JP4918809B2 - 濃度分布マスクの製造方法 - Google Patents
濃度分布マスクの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4918809B2 JP4918809B2 JP2006125135A JP2006125135A JP4918809B2 JP 4918809 B2 JP4918809 B2 JP 4918809B2 JP 2006125135 A JP2006125135 A JP 2006125135A JP 2006125135 A JP2006125135 A JP 2006125135A JP 4918809 B2 JP4918809 B2 JP 4918809B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- density distribution
- tone
- data
- outline
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000009826 distribution Methods 0.000 title claims description 96
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 34
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 42
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 20
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 20
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 10
- 238000012217 deletion Methods 0.000 description 28
- 230000037430 deletion Effects 0.000 description 28
- 239000010408 film Substances 0.000 description 17
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 10
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 6
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000005459 micromachining Methods 0.000 description 1
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Description
ドット(D)が設けられた単位セル(C)を中心にその六角形の各辺を囲むように、次に大きい遮光膜ドット(D)を設けた残りの4個の各単位セル(C)のうちの2個の単位セル(C)が配置され、最も大きい遮光膜ドット(D)を設けた単位セル(C)を中心にその単位セル(C)の外側に沿って3段階に段階的に大きさを変化させた単位セルが同心円状に配置された構造となっている。このようにして段階的に透過濃度が変化した、すなわち階調を有するマスクの機能をもつものとなっている。
これにより、データ量が更に多い、複雑な三次元形状に対応した濃度分布マスクであっても簡便に生産できるものとなる。
1)前記三次元形状の等高線の高さの間の高さの領域である外郭パターン用の外郭パターンデータ(D1)を等高線別に複数個作成する工程と、
2)構成する複数のドットが矩形であって、該ドットのピッチが均一で露光装置の解像度より小さく、ドットの大小によりパターンの濃度を表し、前記外郭パターン内でドットの大きさが均一なトーンパターン(P2)用のトーンパターンデータ(D2)を等高線別に対応した濃度をもたせて複数個作成する工程と、
3)前記トーンパターン(P2)の全てのドットを一旦縮小操作した縮小トーンパターンデータ(D2S)を各等高線別に複数個作成する工程と、
4)前記ドットの寸法より細かい極微小ドットに分解されている前記外郭パターンデータ(D1)とそれに対応した前記縮小トーンパターンデータ(D2S)とを前記極微小ドット毎にAND演算して得る外郭・縮小トーンパターンデータ(D3S)を各等高線別に複数個作成する工程と、
5)前記外郭・縮小トーンパターンデータ(D3S)の全てのドットを前記縮小操作前の元のサイズに戻す(リサイズする)操作を行った外郭・トーンパターンデータ(D3L)を各等高線別に複数個作成する工程と、
6)前記複数個の外郭・トーンパターンデータ(D3L)の全てをOR演算して、前記三次元形状に対応した濃度分布データ(D4L)を作成する工程と、
7)前記濃度分布データ(D4L)を用いて電子ビーム描画装置もしくはレーザービーム描画装置にて濃度分布マスクを描画する工程と、
を含むことを特徴とする濃度分布マスクの製造方法である。
ターンデータ(D3S)に基づく外郭・縮小トーンパターン(P3S)の全ての黒ドット部分を縮小操作前の元のサイズに戻すこと(プラス(+)リサイズ処理)により、極微小パターンの存在しないノイズパターン削除外郭・トーンパターンデータ(D3L)を各等高線別に複数n個作成し、上記ノイズパターン削除外郭・トーンパターンデータ(D3L)の全てをOR演算して、求める三次元形状に対応したノイズパターン削除濃度分布データ(D4L)を作成することができるものである。
1)図1(a)に示すように、求める三次元形状の等高線を表す外郭パターン(P1)用の外郭パターンデータ(D1)を、等高線別(又は所定間隔の同心円別)に適宜なる複数個(n個、高低はn段階)作成して、コンピュータメモリに記憶させる工程と、
2)図1(b)に示すように、構成する複数のドットのピッチが均一で、ドットの大小によりパターンの濃度を表し、各等高線別の外郭パターン内でドットの大きさが均一なトーンパターン(P2)用のトーンパターンデータ(D2)を等高線別に対応した濃度をもたせて複数n個作成して、コンピュータメモリに記憶させる工程と、
3)図1(c)に示すように、各等高線別に対応するトーンパターンデータ(D2)に基づく各トーンパターン(P2)の全ての黒ドットを各等高線別に一旦マイナス方向に任意に縮小操作(マイナス(−)リサイズ処理)して、微小黒ドットによる縮小トーンパターン(P2S)用の縮小トーンパターンデータ(D2S)を各等高線別に複数n個作成する工程と、
4)図2(a)に示す前記複数n個の外郭パターン(P1)用の各々外郭パターンデータ(D1)とそれに対応した図2(b)に示す縮小トーンパターン(P2S)用の各々縮小トーンパターンデータ(D2S)とをAND演算して、図2(c)に示す外郭・縮小トーンパターン(P3S)用の外郭・縮小トーンパターンデータ(D3S)を各等高線別に
複数n個作成する工程と、
5)図3(a)に示す黒ドットが縮小(マイナス(−)リサイズ処理)された外郭・縮小トーンパターンデータ(D3S)に基づく外郭・縮小トーンパターン(P3S)の全ての黒ドット部分をリサイズ処理して、図3(b)に示すように黒ドット部分を縮小操作(マイナス(−)リサイズ処理)前の元のサイズに戻すこと(ここではプラス(+)リサイズ処理)により極微小パターンの存在しないノイズパターン削除外郭・トーンパターン(P3L)用のノイズパターン削除外郭・トーンパターンデータ(D3L)を各等高線別に複数n個作成する工程と、
6)図3(b)に示す複数n個のノイズパターン削除外郭・トーンパターン(P3L)用のノイズパターン削除外郭・トーンパターンデータ(D3L)をOR演算して、図あ(c)に示す求める三次元形状に対応したノイズパターン削除濃度分布パターン(P4L)用のノイズパターン削除濃度分布データ(D4L)を作成する工程と、
7)ノイズパターン削除濃度分布データ(D4L)を用いて電子ビーム、レーザービーム描画装置にて感光性樹脂パターンを形成するための求める三次元形状に対応した濃度分布マスクパターンを濃度分布マスク作成用基板面のフォトレジストに描画する工程と、
を含む濃度分布マスクの製造方法である。
まず、求める三次元形状の等高線を表す外郭パターン(P1)用の外郭パターンデータ(D1)を等高線別に複数n個作成する。図1(a)に図示するように外郭パターン(P1)用の外郭パターンデータ(D1)を等高線別に複数n個(外郭1、外郭2、外郭3、・・・外郭n)作成する。一例として例えば、3段階の外郭パターン(P1)用の外郭パターンデータ(D1)を等高線別に3個(外郭1、外郭2、外郭3)作成する。尚、外郭3は背景につき外郭パターンはない。図1(a)に示すように、この一実施例では、三次元形状の等高線を表す外郭パターン(P1)として円形を用いた例であり、等高線の高低は、外郭1、外郭2、外郭3の3段階である。
次に、各等高線別の外郭パターン内でドットの大きさが均一なトーンパターン(P2)用のトーンパターンデータ(D2)を等高線別に対応した濃度をもたせて複数n個作成する。図1(b)に示すように、外郭1、外郭2、外郭3、・・・外郭nのn段階の各々に対応した濃度をもたせたトーンパターン(P2)用のトーンパターンデータ(D2)をn個(階調1、階調2、階調3、・・・階調n)作成する。一例として例えば、外郭1、外郭2、外郭3の3段階の各々に対応した濃度をもたせたトーンパターン(P2)用のトーンパターンデータ(D2)を3個作成する(階調1、階調2、階調3)。外郭1に対応した濃度は階調1、外郭2に対応した濃度は階調2、外郭3は階調3である。なお、トーンパターン(P2)を形成する各ドットの形状は、本発明においては特に限定されるものではないが、例えば、円形状、矩形状である。
次に、各等高線別に対応するトーンパターンデータ(D2)に基づく各トーンパターン
(P2)の全ての黒ドットを各等高線別に一旦マイナス方向に任意に縮小操作(リサイズ処理)して、微小黒ドットによるトーンパターン(P2S)用の縮小トーンパターンデータ(D2S)を各等高線別に複数n個作成する。図1(b)に示す各トーンパターン(P2)におけるすべての黒ドットを、各等高線別に一旦マイナス方向に任意にリサイズ処理にて縮小操作して、各トーンパターン(P2)を、図1(c)に示すような微小な黒ドット(ドットピッチは変動なし)に縮小された各縮小トーンパターン(P2S)を作成するものである。
次に、図2(a)に示す上記複数n個の各々外郭パターン(P1)用の各々外郭パターンデータ(D1)と、それに対応した図2(b)に示す上記各々縮小トーンパターン(P2S)用の各々縮小トーンパターンデータ(D2S)とを、コンピュータにてAND演算処理して、図2(c)に示すような外郭パターン(P1)内に縮小された各縮小トーンパターン(P2S)を有する外郭・縮小トーンパターン(P3S)用の外郭・縮小トーンパターンデータ(D3S)を各等高線別に複数n個作成するものである。
次に、黒ドットが縮小操作された外郭・縮小トーンパターンデータ(D3S)に基づき外郭・縮小トーンパターン(P3S)を、コンピュータ画像表示手段の画面にて可視表示する。
次に、全ての黒ドット部分をマイナス(−)リサイズ量に応じてプラス(+)リサイズ処理を行い、図3(b)に示すように、その縮小操作(マイナス(−)リサイズ処理)前の元のサイズ(トーンパターン(P2)のサイズ)に戻す(プラス(+)リサイズ処理する)。これにより、外郭パターン(P1)内に極微小パターンの存在しない各々ノイズパターン削除外郭・トーンパターン(P3L)を各等高線別に複数n個作成する。
次に、各等高線別に作成した複数n個の前記外郭・トーンパターン(P3L)を、ノイズパターン削除外郭・トーンパターンデータ(D3L)として、コンピュータ記憶手段(コンピュータメモリ、記録媒体)に記録する。
次に、複数n個のノイズパターン削除外郭・トーンパターンデータ(D3L)を、コンピュータにてOR演算処理して、求める三次元形状に対応したノイズパターン削除濃度分布データ(D4L)を作成する。図3(b)に示すように、前記外郭・トーンパターン(
P3L)用のノイズパターン削除外郭・トーンパターンデータ(D3L)を、OR演算処理することにより、図3(c)に示すような求める三次元形状に対応したノイズパターン削除濃度分布パターン(P4L)用のノイズパターン削除濃度分布データ(D4L)が作成される。
成する縦方向及び横方向に並ぶ白ドットと黒ドットが合計ドット数として偶数個配列されるように設定しても構わない。
D・・・遮光膜ドット
P1・・・外郭パターン
P2・・・トーンパターン
P3・・・外郭・トーンパターン
P4…濃度分布パターン(濃度分布マスク作成用パターン)
p4 …黒ドット(遮光ドット)
p5 …白ドット(透光ドット)
p0 …極微小端切れドットパターン
Claims (1)
- 基板上に、三次元形状の感光性樹脂パターンを形成するための濃度分布マスクの製造方法において、
1)前記三次元形状の等高線の高さの間の高さの領域である外郭パターン用の外郭パターンデータ(D1)を等高線別に複数個作成する工程と、
2)構成する複数のドットが矩形であって、該ドットのピッチが均一で露光装置の解像度より小さく、ドットの大小によりパターンの濃度を表し、前記外郭パターン内でドットの大きさが均一なトーンパターン(P2)用のトーンパターンデータ(D2)を等高線別に対応した濃度をもたせて複数個作成する工程と、
3)前記トーンパターン(P2)の全てのドットを一旦縮小操作した縮小トーンパターンデータ(D2S)を各等高線別に複数個作成する工程と、
4)前記ドットの寸法より細かい極微小ドットに分解されている前記外郭パターンデータ(D1)とそれに対応した前記縮小トーンパターンデータ(D2S)とを前記極微小ドット毎にAND演算して得る外郭・縮小トーンパターンデータ(D3S)を各等高線別に複数個作成する工程と、
5)前記外郭・縮小トーンパターンデータ(D3S)の全てのドットを前記縮小操作前の元のサイズに戻す(リサイズする)操作を行った外郭・トーンパターンデータ(D3L)を各等高線別に複数個作成する工程と、
6)前記複数個の外郭・トーンパターンデータ(D3L)の全てをOR演算して、前記三次元形状に対応した濃度分布データ(D4L)を作成する工程と、
7)前記濃度分布データ(D4L)を用いて電子ビーム描画装置もしくはレーザービーム描画装置にて濃度分布マスクを描画する工程と、
を含むことを特徴とする濃度分布マスクの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006125135A JP4918809B2 (ja) | 2006-04-28 | 2006-04-28 | 濃度分布マスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006125135A JP4918809B2 (ja) | 2006-04-28 | 2006-04-28 | 濃度分布マスクの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007298626A JP2007298626A (ja) | 2007-11-15 |
JP4918809B2 true JP4918809B2 (ja) | 2012-04-18 |
Family
ID=38768184
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006125135A Active JP4918809B2 (ja) | 2006-04-28 | 2006-04-28 | 濃度分布マスクの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4918809B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4816924B2 (ja) * | 2006-04-28 | 2011-11-16 | 凸版印刷株式会社 | 濃度分布マスクの製造方法 |
JP4935452B2 (ja) * | 2007-03-26 | 2012-05-23 | 凸版印刷株式会社 | グレーマスク及びグレーマスク用パターン製造方法 |
JP5629964B2 (ja) * | 2008-06-20 | 2014-11-26 | 凸版印刷株式会社 | 濃度分布マスクとその製造方法及びマイクロレンズアレイの製造方法 |
JP5707909B2 (ja) * | 2010-12-06 | 2015-04-30 | 大日本印刷株式会社 | 微粒子の製造方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07130609A (ja) * | 1993-06-30 | 1995-05-19 | Toppan Printing Co Ltd | 描画パターンの寸法変更方法 |
JPH08149284A (ja) * | 1994-11-21 | 1996-06-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 画像形成装置 |
JP2006030510A (ja) * | 2004-07-15 | 2006-02-02 | Toppan Printing Co Ltd | 濃度分布マスク |
JP4631573B2 (ja) * | 2004-07-20 | 2011-02-16 | 凸版印刷株式会社 | 濃度分布マスクの製造方法 |
-
2006
- 2006-04-28 JP JP2006125135A patent/JP4918809B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007298626A (ja) | 2007-11-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5705301A (en) | Performing optical proximity correction with the aid of design rule checkers | |
US6282696B1 (en) | Performing optical proximity correction with the aid of design rule checkers | |
JPH10261568A (ja) | 荷電ビーム描画データ作成方法 | |
KR101264114B1 (ko) | 포토마스크 레이아웃의 생성 방법 및 이를 수행하는프로그래밍된 명령을 저장하는 컴퓨터에서 판독 가능한저장 매체 및 마스크 이미징 시스템 | |
JP4229829B2 (ja) | ホールパターン設計方法、およびフォトマスク | |
JP4918809B2 (ja) | 濃度分布マスクの製造方法 | |
JP2007256305A (ja) | 回路パターンデータ補正方法及び半導体装置の製造方法 | |
JP4743413B2 (ja) | 回折光学素子の作製方法 | |
JP4816924B2 (ja) | 濃度分布マスクの製造方法 | |
JP3054765B2 (ja) | マスク製造のための近接効果補正方法 | |
KR20020065851A (ko) | 광 근접 효과 보정 방법 | |
JP5257571B2 (ja) | 図形パターン分割方法 | |
JP4631573B2 (ja) | 濃度分布マスクの製造方法 | |
JP2010072593A (ja) | レイアウト表示装置及びレイアウト表示方法 | |
JP2008244196A (ja) | 描画データ作成方法及び描画データファイルを格納した記憶媒体 | |
JP2011187869A (ja) | 描画データ処理方法及び描画データ処理装置 | |
JP5810642B2 (ja) | マスクデータ生成方法及びそれを用いたマスクの製造方法 | |
JP2010271589A (ja) | パターン分割方法、パターン分割処理装置及びコンピュータプログラム | |
KR20080018039A (ko) | 오프 그리드 방지를 위한 opc 처리방법 | |
JP4529398B2 (ja) | ダミーパターン情報生成装置、パターン情報生成装置、マスク作成方法、ダミーパターン情報生成方法、プログラム及び上記プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | |
JP5499761B2 (ja) | 露光方法及び半導体装置の製造方法 | |
CN110579937B (zh) | 测试掩模版及其形成方法、测试掩模版的形成装置 | |
JP2009177051A (ja) | 荷電粒子ビーム描画装置のパターン描画方法及び装置 | |
JP4503154B2 (ja) | 描画データ作成方法及び装置 | |
JP2003122812A (ja) | フォトマスクデータ表示確認装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090323 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110609 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110621 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110816 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120104 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120117 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4918809 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150210 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |