JP5020003B2 - レチクル検証システム及びプログラム - Google Patents
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Description
前記レチクルデータを用いてFPDのパネル基板上に転写する場合、前記レチクルデータの露光要素を配置する座標情報を用いて、露光装置にてFPDのパネル基板上に転写される。
レチクルを用いて露光装置により露光する場合、レチクル上の露光要素を繰り返し配置して露光することにより、フラットパネルディスプレイ用パネル基板を製造する。
またレイアウトデータの切断を伴わない場合においてもディスプレイパネル領域の分割は必要であるから、露光要素の繰り返し配置の指定は必ず実施しなければならない。この際に繰り返し配置の指示ミスが生ずる場合が極めて多い。したがって、製造前工程において露光結果を予め検証する何らかの検証手段が要望されている。
また、本発明は、露光装置の動作をシミュレーションすることによって、露光要素による露光結果を予め検証可能なレチクル検証システムを提供することを課題としている。
また、本発明は、コンピュータに実行させることにより、前記レチクル検証システムを構築するのに好適なレチクル検証用プログラムを提供することを課題としている。
また、前記検証手段は、2つのレイアウト図形要素の論理OR処理を行った後、前記いずれかのレイアウト図形要素と前記論理ORの結果得られる図形要素中の当該レイアウト図形要素に対応する領域との論理XOR処理又は差分処理を行うことによって、前記2つのレイアウト図形要素の差異を抽出する差異抽出手段を有するように構成してもよい。
また、前記検証手段は、前記オーバラップ量検出手段の検出したオーバラップ量が、指示されたオフセット値を満たすか否かを検証するオフセット検証手段を備えて成るように構成してもよい。
また、エラーの検証結果が含まれるエラーレイヤを指定する指定手段を有し、前記表示手段が前記検証結果を表示するウィンドウ上にエラー図形情報を表示する場合、前記指定手段が指定したエラーレイヤのエラー図形情報をレイヤ単位で前記ウィンドウ上に表示するように構成してもよい。
コンピュータは、前記プログラムを実行することにより、前記いずれか一に記載のレチクル検証システムとして機能する。
また、露光装置の動作をシミュレーションすることによって、露光要素による露光結果を予め検証することが可能になる。
また、本発明に係るプログラムは、コンピュータが実行することによって前記レチクルデータ露光検証システムを構築することが可能になる。
尚、詳細は後述するが、本発明の実施の形態に係るレチクル検証システムは、1台又は複数台のコンピュータ及び前記コンピュータが実行することによってレチクル検証システムを構築するレチクル検証用プログラムとによって構成されている。前記コンピュータは、レチクルデータ作成用プログラムを実行することによって、レチクルデータを作成するためのレチクルデータ作成システムとしても機能する。また、各図において、同一部分には同一符号を付している。
図1において、101はパネル基板、102は特性が保証された露光装置(図示せず)の露光領域、103は露光装置の露光可能領域、104は光源系機構、105は遮光系機構、106はレチクル、107は露光面である。ここでパネル基板101の材質は、ガラスやプラスティックフィルム等が使用可能である。
尚、遮光系機構105とは、光源からの光を機械的に遮蔽するための長方形の機械的な機構である。
図2において、液晶パネル201はパネルレイアウトデータ211として一種類の大型パネルレイアウトデータA1がパネル基板210上にひとつ存在する例である。液晶パネル201の場合には、パネルレイアウトデータA1を分割して、繰り返し構造をもつデータ群をショット枠213に対応付けて抽出し、これをレチクル205上に配置してレチクルレイアウトデータ206とする。
図3及び図4は、パネルレイアウトデータからレチクルデータを作成する際の一般的な処理手順を示す図であり、図3はレチクル検証システム(レチクルを作成する時点ではレチクル作成システムとして機能させる。)の表示部1の表示内容を示す図、図4はレチクル作成システムを構成するCPU(図示せず)の処理手順を示すフローチャートである。
補正パターンを発生させない場合にはショット枠213をオーバラップさせて定義した後、処理ステップS406へ移行する(ステップS405)。このように構成することにより、露光する際に、露光データそのものを多重露光させる事により、微小なズレによるデータの誤切断を防ぐことができる。
処理ステップS402において、データの切断を伴わない露光領域の分割の場合には、直ちに、露光領域を囲む所定幅の枠(ブラインド枠)の生成処理(ステップS406)へ移る。
これにより、露光領域のデータとブラインド枠によって構成される露光要素(繰り返し要素)が作成される。また、前記露光要素に対応付けられた座標情報が作成される。
ここで、レチクルレイアウトデータとは、露光要素の図形を定義する情報であり、図形データとして長方形図形、一筆書き図形、中心線に幅が定義された図形、及びこれら図形データを構成する中間モジュールから構成されるデータファイルである。
また、レチクルデータとは、前記レチクルレイアウトデータ及び座標情報によって構成される情報をいう。
また、トランジスタデータは多用されるため、ライブラリ形式にてパネルレイアウトデータとは独立に管理される場合もある。
また、トランジスタデータは多用されるためライブラリ形式にてレチクルデータとは独立に管理される場合もある。
例えばメタル1層(アルミ第1層)の場合、ショット枠データは層コード101、ブラインド枠データは層コード102、パターンデータは層コード104、補正パターンは層コード105という具合に、メタル2層(アルミ第2層)についても同様に規定され、各層コードを独立とし、独立に処理可能としている。これらの層コードは、各繰り返し要素において共通に使用される。即ち、物理層とデータクラスが同一であれば、各繰り返し要素間において層コードは共通である。
ここで、図形データは、本実施の形態に関連する分野におけるデファクトスタンダードとして利用されるGDSフォーマットに対比させれば、長方形図形はレクトアングル、一筆書き図形はバウンダリ、中心線に幅が定義された図形はパス、これら図形データをまとめたモジュールはセルと称されるものである。
図8において、801はパネル基板、802はパネルレイアウトデータ、803はパネル基板のXY中心座標(本例では、4つのショット枠Aの中心座標に一致している。)(0,0)、804はアライメントマーク(その座標はパネル基板801の中心座標(0,0)を基準とする座標(X0,Y0)である。)である。
図8の例では、1つの繰り返し要素806がレチクル805に形成され、2つの繰り返し要素809、810がレチクル808に形成され、2つの繰り返し要素812、813がレチクル811に形成されている。
各繰り返し要素は名称を持つ。各繰り返し要素は各繰り返し要素自体の座標中心に対して幅(W)と高さ(H)が与えられる。各繰り返し要素は、その繰り返し要素よって構成される繰り返し集合の中心座標を基準として配置される。図の例ではパネル基板801の中心座標(0,0)がこれに当たり、中心座標(0,0)を基準とする位置に配置される。
アライメントマークについては、パネル基板801についてはパネル基板801の中心座標(0,0)を基準とする位置に配置され、レチクルについてはレチクルの中心座標を基準とする位置に配置される。アライメントマークについてはライブラリファイルにて格納定義されている。
ここでは、露光ショット情報として、パネル基板上でのショット情報として繰り返し要素の名称と繰り返し数と幅と高さと配列指定された配置位置と、レチクル上でのショット情報として同繰り返し要素名称と幅と高さと配置位置とが座標情報としてユーザに提供される例を示している。
即ち、補正パターン1004を生成する場合、図10及び図11において、ショット枠1002直下にてデータ(例えば配線データ)1003を切断し、切断部位に所定長Δ分だけ伸張させた補正パターン1004、1004を連続的に生成する。このとき、補正パターン1004は、前記切断部位よりも所定長内側の位置から、前記切断部位よりも所定長だけ幅広に構成してもよい。このようにして、2重露光を行う部位1007に補正パターン1004が形成される。
一方、補正パターンを生成させずに切断する場合には、レイアウトデータをオーバラップさせる。オーバラップさせる場合、図12に示すように、ショット枠1002より所定長Δ分だけ伸張させた部分で切断する。隣接するショット枠1001についても、同様に所定長Δ分だけ伸張させた部分で切断してレチクルが形成される。このようにして、2重露光を行う部位1007にオーバラップ部1008が形成される。
図13において、斜線部1301を有するショット枠1002が設定できると繰り返し構造の抽出が容易に出来る場合があり効果的である。
補正パターン1004、1004は、切断された配線データ1003の長さ方向に沿って内側方向と外側方向について所定の補正値が設定される。また、配線データ1003の幅方向に対する補正パターン1004、1004の値は、配線データ1003を挟む幅方向の両側について、各々、所定の補正値が設定される。ブラインド枠1005の幅は水平方向Whと垂直方向Wvにて指定可能である。
図13に示すように、内縁1006に斜線部1301を含むブラインド枠1005を持つような場合には、補正パターン1004、1004による2重露光がデータ切断部位には必要となる。
以上、図1〜図13はレチクルレイアウトデータと座標情報がいかにして作成されるかについて説明しているものである。本実施の形態は、このようにして作成されたレチクルレイアウトデータと座標情報から合成されるパネルレイアウトデータの検証を行い、結果としてレチクルデータ露光検証を行うものである。
図形の表示ウィンドウとしては検証結果図形の表示であるパネル基板ウィンドウが少なくとも必要であり、入力部分と演算部分に関しえは必ずしも図形表示機能は必要となれないが操作確認上図形表示機能はあった方が便利である。
表示部1上には、パネル基板12上のパネルレイアウトデータを操作するパネル基板ウィンドウ9、レチクル13上のレチクルレイアウトデータを操作するレチクルウィンドウ10、操作部16による操作を指示するメニューウィンドウ11の少なくも3つのウィンドウを表示するように構成される。パネル基板ウィンドウ9上で設定されたショット枠をレチクルウィンドウ10上にショット枠として設定する操作をウィンドウ間で行う。
前記プログラムの構成としては、レチクル作成システム用のプログラムとして、ショット枠設定プログラム、繰り返し構造検証プログラム、ブラインド枠間最小間隔検証プログラム、データ切断プログラム、補正パターン生成プログラム、ブラインド枠生成プログラム、座標情報リスト出力プログラム、各種データの入出力プログラム、といったプログラムから構成される。
また、レチクルデータ検証用のプログラムとして、入力処理部用プログラム、図形演算処理による検証処理部用プログラム、検証結果表示部用プログラムが含まれている。
このようにしてレチクルレイアウトを実行するレチクル設計システムやレチクルデータの検証を行うレチクルデータ検証システムが構成されることになる。
前記表示手段、操作手段、記憶手段は、レチクル作成システムとして機能する場合、次のように機能することができる。
例えば、表示手段は、少なくとも、パネル基板のパネルレイアウトデータを表示するパネル基板ウインドウ、レチクルレイアウトデータを表示するレチクルウインドウ及び前記操作手段のコマンドを表示するメニューウインドウを表示することができる。
記憶手段は、主記憶装置及び外部記憶装置として機能することができる。記憶手段には、パネルレイアウトデータを切断可能な条件、補正パターンの幅及びブラインド枠間の最小距離を含む生成条件を記憶することができる。また、記憶手段には、操作手段によって設定した生成条件を記憶することができる。
また、ブラインド枠間隔検証手段は、複数の前記ブラインド枠が存在する場合に、ブラインド枠間が所定の最小間隔以上に離れているか否かを検証することができる。
一方、前記表示手段、操作手段、記憶手段は、レチクル検証システムとして機能する場合、次のように機能することができる。
例えば、表示手段は、検証手段が検証した結果を表示することができる。また、表示手段は少なくとも検証結果を表示するウインドウを有することができる。また、表示手段は、検証手段による検証結果得られる図形を前記ウインドウ上に表示することができる。
記憶手段は、フラットパネルディスプレイ露光用レチクルに含まれる露光要素の図形データと、グリッド格子点の座標によって表され、ディスプレイパネル上の前記露光要素の露光位置を表す座標情報とを記憶することができる。
レイアウト図形要素生成手段は、記憶手段に記憶した露光要素の図形データ及び座標情報に基づいて、露光要素に対応するディスプレイパネル上のレイアウト図形要素を生成することができる。
検証手段は、2つのレイアウト図形要素の論理AND処理を行うことによって前記2つのレイアウト図形要素のオーバラップ量を検出するオーバラップ量検出手段を備えることができる。
検証手段は、オーバラップ量検出手段が2つのレイアウト図形要素のオーバラップ量の無いことを検出した後、論理OR処理を行い2つのレイアウト図形要素が閉じたひとつの図形に形成される結果が確認された場合には前記2つのレイアウト図形要素は連続した図形要素であると判別する要素判別手段を備えることができる。
また、記憶手段に記憶されたプログラムは、表示手段、操作手段、記憶手段及びCPUを有するコンピュータを、前記機能を有するレチクル検証システムとして機能させることができる。
図15において、入力されるレチクルレイアウトデータは所謂GDSフォーマットによる表現形式のデータで、座標値が既知の点である複数のグリッド格子点によって表現した形式のデータであり、中間階層構造を許す形式のデータである。前記レチクルデータファイルには、フラットパネルディスプレイ露光用レチクルに含まれる露光要素の図形データが含まれている。
レチクルレイアウトデータファイルに記載されている繰り返し要素の繰り返し配置位置等を記述した座標情報は、通常テキストファイルである。前記座標情報には、グリッド格子点の座標によって表され、ディスプレイパネル上の露光要素の露光位置を表す情報が含まれている。
ここで、ひとつの繰り返し要素と空間的に接する他の繰り返し要素が容易にピックアップ出来るテーブル構造(後述する図17のテーブル構造1)を持った形態にて作成される。また、レチクルデータが中間階層を有している場合にはデータ量削減のため中間階層を維持しながら最下層まで容易にピックアップ出来るテーブル構造(後述するテーブル構造2)を持った形態にて作成される。
これらの検証を行うのに必要な論理演算はAND、OR及びXORである。またはXORの代わりに差分演算を適用してもよい。この論理処理または差分処理はすべてグリッド格子点同士の演算処理である。これら演算処理結果はまた図形データとして格納される。CPU7は、処理ステップS153の処理を全てのレイヤについて行う(ステップS153)。
また、図17は図16に示した繰り返し要素163において、多重露光、接露光その1、接露光その2の可能性のある繰り返し要素163を示すテーブル構造1であり、記憶部8のデータファイル記憶部5に記憶される。
ここで、アドレスとは、配置された繰り返し要素データの順番を示すアドレス、インスタンス名とは配置された繰り返し要素に付けられた固有名、繰り返し要素名とはレチクルデータに記載されている繰り返し要素のライブラリ名である。尚、インスタンスとは、単一又は複数の図形要素(例えばセルやデバイス等)によって構成される、1つのまとまった単位の図形要素である。
ここでは、レチクルレイアウトデータ162中の繰り返し要素163が持つ幅Wと高さHのデータを利用する。幅Wと高さHは、これを超えてデータは存在しない最小領域を示しており、テーブル構造1では各繰り返し要素163の幅Wと高さHが隣接する繰り返し要素163へのポインタを保有している。前記ポインタはアドレスポインタであり、関連する繰り返し要素163に付与されているアドレスがポインタとして使用される。
図18において、階層構造の最上位に唯一位置するトップモジュールの下層には、配置された繰り返し要素182、188が設けられている。配置された繰り返し要素182、188は、例えば、トランジスタ階層である。
配置された繰り返し要素188の下層には、図形データ189、トランジスタ(TR1)190及び図形データ191から成る直列階層構造、及び、トランジスタ(TR2)192及び図形データ193から成る直列階層構造が並列に設けられている。
繰り返し要素は中間階層を有する場合があり、多くの場合これはトランジスタ階層である。このトランジスタ階層を展開してしまうとデータ量が膨大となるため、本実施の形態では中間階層を予め展開するのではなく中間階層のままポインタ構造にてデータをライブラリとして保持し、必要に応じて展開する動的(ダイナミック)な処理を行っている。
例えば、図20において、レチクルの繰り返し要素Aとレチクルの繰り返し要素Bがパネル基板上の指定された座標に配置される場合、繰り返し要素Aと繰り返し要素Bに対応するパネルレイアウト要素がオーバラップされて領域A’、B’としてパネル基板上に配置されるものとする。
同様に、領域B’はパネル基板上の領域で繰り返し要素Bに相当する領域とオーバラップ部2001との論理和領域であり、ここには繰り返し要素Aに対応するパネルレイアウト要素A’の一部が投影されている。
これは通常オーバラップ指定ミスである。このミスは、レチクルデータ作成の際のショット枠指定ミスか、レチクルデータを作成する際のブラインド枠指定ミスか、配置座標の指定ミス等が考えられる。通常、オーバラップしている部位の露光データは両者完全にオーバラップされていなければならない。
論理処理および差分処理はすべてグリッド格子同士にて行われる。ここでORの定義は、結果が論理1の場合そのグリッド格子が露光され、論理0の場合そのグリッドは露光されないことを示す。
図23は、図22に対応する表示をグリッド格子点によって表した図であり、図を分かりやすくするため対応するオーバラップ部の中心線2201を記入してある。即ち、繰り返し要素Aの露光データL、繰り返し要素Bの露光要素R、及びこれらの論理ORをとった処理結果を示している。
図23に示した論理OR処理結果の図は、表示部1に表示される。表示箇所は、パネル基板ウインドウ9、レチクルウインドウ10のいずれでもよい。また、パネル基板ウインドウ9、レチクルウインドウ10及びメニューウインドウ11を消去して、表示部1の全域に図23の処理結果を表示するようにしてもよい。また、文字によって表示することも可能であり、この場合には、パネル基板ウインドウ9、レチクルウインドウ10及びメニューウインドウ11のいずれかに表示しもよく、あるいは、これらのウインドウを消去して、表示部1の全域に処理結果を文字によって表示するようにしてもよい。
図25には、レチクル上の繰り返し要素Aの露光データ(パネルレイアウト要素)をL、パネル基板上の領域A´の露光データ(パネルレイアウト要素)をR、及びこれらの論理XOR又は差分の処理結果を示している。
図26は、図25に示した露光データL、Rの各グリッド格子点に対する排他的論理和(XOR)、露光データL、Rの各グリッド格子点を用いた(L−R)差分処理の定義を示す論理値表である。
XORまたは差分処理をした結果、論理1の場合そのグリッドは露光データが片側にのみ存在する図形データを示し、論理0の場合は露光データは両側に存在するかもしくは両側に存在しないグリッドを示す。
図27は、レチクルの露光したいデータ2707を、露光されないグリッド格子点2704と露光されるグリッド格子点2705により表した図である。
また、図28は、分割したレチクルの繰り返し要素を座標情報に基づいて露光することにより、得られた露光データA、Bによってデータ2707が再現される様子を示す図である。
オーバラップ量がオフセット値として操作部16によって指定された場合には記憶部8に記憶され、CPU7は、その範囲内であればエラーではないと判断する。図27、図28では分かりやすくするためオーバラップ部2703の中心線2706を記入している。この例では中心線2706はオングリッドであるが、オーバラップの仕方によってはオングリッドにならない場合もある。
また、図31において、配置された繰り返し要素A、Bはオーバラップ部2703によってオーバラップしている。これがオーバラップによる2重露光を生成させる最も一般的な例である。検出されたオーバラップ部2703は、指定された幅プラスマイナス内の所定のオフセット値に入っていればエラーではないとする。
図33は、図29〜図32に示した例と同じであり、パネル基板上に配置された2つの繰り返し要素A、Bがオーバラップ部2703だけオーバラップして配置された例である。配置された繰り返し要素A、BのAND処理によって、オーバラップ量(オフセット値)が3グリッド格子分となっており、通常は正常と判断される例である。
図35の例は、パネル基板上に配置された2つの繰り返し要素A、Bが、1グリッド格子分の間隔を開けて隣接しているデータ配置である。本実施の形態では、本例を接露光その2と称し、通常はエラーと判断される。本例では、AND処理結果の領域は抽出されないが、OR処理を行うことによって1つの閉じた図形が抽出されれば接露光その2のタイプであると判断できる。
図37において、設定されたショット枠1002によって、パネルレイアウトデータ中の第1層メタル配線3702及び第2層メタル配線3703が切り取られている。
補正パターンを設ける場合、図38に示すように、第1層メタル配線3702及び第2層メタル配線3703の各端部に、各々、第1層メタル配線3702や第2層メタル配線3703の幅よりも所定長幅広で、それらの長さ方向に所定長有する補正パターン1004を連続的に一体に形成する。
ブラインド枠1005の内縁1006と補正パターン1004の外縁とが所定長(例えば1グリッド格子分)重なるように、所定幅のブラインド枠1005が形成される。
尚、ブラインド枠1005と補正パターン1004は重ならずに、ブラインド枠1005内縁と補正パターン1004は接するように形成してもよい。
従って、図39、図40に示すように補正パターン1004が正しく2重露光領域となっているか否かをAND処理の結果も用いて検証することになる。
即ち、図39において、パネル基板上に配置された繰り返し要素A、Bは、ショット枠1002中の指定されたショット枠領域3903、3904が重なるように配置される。これにより、繰り返し要素Aの補正パターン1004と繰り返し要素Bの補正パターン1004が重なって2重露光されることになり、パネル基板上には、繰り返し要素Aのメタル配線3901と繰り返し要素Bのメタル配線3902とが連続して形成されることになる。
尚、図38のブラインド枠内縁1006と図形データの2重露光検証は今回の検証の中で多少異質である。即ち、レチクルレイアウトデータのみあれば検証できるので座標情報は必要としない。しかしながら、図15に示したように一連の処理を行う場合には座標情報に基づいて展開配置した結果に対して併せて検証処理をすることも勿論可能である。
図41に示すように、レチクル13に設けられたレチクルレイアウトデータ162内の繰り返し要素163を、座標情報に基づいて擬似的にパネル基板12上に露光処理し、パネル基板12上にパネルレイアウトデータ161を擬似的に形成配置していく。
図41には、繰り返し要素R1が欠落しているため、パネル基板12上にレチクルデータでカバーされない(パネルレイアウトデータが形成されない)領域4101が発生している例を示しており、この場合、CPU7はエラーと認識する。
片側露光検証の場合、論理処理又は差分処理は、図形Aと図形Bに対して、AとBの論理和(A OR B)をとり、その結果の図形Aを含む領域A’と図形Aの排他的論理和(A’ XOR A)をとる。または、前記論理和の結果の図形Aを含む領域A’と図形Aの差分をとる。検出項目としては、図形Aを含む領域にのみ存在し図形Bを含む領域に存在したデータを検出する(図20〜図26参照)。
非露光検証の場合、論理処理又は差分処理は、全レチクルレイアウトデータをパネル基板上に配置展開し、論理和(OR)処理を行う。検出項目としては、ORのビットが立たない(OR処理の結果が論理0になる)グリッド格子点を非露光領域として検出する(図41、図42参照)。
検証条件等の設定は、操作部16によってダイアログボックス431内の操作ボタンを操作することによって設定する。例えば、検証はすべてレイヤ単位に行われるので、操作部16から、ダイアログボック431にて表示したいレイヤの指定をおこない、続いて表示したいエラータイプを指定して検索を指示する。
CPU7は、設定された条件に基づいて、エラー箇所が何箇所あるかをユーザに表示する。
エラー箇所は何箇所も表示されることが通例であり、例えば、その次を指定すれば、そこで表示されている解像度において上方左側を始点とし右側に移動し右側に領域が無いようであれば下方左側にジャンプして表示を行う。また拡大、縮小が指示されればその時に表示されている中心座標に対して拡大または縮小したグラフィックデータを表示する。
この結果、フラットパネルディスプレイの製造において、作業時間をも含めた費用面に大きな効果がある。即ち、本発明の実施の形態に係るレチクル検証システムを製造前に実施しておくことにより、レチクルが正しいデータであることを確認しておけば、余計な費用負担の発生を未然に防ぐことが可能になる。
また、本実施の形態によれば、表示部1、操作部16、CPU7及び記憶部8を有するコンピュータに実行させることによって前記レチクル検証システムを構築するレチクル検証用プログラムを提供することが可能になる。また、前記効果を奏するレチクル検証方法が提供される。
2・・・キーボード
3・・・マウス
4・・・プログラム記憶部
5・・・データファイル記憶部
6・・・ファイル記憶部
7・・・CPU
8・・・記憶部
9・・・パネル基板ウインドウ
10・・・レチクルウインドウ
11・・・メニューウインドウ
12、101、210、801・・・パネル基板
13、205、805、808、811・・・レチクル
16・・・操作部
102、212・・・露光領域
103・・・露光可能領域
104・・・光源系機構
105・・・遮光系機構
107・・・露光面
162・・・レチクルレイアウトデータ
163・・・露光要素(繰り返し要素)
201〜204・・・液晶パネル
206・・・レチクルレイアウトデータ
161、211、802、1003・・・パネルレイアウトデータ
213、1002・・・ショット枠
431・ダイアログボックス
432・・・表示操作領域
804・・・アライメントマーク
806、809、810、812、813・・・繰り返し要素
1004・・・補正パターン
1005・・・ブラインド枠
1006・・・内縁
1007・・・2重露光を行う部位
1008、2001、2703・・・オーバラップ部
1301・・・斜線部
2101・・・片側露光領域
2201、2706・・・中心線
2707・・・露光データ
2704、2705、2901、2902・・・グリッド格子点
2707・・・データ
3601・・・非露光領域グリッド格子点
3702、3703、3901、3902・・・メタル配線
3903、3904・・・ショット枠領域
Claims (10)
- フラットパネルディスプレイ露光用レチクルに含まれる露光要素の図形データと、グリッド格子点の座標によって表され、ディスプレイパネル上の前記露光要素の露光位置を表す座標情報とを記憶する記憶手段と、
前記記憶手段に記憶した露光要素の図形データ及び座標情報に基づいて、前記露光要素に対応する前記ディスプレイパネル上のレイアウト図形要素を生成するレイアウト図形要素生成手段と、
前記レイアウト図形要素生成手段が生成した前記ディスプレイパネル上の複数のレイアウト図形要素の位置関係に基づいて前記露光要素を検証する検証手段と、
前記検証手段が検証した結果を表示する表示手段とを備えて成り、
前記検証手段は、2つのレイアウト図形要素の論理OR処理を行った後、前記いずれかのレイアウト図形要素と前記論理ORの結果得られる図形要素中の当該レイアウト図形要素に対応する領域との論理XOR処理又は差分処理を行うことによって、前記2つのレイアウト図形要素の差異を抽出する差異抽出手段を有することを特徴とするレチクル検証システム。 - 前記表示手段は少なくとも検証結果を表示するウインドウを有し、
前記検証手段は、前記複数のレイアウト図形要素に対応するグリッド格子同士の演算処理を行うことによって前記複数の露光要素を検証し、
前記表示手段は、前記検証手段による検証結果得られる図形を前記ウインドウ上に表示することを特徴とする請求項1記載のレチクル検証システム。 - 前記レチクルのデータはトランジスタ図形を定義する中間階層又はトランジスタ図形を定義した外部ライブラリを中間階層として有すると共に、前記トランジスタ図形を定義する中間階層又は外部ライブラリをポインタ構造により必要に応じて展開するテーブル構造を持つ展開手段を備えて成ることを特徴とする請求項1又は2記載のレチクル検証システム。
- 前記検証手段は、2つのレイアウト図形要素の論理AND処理を行うことによって前記2つのレイアウト図形要素のオーバラップ量を検出するオーバラップ量検出手段を備えて成ることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一に記載のレチクル検証システム。
- 前記検証手段は、前記オーバラップ量検出手段の検出したオーバラップ量が、指示されたオフセット値を満たすか否かを検証するオフセット検証手段を備えて成ることを特徴とする請求項4記載のレチクル検証システム。
- 前記検証手段は、前記オーバラップ量検出手段が前記2つのレイアウト図形要素のオーバラップ量の無いことを検出した後、論理OR処理を行い2つのレイアウト図形要素が閉じたひとつの図形に形成される結果が確認された場合には前記2つのレイアウト図形要素は連続した図形要素であると判別する要素判別手段を備えて成ることを特徴とする請求項4又は5記載のレチクル検証システム。
- 前記各露光要素には図形要素及び前記図形要素を囲む所定幅のブラインド枠が含まれ、
前記検証手段は、前記ブラインド枠内縁に対応する前記ディスプレイパネル上のグリッド格子に対し所定オフセット値の範囲内に、前記図形要素のレイアウト図形要素の終点が存在するか否かを検証する終点検証手段を備えて成ることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一に記載のレチクル検証システム。 - エラーの検証結果が含まれるエラーレイヤを指定する指定手段を有し、
前記表示手段が前記検証結果を表示するウィンドウ上にエラー図形情報を表示する場合、前記指定手段が指定したエラーレイヤのエラー図形情報をレイヤ単位で前記ウィンドウ上に表示することを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一に記載のレチクル検証システム。 - 前記表示手段は前記検証結果を表示するウィンドウとは異なるダイアログボックスを有し、
前記指定手段は前記ダイアログボックス上にて前記エラーレイヤを指定し、
前記表示手段は、前記ダイアログボックス上にてエラー個数を表示すると共に、前記指定手段によるエラーレイヤの指定に応答して当該レイヤのエラー図形情報を前記ウィンドウ上に表示することを特徴とする請求項8記載のレチクル検証システム。 - コンピュータを、請求項1乃至9のいずれか一に記載のレチクル検証システムとして機能させるためのプログラム。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007229215A JP5020003B2 (ja) | 2007-09-04 | 2007-09-04 | レチクル検証システム及びプログラム |
KR1020080076841A KR101041263B1 (ko) | 2007-09-04 | 2008-08-06 | 레티클 검증 시스템 및 프로그램이 기록된 기록매체 |
TW097131907A TWI384568B (zh) | 2007-09-04 | 2008-08-21 | 光罩驗證系統及程式 |
CN2008101445647A CN101382736B (zh) | 2007-09-04 | 2008-08-22 | 光罩验证系统及程序 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007229215A JP5020003B2 (ja) | 2007-09-04 | 2007-09-04 | レチクル検証システム及びプログラム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009063653A JP2009063653A (ja) | 2009-03-26 |
JP5020003B2 true JP5020003B2 (ja) | 2012-09-05 |
Family
ID=40462639
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007229215A Expired - Fee Related JP5020003B2 (ja) | 2007-09-04 | 2007-09-04 | レチクル検証システム及びプログラム |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5020003B2 (ja) |
KR (1) | KR101041263B1 (ja) |
CN (1) | CN101382736B (ja) |
TW (1) | TWI384568B (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102981356A (zh) * | 2012-12-14 | 2013-03-20 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种减小掩膜版拼接误差的方法 |
JP6598421B2 (ja) | 2013-02-22 | 2019-10-30 | キヤノン株式会社 | マスクパターンの決定方法、プログラム、情報処理装置 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5403753A (en) * | 1993-07-15 | 1995-04-04 | Texas Instruments Incorporated | Method of forming implant indicators for implant verification |
JPH10214770A (ja) * | 1997-01-30 | 1998-08-11 | Sony Corp | 分割露光におけるパターン転写の際の繋ぎ部の検証方法及び同装置 |
JPH10339942A (ja) * | 1997-06-09 | 1998-12-22 | Mitsubishi Electric Corp | レイアウトパターン検証装置 |
JPH11119410A (ja) * | 1997-10-14 | 1999-04-30 | Fujitsu Ltd | パターン設計方法及びパターン設計装置 |
JP2000089448A (ja) * | 1998-09-11 | 2000-03-31 | Fujitsu Ltd | 露光用パターン表示・検査・修正方法 |
JP2000267254A (ja) * | 1999-03-17 | 2000-09-29 | Fujitsu Ltd | パターンデータ検証方法及び記憶媒体 |
JP4133047B2 (ja) * | 2002-07-05 | 2008-08-13 | シャープ株式会社 | 補正マスクパターン検証装置および補正マスクパターン検証方法 |
US6784446B1 (en) * | 2002-08-29 | 2004-08-31 | Advanced Micro Devices, Inc. | Reticle defect printability verification by resist latent image comparison |
JP2004265386A (ja) * | 2003-02-10 | 2004-09-24 | Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd | パターンシミュレーション方法、そのプログラム、そのプログラムを記憶した媒体、およびその装置 |
JP2005005520A (ja) * | 2003-06-12 | 2005-01-06 | Renesas Technology Corp | 露光装置評価用フォトマスクの製造方法、露光装置評価用フォトマスクおよび収差評価方法 |
TWI222694B (en) * | 2003-06-18 | 2004-10-21 | Macronix Int Co Ltd | MROM mask verification method |
US7314689B2 (en) * | 2004-01-27 | 2008-01-01 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | System and method for processing masks with oblique features |
KR101032526B1 (ko) * | 2004-03-09 | 2011-05-04 | 호야 가부시키가이샤 | 마스크 블랭크 정보 취득방법 및 시스템, 마스크 블랭크 정보 제공방법, 전사 마스크 제작지원 및 제조방법, 그리고 마스크 블랭크 제조 및 제공방법 |
TWI236081B (en) * | 2004-09-29 | 2005-07-11 | Powerchip Semiconductor Corp | Method for verifying photomask |
JP2008304716A (ja) * | 2007-06-07 | 2008-12-18 | Jedat Inc | レチクル設計システム及びプログラム |
-
2007
- 2007-09-04 JP JP2007229215A patent/JP5020003B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2008
- 2008-08-06 KR KR1020080076841A patent/KR101041263B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2008-08-21 TW TW097131907A patent/TWI384568B/zh not_active IP Right Cessation
- 2008-08-22 CN CN2008101445647A patent/CN101382736B/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI384568B (zh) | 2013-02-01 |
TW200915462A (en) | 2009-04-01 |
KR101041263B1 (ko) | 2011-06-14 |
KR20090024616A (ko) | 2009-03-09 |
CN101382736A (zh) | 2009-03-11 |
CN101382736B (zh) | 2011-10-05 |
JP2009063653A (ja) | 2009-03-26 |
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A621 | Written request for application examination |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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