JP2002329647A

JP2002329647A - 描画図形データ作成装置

Info

Publication number: JP2002329647A
Application number: JP2001131303A
Authority: JP
Inventors: Satoshi Watanabe; 智渡辺; Akira Sato; 佐藤　　明; Masataka Yamaji; 山地　　正高; Koju Kuriyama; 幸樹栗山
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2001-04-27
Filing date: 2001-04-27
Publication date: 2002-11-15
Anticipated expiration: 2021-04-27
Also published as: JP4647824B2

Abstract

(57)【要約】【課題】図形データを、目的とする電子ビーム露光装
置用の描画図形データに変換することができる描画図形
データ作成装置で、且つ、処理が実用的で、精度的にも
問題のない装置を提供する。【解決手段】本発明の描画図形データ作成装置は、第
１のパタンデータと、その配置情報を基に、目的とする
電子ビーム描画装置用の描画図形データである第２のパ
タンデータと、その配置情報を作成するための、描画図
形データ作成装置であって、データ圧縮処理部と、デー
タ精度向上処理部と、図形演算処理部と、フラクチャリ
ング処理部と、描画装置用データ作成部と、配置情報変
換部と、データ保証部と、データ保管部とを備えてい
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、電子ビーム描画装
置用の描画図形データの作成装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、電子機器の高機能化と軽薄短小の
傾向から、ＡＳＩＣに代表される種々のＬＳｌには、ま
すます高集積化、高機能化が求められるようになってき
た。即ち、できるだけチップサイズを小さくして、高機
能を実現することがＡＳＩＣ等のＬＳＩには求められて
いる。上記ＡＳＩＣ等のＬＳＩは、機能、論理設計、回
路設計、レイアウト設計等を経て、フォトマスクパタン
作製用の図形データ（図形パタンデータあるいはパタン
データとも言う）を作製し、これを用いてフォトマスク
を作製した後、フォトマスクのパタンをウエハ上に縮小
投影露光等により転写して、半導体素子作製のプロセス
を行うという数々の工程を経て作製されるものである。
フォトマスクは、一般には、上記図形データを用い、電
子ビーム露光装置あるいはエキシマ波長等のフォト露光
装置を用いて、フォトマスク用基板（フォトマスクブラ
ンクスとも言う）の遮光膜上に配設された感光性レジス
トに露光描画を行い、現像、エッチング工程等を経て、
作製される。即ち、ガラス基板の一面に遮光性の金属薄
膜を設けたフォトマスク用基板の金属薄膜上に塗布、乾
燥された感光性のレジスト上に、露光装置により電離放
射線を所定の領域のみに照射して潜像を形成し、感光性
のレジストを現像して、電離放射線の照射領域に対応し
た、所望の形状のレジストパターン得た後、更に、レジ
ストパターンを耐エッチングレジストとして、金属薄膜
をレジストパターン形状に加工して、所望の金属薄膜パ
ターンを有するフォトマスクを得る。尚、フォトマスク
のパタンをウエハ上に縮小投影露光して、その絵柄を転
写する場合は、フォトマスクをレチクルマスクとも言
う。

【０００３】上記フォトマスク作製用の電子ビーム露光
装置には、ラスター型、可変成形型と異なる描画方式が
あり、更にメーカの違いもあり、各電子ビーム露光装置
毎に、機能が異なるのが一般的である。一般に、フォト
マスクメーカにおいては、数種の異なるタイプの電子ビ
ーム露光装置を備えており、基本的には、設計図形デー
タを変換して、目的とする電子ビーム露光装置固有の描
画図形データにして、描画を行なっているが、場合によ
っては、ある電子ビーム露光装置用の描画図形データ
を、一旦分割のない図形データで表し、これをフラクチ
ャリングすることにより、目的とする他の電子ビーム露
光装置用の描画図形データに変換し直し描画を行なうこ
とがあった。最近のＬＳＩの高密度化に伴い、フォトマ
スクにも、微細化、高精度化が要求される中、特に、元
のパタンデータが可変成形型の電子ビーム描画装置用の
描画図形データであり、これを他の電子ビーム露光装置
用の描画図形データに変換し直す場合、元のパタンデー
タには、設計データとは異なる形状に分割された分割図
形を含むことがあり、精度劣化は防げないと言う問題
や、元のパタンデータを一旦分割のない図形データで表
し、そのまま、フラクチャリングする従来の変換方法で
は、扱うデータ量が大きく、処理が実用的でなくなって
きたと言う問題が現実のものとなってきた。そして、汎
用的に、ある電子ビーム露光装置用の描画図形データ
を、他の電子ビーム露光装置用の描画図形データに変換
することができる描画図形データ作成装置で、処理が実
用的で、精度的にも問題のない装置が求められるように
なってきた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上記のように、最近の
ＬＳＩの高密度化に伴い、フォトマスクにも、微細化、
高精度化が要求される中、汎用的に、図形データを、目
的とする電子ビーム露光装置用の描画図形データに変換
することができる描画図形データ作成装置で、処理が実
用的で、精度的にも問題のない装置が求められるように
なってきた。本発明は、これに対応するもので、図形デ
ータを、目的とする電子ビーム露光装置用の描画図形デ
ータに変換することができる描画図形データ作成装置
で、且つ、処理が実用的で、精度的にも問題のない装置
を提供しようとするものである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明の描画図形データ
作成装置は、第１のパタンデータと、その配置情報を基
に、目的とする電子ビーム描画装置用の描画図形データ
である第２のパタンデータと、その配置情報を作成する
ための、描画図形データ作成装置であって、第１のパタ
ンデータの斜め線を持たない分割図形に対しては、これ
をポリゴン図形とし、また、第１のパタンデータの非分
割図形に対しては、そのままの状態で、これらにについ
て、繰り返し図形を認識してこれを１つのポリゴン図形
の繰り返しで表現し、ポリゴン図形表示の図形データを
得るデータ圧縮処理部と、第１のパタンデータの斜め線
を有する分割図形をポリゴン図形とし、これに対して、
あるいはデータ圧縮処理部による処理後のポリゴン図形
表示の図形データの図形に対して、それぞれ、対応する
設計図形データの図形形状とは異なる部分を補正し、あ
わせて元の設計データに近いポリゴン図形を生成し、第
１のパタンデータに相当するポリゴン図形表示の図形デ
ータを得る、データ精度向上処理部と、データ精度向上
処理部による処理を経て得られた、ポリゴン表示の図形
データに対し、ミラー処理、絵柄反転処理（リバース処
理とも言う）、スケーリング処理、回転処理、サイジン
グ処理等の図形処理を行ない、新たなポリゴン表示の図
形データを得る図形演算処理部と、前記データ精度向上
処理部による処理を経て得られた、ポリゴン表示の図形
データ、あるいは、図形演算処理部による処理を経て得
られた新たなポリゴン表示の図形データに対し、目的と
する電子ビーム描画装置の機種に対応した所定のアルゴ
リズムに基づき、図形分割処理を行ない、第２のパタン
データ作成用の、目的とする電子ビーム描画装置用の描
画図形データである中間パタンデータを得る、フラクチ
ャリング処理部と、中間パタンデータに対し、目的とす
る電子ビーム描画装置の機能、特徴に合わせた形態の第
２のパタンデータを作成し、且つ、第２のパタンデータ
用の第２の配置情報を作成する、描画装置用データ作成
部と、配置情報を変換する配置情報変換部と、前記中間
パタンデータないし第２のパタンデータと、第１のパタ
ンデータに対し、対応する図形データ領域同士に論理Ｅ
ｘｃｌｕｓｉｖｅ−ＯＲ図形演算を施し、更に、所定サ
イズでアンダーサイズ処理を施し、残存する図形がなけ
ればＯＫ、残存する図形があればＯＵＴとするデータ比
較検証処理を行なうデータ保証部と、第２のパタンデー
タと第２の配置情報とを保管するデータ保管部とを、備
えていることを特徴とするものである。そして、上記に
おいて、第１のパタンデータが可変成形型の電子ビーム
描画装置用の描画図形データであることを特徴とするも
のである。

【０００６】ここでは、分割図形とは、１つの図形を複
数の第１のパタンデータの図形で表現しているものを言
う。また、以下、分割図形を表すデータを分割図形デー
タ、非分割図形を表すデータを非分割図形データと言
う。

【０００７】

【作用】本発明の描画図形データ作成装置は、このよう
な構成にすることにより、図形データを、目的とする電
子ビーム露光装置用の描画図形データに変換することが
できる描画図形データ作成装置で、且つ、処理が実用的
で、精度的にも問題のない装置の提供を可能とするもの
である。即ち、データ圧縮処理部を備えていることによ
り、データ圧縮を効果的に行なえるものといており、デ
ータ精度向上処理部を備えていることにより、設計図形
データに近い描画用データを得ることを可能にしてお
り、精度向上処理部による処理を経て得られた、ポリゴ
ン表示の図形データに対し、ミラー処理、絵柄反転処理
（リバース処理とも言う）、スケーリング処理、回転処
理、サイジング処理等の図形処理を行ない、新たなポリ
ゴン表示の図形データを得る図形演算処理部を備えてい
ることより、第１のパタンデータに対し、正確に各処理
を行なうことを可能とし、フラクチャリング処理部を備
えていることにより、第２のパタンデータ作成用の、目
的とする電子ビーム描画装置用の描画図形データである
中間パタンデータを得ることを可能にしている。また、
描画装置用データ作成部を備えていることにより、各機
種に問題なく、第２のパタンデータを適用できるものと
している。また、配置情報変換部を備えていることによ
り、目的とする描画装置に対応した記述の配置情報に変
換することを可能としている。また、データ保証部を備
えていることにより、実際に使用する第２のパタンデー
タと第１のパタンデータとの差が、アンダーサイズ処理
により決まる許容範囲内であるか否かを確認できるもの
としている。確認の結果、許容範囲外であればその箇所
を確認し、対応がとれる。尚、この場合、許容範囲は、
所定サイズでアンダーサイズ処理を行なう際の、所定サ
イズ量に当たる。また、データ保管部を備えていること
により、電子ビーム露光装置とは別に、独立して、第２
のパタンデータを保管できるものとして、汎用の描画図
形データ作成装置として、電子ビーム露光装置とは別
に、独立して、機能できるものとしている。

【０００８】

【発明の実施の形態】本発明の描画図形データ作成装置
の実施の形態の１例を、図に基づいて説明する。図１は
本発明の描画図形データ作成装置の実施の形態の１例と
その処理フローの１例を示した図で、図２はデータ圧縮
処理部の処理を説明するための図で、図３はデータ精度
向上処理部の処理を説明するための図である。図１にお
いて、１１０はデータ圧縮処理部、１２０はデータ精度
向上処理部、１２５は図形演算処理部、１３０はフラク
チャリング処理部、１４０は描画装置用データ作成部
で、１６０はデータ保証部、１７０はデータ保管部、１
９０は電子ビーム露光装置、２１０は第１のパタンデー
タ、２１１は分割図形データ、２１２は非分割図形デー
タ、２１１ａ、２１１ｂはポリゴンデータ、２２０は中
間パタンデータ、２３０は第２のパタンデータ、２５０
は第１の配置情報、２６０は配置情報、２７０は第２の
配置情報である。

【０００９】本発明の描画図形データ作成装置の実施の
形態の１例を、図１に基づいて説明する。本例は、第１
のパタンデータ２１０と、その配置情報（第１の配置情
報）２５０を基に、目的とする電子ビーム描画装置用の
描画図形データである第２のパタンデータ２３０と、そ
の配置情報２７０を作成するための、描画図形データ作
成装置で、データ圧縮処理部１１０と、データ精度向上
処理部１２０と、図形演算処理部１２５、フラクチャリ
ング処理部１３０と、描画装置用データ作成部１４０
と、配置情報変換部１５０と、データ保証部１６０と、
データ保管部１７０とを備えている。尚、第１の配置情
報２５０には、配置情報の他に図形処理情報が含まれて
いる場合もある。

【００１０】第１のパタンデータ２１０としては、設計
データ（通常、ポリゴンデータ）、各種電子ビーム描画
装置用データ、他描画装置用データを対象として、第２
のパタンデータ２３０としては、各種電子ビーム描画装
置用データを対象としている。

【００１１】データ圧縮処理部１１０は、第１のパタン
データ２１０の斜め線を持たない分割図形をポリゴン図
形とし、更にポリゴン図形の状態で、繰り返し図形を認
識し、これを１つのポリゴン図形の繰り返しで表現する
処理を行なうものである。図２に基づいて、データ圧縮
処理部１１０の処理を簡単に説明する。図２（ａ）に示
すような、同一形状の絵柄ｆ１〜ｆ４をもつ電子ビーム
描画装置用の図形データを処理する場合について説明す
る。例えばｆ１は互いに接する（重なる場合も含む）図
形ｆ１１〜ｆ１７で併せて表現される。この場合、デー
タを圧縮した表現では、ｆ１２とｆ１３は同形状、ｆ１
４、ｆ１５，ｆ１６、ｆ１７は同形状とすると、図形ｆ
１は、図形ｆ１１、ｆ１２、ｆ１４のみを用いて、それ
らの配列情報とで併せて表現できる。図形ｆ２〜ｆ４に
ついても同様である。まず、処理対象となる電子ビーム
描画装置用の図形データ（ｆ１〜ｆ４）に対し、ポリゴ
ンデータ化処理すると、図２（ａ）に示す、同一形状の
絵柄ｆ１〜ｆ４は、それぞれ、図２（ｂ）に示すように
表示されるＦ１〜Ｆ４のポリゴンデータとして得ること
ができる。図２（ｂ）の各絵柄（図形）Ｆｍ（ｍ＝１、
２、３、４）は、（Ｘｍ、Ｙｍ、ｄｘｍ１、ｄｙｍ１、
ｄｘｍ２、ｄｙｍ２・・・・・・、ｄｘｍ１２、ｄｙｍ
１２）で表される。ポリゴンデータ化処理が施されて得
られるポリゴンデータの各絵柄（図形）は、Ｆ１〜Ｆ４
のように、絵柄の外周のみを示すもので、各絵柄の外周
の各コーナー部（図示していないが、左回りにＣ０、Ｃ
１、Ｃ２、・・・Ｃｎとする）の位置座標を順に列記し
て示すことができるが、通常は、各コーナー部の位置座
標は、始発のコーナー部Ｃ０座標位置と、各位置（Ｃ
１、Ｃ２・・・Ｃｎ）の座標を隣のコーナー部からの変
位量で示される。即ち、図２（ｂ）の各絵柄（図形）Ｆ
ｍ（ｍ＝１、２、３、４）は、（Ｘｍ、Ｙｍ、ｄｘｍ
１、ｄｙｍ１、ｄｘｍ２、ｄｙｍ２・・・・・・、ｄｘ
ｍ１２、ｄｙｍ１２）で表される。尚、図形ｆ１１〜ｆ
１７で併せて表現された図形ｆ１のポリゴンデータを得
る方法（これをポリゴンデータ化処理と言う）として
は、例えば、ベクトルで各図形の領域を表わして、ベク
トルの重なりを見て、各図形間の重なりを判断し、重な
り部分を除去した図形を得る方法等、一般的に知られて
いる方法が適用できる。

【００１２】Ｆ１〜Ｆ４が同じ図形であれば、（ｄｘｍ
１、ｄｙｍ１、ｄｘｍ２、ｄｙｍ２・・・・・・、ｄｘ
ｍ１２、ｄｙｍ１２）が、ｍ＝１、２、３、４で一致す
ることより、重複する記載を止め、この部分（図形情
報）は、図形の表現部分として、１回だけ表現し、これ
と、Ｆ１〜Ｆ４の各発のコーナー部の座標位置（Ｘｍ
０、Ｘｍ０）（ｍ＝１、２、３、４）、とで絵柄Ｆ１〜
Ｆ４の全てを表現できる。即ち、基本図形情報（同一図
形の図形表現部）と、図形の配置情報（配置位置座標）
とで、絵柄（図形）Ｆ１〜Ｆ４の全てを表現することが
できる。（図２（ｃ））このようにして、重複する記載を止め、データ量を圧縮
でき、処理対象のデータ量を少なくすることができる。

【００１３】ポリゴン図形の状態で、繰り返し図形を認
識は、図形表現部をチェックし、この部分が一致する図
形があるか否かで行なう。即ち、データ圧縮処理部１１
０は、第１のパタンデータ２１０の斜め線を持たない分
割図形をポリゴン図形とし、更にポリゴン図形の状態
で、この方法により繰り返し図形を認識し、繰り返し図
形を、それぞれ、基本図形情報（同一図形の図形表現
部）と、図形の配置情報（配置位置座標）とで表現し
て、データ量を圧縮し、処理対象のデータ量を少なくす
るのである。

【００１４】データ精度向上処理部１２０は、第１のパ
タンデータ２１０の斜め線を有する分割図形をポリゴン
図形とし、これに対して、あるいはデータ圧縮処理部１
１０による処理後のポリゴン図形に対して、それぞれ、
対応する設計図形データの図形形状とは異なる部分を補
正し、元の設計データに近いポリゴン図形を生成するも
のである。データ精度向上処理部１２０の処理につい
て、図３に基づいて簡単に説明しておく。例えば、図３
（ａ）に示す第１のパタンデータの斜め線を有する分割
図形は、ポリゴンデータ化処理により、図３（ｂ）のよ
うに、ポリゴン図形として表される。設計データの対応
する図形では、斜め直線１本で形成されているにもかか
わらず、図３（ｂ）に示す斜め線部（Ｅ１部）は、段状
になっているが、これは、図形分割により図形（図３
（ａ）の図形）を得る際、設計データとは異なる形状に
にして得られるためである。データ精度向上処理部１２
０では、このような斜め線部（Ｅ１部）を対応する設計
図形データの図形形状に近い状態にしたポリゴン図形を
生成する。例えば、ポリゴンデータ（図３（ｂ））に対
し、各図形の角度０°、４５°、９０°、１３５°のう
ちのいずれか１つの角度から所定の角度範囲内である線
分を、角度０°、４５°、９０°、１３５°のうちの近
い角度の線分とし、これに合わせ、この線分の両端の座
標位置を所定範囲内で変化させる角度合わせ処理を施す
ものが挙げられる。

【００１５】即ち、角度合わせ処理により、角度０°、
４５°、９０°、１３５°のうちのいずれか１つの角度
から所定の角度範囲内である図形の線分を、即ち、所定
の外の角度を持つ図形の線分を、角度０°、４５°、９
０°、１３５°のうちの近い角度の線分とし、折れ線部
一直線化処理により、折れ線部を１直線化することによ
り、できるだけ、元の設計データに近い形状にすること
を可能としている。また、このように、図形形状修正す
る処理を施すことにより、フラクチャリング処理部１３
０の処理において、生成される図形の数を減らすことが
でき、これにより、中間パタンデータ２２０のデータ量
を少なくできるとともに、その処理自体の負荷を少なく
できる。

【００１６】また、第１のパタンデータ２１０の斜め線
を有する分割図形をポリゴン図形とし、これに対して、
あるいはデータ圧縮処理部による処理後のポリゴン図形
に対して、図３（ｂ）のＥ２部に示すような折れ線部を
一直線化する処理（以下折れ線一直線化処理と言う）が
挙げられる。これは、各図形の折れ線部について、所定
の条件の下に直線近似を施す処理である。例えば、図形
の連続する２直線のＬｎ、Ｌｎ＋１の接続点（交点ない
し単に点とも言う）をＰｎとし、対象とする折れ線部を
折れ線の始発点である接続点Ｐ０から接続点Ｐｋまでと
し、且つ、各接続点Ｐｍ（１〜ｋまでの整数）での所定
の移動可能範囲の両端と始発点Ｐ０とが、それぞれつく
る角度領域をＡｍとした場合、接続点Ｐｍ＋１と接続点
Ｐ０とを結ぶ直線Ｃｍ＋１が、〔Ａ１ＡＮＤＡ２
ＡＮＤＡ３ＡＮＤ・・・・ＡＮＤＡｍ〕の角度領
域に含まれるとき、接続点Ｐ０から接続点Ｐｍ＋１まで
の直線Ｌ１からＬｍを直線Ｃｍ＋１で一直線化すること
が可能として、これを一直線化する、折れ線部を一直線
化する処理が挙げられる。図３（ｂ）に示すポリゴンデ
ータは、角度合わせ処理、折れ線一直線化処理後、図３
（ｃ）に示すポリゴンデータとなる。

【００１７】図形演算処理部１２５は、図形演算等によ
り、ポリゴン表示の図形データに対し、ミラー処理、絵
柄反転処理（リバース処理とも言う）、スケーリング処
理、回転処理、サイジング処理等の図形処理を行ない、
新たなポリゴン表示の図形データを得るものである。こ
こでは、データ精度向上処理部１２０の処理を経て得ら
れた第１のパタンデータに相当するポリゴン表示の図形
データ（ポリゴンデータ２１１ａ）に対し、各図形処理
を行なうため、精度の良い図形処理がなされる。必要に
応じ、図形演算処理部１２５の各処理は行なわれるもの
で、場合によっては、ポリゴンデータ２１１ａがそのま
まポリゴンデータ２１１ｂとなる。

【００１８】フラクチャリング処理部１３０は、目的と
する電子ビーム描画装置の機種に対応した所定のアルゴ
リズムに基づき、図形分割処理を行ない、第２のパタン
データ２３０作成用の、目的とする電子ビーム描画装置
用の描画図形データである中間パタンデータ２２０を得
る処理を行なうものである。目的とする電子ビーム露光
装置が可変成形型であるか、ラスター型であるか、によ
り、通常、その分割領域、分割アルゴリズムは大きく異
なり、同じ可変成形型、あるいは同じラスター型でも、
装置メーカ等により、分割アルゴリズムが異なるのが一
般的である。

【００１９】描画装置用データ作成部１４０は、中間パ
タンデータ２２０に対し、目的とする電子ビーム描画装
置の機能、特徴に合わせてた形態の第２のパタンデータ
２３０を作成し、且つ、第２のパタンデータ用の第２の
配置情報２７０を作成するものである。例えば、描画装
置用データ作成部では、中間パタンデータに対して枠部
データを合成して第２のパタンデータを作成したりりす
る。また、描画機種毎のカセットの形態や保持の仕方
（アース用爪の位置等も含む）等、描画領域制限に対応
して、描画領域を決定する。そして、第２のパタンデー
タ２３０や、描画領域制限に合せ、必要に応じ、第２の
配置情報２７０を決定する。必要に応じ、描画装置用デ
ータ作成部１４の各処理は行なわれるもので、場合によ
っては、中間パタンデータがそのまま、第２のパタンデ
ータとして使用される。尚、場合によっては、描画機種
は、その各種機能を用いて、中間データに各種処理を施
し、第２のパタンデータを作成しても良い。

【００２０】配置情報変換部１５０は、目的とする描画
装置に対応した記述の配置情報に変換する処理を行なう
ものである。

【００２１】データ保証部１６０は、中間パタンデータ
２２０ないし第２のパタンデータ２３０のと、第１のパ
タンデータ２１０に対し、対応する図形データ領域同士
に論理Ｅｘｃｌｕｓｉｖｅ−ＯＲ図形演算を施し、更
に、所定サイズでアンダーサイズ処理を施し、残存する
図形がなければＯＫ、残存する図形があればＯＵＴとす
るデータ比較検証処理を行なうものである。

【００２２】データ保管部１７０は、第２のパタンデー
タと第２の配置情報とを保管する保管処理を行なうもの
である。

【００２３】次いで、第１のパタンデータが可変成形型
の電子ビーム描画装置用の描画図形データである場合に
ついて、本例の描画図形データ作成装置の処理の１例を
図１に基づいて簡単に説明する。先ず、データ圧縮処理
部１１０ににて、斜め線を持たない図形データの図形
は、これをポリゴンデータとし、第１のパタンデータの
非分割図形とともに、これらにについて、繰り返し図形
を認識してこれを１つのポリゴン図形の繰り返しで表現
し、ポリゴン図形表示の図形データを得る。第１のパタ
ンデータの非分割図形に対しては、そのままの状態で処
理を行なう。そして、データ精度向上処理部１２０に
て、第１のパタンデータ２１０の斜め線を有する分割図
形をポリゴン図形とし、これに対して、あるいはデータ
圧縮処理部１１０による処理後のポリゴン図形表示の図
形データの図形に対して、それぞれ、対応する設計図形
データの図形形状とは異なる部分を補正し、元の設計デ
ータに近いポリゴン図形を生成し、第１のパタンデータ
に相当するポリゴン図形表示の図形データである、ポリ
ゴンデータ２１１ａを得る。データ精度向上処理部１２
０により、先に説明した図３（ｂ）のＥ１部に対する処
理と同様、角度合せ処理を行ない、設計データに近い形
状にする。図３（ｂ）Ｅ２部に示す折れ線部に対して
は、先に説明した図３（ｂ）のＥ２部に対する処理と同
様、折れ線一直線化処理を行ない、設計データに近い形
状にする。尚、場合によっては、全ての図形について、
折れ線一直線化処理を行なう。

【００２４】次いで、必要に応じ、図形演算処理部１２
５にて、ポリゴンデータ２１１ａに対し、図形処理を施
し、ポリゴンデータ２１１ｂを得る。図形演算処理部１
２５にて図形処理を施す必要がない場合には、ポリゴン
データ２１１ａがそのままポリゴンデータ２１１ｂとな
る。第１の配置情報に、図形処理情報が含まれている場
合に、これに対応した図形処理を行なう。

【００２５】次いで、ポリゴンデータ２１１ｂに対し、
フラクチャリング処理部１３０にて、目的とする電子ビ
ーム描画装置の機種に対応した所定のアルゴリズムに基
づき、フラクチャリング処理（図形分割処理）を行な
い、第２のパタンデータ２３０作成用の、目的とする電
子ビーム描画装置用の描画図形データである中間パタン
データ２２０を得る。

【００２６】一方、第１の配置情報２５０を配置情報変
換部１５０にて変換し、目的とする描画装置に対応した
記述の配置情報２６０を得ておく。

【００２７】次いで、描画装置用データ作成部１４０に
て、中間パタンデータ２２０に対し、目的とする電子ビ
ーム描画装置の機能、特徴に合わせてた形態の第２のパ
タンデータ２３０を作成し、更に、第２のパタンデータ
２３０用の第２の配置情報２７０を作成する。このよう
にして、第２のパタンデータ２３０と、これに対応した
第２の配置情報２７０が得られる。

【００２８】次いで、得られた第２のパタンデータ２３
０と、これに対応した第２の配置情報２７０が適正か否
か、データ保証部１６０にてチェックする。本例では、
第２のパタンデータ２３０と、第１のパタンデータ２１
０に対し、対応する図形データ領域同士に論理Ｅｘｃｌ
ｕｓｉｖｅ−ＯＲ図形演算を施し、その差をとり、得ら
れた図形データに対し、更に、所定サイズでアンダーサ
イズする処理を施し、残存する図形がなければＯＫ、残
存する図形があればＯＵＴとするデータ比較処理を行な
う。尚、場合によっては、所定のアルゴリズムで第２の
配置情報２７０をチェックする。このようにして、第２
のパタンデータ２３０が、あるいは第２のパタンデータ
２３０と第２の配置情報２７０とが問題ないと判断され
た場合、得られた第２のパタンデータ２３０と第２の配
置情報２７０とを、目的とする電子ビーム描画装置用の
描画データと、これに対応した配置情報とする。

【００２９】次いで、データ保証部１７０にて、ＯＫと
された第２のパタンデータ２３０とこれに対応した第２
の配置情報２７０とを、一旦、データ保管部１７０に保
管しておく。そして、必要な時に、データ保管部１７０
から目的とする電子ビーム描画装置に対応した第２のパ
タンデータと、これに対応した配置情報とを取り出し、
これを目的とする電子ビーム描画装置に送る。

【００３０】

【発明の効果】本発明は、上記のように、図形データ
を、目的とする電子ビーム露光装置用の描画図形データ
に変換することができる描画図形データ作成装置で、且
つ、処理が実用的で、精度的にも問題のない装置の提供
を可能とした。特に、これにより、電子ビーム露光装置
とは、別体で、即ち、描画装置に外付けで、描画図形デ
ータ作成を可能とし、描画データの準備を効率的に行な
えるようになった。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の描画図形データ作成装置の実施の形態
の１例とその処理フローの１例を示した図

【図２】データ圧縮処理部の処理を説明するための図

【図３】データ精度向上処理部の処理を説明するための
図

【符号の説明】

１１０データ圧縮処理部１２０データ精度向上処理部１２５図形演算処理部１３０フフラクチャリング処理部１４０描画装置用データ作成部１６０データ保証部１７０データ保管部１９０電子ビーム露光装置２１０第１のパタンデータ１２１分割図形データ２１２非分割図形データ２１１ａ、２１１ｂポリゴンデータ２２０中間パタンデータ２３０第２のパタンデータ２５０第１の配置情報２６０配置情報２７０第２の配置情報

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者山地正高東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号大日本印刷株式会社内 (72)発明者栗山幸樹東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号大日本印刷株式会社内Ｆターム(参考） 2H095 BA08 BB01 2H097 CA16 LA10 5F056 AA04 CA01 CA05 CA11 CA16 CA22 CA25

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】第１のパタンデータと、その配置情報を
基に、目的とする電子ビーム描画装置用の描画図形デー
タである第２のパタンデータと、その配置情報を作成す
るための、描画図形データ作成装置であって、第１のパ
タンデータの斜め線を持たない分割図形に対しては、こ
れをポリゴン図形とし、また、第１のパタンデータの非
分割図形に対しては、そのままの状態で、これらににつ
いて、繰り返し図形を認識してこれを１つのポリゴン図
形の繰り返しで表現し、ポリゴン図形表示の図形データ
を得るデータ圧縮処理部と、第１のパタンデータの斜め
線を有する分割図形をポリゴン図形とし、これに対し
て、およびデータ圧縮処理部による処理後のポリゴン図
形表示の図形データの図形に対して、それぞれ、対応す
る設計図形データの図形形状とは異なる部分を補正し、
あわせて元の設計データに近いポリゴン図形を生成し、
第１のパタンデータに相当するポリゴン図形表示の図形
データを得る、データ精度向上処理部と、データ精度向
上処理部による処理を経て得られた、ポリゴン表示の図
形データに対し、ミラー処理、絵柄反転処理（リバース
処理とも言う）、スケーリング処理、回転処理、サイジ
ング処理等の図形処理を行ない、新たなポリゴン表示の
図形データを得る図形演算処理部と、前記データ精度向
上処理部による処理を経て得られた、ポリゴン表示の図
形データ、あるいは、図形演算処理部による処理を経て
得られた新たなポリゴン表示の図形データに対し、目的
とする電子ビーム描画装置の機種に対応した所定のアル
ゴリズムに基づき、図形分割処理を行ない、第２のパタ
ンデータ作成用の、目的とする電子ビーム描画装置用の
描画図形データである中間パタンデータを得る、フラク
チャリング処理部と、中間パタンデータに対し、目的と
する電子ビーム描画装置の機能、特徴に合わせた形態の
第２のパタンデータを作成し、且つ、第２のパタンデー
タ用の第２の配置情報を作成する、描画装置用データ作
成部と、配置情報を変換する配置情報変換部と、前記中
間パタンデータないし第２のパタンデータと、第１のパ
タンデータに対し、対応する図形データ領域同士に論理
Ｅｘｃｌｕｓｉｖｅ−ＯＲ図形演算を施し、更に、所定
サイズでアンダーサイズ処理を施し、残存する図形がな
ければＯＫ、残存する図形があればＯＵＴとするデータ
比較検証処理を行なうデータ保証部と、第２のパタンデ
ータと第２の配置情報とを保管するデータ保管部とを、
備えていることを特徴とする描画図形データ作成装置。
【請求項２】請求項１において、第１のパタンデータ
が可変成形型の電子ビーム描画装置用の描画図形データ
であることを特徴とする描画図形データ作成装置。