JP4647824B2 - 描画図形データ作成装置 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子ビーム描画装置用の描画図形データの作成装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、電子機器の高機能化と軽薄短小の傾向から、ＡＳＩＣに代表される種々のＬＳｌには、ますます高集積化、高機能化が求められるようになってきた。
即ち、できるだけチップサイズを小さくして、高機能を実現することがＡＳＩＣ等のＬＳＩには求められている。
上記ＡＳＩＣ等のＬＳＩは、機能、論理設計、回路設計、レイアウト設計等を経て、フォトマスクパタン作製用の図形データ（図形パタンデータあるいはパタンデータとも言う）を作製し、これを用いてフォトマスクを作製した後、フォトマスクのパタンをウエハ上に縮小投影露光等により転写して、半導体素子作製のプロセスを行うという数々の工程を経て作製されるものである。
フォトマスクは、一般には、上記図形データを用い、電子ビーム露光装置あるいはエキシマ波長等のフォト露光装置を用いて、フォトマスク用基板（フォトマスクブランクスとも言う）の遮光膜上に配設された感光性レジストに露光描画を行い、現像、エッチング工程等を経て、作製される。
即ち、ガラス基板の一面に遮光性の金属薄膜を設けたフォトマスク用基板の金属薄膜上に塗布、乾燥された感光性のレジスト上に、露光装置により電離放射線を所定の領域のみに照射して潜像を形成し、感光性のレジストを現像して、電離放射線の照射領域に対応した、所望の形状のレジストパターン得た後、更に、レジストパターンを耐エッチングレジストとして、金属薄膜をレジストパターン形状に加工して、所望の金属薄膜パターンを有するフォトマスクを得る。
尚、フォトマスクのパタンをウエハ上に縮小投影露光して、その絵柄を転写する場合は、フォトマスクをレチクルマスクとも言う。
【０００３】
上記フォトマスク作製用の電子ビーム露光装置には、ラスター型、可変成形型と異なる描画方式があり、更にメーカの違いもあり、各電子ビーム露光装置毎に、機能が異なるのが一般的である。
一般に、フォトマスクメーカにおいては、数種の異なるタイプの電子ビーム露光装置を備えており、基本的には、設計図形データを変換して、目的とする電子ビーム露光装置固有の描画図形データにして、描画を行なっているが、場合によっては、ある電子ビーム露光装置用の描画図形データを、一旦分割のない図形データで表し、これをフラクチャリングすることにより、目的とする他の電子ビーム露光装置用の描画図形データに変換し直し描画を行なうことがあった。
最近のＬＳＩの高密度化に伴い、フォトマスクにも、微細化、高精度化が要求される中、特に、元のパタンデータが可変成形型の電子ビーム描画装置用の描画図形データであり、これを他の電子ビーム露光装置用の描画図形データに変換し直す場合、元のパタンデータには、設計データとは異なる形状に分割された分割図形を含むことがあり、精度劣化は防げないと言う問題や、元のパタンデータを一旦分割のない図形データで表し、そのまま、フラクチャリングする従来の変換方法では、扱うデータ量が大きく、処理が実用的でなくなってきたと言う問題が現実のものとなってきた。
そして、汎用的に、ある電子ビーム露光装置用の描画図形データを、他の電子ビーム露光装置用の描画図形データに変換することができる描画図形データ作成装置で、処理が実用的で、精度的にも問題のない装置が求められるようになってきた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
上記のように、最近のＬＳＩの高密度化に伴い、フォトマスクにも、微細化、高精度化が要求される中、汎用的に、図形データを、目的とする電子ビーム露光装置用の描画図形データに変換することができる描画図形データ作成装置で、処理が実用的で、精度的にも問題のない装置が求められるようになってきた。
本発明は、これに対応するもので、図形データを、目的とする電子ビーム露光装置用の描画図形データに変換することができる描画図形データ作成装置で、且つ、処理が実用的で、精度的にも問題のない装置を提供しようとするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明の描画図形データ作成装置は、第１のパタンデータと、その配置情報を基に、目的とする電子ビーム描画装置用の描画図形データである第２のパタンデータと、その配置情報を作成するための、描画図形データ作成装置であって、第１のパタンデータの斜め線を持たない分割図形に対しては、これをポリゴン図形とし、また、第１のパタンデータの非分割図形に対しては、そのままの状態で、これらにについて、繰り返し図形を認識してこれを１つのポリゴン図形の繰り返しで表現し、ポリゴン図形表示の図形データを得るデータ圧縮処理部と、第１のパタンデータの斜め線を有する分割図形をポリゴン図形とし、これに対して、あるいはデータ圧縮処理部による処理後のポリゴン図形表示の図形データの図形に対して、それぞれ、対応する設計図形データの図形形状とは異なる部分を補正し、あわせて元の設計データに近いポリゴン図形を生成し、第１のパタンデータに相当するポリゴン図形表示の図形データを得る、データ精度向上処理部と、データ精度向上処理部による処理を経て得られた、ポリゴン表示の図形データに対し、ミラー処理、絵柄反転処理（リバース処理とも言う）、スケーリング処理、回転処理、サイジング処理等の図形処理を行ない、新たなポリゴン表示の図形データを得る図形演算処理部と、前記データ精度向上処理部による処理を経て得られた、ポリゴン表示の図形データ、あるいは、図形演算処理部による処理を経て得られた新たなポリゴン表示の図形データに対し、目的とする電子ビーム描画装置の機種に対応した所定のアルゴリズムに基づき、図形分割処理を行ない、第２のパタンデータ作成用の、目的とする電子ビーム描画装置用の描画図形データである中間パタンデータを得る、フラクチャリング処理部と、中間パタンデータに対し、目的とする電子ビーム描画装置の機能、特徴に合わせた形態の第２のパタンデータを作成し、且つ、第２のパタンデータ用の第２の配置情報を作成する、描画装置用データ作成部と、配置情報を変換する配置情報変換部と、前記中間パタンデータないし第２のパタンデータと、第１のパタンデータに対し、対応する図形データ領域同士に論理Ｅｘｃｌｕｓｉｖｅ−ＯＲ図形演算を施し、更に、所定サイズでアンダーサイズ処理を施し、残存する図形がなければＯＫ、残存する図形があればＯＵＴとするデータ比較検証処理を行なうデータ保証部と、第２のパタンデータと第２の配置情報とを保管するデータ保管部とを、備えていることを特徴とするものである。
そして、上記において、第１のパタンデータが可変成形型の電子ビーム描画装置用の描画図形データであることを特徴とするものである。
【０００６】
ここでは、分割図形とは、１つの図形を複数の第１のパタンデータの図形で表現しているものを言う。
また、以下、分割図形を表すデータを分割図形データ、非分割図形を表すデータを非分割図形データと言う。
【０００７】
【作用】
本発明の描画図形データ作成装置は、このような構成にすることにより、図形データを、目的とする電子ビーム露光装置用の描画図形データに変換することができる描画図形データ作成装置で、且つ、処理が実用的で、精度的にも問題のない装置の提供を可能とするものである。
即ち、データ圧縮処理部を備えていることにより、データ圧縮を効果的に行なえるものといており、データ精度向上処理部を備えていることにより、設計図形データに近い描画用データを得ることを可能にしており、精度向上処理部による処理を経て得られた、ポリゴン表示の図形データに対し、ミラー処理、絵柄反転処理（リバース処理とも言う）、スケーリング処理、回転処理、サイジング処理等の図形処理を行ない、新たなポリゴン表示の図形データを得る図形演算処理部を備えていることより、第１のパタンデータに対し、正確に各処理を行なうことを可能とし、フラクチャリング処理部を備えていることにより、第２のパタンデータ作成用の、目的とする電子ビーム描画装置用の描画図形データである中間パタンデータを得ることを可能にしている。
また、描画装置用データ作成部を備えていることにより、各機種に問題なく、第２のパタンデータを適用できるものとしている。
また、配置情報変換部を備えていることにより、目的とする描画装置に対応した記述の配置情報に変換することを可能としている。
また、データ保証部を備えていることにより、実際に使用する第２のパタンデータと第１のパタンデータとの差が、アンダーサイズ処理により決まる許容範囲内であるか否かを確認できるものとしている。
確認の結果、許容範囲外であればその箇所を確認し、対応がとれる。
尚、この場合、許容範囲は、所定サイズでアンダーサイズ処理を行なう際の、所定サイズ量に当たる。
また、データ保管部を備えていることにより、電子ビーム露光装置とは別に、独立して、第２のパタンデータを保管できるものとして、汎用の描画図形データ作成装置として、電子ビーム露光装置とは別に、独立して、機能できるものとしている。
【０００８】
【発明の実施の形態】
本発明の描画図形データ作成装置の実施の形態の１例を、図に基づいて説明する。
図１は本発明の描画図形データ作成装置の実施の形態の１例とその処理フローの１例を示した図で、図２はデータ圧縮処理部の処理を説明するための図で、図３はデータ精度向上処理部の処理を説明するための図である。
図１において、１１０はデータ圧縮処理部、１２０はデータ精度向上処理部、１２５は図形演算処理部、１３０はフラクチャリング処理部、１４０は描画装置用データ作成部で、１６０はデータ保証部、１７０はデータ保管部、１９０は電子ビーム露光装置、２１０は第１のパタンデータ、２１１は分割図形データ、２１２は非分割図形データ、２１１ａ、２１１ｂはポリゴンデータ、２２０は中間パタンデータ、２３０は第２のパタンデータ、２５０は第１の配置情報、２６０は配置情報、２７０は第２の配置情報である。
【０００９】
本発明の描画図形データ作成装置の実施の形態の１例を、図１に基づいて説明する。
本例は、第１のパタンデータ２１０と、その配置情報（第１の配置情報）２５０を基に、目的とする電子ビーム描画装置用の描画図形データである第２のパタンデータ２３０と、その配置情報２７０を作成するための、描画図形データ作成装置で、データ圧縮処理部１１０と、データ精度向上処理部１２０と、図形演算処理部１２５、フラクチャリング処理部１３０と、描画装置用データ作成部１４０と、配置情報変換部１５０と、データ保証部１６０と、データ保管部１７０とを備えている。
尚、第１の配置情報２５０には、配置情報の他に図形処理情報が含まれている場合もある。
【００１０】
第１のパタンデータ２１０としては、設計データ（通常、ポリゴンデータ）、各種電子ビーム描画装置用データ、他描画装置用データを対象として、第２のパタンデータ２３０としては、各種電子ビーム描画装置用データを対象としている。
【００１１】
データ圧縮処理部１１０は、第１のパタンデータ２１０の斜め線を持たない分割図形をポリゴン図形とし、更にポリゴン図形の状態で、繰り返し図形を認識し、これを１つのポリゴン図形の繰り返しで表現する処理を行なうものである。
図２に基づいて、データ圧縮処理部１１０の処理を簡単に説明する。
図２（ａ）に示すような、同一形状の絵柄ｆ１〜ｆ４をもつ電子ビーム描画装置用の図形データを処理する場合について説明する。
例えばｆ１は互いに接する（重なる場合も含む）図形ｆ１１〜ｆ１７で併せて表現される。
この場合、データを圧縮した表現では、ｆ１２とｆ１３は同形状、ｆ１４、ｆ１５，ｆ１６、ｆ１７は同形状とすると、図形ｆ１は、図形ｆ１１、ｆ１２、ｆ１４のみを用いて、それらの配列情報とで併せて表現できる。
図形ｆ２〜ｆ４についても同様である。
まず、処理対象となる電子ビーム描画装置用の図形データ（ｆ１〜ｆ４）に対し、ポリゴンデータ化処理すると、図２（ａ）に示す、同一形状の絵柄ｆ１〜ｆ４は、それぞれ、図２（ｂ）に示すように表示されるＦ１〜Ｆ４のポリゴンデータとして得ることができる。
図２（ｂ）の各絵柄（図形）Ｆｍ（ｍ＝１、２、３、４）は、（Ｘｍ、Ｙｍ、ｄｘｍ１、ｄｙｍ１、ｄｘｍ２、ｄｙｍ２・・・・・・、ｄｘｍ１２、ｄｙｍ１２）で表される。
ポリゴンデータ化処理が施されて得られるポリゴンデータの各絵柄（図形）は、Ｆ１〜Ｆ４のように、絵柄の外周のみを示すもので、各絵柄の外周の各コーナー部（図示していないが、左回りにＣ０、Ｃ１、Ｃ２、・・・Ｃｎとする）の位置座標を順に列記して示すことができるが、通常は、各コーナー部の位置座標は、始発のコーナー部Ｃ０座標位置と、各位置（Ｃ１、Ｃ２・・・Ｃｎ）の座標を隣のコーナー部からの変位量で示される。
即ち、図２（ｂ）の各絵柄（図形）Ｆｍ（ｍ＝１、２、３、４）は、（Ｘｍ、Ｙｍ、ｄｘｍ１、ｄｙｍ１、ｄｘｍ２、ｄｙｍ２・・・・・・、ｄｘｍ１２、ｄｙｍ１２）で表される。
尚、図形ｆ１１〜ｆ１７で併せて表現された図形ｆ１のポリゴンデータを得る方法（これをポリゴンデータ化処理と言う）としては、例えば、ベクトルで各図形の領域を表わして、ベクトルの重なりを見て、各図形間の重なりを判断し、重なり部分を除去した図形を得る方法等、一般的に知られている方法が適用できる。
【００１２】
Ｆ１〜Ｆ４が同じ図形であれば、（ｄｘｍ１、ｄｙｍ１、ｄｘｍ２、ｄｙｍ２・・・・・・、ｄｘｍ１２、ｄｙｍ１２）が、ｍ＝１、２、３、４で一致することより、重複する記載を止め、この部分（図形情報）は、図形の表現部分として、１回だけ表現し、これと、Ｆ１〜Ｆ４の各発のコーナー部の座標位置（Ｘｍ０、Ｘｍ０）（ｍ＝１、２、３、４）、とで絵柄Ｆ１〜Ｆ４の全てを表現できる。
即ち、基本図形情報（同一図形の図形表現部）と、図形の配置情報（配置位置座標）とで、絵柄（図形）Ｆ１〜Ｆ４の全てを表現することができる。（図２（ｃ））
このようにして、重複する記載を止め、データ量を圧縮でき、処理対象のデータ量を少なくすることができる。
【００１３】
ポリゴン図形の状態で、繰り返し図形を認識は、図形表現部をチェックし、この部分が一致する図形があるか否かで行なう。
即ち、データ圧縮処理部１１０は、第１のパタンデータ２１０の斜め線を持たない分割図形をポリゴン図形とし、更にポリゴン図形の状態で、この方法により繰り返し図形を認識し、繰り返し図形を、それぞれ、基本図形情報（同一図形の図形表現部）と、図形の配置情報（配置位置座標）とで表現して、データ量を圧縮し、処理対象のデータ量を少なくするのである。
【００１４】
データ精度向上処理部１２０は、第１のパタンデータ２１０の斜め線を有する分割図形をポリゴン図形とし、これに対して、あるいはデータ圧縮処理部１１０による処理後のポリゴン図形に対して、それぞれ、対応する設計図形データの図形形状とは異なる部分を補正し、元の設計データに近いポリゴン図形を生成するものである。
データ精度向上処理部１２０の処理について、図３に基づいて簡単に説明しておく。
例えば、図３（ａ）に示す第１のパタンデータの斜め線を有する分割図形は、ポリゴンデータ化処理により、図３（ｂ）のように、ポリゴン図形として表される。
設計データの対応する図形では、斜め直線１本で形成されているにもかかわらず、図３（ｂ）に示す斜め線部（Ｅ１部）は、段状になっているが、これは、図形分割により図形（図３（ａ）の図形）を得る際、設計データとは異なる形状ににして得られるためである。
データ精度向上処理部１２０では、このような斜め線部（Ｅ１部）を対応する設計図形データの図形形状に近い状態にしたポリゴン図形を生成する。
例えば、ポリゴンデータ（図３（ｂ））に対し、各図形の角度０°、４５°、９０°、１３５°のうちのいずれか１つの角度から所定の角度範囲内である線分を、角度０°、４５°、９０°、１３５°のうちの近い角度の線分とし、これに合わせ、この線分の両端の座標位置を所定範囲内で変化させる角度合わせ処理を施すものが挙げられる。
【００１５】
即ち、角度合わせ処理により、角度０°、４５°、９０°、１３５°のうちのいずれか１つの角度から所定の角度範囲内である図形の線分を、即ち、所定の外の角度を持つ図形の線分を、角度０°、４５°、９０°、１３５°のうちの近い角度の線分とし、折れ線部一直線化処理により、折れ線部を１直線化することにより、できるだけ、元の設計データに近い形状にすることを可能としている。
また、このように、図形形状修正する処理を施すことにより、フラクチャリング処理部１３０の処理において、生成される図形の数を減らすことができ、これにより、中間パタンデータ２２０のデータ量を少なくできるとともに、その処理自体の負荷を少なくできる。
【００１６】
また、第１のパタンデータ２１０の斜め線を有する分割図形をポリゴン図形とし、これに対して、あるいはデータ圧縮処理部による処理後のポリゴン図形に対して、図３（ｂ）のＥ２部に示すような折れ線部を一直線化する処理（以下折れ線一直線化処理と言う）が挙げられる。
これは、各図形の折れ線部について、所定の条件の下に直線近似を施す処理である。
例えば、図形の連続する２直線のＬｎ、Ｌｎ＋１の接続点（交点ないし単に点とも言う）をＰｎとし、対象とする折れ線部を折れ線の始発点である接続点Ｐ０から接続点Ｐｋまでとし、且つ、各接続点Ｐｍ（１〜ｋまでの整数）での所定の移動可能範囲の両端と始発点Ｐ０とが、それぞれつくる角度領域をＡｍとした場合、接続点Ｐｍ＋１と接続点Ｐ０とを結ぶ直線Ｃｍ＋１が、〔Ａ１ ＡＮＤ Ａ２ ＡＮＤ Ａ３ ＡＮＤ・・・・ＡＮＤ Ａｍ〕の角度領域に含まれるとき、接続点Ｐ０から接続点Ｐｍ＋１までの直線Ｌ１からＬｍを直線Ｃｍ＋１で一直線化することが可能として、これを一直線化する、折れ線部を一直線化する処理が挙げられる。
図３（ｂ）に示すポリゴンデータは、角度合わせ処理、折れ線一直線化処理後、図３（ｃ）に示すポリゴンデータとなる。
【００１７】
図形演算処理部１２５は、図形演算等により、ポリゴン表示の図形データに対し、ミラー処理、絵柄反転処理（リバース処理とも言う）、スケーリング処理、回転処理、サイジング処理等の図形処理を行ない、新たなポリゴン表示の図形データを得るものである。
ここでは、データ精度向上処理部１２０の処理を経て得られた第１のパタンデータに相当するポリゴン表示の図形データ（ポリゴンデータ２１１ａ）に対し、各図形処理を行なうため、精度の良い図形処理がなされる。
必要に応じ、図形演算処理部１２５の各処理は行なわれるもので、場合によっては、ポリゴンデータ２１１ａがそのままポリゴンデータ２１１ｂとなる。
【００１８】
フラクチャリング処理部１３０は、目的とする電子ビーム描画装置の機種に対応した所定のアルゴリズムに基づき、図形分割処理を行ない、第２のパタンデータ２３０作成用の、目的とする電子ビーム描画装置用の描画図形データである中間パタンデータ２２０を得る処理を行なうものである。
目的とする電子ビーム露光装置が可変成形型であるか、ラスター型であるか、により、通常、その分割領域、分割アルゴリズムは大きく異なり、同じ可変成形型、あるいは同じラスター型でも、装置メーカ等により、分割アルゴリズムが異なるのが一般的である。
【００１９】
描画装置用データ作成部１４０は、中間パタンデータ２２０に対し、目的とする電子ビーム描画装置の機能、特徴に合わせてた形態の第２のパタンデータ２３０を作成し、且つ、第２のパタンデータ用の第２の配置情報２７０を作成するものである。
例えば、描画装置用データ作成部では、中間パタンデータに対して枠部データを合成して第２のパタンデータを作成したりりする。
また、描画機種毎のカセットの形態や保持の仕方（アース用爪の位置等も含む）等、描画領域制限に対応して、描画領域を決定する。
そして、第２のパタンデータ２３０や、描画領域制限に合せ、必要に応じ、第２の配置情報２７０を決定する。
必要に応じ、描画装置用データ作成部１４の各処理は行なわれるもので、場合によっては、中間パタンデータがそのまま、第２のパタンデータとして使用される。
尚、場合によっては、描画機種は、その各種機能を用いて、中間データに各種処理を施し、第２のパタンデータを作成しても良い。
【００２０】
配置情報変換部１５０は、目的とする描画装置に対応した記述の配置情報に変換する処理を行なうものである。
【００２１】
データ保証部１６０は、中間パタンデータ２２０ないし第２のパタンデータ２３０のと、第１のパタンデータ２１０に対し、対応する図形データ領域同士に論理Ｅｘｃｌｕｓｉｖｅ−ＯＲ図形演算を施し、更に、所定サイズでアンダーサイズ処理を施し、残存する図形がなければＯＫ、残存する図形があればＯＵＴとするデータ比較検証処理を行なうものである。
【００２２】
データ保管部１７０は、第２のパタンデータと第２の配置情報とを保管する保管処理を行なうものである。
【００２３】
次いで、第１のパタンデータが可変成形型の電子ビーム描画装置用の描画図形データである場合について、本例の描画図形データ作成装置の処理の１例を図１に基づいて簡単に説明する。
先ず、データ圧縮処理部１１０ににて、斜め線を持たない図形データの図形は、これをポリゴンデータとし、第１のパタンデータの非分割図形とともに、これらにについて、繰り返し図形を認識してこれを１つのポリゴン図形の繰り返しで表現し、ポリゴン図形表示の図形データを得る。
第１のパタンデータの非分割図形に対しては、そのままの状態で処理を行なう。
そして、データ精度向上処理部１２０にて、第１のパタンデータ２１０の斜め線を有する分割図形をポリゴン図形とし、これに対して、あるいはデータ圧縮処理部１１０による処理後のポリゴン図形表示の図形データの図形に対して、それぞれ、対応する設計図形データの図形形状とは異なる部分を補正し、元の設計データに近いポリゴン図形を生成し、第１のパタンデータに相当するポリゴン図形表示の図形データである、ポリゴンデータ２１１ａを得る。
データ精度向上処理部１２０により、先に説明した図３（ｂ）のＥ１部に対する処理と同様、角度合せ処理を行ない、設計データに近い形状にする。
図３（ｂ）Ｅ２部に示す折れ線部に対しては、先に説明した図３（ｂ）のＥ２部に対する処理と同様、折れ線一直線化処理を行ない、設計データに近い形状にする。
尚、場合によっては、全ての図形について、折れ線一直線化処理を行なう。
【００２４】
次いで、必要に応じ、図形演算処理部１２５にて、ポリゴンデータ２１１ａに対し、図形処理を施し、ポリゴンデータ２１１ｂを得る。
図形演算処理部１２５にて図形処理を施す必要がない場合には、ポリゴンデータ２１１ａがそのままポリゴンデータ２１１ｂとなる。
第１の配置情報に、図形処理情報が含まれている場合に、これに対応した図形処理を行なう。
【００２５】
次いで、ポリゴンデータ２１１ｂに対し、フラクチャリング処理部１３０にて、目的とする電子ビーム描画装置の機種に対応した所定のアルゴリズムに基づき、フラクチャリング処理（図形分割処理）を行ない、第２のパタンデータ２３０作成用の、目的とする電子ビーム描画装置用の描画図形データである中間パタンデータ２２０を得る。
【００２６】
一方、第１の配置情報２５０を配置情報変換部１５０にて変換し、目的とする描画装置に対応した記述の配置情報２６０を得ておく。
【００２７】
次いで、描画装置用データ作成部１４０にて、中間パタンデータ２２０に対し、目的とする電子ビーム描画装置の機能、特徴に合わせてた形態の第２のパタンデータ２３０を作成し、更に、第２のパタンデータ２３０用の第２の配置情報２７０を作成する。
このようにして、第２のパタンデータ２３０と、これに対応した第２の配置情報２７０が得られる。
【００２８】
次いで、得られた第２のパタンデータ２３０と、これに対応した第２の配置情報２７０が適正か否か、データ保証部１６０にてチェックする。
本例では、第２のパタンデータ２３０と、第１のパタンデータ２１０に対し、対応する図形データ領域同士に論理Ｅｘｃｌｕｓｉｖｅ−ＯＲ図形演算を施し、その差をとり、得られた図形データに対し、更に、所定サイズでアンダーサイズする処理を施し、残存する図形がなければＯＫ、残存する図形があればＯＵＴとするデータ比較処理を行なう。
尚、場合によっては、所定のアルゴリズムで第２の配置情報２７０をチェックする。
このようにして、第２のパタンデータ２３０が、あるいは第２のパタンデータ２３０と第２の配置情報２７０とが問題ないと判断された場合、得られた第２のパタンデータ２３０と第２の配置情報２７０とを、目的とする電子ビーム描画装置用の描画データと、これに対応した配置情報とする。
【００２９】
次いで、データ保証部１７０にて、ＯＫとされた第２のパタンデータ２３０とこれに対応した第２の配置情報２７０とを、一旦、データ保管部１７０に保管しておく。
そして、必要な時に、データ保管部１７０から目的とする電子ビーム描画装置に対応した第２のパタンデータと、これに対応した配置情報とを取り出し、これを目的とする電子ビーム描画装置に送る。
【００３０】
【発明の効果】
本発明は、上記のように、図形データを、目的とする電子ビーム露光装置用の描画図形データに変換することができる描画図形データ作成装置で、且つ、処理が実用的で、精度的にも問題のない装置の提供を可能とした。
特に、これにより、電子ビーム露光装置とは、別体で、即ち、描画装置に外付けで、描画図形データ作成を可能とし、描画データの準備を効率的に行なえるようになった。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の描画図形データ作成装置の実施の形態の１例とその処理フローの１例を示した図
【図２】データ圧縮処理部の処理を説明するための図
【図３】データ精度向上処理部の処理を説明するための図
【符号の説明】
１１０ データ圧縮処理部
１２０ データ精度向上処理部
１２５ 図形演算処理部
１３０ フフラクチャリング処理部
１４０ 描画装置用データ作成部
１６０ データ保証部
１７０ データ保管部
１９０ 電子ビーム露光装置
２１０ 第１のパタンデータ
１２１ 分割図形データ
２１２ 非分割図形データ
２１１ａ、２１１ｂ ポリゴンデータ
２２０ 中間パタンデータ
２３０ 第２のパタンデータ
２５０ 第１の配置情報
２６０ 配置情報
２７０ 第２の配置情報
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子ビーム描画装置用の描画図形データの作成装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、電子機器の高機能化と軽薄短小の傾向から、ＡＳＩＣに代表される種々のＬＳｌには、ますます高集積化、高機能化が求められるようになってきた。
即ち、できるだけチップサイズを小さくして、高機能を実現することがＡＳＩＣ等のＬＳＩには求められている。
上記ＡＳＩＣ等のＬＳＩは、機能、論理設計、回路設計、レイアウト設計等を経て、フォトマスクパタン作製用の図形データ（図形パタンデータあるいはパタンデータとも言う）を作製し、これを用いてフォトマスクを作製した後、フォトマスクのパタンをウエハ上に縮小投影露光等により転写して、半導体素子作製のプロセスを行うという数々の工程を経て作製されるものである。
フォトマスクは、一般には、上記図形データを用い、電子ビーム露光装置あるいはエキシマ波長等のフォト露光装置を用いて、フォトマスク用基板（フォトマスクブランクスとも言う）の遮光膜上に配設された感光性レジストに露光描画を行い、現像、エッチング工程等を経て、作製される。
即ち、ガラス基板の一面に遮光性の金属薄膜を設けたフォトマスク用基板の金属薄膜上に塗布、乾燥された感光性のレジスト上に、露光装置により電離放射線を所定の領域のみに照射して潜像を形成し、感光性のレジストを現像して、電離放射線の照射領域に対応した、所望の形状のレジストパターン得た後、更に、レジストパターンを耐エッチングレジストとして、金属薄膜をレジストパターン形状に加工して、所望の金属薄膜パターンを有するフォトマスクを得る。
尚、フォトマスクのパタンをウエハ上に縮小投影露光して、その絵柄を転写する場合は、フォトマスクをレチクルマスクとも言う。
【０００３】
上記フォトマスク作製用の電子ビーム露光装置には、ラスター型、可変成形型と異なる描画方式があり、更にメーカの違いもあり、各電子ビーム露光装置毎に、機能が異なるのが一般的である。
一般に、フォトマスクメーカにおいては、数種の異なるタイプの電子ビーム露光装置を備えており、基本的には、設計図形データを変換して、目的とする電子ビーム露光装置固有の描画図形データにして、描画を行なっているが、場合によっては、ある電子ビーム露光装置用の描画図形データを、一旦分割のない図形データで表し、これをフラクチャリングすることにより、目的とする他の電子ビーム露光装置用の描画図形データに変換し直し描画を行なうことがあった。
最近のＬＳＩの高密度化に伴い、フォトマスクにも、微細化、高精度化が要求される中、特に、元のパタンデータが可変成形型の電子ビーム描画装置用の描画図形データであり、これを他の電子ビーム露光装置用の描画図形データに変換し直す場合、元のパタンデータには、設計データとは異なる形状に分割された分割図形を含むことがあり、精度劣化は防げないと言う問題や、元のパタンデータを一旦分割のない図形データで表し、そのまま、フラクチャリングする従来の変換方法では、扱うデータ量が大きく、処理が実用的でなくなってきたと言う問題が現実のものとなってきた。
そして、汎用的に、ある電子ビーム露光装置用の描画図形データを、他の電子ビーム露光装置用の描画図形データに変換することができる描画図形データ作成装置で、処理が実用的で、精度的にも問題のない装置が求められるようになってきた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
上記のように、最近のＬＳＩの高密度化に伴い、フォトマスクにも、微細化、高精度化が要求される中、汎用的に、図形データを、目的とする電子ビーム露光装置用の描画図形データに変換することができる描画図形データ作成装置で、処理が実用的で、精度的にも問題のない装置が求められるようになってきた。
本発明は、これに対応するもので、図形データを、目的とする電子ビーム露光装置用の描画図形データに変換することができる描画図形データ作成装置で、且つ、処理が実用的で、精度的にも問題のない装置を提供しようとするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明の描画図形データ作成装置は、第１のパタンデータと、その配置情報を基に、目的とする電子ビーム描画装置用の描画図形データである第２のパタンデータと、その配置情報を作成するための、描画図形データ作成装置であって、第１のパタンデータの斜め線を持たない分割図形に対しては、これをポリゴン図形とし、また、第１のパタンデータの非分割図形に対しては、そのままの状態で、これらにについて、繰り返し図形を認識してこれを１つのポリゴン図形の繰り返しで表現し、ポリゴン図形表示の図形データを得るデータ圧縮処理部と、第１のパタンデータの斜め線を有する分割図形をポリゴン図形とし、これに対して、あるいはデータ圧縮処理部による処理後のポリゴン図形表示の図形データの図形に対して、それぞれ、対応する設計図形データの図形形状とは異なる部分を補正し、あわせて元の設計データに近いポリゴン図形を生成し、第１のパタンデータに相当するポリゴン図形表示の図形データを得る、データ精度向上処理部と、データ精度向上処理部による処理を経て得られた、ポリゴン表示の図形データに対し、ミラー処理、絵柄反転処理（リバース処理とも言う）、スケーリング処理、回転処理、サイジング処理等の図形処理を行ない、新たなポリゴン表示の図形データを得る図形演算処理部と、前記データ精度向上処理部による処理を経て得られた、ポリゴン表示の図形データ、あるいは、図形演算処理部による処理を経て得られた新たなポリゴン表示の図形データに対し、目的とする電子ビーム描画装置の機種に対応した所定のアルゴリズムに基づき、図形分割処理を行ない、第２のパタンデータ作成用の、目的とする電子ビーム描画装置用の描画図形データである中間パタンデータを得る、フラクチャリング処理部と、中間パタンデータに対し、目的とする電子ビーム描画装置の機能、特徴に合わせた形態の第２のパタンデータを作成し、且つ、第２のパタンデータ用の第２の配置情報を作成する、描画装置用データ作成部と、配置情報を変換する配置情報変換部と、前記中間パタンデータないし第２のパタンデータと、第１のパタンデータに対し、対応する図形データ領域同士に論理Ｅｘｃｌｕｓｉｖｅ−ＯＲ図形演算を施し、更に、所定サイズでアンダーサイズ処理を施し、残存する図形がなければＯＫ、残存する図形があればＯＵＴとするデータ比較検証処理を行なうデータ保証部と、第２のパタンデータと第２の配置情報とを保管するデータ保管部とを、備えていることを特徴とするものである。
そして、上記において、第１のパタンデータが可変成形型の電子ビーム描画装置用の描画図形データであることを特徴とするものである。
【０００６】
ここでは、分割図形とは、１つの図形を複数の第１のパタンデータの図形で表現しているものを言う。
また、以下、分割図形を表すデータを分割図形データ、非分割図形を表すデータを非分割図形データと言う。
【０００７】
【作用】
本発明の描画図形データ作成装置は、このような構成にすることにより、図形データを、目的とする電子ビーム露光装置用の描画図形データに変換することができる描画図形データ作成装置で、且つ、処理が実用的で、精度的にも問題のない装置の提供を可能とするものである。
即ち、データ圧縮処理部を備えていることにより、データ圧縮を効果的に行なえるものといており、データ精度向上処理部を備えていることにより、設計図形データに近い描画用データを得ることを可能にしており、精度向上処理部による処理を経て得られた、ポリゴン表示の図形データに対し、ミラー処理、絵柄反転処理（リバース処理とも言う）、スケーリング処理、回転処理、サイジング処理等の図形処理を行ない、新たなポリゴン表示の図形データを得る図形演算処理部を備えていることより、第１のパタンデータに対し、正確に各処理を行なうことを可能とし、フラクチャリング処理部を備えていることにより、第２のパタンデータ作成用の、目的とする電子ビーム描画装置用の描画図形データである中間パタンデータを得ることを可能にしている。
また、描画装置用データ作成部を備えていることにより、各機種に問題なく、第２のパタンデータを適用できるものとしている。
また、配置情報変換部を備えていることにより、目的とする描画装置に対応した記述の配置情報に変換することを可能としている。
また、データ保証部を備えていることにより、実際に使用する第２のパタンデータと第１のパタンデータとの差が、アンダーサイズ処理により決まる許容範囲内であるか否かを確認できるものとしている。
確認の結果、許容範囲外であればその箇所を確認し、対応がとれる。
尚、この場合、許容範囲は、所定サイズでアンダーサイズ処理を行なう際の、所定サイズ量に当たる。
また、データ保管部を備えていることにより、電子ビーム露光装置とは別に、独立して、第２のパタンデータを保管できるものとして、汎用の描画図形データ作成装置として、電子ビーム露光装置とは別に、独立して、機能できるものとしている。
【０００８】
【発明の実施の形態】
本発明の描画図形データ作成装置の実施の形態の１例を、図に基づいて説明する。
図１は本発明の描画図形データ作成装置の実施の形態の１例とその処理フローの１例を示した図で、図２はデータ圧縮処理部の処理を説明するための図で、図３はデータ精度向上処理部の処理を説明するための図である。
図１において、１１０はデータ圧縮処理部、１２０はデータ精度向上処理部、１２５は図形演算処理部、１３０はフラクチャリング処理部、１４０は描画装置用データ作成部で、１６０はデータ保証部、１７０はデータ保管部、１９０は電子ビーム露光装置、２１０は第１のパタンデータ、２１１は分割図形データ、２１２は非分割図形データ、２１１ａ、２１１ｂはポリゴンデータ、２２０は中間パタンデータ、２３０は第２のパタンデータ、２５０は第１の配置情報、２６０は配置情報、２７０は第２の配置情報である。
【０００９】
本発明の描画図形データ作成装置の実施の形態の１例を、図１に基づいて説明する。
本例は、第１のパタンデータ２１０と、その配置情報（第１の配置情報）２５０を基に、目的とする電子ビーム描画装置用の描画図形データである第２のパタンデータ２３０と、その配置情報２７０を作成するための、描画図形データ作成装置で、データ圧縮処理部１１０と、データ精度向上処理部１２０と、図形演算処理部１２５、フラクチャリング処理部１３０と、描画装置用データ作成部１４０と、配置情報変換部１５０と、データ保証部１６０と、データ保管部１７０とを備えている。
尚、第１の配置情報２５０には、配置情報の他に図形処理情報が含まれている場合もある。
【００１０】
第１のパタンデータ２１０としては、設計データ（通常、ポリゴンデータ）、各種電子ビーム描画装置用データ、他描画装置用データを対象として、第２のパタンデータ２３０としては、各種電子ビーム描画装置用データを対象としている。
【００１１】
データ圧縮処理部１１０は、第１のパタンデータ２１０の斜め線を持たない分割図形をポリゴン図形とし、更にポリゴン図形の状態で、繰り返し図形を認識し、これを１つのポリゴン図形の繰り返しで表現する処理を行なうものである。
図２に基づいて、データ圧縮処理部１１０の処理を簡単に説明する。
図２（ａ）に示すような、同一形状の絵柄ｆ１〜ｆ４をもつ電子ビーム描画装置用の図形データを処理する場合について説明する。
例えばｆ１は互いに接する（重なる場合も含む）図形ｆ１１〜ｆ１７で併せて表現される。
この場合、データを圧縮した表現では、ｆ１２とｆ１３は同形状、ｆ１４、ｆ１５，ｆ１６、ｆ１７は同形状とすると、図形ｆ１は、図形ｆ１１、ｆ１２、ｆ１４のみを用いて、それらの配列情報とで併せて表現できる。
図形ｆ２〜ｆ４についても同様である。
まず、処理対象となる電子ビーム描画装置用の図形データ（ｆ１〜ｆ４）に対し、ポリゴンデータ化処理すると、図２（ａ）に示す、同一形状の絵柄ｆ１〜ｆ４は、それぞれ、図２（ｂ）に示すように表示されるＦ１〜Ｆ４のポリゴンデータとして得ることができる。
図２（ｂ）の各絵柄（図形）Ｆｍ（ｍ＝１、２、３、４）は、（Ｘｍ、Ｙｍ、ｄｘｍ１、ｄｙｍ１、ｄｘｍ２、ｄｙｍ２・・・・・・、ｄｘｍ１２、ｄｙｍ１２）で表される。
ポリゴンデータ化処理が施されて得られるポリゴンデータの各絵柄（図形）は、Ｆ１〜Ｆ４のように、絵柄の外周のみを示すもので、各絵柄の外周の各コーナー部（図示していないが、左回りにＣ０、Ｃ１、Ｃ２、・・・Ｃｎとする）の位置座標を順に列記して示すことができるが、通常は、各コーナー部の位置座標は、始発のコーナー部Ｃ０座標位置と、各位置（Ｃ１、Ｃ２・・・Ｃｎ）の座標を隣のコーナー部からの変位量で示される。
即ち、図２（ｂ）の各絵柄（図形）Ｆｍ（ｍ＝１、２、３、４）は、（Ｘｍ、Ｙｍ、ｄｘｍ１、ｄｙｍ１、ｄｘｍ２、ｄｙｍ２・・・・・・、ｄｘｍ１２、ｄｙｍ１２）で表される。
尚、図形ｆ１１〜ｆ１７で併せて表現された図形ｆ１のポリゴンデータを得る方法（これをポリゴンデータ化処理と言う）としては、例えば、ベクトルで各図形の領域を表わして、ベクトルの重なりを見て、各図形間の重なりを判断し、重なり部分を除去した図形を得る方法等、一般的に知られている方法が適用できる。
【００１２】
Ｆ１〜Ｆ４が同じ図形であれば、（ｄｘｍ１、ｄｙｍ１、ｄｘｍ２、ｄｙｍ２・・・・・・、ｄｘｍ１２、ｄｙｍ１２）が、ｍ＝１、２、３、４で一致することより、重複する記載を止め、この部分（図形情報）は、図形の表現部分として、１回だけ表現し、これと、Ｆ１〜Ｆ４の各発のコーナー部の座標位置（Ｘｍ０、Ｘｍ０）（ｍ＝１、２、３、４）、とで絵柄Ｆ１〜Ｆ４の全てを表現できる。
即ち、基本図形情報（同一図形の図形表現部）と、図形の配置情報（配置位置座標）とで、絵柄（図形）Ｆ１〜Ｆ４の全てを表現することができる。（図２（ｃ））
このようにして、重複する記載を止め、データ量を圧縮でき、処理対象のデータ量を少なくすることができる。
【００１３】
ポリゴン図形の状態で、繰り返し図形を認識は、図形表現部をチェックし、この部分が一致する図形があるか否かで行なう。
即ち、データ圧縮処理部１１０は、第１のパタンデータ２１０の斜め線を持たない分割図形をポリゴン図形とし、更にポリゴン図形の状態で、この方法により繰り返し図形を認識し、繰り返し図形を、それぞれ、基本図形情報（同一図形の図形表現部）と、図形の配置情報（配置位置座標）とで表現して、データ量を圧縮し、処理対象のデータ量を少なくするのである。
【００１４】
データ精度向上処理部１２０は、第１のパタンデータ２１０の斜め線を有する分割図形をポリゴン図形とし、これに対して、あるいはデータ圧縮処理部１１０による処理後のポリゴン図形に対して、それぞれ、対応する設計図形データの図形形状とは異なる部分を補正し、元の設計データに近いポリゴン図形を生成するものである。
データ精度向上処理部１２０の処理について、図３に基づいて簡単に説明しておく。
例えば、図３（ａ）に示す第１のパタンデータの斜め線を有する分割図形は、ポリゴンデータ化処理により、図３（ｂ）のように、ポリゴン図形として表される。
設計データの対応する図形では、斜め直線１本で形成されているにもかかわらず、図３（ｂ）に示す斜め線部（Ｅ１部）は、段状になっているが、これは、図形分割により図形（図３（ａ）の図形）を得る際、設計データとは異なる形状ににして得られるためである。
データ精度向上処理部１２０では、このような斜め線部（Ｅ１部）を対応する設計図形データの図形形状に近い状態にしたポリゴン図形を生成する。
例えば、ポリゴンデータ（図３（ｂ））に対し、各図形の角度０°、４５°、９０°、１３５°のうちのいずれか１つの角度から所定の角度範囲内である線分を、角度０°、４５°、９０°、１３５°のうちの近い角度の線分とし、これに合わせ、この線分の両端の座標位置を所定範囲内で変化させる角度合わせ処理を施すものが挙げられる。
【００１５】
即ち、角度合わせ処理により、角度０°、４５°、９０°、１３５°のうちのいずれか１つの角度から所定の角度範囲内である図形の線分を、即ち、所定の外の角度を持つ図形の線分を、角度０°、４５°、９０°、１３５°のうちの近い角度の線分とし、折れ線部一直線化処理により、折れ線部を１直線化することにより、できるだけ、元の設計データに近い形状にすることを可能としている。
また、このように、図形形状修正する処理を施すことにより、フラクチャリング処理部１３０の処理において、生成される図形の数を減らすことができ、これにより、中間パタンデータ２２０のデータ量を少なくできるとともに、その処理自体の負荷を少なくできる。
【００１６】
また、第１のパタンデータ２１０の斜め線を有する分割図形をポリゴン図形とし、これに対して、あるいはデータ圧縮処理部による処理後のポリゴン図形に対して、図３（ｂ）のＥ２部に示すような折れ線部を一直線化する処理（以下折れ線一直線化処理と言う）が挙げられる。
これは、各図形の折れ線部について、所定の条件の下に直線近似を施す処理である。
例えば、図形の連続する２直線のＬｎ、Ｌｎ＋１の接続点（交点ないし単に点とも言う）をＰｎとし、対象とする折れ線部を折れ線の始発点である接続点Ｐ０から接続点Ｐｋまでとし、且つ、各接続点Ｐｍ（１〜ｋまでの整数）での所定の移動可能範囲の両端と始発点Ｐ０とが、それぞれつくる角度領域をＡｍとした場合、接続点Ｐｍ＋１と接続点Ｐ０とを結ぶ直線Ｃｍ＋１が、〔Ａ１ ＡＮＤ Ａ２ ＡＮＤ Ａ３ ＡＮＤ・・・・ＡＮＤ Ａｍ〕の角度領域に含まれるとき、接続点Ｐ０から接続点Ｐｍ＋１までの直線Ｌ１からＬｍを直線Ｃｍ＋１で一直線化することが可能として、これを一直線化する、折れ線部を一直線化する処理が挙げられる。
図３（ｂ）に示すポリゴンデータは、角度合わせ処理、折れ線一直線化処理後、図３（ｃ）に示すポリゴンデータとなる。
【００１７】
図形演算処理部１２５は、図形演算等により、ポリゴン表示の図形データに対し、ミラー処理、絵柄反転処理（リバース処理とも言う）、スケーリング処理、回転処理、サイジング処理等の図形処理を行ない、新たなポリゴン表示の図形データを得るものである。
ここでは、データ精度向上処理部１２０の処理を経て得られた第１のパタンデータに相当するポリゴン表示の図形データ（ポリゴンデータ２１１ａ）に対し、各図形処理を行なうため、精度の良い図形処理がなされる。
必要に応じ、図形演算処理部１２５の各処理は行なわれるもので、場合によっては、ポリゴンデータ２１１ａがそのままポリゴンデータ２１１ｂとなる。
【００１８】
フラクチャリング処理部１３０は、目的とする電子ビーム描画装置の機種に対応した所定のアルゴリズムに基づき、図形分割処理を行ない、第２のパタンデータ２３０作成用の、目的とする電子ビーム描画装置用の描画図形データである中間パタンデータ２２０を得る処理を行なうものである。
目的とする電子ビーム露光装置が可変成形型であるか、ラスター型であるか、により、通常、その分割領域、分割アルゴリズムは大きく異なり、同じ可変成形型、あるいは同じラスター型でも、装置メーカ等により、分割アルゴリズムが異なるのが一般的である。
【００１９】
描画装置用データ作成部１４０は、中間パタンデータ２２０に対し、目的とする電子ビーム描画装置の機能、特徴に合わせてた形態の第２のパタンデータ２３０を作成し、且つ、第２のパタンデータ用の第２の配置情報２７０を作成するものである。
例えば、描画装置用データ作成部では、中間パタンデータに対して枠部データを合成して第２のパタンデータを作成したりりする。
また、描画機種毎のカセットの形態や保持の仕方（アース用爪の位置等も含む）等、描画領域制限に対応して、描画領域を決定する。
そして、第２のパタンデータ２３０や、描画領域制限に合せ、必要に応じ、第２の配置情報２７０を決定する。
必要に応じ、描画装置用データ作成部１４の各処理は行なわれるもので、場合によっては、中間パタンデータがそのまま、第２のパタンデータとして使用される。
尚、場合によっては、描画機種は、その各種機能を用いて、中間データに各種処理を施し、第２のパタンデータを作成しても良い。
【００２０】
配置情報変換部１５０は、目的とする描画装置に対応した記述の配置情報に変換する処理を行なうものである。
【００２１】
データ保証部１６０は、中間パタンデータ２２０ないし第２のパタンデータ２３０のと、第１のパタンデータ２１０に対し、対応する図形データ領域同士に論理Ｅｘｃｌｕｓｉｖｅ−ＯＲ図形演算を施し、更に、所定サイズでアンダーサイズ処理を施し、残存する図形がなければＯＫ、残存する図形があればＯＵＴとするデータ比較検証処理を行なうものである。
【００２２】
データ保管部１７０は、第２のパタンデータと第２の配置情報とを保管する保管処理を行なうものである。
【００２３】
次いで、第１のパタンデータが可変成形型の電子ビーム描画装置用の描画図形データである場合について、本例の描画図形データ作成装置の処理の１例を図１に基づいて簡単に説明する。
先ず、データ圧縮処理部１１０ににて、斜め線を持たない図形データの図形は、これをポリゴンデータとし、第１のパタンデータの非分割図形とともに、これらにについて、繰り返し図形を認識してこれを１つのポリゴン図形の繰り返しで表現し、ポリゴン図形表示の図形データを得る。
第１のパタンデータの非分割図形に対しては、そのままの状態で処理を行なう。
そして、データ精度向上処理部１２０にて、第１のパタンデータ２１０の斜め線を有する分割図形をポリゴン図形とし、これに対して、あるいはデータ圧縮処理部１１０による処理後のポリゴン図形表示の図形データの図形に対して、それぞれ、対応する設計図形データの図形形状とは異なる部分を補正し、元の設計データに近いポリゴン図形を生成し、第１のパタンデータに相当するポリゴン図形表示の図形データである、ポリゴンデータ２１１ａを得る。
データ精度向上処理部１２０により、先に説明した図３（ｂ）のＥ１部に対する処理と同様、角度合せ処理を行ない、設計データに近い形状にする。
図３（ｂ）Ｅ２部に示す折れ線部に対しては、先に説明した図３（ｂ）のＥ２部に対する処理と同様、折れ線一直線化処理を行ない、設計データに近い形状にする。
尚、場合によっては、全ての図形について、折れ線一直線化処理を行なう。
【００２４】
次いで、必要に応じ、図形演算処理部１２５にて、ポリゴンデータ２１１ａに対し、図形処理を施し、ポリゴンデータ２１１ｂを得る。
図形演算処理部１２５にて図形処理を施す必要がない場合には、ポリゴンデータ２１１ａがそのままポリゴンデータ２１１ｂとなる。
第１の配置情報に、図形処理情報が含まれている場合に、これに対応した図形処理を行なう。
【００２５】
次いで、ポリゴンデータ２１１ｂに対し、フラクチャリング処理部１３０にて、目的とする電子ビーム描画装置の機種に対応した所定のアルゴリズムに基づき、フラクチャリング処理（図形分割処理）を行ない、第２のパタンデータ２３０作成用の、目的とする電子ビーム描画装置用の描画図形データである中間パタンデータ２２０を得る。
【００２６】
一方、第１の配置情報２５０を配置情報変換部１５０にて変換し、目的とする描画装置に対応した記述の配置情報２６０を得ておく。
【００２７】
次いで、描画装置用データ作成部１４０にて、中間パタンデータ２２０に対し、目的とする電子ビーム描画装置の機能、特徴に合わせてた形態の第２のパタンデータ２３０を作成し、更に、第２のパタンデータ２３０用の第２の配置情報２７０を作成する。
このようにして、第２のパタンデータ２３０と、これに対応した第２の配置情報２７０が得られる。
【００２８】
次いで、得られた第２のパタンデータ２３０と、これに対応した第２の配置情報２７０が適正か否か、データ保証部１６０にてチェックする。
本例では、第２のパタンデータ２３０と、第１のパタンデータ２１０に対し、対応する図形データ領域同士に論理Ｅｘｃｌｕｓｉｖｅ−ＯＲ図形演算を施し、その差をとり、得られた図形データに対し、更に、所定サイズでアンダーサイズする処理を施し、残存する図形がなければＯＫ、残存する図形があればＯＵＴとするデータ比較処理を行なう。
尚、場合によっては、所定のアルゴリズムで第２の配置情報２７０をチェックする。
このようにして、第２のパタンデータ２３０が、あるいは第２のパタンデータ２３０と第２の配置情報２７０とが問題ないと判断された場合、得られた第２のパタンデータ２３０と第２の配置情報２７０とを、目的とする電子ビーム描画装置用の描画データと、これに対応した配置情報とする。
【００２９】
次いで、データ保証部１７０にて、ＯＫとされた第２のパタンデータ２３０とこれに対応した第２の配置情報２７０とを、一旦、データ保管部１７０に保管しておく。
そして、必要な時に、データ保管部１７０から目的とする電子ビーム描画装置に対応した第２のパタンデータと、これに対応した配置情報とを取り出し、これを目的とする電子ビーム描画装置に送る。
【００３０】
【発明の効果】
本発明は、上記のように、図形データを、目的とする電子ビーム露光装置用の描画図形データに変換することができる描画図形データ作成装置で、且つ、処理が実用的で、精度的にも問題のない装置の提供を可能とした。
特に、これにより、電子ビーム露光装置とは、別体で、即ち、描画装置に外付けで、描画図形データ作成を可能とし、描画データの準備を効率的に行なえるようになった。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の描画図形データ作成装置の実施の形態の１例とその処理フローの１例を示した図
【図２】データ圧縮処理部の処理を説明するための図
【図３】データ精度向上処理部の処理を説明するための図
【符号の説明】
１１０ データ圧縮処理部
１２０ データ精度向上処理部
１２５ 図形演算処理部
１３０ フフラクチャリング処理部
１４０ 描画装置用データ作成部
１６０ データ保証部
１７０ データ保管部
１９０ 電子ビーム露光装置
２１０ 第１のパタンデータ
１２１ 分割図形データ
２１２ 非分割図形データ
２１１ａ、２１１ｂ ポリゴンデータ
２２０ 中間パタンデータ
２３０ 第２のパタンデータ
２５０ 第１の配置情報
２６０ 配置情報
２７０ 第２の配置情報
Claims (2)
- 第１のパタンデータと、その配置情報を基に、目的とする電子ビーム描画装置用の描画図形データである第２のパタンデータと、その配置情報を作成するための、描画図形データ作成装置であって、第１のパタンデータの斜め線を持たない分割図形に対しては、これをポリゴン図形とし、また、第１のパタンデータの非分割図形に対しては、そのままの状態で、これらにについて、繰り返し図形を認識してこれを１つのポリゴン図形の繰り返しで表現し、ポリゴン図形表示の図形データを得るデータ圧縮処理部と、第１のパタンデータの斜め線を有する分割図形をポリゴン図形とし、これに対して、およびデータ圧縮処理部による処理後のポリゴン図形表示の図形データの図形に対して、それぞれ、対応する設計図形データの図形形状とは異なる部分を補正し、あわせて元の設計データに近いポリゴン図形を生成し、第１のパタンデータに相当するポリゴン図形表示の図形データを得る、データ精度向上処理部と、データ精度向上処理部による処理を経て得られた、ポリゴン表示の図形データに対し、ミラー処理、絵柄反転処理（リバース処理とも言う）、スケーリング処理、回転処理、サイジング処理等の図形処理を行ない、新たなポリゴン表示の図形データを得る図形演算処理部と、前記データ精度向上処理部による処理を経て得られた、ポリゴン表示の図形データ、あるいは、図形演算処理部による処理を経て得られた新たなポリゴン表示の図形データに対し、目的とする電子ビーム描画装置の機種に対応した所定のアルゴリズムに基づき、図形分割処理を行ない、第２のパタンデータ作成用の、目的とする電子ビーム描画装置用の描画図形データである中間パタンデータを得る、フラクチャリング処理部と、中間パタンデータに対し、目的とする電子ビーム描画装置の機能、特徴に合わせた形態の第２のパタンデータを作成し、且つ、第２のパタンデータ用の第２の配置情報を作成する、描画装置用データ作成部と、配置情報を変換する配置情報変換部と、前記中間パタンデータないし第２のパタンデータと、第１のパタンデータに対し、対応する図形データ領域同士に論理Ｅｘｃｌｕｓｉｖｅ−ＯＲ図形演算を施し、更に、所定サイズでアンダーサイズ処理を施し、残存する図形がなければＯＫ、残存する図形があればＯＵＴとするデータ比較検証処理を行なうデータ保証部と、第２のパタンデータと第２の配置情報とを保管するデータ保管部とを、備えていることを特徴とする描画図形データ作成装置。
- 請求項１において、第１のパタンデータが可変成形型の電子ビーム描画装置用の描画図形データであることを特徴とする描画図形データ作成装置。
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