JP6396200B2 - 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 - Google Patents
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Description
2 描画部
2a 描画チャンバ
2b 光学鏡筒
3 制御部
3a 操作部
3b 表示部
3c 描画データ記憶部
3d ジョブ制御部
3e 描画時間予測部
3f 描画制御部
3g ショットデータ生成部
11 ステージ
12 ステージ移動機構
21 出射部
22 照明レンズ
23 第1の成形アパーチャ
24 投影レンズ
25 成形偏向器
26 第2の成形アパーチャ
27 対物レンズ
28 副偏向器
29 主偏向器
B 電子ビーム
R1 カラム領域
R2 カラム領域
R3 カラム領域
Ra ストライプ領域
G1 画像
W 基板
Claims (5)
- 試料上の複数の描画領域に対して荷電粒子ビームによる描画を行う描画部と、
前記描画領域の予想数及び前記荷電粒子ビームの予想ショット数を取得しているか否かを判断し、前記描画領域の予想数及び前記荷電粒子ビームの予想ショット数を取得していないと判断した場合、前記複数の描画領域の総面積に対する描画済面積の比率を用いて、前記試料における描画進捗率を算出する算出部と、を備えることを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置。 - 前記算出部により算出された前記描画進捗率を表示する表示部をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の荷電粒子ビーム描画装置。
- 前記算出部は、前記描画領域の予想数及び前記荷電粒子ビームの予想ショット数を取得していないと判断した場合、前記複数の描画領域のそれぞれをストライプ状に分割した複数のストライプ領域を描画するための予想ストライプ数を取得しているか否かを判断し、前記予想ストライプ数を取得していないと判断した場合、前記複数の描画領域の総面積に対する描画済面積の比率を用いて、前記描画進捗率を算出することを特徴とする請求項1又は2に記載の荷電粒子ビーム描画装置。
- 前記描画部は、前記複数の描画領域のそれぞれを複数のカラムに分けて、各カラムを前記複数のストライプに分けて、各ストライプごとに描画を行い、
前記算出部は、前記予想ストライプ数を取得していないと判断した場合、描画中のカラムの直前のカラムまでの描画済カラムの総面積と、描画中のカラムの描画済面積との和における前記複数の描画領域の全カラム数に対する比率を用いて、前記描画進捗率を算出することを特徴とする請求項3に記載の荷電粒子ビーム描画装置。 - 試料上の複数の描画領域に対して荷電粒子ビームによる描画を行う工程と、
前記描画領域の予想数及び前記荷電粒子ビームの予想ショット数を取得しているか否かを判断し、前記描画領域の予想数及び前記荷電粒子ビームの予想ショット数を取得していないと判断した場合、前記複数の描画領域の総面積に対する描画済面積の比率を用いて、前記試料における描画進捗率を算出する工程と、を有することを特徴とする荷電粒子ビーム描画方法。
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