す図である。 本発明の実施の形態に係るレチクル検証システムのブロック図である。 本発明の実施の形態に係るレチクル検証システムの処理を示すフローチャートである。 本発明の実施の形態における各種データの関係を示す図である。 本発明の実施の形態におけるデータのテーブルである。 本発明の実施の形態におけるパネル基板上のデータ構造を示す図である。 本発明の実施の形態におけるパネル基板上のデータ構造に対応するテーブル構造を示す図である。 本発明の実施の形態における図形の各種処理を示す説明図である。 本発明の実施の形態における図形の各種処理を示す説明図である。 本発明の実施の形態における片側露光領域検出のOR処理を示す説明図である。 本発明の実施の形態における片側露光領域検出のOR処理を示す説明図である。 本発明の実施の形態における片側露光領域検出のOR処理を示す説明図である。 本発明の実施の形態における排他的論理和処理又は差分処理を示す説明図である。 本発明の実施の形態における排他的論理和処理又は差分処理を示す説明図である。 本発明の実施の形態における露光データのオーバラップを示す説明図である。 本発明の実施の形態における露光データのオーバラップを示す説明図である。 本発明の実施の形態におけるパネル基板上に配置された繰り返し要素を示す図である。 本発明の実施の形態におけるパネル基板上に配置された繰り返し要素を示す図である。 本発明の実施の形態におけるパネル基板上に配置された繰り返し要素の論理積を示す説明図である。 本発明の実施の形態におけるパネル基板上に配置された繰り返し要素の論理値表である。 本発明の実施の形態における2重露光領域の例を示す図である。 本発明の実施の形態における2重露光領域の例を示す図である。 本発明の実施の形態における2重露光領域の例を示す図である。 本発明の実施の形態における2重露光領域の例を示す図である。 本発明の実施の形態における2重露光処理の説明図である。 本発明の実施の形態における2重露光処理の説明図である。 本発明の実施の形態における2重露光検証処理の説明図である。 本発明の実施の形態における2重露光検証処理の説明図である。 本発明の実施の形態における非露光領域検証処理の説明図である。 本発明の実施の形態における非露光領域検証処理の説明図である。 本発明の実施の形態における検証結果の説明図である。 本発明の実施の形態における検証結果の説明図である。 本発明の実施の形態において検出されたエラー図形のデータ構造を示す図である。
符号の説明
1・・・表示部
2・・・キーボード
3・・・マウス
4・・・プログラム記憶部
5・・・データファイル記憶部
6・・・ファイル記憶部
7・・・CPU
8・・・記憶部
9・・・パネル基板ウインドウ
10・・・レチクルウインドウ
11・・・メニューウインドウ
12、101、210、801・・・パネル基板
13、205、805、808、811・・・レチクル
16・・・操作部
102、212・・・露光領域
103・・・露光可能領域
104・・・光源系機構
105・・・遮光系機構
107・・・露光面
162・・・レチクルレイアウトデータ
163・・・露光要素(繰り返し要素)
201〜204・・・液晶パネル
206・・・レチクルレイアウトデータ
161、211、802、1003・・・パネルレイアウトデータ
213、1002・・・ショット枠
431・ダイアログボックス
432・・・表示操作領域
804・・・アライメントマーク
806、809、810、812、813・・・繰り返し要素
1004・・・補正パターン
1005・・・ブラインド枠
1006・・・内縁
1007・・・2重露光を行う部位
1008、2001、2703・・・オーバラップ部
1301・・・斜線部
2101・・・片側露光領域
2201、2706・・・中心線
2707・・・露光データ
2704、2705、2901、2902・・・グリッド格子点
2707・・・データ
3601・・・非露光領域グリッド格子点
3702、3703、3901、3902・・・メタル配線
3903、3904・・・ショット枠領域

Claims (11)

  1. フラットパネルディスプレイ露光用レチクルに含まれる露光要素の図形データと、グリッド格子点の座標によって表され、ディスプレイパネル上の前記露光要素の露光位置を表す座標情報とを記憶する記憶手段と、
    前記記憶手段に記憶した露光要素の図形データ及び座標情報に基づいて、前記露光要素に対応する前記ディスプレイパネル上のレイアウト図形要素を生成するレイアウト図形要素生成手段と、
    前記レイアウト図形要素生成手段が生成した前記ディスプレイパネル上の複数のレイアウト図形要素の位置関係に基づいて前記露光要素を検証する検証手段と、
    前記検証手段が検証した結果を表示する表示手段とを備えて成ることを特徴とするレチクル検証システム。
  2. 前記表示手段は少なくとも検証結果を表示するウインドウを有し、
    前記検証手段は、前記複数のレイアウト図形要素に対応するグリッド格子同士の演算処理を行うことによって前記複数の露光要素を検証し、
    前記表示手段は、前記検証手段による検証結果得られる図形を前記ウインドウ上に表示することを特徴とする請求項1記載のレチクル検証システム。
  3. 前記レチクルのデータはトランジスタ図形を定義する中間階層又はトランジスタ図形を定義した外部ライブラリを中間階層として有すると共に、前記トランジスタ図形を定義する中間階層又は外部ライブラリをポインタ構造により必要に応じて展開するテーブル構造を持つ展開手段を備えて成ることを特徴とする請求項1又は2記載のレチクル検証システム。
  4. 前記検証手段は、2つのレイアウト図形要素の論理OR処理を行った後、前記いずれかのレイアウト図形要素と前記論理ORの結果得られる図形要素中の当該レイアウト図形要素に対応する領域との論理XOR処理又は差分処理を行うことによって、前記2つのレイアウト図形要素の差異を抽出する差異抽出手段を有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一に記載のレチクル検証システム。
  5. 前記検証手段は、2つのレイアウト図形要素の論理AND処理を行うことによって前記2つのレイアウト図形要素のオーバラップ量を検出するオーバラップ量検出手段を備えて成ることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一に記載のレチクル検証システム。
  6. 前記検証手段は、前記オーバラップ量検出手段の検出したオーバラップ量が、指示されたオフセット値を満たすか否かを検証するオフセット検証手段を備えて成ることを特徴とする請求項5記載のレチクル検証システム。
  7. 前記検証手段は、前記オーバラップ量検出手段が前記2つのレイアウト図形要素のオーバラップ量の無いことを検出した後、論理OR処理を行い2つのレイアウト図形要素が閉じたひとつの図形に形成される結果が確認された場合には前記2つのレイアウト図形要素は連続した図形要素であると判別する要素判別手段を備えて成ることを特徴とする請求項5又は6記載のレチクル検証システム。
  8. 前記各露光要素には図形要素及び前記図形要素を囲む所定幅のブラインド枠が含まれ、
    前記検証手段は、前記ブラインド枠内縁に対応する前記ディスプレイパネル上のグリッド格子に対し所定オフセット値の範囲内に、前記図形要素のレイアウト図形要素の終点が存在するか否かを検証する終点検証手段を備えて成ることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一に記載のレチクル検証システム。
  9. エラーの検証結果が含まれるエラーレイヤを指定する指定手段を有し、
    前記表示手段が前記検証結果を表示するウィンドウ上にエラー図形情報を表示する場合、前記指定手段が指定したエラーレイヤのエラー図形情報をレイヤ単位で前記ウィンドウ上に表示することを特徴とする請求項1乃至8のいずれか一に記載のレチクル検証システム。
  10. 前記表示手段は前記検証結果を表示するウィンドウとは異なるダイアログボックスを有し、
    前記指定手段は前記ダイアログボックス上にて前記エラーレイヤを指定し、
    前記表示手段は、前記ダイアログボックス上にてエラー個数を表示すると共に、前記指定手段によるエラーレイヤの指定に応答して当該レイヤのエラー図形情報を前記ウィンドウ上に表示することを特徴とする請求項9記載のレチクル検証システム。
  11. コンピュータを、請求項1乃至10のいずれか一に記載のレチクル検証システムとして機能させるためのプログラム。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102981356A (zh) * 2012-12-14 2013-03-20 京东方科技集团股份有限公司 一种减小掩膜版拼接误差的方法

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6598421B2 (ja) 2013-02-22 2019-10-30 キヤノン株式会社 マスクパターンの決定方法、プログラム、情報処理装置

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10214770A (ja) * 1997-01-30 1998-08-11 Sony Corp 分割露光におけるパターン転写の際の繋ぎ部の検証方法及び同装置
JP2000089448A (ja) * 1998-09-11 2000-03-31 Fujitsu Ltd 露光用パターン表示・検査・修正方法
JP2004038046A (ja) * 2002-07-05 2004-02-05 Sharp Corp 補正マスクパターン検証装置および補正マスクパターン検証方法
JP2004265386A (ja) * 2003-02-10 2004-09-24 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd パターンシミュレーション方法、そのプログラム、そのプログラムを記憶した媒体、およびその装置
JP2005005520A (ja) * 2003-06-12 2005-01-06 Renesas Technology Corp 露光装置評価用フォトマスクの製造方法、露光装置評価用フォトマスクおよび収差評価方法
JP2008304716A (ja) * 2007-06-07 2008-12-18 Jedat Inc レチクル設計システム及びプログラム

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5403753A (en) * 1993-07-15 1995-04-04 Texas Instruments Incorporated Method of forming implant indicators for implant verification
JPH10339942A (ja) * 1997-06-09 1998-12-22 Mitsubishi Electric Corp レイアウトパターン検証装置
JPH11119410A (ja) * 1997-10-14 1999-04-30 Fujitsu Ltd パターン設計方法及びパターン設計装置
JP2000267254A (ja) * 1999-03-17 2000-09-29 Fujitsu Ltd パターンデータ検証方法及び記憶媒体
US6784446B1 (en) * 2002-08-29 2004-08-31 Advanced Micro Devices, Inc. Reticle defect printability verification by resist latent image comparison
TWI222694B (en) * 2003-06-18 2004-10-21 Macronix Int Co Ltd MROM mask verification method
US7314689B2 (en) * 2004-01-27 2008-01-01 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. System and method for processing masks with oblique features
KR101032526B1 (ko) * 2004-03-09 2011-05-04 호야 가부시키가이샤 마스크 블랭크 정보 취득방법 및 시스템, 마스크 블랭크 정보 제공방법, 전사 마스크 제작지원 및 제조방법, 그리고 마스크 블랭크 제조 및 제공방법
TWI236081B (en) * 2004-09-29 2005-07-11 Powerchip Semiconductor Corp Method for verifying photomask

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10214770A (ja) * 1997-01-30 1998-08-11 Sony Corp 分割露光におけるパターン転写の際の繋ぎ部の検証方法及び同装置
JP2000089448A (ja) * 1998-09-11 2000-03-31 Fujitsu Ltd 露光用パターン表示・検査・修正方法
JP2004038046A (ja) * 2002-07-05 2004-02-05 Sharp Corp 補正マスクパターン検証装置および補正マスクパターン検証方法
JP2004265386A (ja) * 2003-02-10 2004-09-24 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd パターンシミュレーション方法、そのプログラム、そのプログラムを記憶した媒体、およびその装置
JP2005005520A (ja) * 2003-06-12 2005-01-06 Renesas Technology Corp 露光装置評価用フォトマスクの製造方法、露光装置評価用フォトマスクおよび収差評価方法
JP2008304716A (ja) * 2007-06-07 2008-12-18 Jedat Inc レチクル設計システム及びプログラム

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102981356A (zh) * 2012-12-14 2013-03-20 京东方科技集团股份有限公司 一种减小掩膜版拼接误差的方法

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