JP2003288496A - 描画支援システム、描画支援方法、マスク製造支援システム、及びマスク製造支援方法 - Google Patents

描画支援システム、描画支援方法、マスク製造支援システム、及びマスク製造支援方法

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JP2003288496A
JP2003288496A JP2002090029A JP2002090029A JP2003288496A JP 2003288496 A JP2003288496 A JP 2003288496A JP 2002090029 A JP2002090029 A JP 2002090029A JP 2002090029 A JP2002090029 A JP 2002090029A JP 2003288496 A JP2003288496 A JP 2003288496A
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mask
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mask manufacturing
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Kiyomi Koyama
清美 小山
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 マスクの製造スケジュール及びマスク製造装
置の選択等を顧客が制御することができる描画支援シス
テム、描画支援方法、マスク製造支援システム、及びマ
スク製造支援方法を提供すること。 【解決手段】 顧客端末３からマスクの描画依頼、製造
に必要なデータ及び予約条件を受信する描画受注手段１
０、通信ネットワーク６に接続され予約条件に合致する
マスク描画装置５を検索し顧客端末３へ送信する描画装
置検索手段１３、顧客端末３から指定された描画装置５
に描画依頼を送信する描画装置予約手段１４、指定され
た描画装置５から描画状況を受信し顧客端末３へ送信す
る描画モニタ手段１６とからなる描画支援システム。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体製造工程でＳ
ｉ基板上に回路パターンを形成する際に使われるＬＳＩ
マスクの製造に関連し、インターネットを介してマスク
の描画装置又はマスク製造装置の使用を可能にする描画
支援システム、描画支援方法、マスク製造支援システ
ム、及びマスク製造支援方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に半導体の製造工程では、レチクル
等のマスクを、半導体製造工程に応じて必要な枚数製造
する必要がある。このため、ＬＳＩの設計に基づきＣＡ
Ｄを用いて複数のマスクのそれぞれに対応したマスクデ
ータが作成される。次に、電子ビーム露光装置等のパタ
ーンジェネレータ（描画装置）によりマスク（レチク
ル）が必要な枚数分、互いに重ね合わせ可能なように作
成され、一組のマスクセットが完成する。更に、それぞ
れのマスクの検査が行われる。検査に合格したマスクは
半導体製造工程に用いられる。
【０００３】従来より、半導体製造メーカーやＳｉファ
ウンドリなどの顧客は、マスクの仕様や希望枚数、納期
などを提示して上述したマスクをマスクハウスなどに発
注し、希望の期限までに納入してもらうのが一般的であ
った。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このような従
来のマスク調達方法では、マスク描画のスケジュールや
描画装置（パターンジェネレータ）の選択は全てマスク
ハウス側の判断に委ねられ、顧客がマスク描画のスケジ
ュールや描画装置の選択を行うことはできなかった。こ
のため、設計変更などで緊急にマスクを調達しなければ
ならない場合、対応することが困難であった。
【０００５】また、従来のマスク調達方法の多くは、大
量のマスク製造を委託する大口の顧客が対象とされてお
り、少量のマスク製造を委託する小口の顧客や特殊なマ
スクを少量作成すれば済むようなプロジェクトにとって
はなかなか入り込むことができず、ビジネスチャンスを
失っていた。
【０００６】更に、マスク製造に関して機密保持の点に
おいて問題があり、研究開発用のマスクを極秘に作成し
たいといった要求に応えることができなかった。
【０００７】更に、マスクハウスでは、複数のサイトに
ある装置の効率的な稼働や製造装置の運用や受注業務に
かかる人件費が半導体製造の原価を引き上げる要因とな
っていた。
【０００８】本発明は上述の如き従来の課題を解決する
ためになされたもので、その目的は、マスク製造のスケ
ジュールや装置の選択等を顧客が制御することができ
る、顧客にとって利便性の良いＬＳＩマスクの製造シス
テム及び方法を提供することである。
【０００９】本発明のその他の目的は、マスク製造用の
データや処理条件等の機密情報を第三者に開示すること
なく必要なマスクを作成することができる、匿名性及び
機密性の高いＬＳＩマスクの製造システム及び方法を提
供することである。
【００１０】本発明のその他の目的は、稼働率の低い特
殊用途に対応した描画装置や超先端技術に対応した描画
装置を自前で所有する必要がなく、マスクの製造コスト
を削減できるＬＳＩマスクの製造システム及び方法を提
供することである。
【００１１】本発明のその他の目的は、ネットワークを
経由した受注システムを導入することにより、マスク製
造サービスを提供する側における人件費を削減できるＬ
ＳＩマスクの製造システム及び方法を提供することであ
る。
【００１２】本発明のその他の目的は、小口ユーザから
大口ユーザまで幅広い顧客層に対してマスク製造サービ
スを提供することができるＬＳＩマスクの製造システム
及び方法を提供することである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の第１の特徴は、顧客端末からマスクの描画
に必要な描画データと描画予約条件を受信する描画デー
タ受信手段と、描画データを格納する描画データ記憶装
置と、複数の描画装置の性能情報を格納する描画装置記
憶装置と、描画予約条件に基づき描画装置記憶装置から
描画予約条件に合致する描画装置を検索し、候補となる
描画装置のリストを作成し、顧客端末へ送信する描画装
置検索手段と、顧客端末において指定された描画装置の
指定情報を顧客端末から受信し、指定された描画装置に
マスクの描画依頼を送信する描画装置予約手段とからな
る描画支援システムとしたことである。
【００１４】本発明の第１の特徴に係る描画支援システ
ムでは、マスクの描画スケジュールや描画装置の種類や
性能を顧客が選択し制御することができ、顧客にとって
利便性の良い描画支援システムを提供することができ
る。更に、機密情報に関わるマスク描画データや描画条
件等を第三者に開示することなく、必要なマスクを製造
し、製造後はデータを顧客自らが削除することができる
ため、匿名性及び機密性の高いＬＳＩマスクの描画支援
システムを提供することができる。更に、ネットワーク
を経由した受注システムを導入することにより、マスク
の描画支援システムを提供する側における人件費を削除
することもできるほか、稼働率の低い特殊用途に対応し
た描画装置や超先端技術に対応した高額な描画装置を自
前で所有する必要がなく、マスクの製造コストを削減す
ることができる。更に、小口の顧客から大口の顧客まで
の幅広い顧客層に対してマスクの描画支援システムを提
供することができる。
【００１５】本発明の第２の特徴は、顧客端末からマス
クの製造に必要なデータと予約条件を受信するデータ受
信手段と、データを格納するマスク製造用データ記憶装
置と、マスク製造関連装置群を構成する各装置の性能情
報を格納するマスク製造装置記憶装置と、予約条件に基
づきマスク製造装置記憶装置から予約条件に合致する装
置を検索し、候補となる装置のリストを作成し、顧客端
末へ送信するマスク製造装置検索手段と、顧客端末にお
いて指定された装置の指定情報を顧客端末から受信し、
指定された装置にマスクの製造工程の少なくとも一部の
工程を実施する依頼を送信するマスク製造装置予約手段
とからなるマスク製造支援システムとしたことである。
【００１６】「マスク製造関連装置群」とは、設計デー
タに基づきマスクパターンを設計しマスクの描画データ
を生成するＣＡＤと、描画データに基づきマスクパター
ンをマスク基板上の遮光膜の上部に塗布されたレジスト
膜を露光し描画する描画装置と、露光されたレジスト膜
を現像する現像装置と、現像されたレジスト膜を用いて
遮光層を選択的にエッチングするエッチング装置と、レ
ジスト膜を除去するアッシング装置と、エッチングされ
たマスクパターンにおける欠陥の有無を検出するマスク
検査装置と、マスク検査装置において検出されたマスク
パターンにおける欠陥を修正するマスク修正装置等であ
る。
【００１７】「マスクの製造に必要なデータ」とは、顧
客端末から送信された予約条件に基づき判断される受注
範囲の開始工程において用いられる装置で必要とされる
データのことである。たとえば、受注範囲の開始工程が
設計工程である場合、設計工程で用いられるＣＡＤで必
要とされるのは、マスクパターンを生成するための設計
データである。また、受注範囲の開始工程が描画工程で
ある場合、描画工程で用いられる描画装置で必要とされ
るのは、設計データから生成された描画データである。
【００１８】本発明の第２の特徴に係るマスク製造支援
システムでは、マスク製造スケジュールやマスク製造装
置の選択を顧客が制御することができ、顧客にとって利
便性の良いマスク製造支援システムを提供することがで
きる。更に、機密情報に関わるマスク製造用データやマ
スク製造工程における処理条件等を第三者に開示するこ
となく、必要なマスクを製造することができ、マスク製
造後に自らが使用したデータを削除することができるた
め、匿名性及び機密性の高いマスク製造支援システムを
提供することができる。更に、ネットワークを経由した
受注システムを導入することにより、マスク製造支援シ
ステムを提供する側における人件費を削減できる。ま
た、稼働率の低い特殊用途に対応した装置や超先端技術
に対応した高額な装置を自前で所有する必要がなく、マ
スクの製造コストを削減することができる。更に、小口
の顧客から大口の顧客まで幅広い顧客層に対してマスク
製造支援システムを提供することができる。
【００１９】本発明の第３の特徴は、（イ）顧客端末か
らマスクの描画に必要な描画データと描画予約条件を受
信するステップと、（ロ）描画データを描画データ記憶
装置に格納するステップと、（ハ）複数の描画装置の性
能情報を描画装置記憶装置に格納するステップと、
（ニ）予約条件に基づき、描画装置記憶装置から予約条
件に合致する描画装置を検索し、候補となる描画装置の
リストを作成し、顧客端末へ送信するステップと、
（ホ）顧客端末において指定された描画装置の指定情報
を顧客端末から受信し、指定された描画装置に描画依頼
を送信するステップとからなる描画支援方法としたこと
である。
【００２０】本発明の第３の特徴に係る描画支援方法で
は、マスクの描画スケジュールや描画装置の種類や性能
を顧客が選択し制御することができ、顧客にとって利便
性の良い描画支援方法を提供することができる。更に、
機密情報に関わるマスクの描画データや描画条件等を第
三者に開示することなく、必要なマスクを製造し、製造
後は、データを顧客自らが削除することができるため、
匿名性及び機密性の高いＬＳＩマスクの描画支援方法を
提供することができる。更に、ネットワークを経由した
受注方法を導入することにより、描画装置を提供する側
における人件費を削除することができるほか、稼働率の
低い特殊用途に対応した描画装置た超先端技術に対応し
た高額な描画装置を自前で所有必要がなく、マスクの製
造コストを大幅に削減することができる。更に、大口の
顧客のみならず小口の顧客をもビジネスの対象とするこ
とができる。
【００２１】本発明の第４の特徴は、（イ）顧客端末か
らマスクの製造に必要なデータと予約条件を受信するス
テップと、（ロ）データをマスク製造用データ記憶装置
に格納するステップと、（ハ）複数のマスク製造関連装
置群を構成する各装置の性能情報をマスク製造装置記憶
装置に格納するステップと、（ニ）予約条件に基づきマ
スク製造装置記憶装置から予約条件に合致する装置を検
索し、候補となる装置のリストを作成し、顧客端末へ送
信するステップと、（ホ）顧客端末において指定された
装置の指定情報を顧客端末から受信し、指定された装置
にマスクの製造依頼を送信するステップとからなるマス
ク製造支援方法としたことである。
【００２２】本発明の第４の特徴に係る描画支援方法で
は、ＬＳＩマスクの製造スケジュールやマスク製造装置
の種類や性能を顧客が選択し制御することができ、顧客
にとって利便性の良いマスク製造支援方法を提供するこ
とができる。更に、機密情報に関わるマスク製造用デー
タやマスク製造工程における処理条件等を第三者に開示
することなく、必要なマスクを製造することができ、マ
スク製造後に自らが使用したデータを削除することがで
きるため、匿名性及び機密性の高いマスク製造支援方法
を提供することができる。更に、ネットワークを経由し
た受注方法を導入することにより、マスク製造装置を提
供する側における人件費を削除することができる。ま
た、稼働率の低い特殊用途に対応した装置や超先端技術
に対応した高額な装置を自前で所有する必要がなく、マ
スクの製造コストを削減することができる。更に、大口
の顧客のみならず小口の顧客までをもビジネスの対象と
することができる。
【００２３】
【発明の実施の形態】次に図面を参照して、本発明の実
施形態について説明する。以下の図面の記載において、
同一又は類似の部分には同一又は類似の符号を付してい
る。
【００２４】（第１の実施形態）図１及び図２を用い
て、以下に、本発明の第１の実施形態に係るＬＳＩマス
クの描画支援方法に用いるＬＳＩマスクの描画支援シス
テムについて説明する。図１に示す本発明の第１の実施
形態に係るＬＳＩマスクの描画支援システムは、ポータ
ルサイトサーバ１、顧客端末３ａ、３ｂ、３ｃ、描画装
置５ａ１〜５ａ３に接続されたホスト端末４ａ、描画装
置５ｂ１〜５ｂ３に接続されたホスト端末４ｂ、描画装
置５ｃ１〜５ｃ３に接続されたホスト端末４ｃ、描画装
置５ｄ１〜５ｄ３に接続されたホスト端末４ｄ及びこれ
らを相互に接続するネットワーク６とにより構成されて
いる。本発明の第１の実施形態においては、ネットワー
ク６としてインターネットを挙げているが、ＬＡＮやパ
ソコン通信などのその他のネットワークでも良い。ま
た、ホスト端末４ａ、４ｂ、４ｃ、４ｄは全て１国内に
おいてネットワーク６に接続されていても良く、また、
複数国内においてネットワーク６に接続されていても良
い。例えば、ホスト端末４ａ、ホスト端末４ｂは日本に
おいてネットワーク６に接続され、ホスト端末４ｃは米
国においてネットワーク６に接続され、ホスト端末４ｄ
はドイツにおいてネットワーク６に接続されていても構
わない。
【００２５】ポータルサイトサーバ１は、顧客端末３ａ
〜３ｃの要求に応じて、顧客の要求に見合う描画装置５
ａ〜ｄが接続されるホスト端末４ａ〜ｄに描画装置の使
用予約を自動的に行うものである。顧客端末３ａ〜３ｃ
は、ポータルサイトサーバ１と通信可能な端末であり、
ポータルサイトサーバ１を介して、ネットワーク６に接
続されたホスト端末４ａ〜４ｄに更に接続された描画装
置を検索し、仕事を依頼する。描画装置５ａ〜５ｄはそ
れぞれ、ホスト端末４ａから４ｄに接続されている。ホ
スト端末４ａ〜４は、ネットワーク６を介して、ポータ
ルサイトサーバ１から、顧客の注文（マスク描画）に応
じる。尚、出来上がったマスクは、実際に陸路又は空路
等を用いて顧客の元へ配送される。
【００２６】ポータルサイトサーバ１、顧客端末３ａ〜
ｃ、ホスト端末４ａ〜ｄには、それぞれ、ＣＰＵ、入力
装置、出力装置、主記憶装置、補助記憶装置（ハードデ
ィスク）等が備えられている。そして、各ＣＰＵには、
ネットワーク６から受信したメッセージを解析し、要求
されている処理を実行させるためのオンライン制御手段
が備えられている。また、ネットワーク６から受信した
メッセージをこのオンライン制御手段に伝達するための
通信制御装置もＣＰＵには備えられている。更に、ポー
タルサイトサーバ１のＣＰＵ２には、データベース管理
手段も備えられている。そして、顧客識別番号記憶装置
３０、描画データ記憶装置３１、描画装置記憶装置３
２、画面用記憶装置３３との入出力が必要な場合は、こ
のデータベース管理手段を介し、必要なファイルの格納
場所を探し、ファイルの読み出し・書き込み処理がなさ
れる。
【００２７】図１に示すように、ポータルサイトサーバ
１は、入力装置３５、出力装置３６、入出力制御装置３
８、主記憶装置３７、通信制御装置３９、顧客識別番号
記憶装置３０、描画データ記憶装置３１、描画装置記憶
装置３２、画面用記憶装置３３、ＣＰＵ２により構成さ
れている。尚、顧客識別番号記憶装置３０、描画データ
記憶装置３１、描画装置記憶装置３２、画面用記憶装置
３３は、ポータルサイトサーバ１の内部に収納されてい
ても良く、外部記憶装置として接続されていても良い。
また、データベースサーバ等を介して接続されても良
い。
【００２８】顧客識別番号記憶装置３０は、各顧客（ユ
ーザ）毎に付与された識別番号を格納する。そして、顧
客識別番号記憶装置３０に格納されている顧客識別番号
からは、顧客が送信したデータが格納された場所等の情
報を抽出することができる。描画データ記憶装置３１
は、顧客が顧客端末３から送信したＬＳＩマスクの描画
データを一時的に格納してくための記憶装置である。描
画装置記憶装置３２は、各ホスト端末４に接続された各
描画装置５の情報が格納されており、顧客からの要望に
見合う描画装置を検索できるように設計されている。画
面用記憶装置３３は、ポータルサイトサーバ１で提供す
る各種サービス用の画面を格納しておくための記憶装置
である。
【００２９】更に、ポータルサイトサーバ１のＣＰＵ２
は、画面送信手段９、描画受注手段１０、描画データ受
信手段１１、描画時間予測手段１２、描画装置検索手段
１３、描画装置予約手段１４、描画条件設定手段１５、
描画モニタ手段１６、描画データ削除手段１７、描画装
置課金手段１８を備える。
【００３０】画面送信手段９は、顧客端末３からの要望
に応じて、画面用記憶装置３３に格納されている各サー
ビス画面を適宜抽出し、顧客端末３へ送信する。描画受
注手段１０は、顧客端末３からマスクの描画依頼を受信
する。描画データ受信手段１１は、顧客端末３から描画
データを受信し、描画データ記憶装置３１に格納する。
描画時間予測手段１２は、描画装置５におけるマスク描
画の所用時間を予測する。顧客は、描画時間予測手段１
２により予測された所要時間を参考にして、描画装置５
の予約時間を決定することができる。描画装置検索手段
１３は、顧客端末３からの描画条件等に基づき最適で利
用可能な描画装置５を検索する。描画装置予約手段１４
は、顧客端末３からの要求に応じて、描画装置５の使用
予約を行う。描画条件設定手段１５は、描画装置５にお
けるマスク描画条件を設定する。尚、描画条件設定手段
１５は、顧客が顧客端末３を介して手動で設定すること
ができるほか、自動的に描画条件を設定することもでき
る。描画モニタ手段１６は、描画装置５からマスクの描
画状況を受信し、顧客端末３へ送信する。描画データ削
除手段１７は、マスク描画の全ての処理が終了した後、
顧客端末３からの要求に応じて、マスク描画のために顧
客端末３から受信し、描画データ記憶装置３１に格納し
ていた描画データを削除する。描画装置課金手段１８
は、描画装置５の実使用時間に基づき、顧客端末３へ課
金を行い、ＬＳＩマスクの描画支援システムが提供する
マスク描画サービスの清算をする。
【００３１】入力装置３５は、キーボード、マウス、Ｏ
ＣＲ等の認識装置、イメージスキャナ等の図形入力装
置、音声認識装置等の特殊入力装置などにより、出力装
置３６は、液晶ディスプレイ、ＣＲＴディスプレイ等の
表示装置、インクジェットプリンタ、レーザープリンタ
などの印刷装置等によりそれぞれ構成される。入出力制
御装置３８（入出力インタフェース）は、これらの入力
装置３５、出力装置３６、あるいはＣＤ−ＲＯＭ、Ｍ
Ｏ、ＺＩＰなどの記憶装置の読み取り装置等をＣＰＵ２
につなぐインタフェースである。データの流れから見る
と、入出力制御装置３８は、入力装置３５、出力装置３
６、外部記憶装置の読み取り装置と主記憶装置３７との
インタフェースとなる。主記憶装置３７には、ＲＯＭ及
びＲＡＭが組み込まれている。ＲＯＭは、ＣＰＵ２にお
いて実行されるプログラムを格納しているプログラム記
憶装置等として機能する。ＲＡＭは、ＣＰＵ２における
プログラム実行処理中に利用されるデータ等を一時的に
格納したり、作業領域として利用される一時的なデータ
メモリ等として機能する。通信制御装置３９は、ネット
ワーク６に接続するためのインタフェースとなるもので
ある。従って、ＴＡ（ターミナルアダプタ）、ダイアル
アップルータ、ＬＡＮボード等がこれに該当する。
【００３２】（全体フロー）図３は、本発明の第１の実
施形態に係るＬＳＩマスクの描画支援方法の全体フロー
を示したものである。
【００３３】（イ）まず、ステップＳ１１において、ポ
ータルサイトサーバ１は、描画データ転送処理を開始
し、顧客端末３から送信された描画データを受信するた
めの処理を行う。
【００３４】（ロ）次に、ステップＳ１２において、ポ
ータルサイトサーバ１は、顧客端末３からの要求に応じ
て描画装置予約処理を行う。
【００３５】（ハ）次に、ステップＳ１３において、ポ
ータルサイトサーバ１は、顧客端末３からの要求に応じ
て、ホスト端末４に接続された描画装置３へ、描画の実
行処理を促す。
【００３６】（ニ）ステップＳ１４において、描画デー
タを削除する等の後処理を行う。
【００３７】図４〜１４を用いて、本発明の第１の実施
形態係るＬＳＩマスクの描画支援方法のフローを説明す
る。なお、以下で説明する図４、図６、図１０、図１３
のステップＳ１０１からＳ１０３までの処理は、共通す
るため同じ符号を付すこととする。
【００３８】図４は、本発明の第１の実施形態のＬＳＩ
マスクの描画支援方法に係る描画データ転送フローを示
したものである。
【００３９】まず、ステップＳ１０１において、ポータ
ルサイトサーバ１は顧客端末３からの接続を受け付け
る。そして、ステップＳ１０２において、画面送信手段
９を用いて顧客端末３へサービス選択画面を送信する。
このサービス選択画面上において顧客が顧客端末３を介
して選択することができるサービスは、描画データ転送
サービス、描画装置予約サービス、描画実行サービス、
データ削除サービス等である。次に、ステップＳ１０３
において、描画受注手段１０を用いて顧客端末３より選
択されたサービス選択情報を受信し、選択されたサービ
スを起動する。
【００４０】まず始めに、描画データ転送サービスが選
択された場合について説明する。
【００４１】（描画データ転送サービス）図４のステッ
プＳ１０３において顧客端末３より受信したサービス選
択情報が描画データ転送サービスであった場合、ステッ
プＳ１０４において、ポータルサイトサーバ１で描画デ
ータ転送サービスを起動する。
【００４２】次に、ステップＳ１０５において、画面送
信手段９を用いて転送サービス画面４１を顧客端末３へ
送信する。図５に転送サービス画面４１の一例を示す。
図５に示すような転送サービス画面４１では、まず、個
々の顧客毎に与えられたユーザ識別子５１が表示され
る。そして、サーバディレクトリ５２としてポータルサ
イトのディレクトリを指定することができる。図５に示
す転送サービス画面４１では、ポータルサイトサーバ１
のtopディレクトリ内の顧客のディレクトリを指定して
いる。描画データ５３には、マスク描画のためのマスク
データファイルを指定することができる。図５に示す転
送サービス画面４１では、「patternFile1」及び「patt
ernFile2」の２つを指定している。レイアウトデータ５
４には、配置パターン、合わせマークパターン、マーク
の配置等のレイアウトデータのファイルを指定すること
ができる。図５に示す例では、「layoutFile1」及び「l
ayoutFile2」の２つのファイルを指定している。マーク
ライブラリ５５では、合わせマークや寸法測定用マーク
等一般的に使われるマークのライブラリを指定する。描
画レシピ５６では、露光条件のレシピ等、ユーザーがコ
ントロールしたい条件設定のパラメーター等を記載した
レシピファイルを指定する。そして、暗号化５７では、
指定したデータを送信する際に暗号化して送信するか、
それとも暗号化せずに送信するかを選択することができ
る。これらのデータが指定され、顧客端末３からポータ
ルサイトサーバ１へ送信されると、ステップＳ１０６に
おいて、ポータルサイトサーバ１は、描画データ受信手
段１１を用いて、依頼データ（描画データを含む）を受
信し、描画データ記憶装置３１に格納する。
【００４３】（描画予約サービス）図６は、本発明の第
１の実施形態に係る描画予約処理のフロー図である。
【００４４】（イ）上述したように、まず、ステップＳ
１０１において、ポータルサイトサーバ１は顧客端末３
からの接続を受け付ける。そして、ステップＳ１０２に
おいて、顧客端末３へサービス選択画面を送信する。こ
のサービス選択画面上で顧客が顧客端末３を介して選択
することができるサービスは、描画データ転送サービ
ス、描画装置予約サービス、描画実行サービス、データ
削除サービス等である。ステップＳ１０３において、顧
客端末３より選択されたサービス選択情報を受信し、選
択されたサービスを起動する。ここで「描画予約サービ
ス」が選択された場合について以下に説明する。
【００４５】（ロ）ステップＳ１１４において、ポータ
ルサイトサーバ１で描画予約サービスを起動し、ステッ
プＳ１１５において、画面送信手段９を用いて顧客端末
３へ描画装置予約サービス画面４２を送信する。図７に
描画装置予約サービス画面４２の一例を示す。まず、描
画装置予約サービス画面４２では、ユーザ識別子５１が
表示される。そして、希望サイト５８において、描画装
置が接続されている希望のサイトを選択することができ
る。また、項目５８ｂにおいて自由度を持たせた「優
先」あるいは自由度のない「固定」を選択することがで
きる。図７に示す例では、サイト名５８ａとして「国内
Ｂ」というサイトが選択され、項目５８ｂでは、「優
先」が選択されているため、サイト国内Ｂを優先的に選
択するように指定されている。尚、図示は省略している
が、さらに、描画装置を選択することができる項目があ
っても構わない。
【００４６】次に、描画装置のタイプ５９として、項目
５９ａにおいて電子ビーム（ＥＢ）露光かレーザー露光
かを選択することができる。そして、項目５８ｂと同様
に項目５９において、優先であるか固定であるかを選択
することができる。さらに、描画分解能５９ｃにおい
て、間接的にレーザーの波長も選択することができる。
次に、マスクサイズと枚数を選択することができる。項
目６０ａにマスクサイズをインチで挿入し、項目６０ｂ
にマスクの枚数を挿入することができる。そして、希望
開始時間６１及び希望終了時間６２が設定され、最後に
予約時間６３を設定することができる。この予約時間６
３は、項目６３ａで固定した時間を設定することもでき
るが、項目６３ｂで描画時間予測サービスを利用し、描
画時間の予測をすることもできる。
【００４７】（ハ）全ての項目に記入がされると、顧客
端末３からポータルサイトサーバ１へ予約データが送信
され、ポータルサイトサーバ１は、ステップＳ１１６に
おいて、予約データを受信する。
【００４８】（ニ）そして、ステップＳ１１７におい
て、項目６３ｂが選択されたか否かにより、時間予測サ
ービスが指定されたか否かを判断する。指定されない場
合は、ステップＳ１２０の処理へ進む。時間予測サービ
スが指定された場合は、ステップＳ１１８において画面
送信手段９を用いて、時間予測サービス画面を送信す
る。図８に時間予測サービス画面４３を示す。図８に示
すように、時間予測サービス画面４３では、他の画面と
同じように、ユーザー識別子５１がまず、表示される。
そして、時間予測を行うため、まず、描画データ５３、
レイアウトデータ５４、マークライブラリ５５、描画レ
シピ５６、マスクサイズ６０ａ、枚数６０ｂなどの項目
が用意されている。また、項目６４ａでは、ＥＢ近接効
果補正を実施するか否かについて選択することができ、
項目６４ｂでは、ＥＢ近接効果補正を行う際どのような
タイプのものであるのかを選択することができる。尚、
図８に示す一例では、ＥＢ近接効果補正を実施し、その
タイプはドーズ量補正である。以上の項目等へ記入が終
わると、顧客端末３からポータルサイトサーバ１へ時間
予測用データが送信される。
【００４９】（ホ）ステップＳ１１９において、ポータ
ルサイトサーバ１は、時間予測用データを顧客端末３か
ら受信する。次に、ステップＳ１２０において描画時間
予測手段１２を用いて、描画予約サービスを実行し、ス
テップＳ１２１において描画装置検索手段１３を用い
て、候補となる描画装置５を検索する。
【００５０】（ヘ）ステップＳ１２２において、ステッ
プＳ１２０の候補描画装置検索の結果をリストにした候
補描画装置検索結果表示画面４４を顧客端末３へ送信す
る。図９に候補描画装置検索結果表示画面４４の一例を
示す。図９に示す候補描画装置検索結果表示画面４４で
は、他の画面と同様に、ユーザー識別子５１が表示され
る。そして、検索条件と合致する描画装置５のサイト名
６５ａ、装置名６５ｂ、タイプ名６５ｃ、分解能６５
ｄ、開始時刻６５ｅ、予測時間６５ｆ、描画費用６５ｇ
をリストとして、順番に表示する。そして、ユーザは、
リストの中から１つの描画装置を選択し、顧客端末３に
おいて予約候補番号６６を指定し、選択データを送信す
る。これに対応して、ポータルサイトサーバ１は、ステ
ップＳ１２３において、選択データを顧客端末３から受
信する。
【００５１】（ト）ステップＳ１２４において描画装置
予約手段１４を用いて、選択された描画装置５へ予約情
報を送信し、本発明の第１の実施形態に係る描画装置予
約処理を終了する。
【００５２】（描画実行サービス）図１０は本発明の第
１の実施形態に係る描画実行サービスのフローを示すも
のである。
【００５３】（イ）上述したように、まず、ステップＳ
１０１において、ポータルサイトサーバ１は顧客端末３
からの接続を受け付ける。そして、ステップＳ１０２に
おいて、顧客端末３へサービス選択画面を送信する。こ
のサービス選択画面上で顧客が顧客端末３を介して選択
することができるサービスは、描画データ転送サービ
ス、描画装置予約サービス、描画実行サービス、データ
削除サービス等である。ステップＳ１０３において、顧
客端末３より選択されたサービス選択情報を受信し、選
択されたサービスを起動する。ここで「描画実行サービ
ス」が選択された場合について以下に説明する。
【００５４】（ロ）まず、描画実行サービスが選択され
ると、ステップＳ１３４において、描画起動メニュー４
５を顧客端末３へ送信する。図１１に描画起動メニュー
４５の一例を示す。描画起動メニュー４５には、まず、
他の画面同様にユーザ識別子５１が表示される。そし
て、描画データ５３、レイアウトデータ５４、マークラ
イブラリ５５、描画レシピ５６、予約装置番号６６ａ、
装置操作モード６６ｂ、描画開始予定時間６７などのデ
ータをユーザが顧客端末３を用いて記入・選択すること
ができる。図１１の例では、描画データ５３として、
「top」ディレクトリの中の「draw1」というディレクト
リ内にある「patternFile1」及び「patternFile2」とい
う２つのファイルが選択されている。また、レイアウト
データ５４としても同様に、「draw1」内にある「layou
tFile1」及び「layoutFile2」という２つのファイルが
選択されている。 マークライブラリ５５としては、「d
raw1」内にある「mark_lib」というファイル、描画レシ
ピ５６としては、「draw1」内にある「draw_recipe」と
いうファイルがそれぞれ選択されている。 予約装置番
号６６ａは「１」で、装置操作モード６６ｂは「手動」
と設定されている。そして、描画開始予定時間６７は、
「２００１年６月３日１０時」となっている。
【００５５】（ハ）上述したような描画起動データをス
テップＳ１３５において、顧客端末３から受信する。そ
して、ステップＳ１３６において、図１１の装置操作モ
ード６６ｂで選択された項目が「手動」であるか「自
動」であるかを確認することにより、自前操作選択がな
されているか否かを判断する。自前操作選択である場
合、即ち手動設定等である場合は、ステップＳ１３８に
おいて、描画条件設定画面を顧客端末３へ送信する。そ
して、ステップＳ１３９において、顧客端末３より設定
データを受信する。ステップＳ１３６において自前操作
選択ではないと判断された場合、即ち自動設定である場
合は、ステップＳ１３７の処理へ進み、描画条件を設定
する。そして、ステップＳ１４０の処理へ進む。
【００５６】（ニ）ステップＳ１４０において、指定さ
れた描画装置５へ接続し、ステップＳ１４１において、
描画装置５へステップＳ１３９で受信した設定データ若
しくはステップＳ１３７で自動設定した設定データを送
信する。設定データを受信した描画装置５では、予約さ
れた時間になると、ステップＳ１４１でポータルサイト
サーバ１から送信された設定データを元に、描画を開始
する。そして、描画している最中は、定期的に描画状況
をポータルサイトサーバ１へ送信する。
【００５７】（ホ）ステップＳ１４２において、ポータ
ルサイトサーバ１は描画モニタ手段１６を用いて、描画
装置５から描画状態を受信し、受信した描画状態をステ
ップＳ１４３において、顧客端末３へ送信する。図１２
に描画状態モニター画面４６を示す。描画状態モニター
画面４６では、現在何番目のマスクを描画中であるの
か、或いは、描画中のマスクのどの割合まで描画が進ん
だかを把握することができる。まず、描画状態モニター
画面４６には、ユーザー識別子５１、開始時刻６８、予
想終了時刻６９、描画マスクの何枚目を描画中であるか
を示す項目７０ａ、注文された描画マスク数７０ｂ、マ
スク進捗状況を描画面積の割合であらわした項目７１
ａ、マスクの進捗状況をフレーム数で表す項目７１ｂ、
及びグラフィックモニター７２が表示される。グラフィ
ックモニター７２では、描画工程をいくつかにわけて表
示することにより、描画がどの段階まで進んでいるのか
を把握できるようにしてある。図１２に示す例では、グ
ラフィックモニター７２では、描画処理をビーム偏向
系、レーザー測長系、ビーム発生系、試料室、ステージ
駆動系、真空排気系、電気制御系、制御計算機など大き
く８つの制御システムに分けて表示している。 指定し
た全てのマスクの描画が完了すると、ステップＳ１４４
の処理へ進む。
【００５８】（ヘ）ステップＳ１４４において、描画が
終了したか否かを判断し、描画が終了していない場合
は、ステップＳ１４２の処理へ戻り、描画が終了するま
で、描画装置５から描画状態を受信する。尚、描画が終
了すると、描画装置５からユーザーが注文したデータは
削除される（この時点では、ユーザーが注文したデータ
は、ポータルサイトサーバ１には残っているため、何か
あっても、描画装置５はポータルサイトサーバからデー
タを受信することができる。従って、セキュリティ等の
問題に対処するため、描画が終了すると同時に描画装置
内に一時的に保存された顧客端末３から受信した描画デ
ータは削除される。）。
【００５９】（描画データの削除処理）図１３は本発明
の第１の実施形態に係るデータ削除サービスのフローを
示すものである。
【００６０】（イ）上述したように、まず、ステップＳ
１０１において、ポータルサイトサーバ１は顧客端末３
からの接続を受け付ける。そして、ステップＳ１０２に
おいて、顧客端末３へサービス選択画面を送信する。こ
のサービス選択画面上で顧客が顧客端末３を介して選択
することができるサービスは、描画データ転送サービ
ス、描画装置予約サービス、描画実行サービス、データ
削除サービス等である。ステップＳ１０３において、顧
客端末３より選択されたサービス選択情報を受信し、選
択されたサービスを起動する。ここでは、「データ削除
サービス」が選択された場合について以下に説明する。
【００６１】（ロ）まず、データ削除サービスが選択さ
れると、ステップＳ１５４において画面送信手段９を用
いて、顧客端末３へデータ削除画面を送信する。顧客は
顧客端末３において、削除したいデータの情報をデータ
削除画面に入力し、ステップＳ１５５において、ポータ
ルサイトサーバ１は顧客端末３より、削除対象データの
情報を受信する。
【００６２】（ハ）受信した削除対象データの情報に基
づき、ステップＳ１５６において、ポータルサイトサー
バ１は、描画データ削除手段１７を用いて、対象データ
を削除する。 このとき削除されるデータは、ポータル
サイトサーバ１内に格納されているデータであり、マス
ク描画のためにユーザーが選択した描画装置へポータル
サイトサーバ１から送信されたデータは、描画終了と同
時に描画装置から削除される。
【００６３】（ニ）データの削除処理が終了すると、ス
テップＳ１５７において、ポータルサイトサーバ１は描
画装置課金手段１８を用いて、顧客端末３へ課金手続き
画面を送信し、描画費用の支払いを要求する。描画費用
の課金は、原則として、描画装置が実際に使用された時
間に対して課金される。図１４に示すように、本発明の
第１の実施形態に係るＬＳＩマスクの描画支援システム
を用いてマスクの描画予約をした場合、実際に予定通り
描画装置が作動しない場合を想定し、描画予約時間８５
は、描画予測時間８２にマージン８３分を加え設定す
る。そして、描画後に課金されるのは、実際に装置が使
用された時間数分であるため、例えば、図１４のケース
の場合、終了時間８６までが課金の対象となる時間で
ある。また、ケースの場合のように、描画時間予測サ
ービスを使った場合に、予約時間８５を大幅に越えて超
過時間８４の領域まで作業が終わらない場合、終了時間
８８までかかったとしても、実際に課金されるのは、課
金ライン８７までであり、超過時間８４に対しては課金
を免除するような仕組みになっている。即ち、描画時間
予測サービスを使用した場合には、サービスの予測精度
の不正確さに起因する超過時間に対しての課金を免除す
るようになっている。
【００６４】（ホ）そして、ステップＳ１５８におい
て、料金徴収データを受信すると、本発明の第１の実施
形態に係るＬＳＩマスクの描画支援システムはその処理
を終了する。
【００６５】本発明の第１の実施形態に係るＬＳＩマス
クの描画支援システム及び方法を用いれば、マスクの描
画スケジュールや描画装置の選択を顧客が制御すること
ができ、顧客にとって利便性の良いＬＳＩマスクの描画
支援システムを提供することができる。更に、機密情報
に関わるマスクの描画データや処理条件等を第三者に開
示することなく、必要なマスクを描画することができ、
匿名性及び機密性の高いＬＳＩマスクの描画支援システ
ムを提供することができる。更に、ネットワークを経由
した受注システムを導入することにより、マスクサービ
スを提供する側における人件費を削減できる。また、稼
働率の低い特殊用途に対応した装置や超先端技術に対応
した装置を自前で所有する必要がなく、マスクの描画コ
ストを削減することができる。更に、小口ユーザから大
口ユーザまで幅広い顧客層に対してＬＳＩマスクの描画
サービスを提供することができる。
【００６６】（第２の実施形態）図１５〜１９を用い
て、以下に、本発明の第２の実施形態に係るマスク製造
支援方法に用いるマスク製造支援システムについて説明
する。
【００６７】図１５に示す本発明の第２の実施形態に係
るマスク製造支援システムは、ポータルサイトサーバ
１、ホスト端末４ａ〜４ｆ及びこれらを相互に接続する
ネットワーク６とにより構成されている。ホスト端末４
ａは、描画装置５ａ１〜５ａ３、ＣＡＤ（設計装置）５
ａ４、５ａ５に接続されている。ホスト端末４ｂは、描
画装置５ｂ１〜５ｂ３に接続されている。ホスト端末４
ｃは、描画装置５ｃ１〜５ｃ３、現像装置５ｃ４、アッ
シング装置５ｃ５、マスク検査装置５ｃ６、エッチング
装置５ｃ７に接続されている。ホスト端末４ｄは、描画
装置５ｄ１〜５ｄ ３、現像装置５ｄ４、アッシング装置
５ｄ５、マスク検査装置５ｄ６、ＣＡＤ５ｄ７、エッチ
ング装置５ｄ８、修正装置５ｄ９に接続されている。ホ
スト端末４ｅは、ＣＡＤ５ｅ１〜５ｅ３に接続されてい
る。ホスト端末４ｆは、ＣＡＤ５ｆ １〜５ｆ３に接続さ
れている。
【００６８】図１６に示す本発明の第２の実施形態に係
るマスク製造支援システムのポータルサイトサーバ１
は、図２に示す本発明の第１の実施形態に係る描画支援
システムのポータルサイトサーバ１と比べて、ＣＰＵ２
が、受注手段２０、データ受信手段２１、時間予測手段
２２、マスク製造装置検索手段２３、マスク製造装置予
約手段２４、条件設定手段２５、モニタ手段２６、デー
タ削除手段２７、課金手段２８、受注範囲認識手段２
９、マスク製造用データ記憶装置９５、マスク製造装置
記憶装置９６を備えている点が異なる。また、ネットワ
ーク６を介して、描画装置５ｘ１のほかに、ＣＡＤ５ｘ
２、現像装置５ｘ３、アッシング装置５ｘ４、マスク検
査装置５ｘ５を備えるマスク製造関連装置群に接続され
ている。
【００６９】「マスク製造関連装置群」とは、設計デー
タからマスクの描画データを生成するＣＡＤ（設計装
置）５ｘ２、マスクデータに基づきマスクを描画する描
画装置５ｘ１、描画されたマスクパターンが描画された
レジストを現像する現像装置５ｘ３、レジストをエッチ
ングマスクとしてクロムや酸化クロム等の遮光膜をエッ
チングするエッチング装置、エッチング終了後のレジス
トをアッシングするアッシング装置５ｘ４、マスクパタ
ーンにおける欠陥の有無を検出するマスク検査装置５ｘ
５ 、マスクパターンを修正するマスク修正装置等の種
々の装置からなる装置群である。そして、マスク製造関
連装置群を構成する装置は、これらの１つの機能を有す
る単機能の装置であってもよく、複数の機能を有する複
合機能装置であってもよい。また、本発明の第２の実施
形態に係るマスク製造支援方法において対象となるこれ
らのマスク製造関連装置群のうちの一部の装置であって
もよく、たとえば、ＣＡＤ５ｘ２及び描画装置５Ｘ１の
みであってもよく、ＣＡＤ５ｘ２、描画装置５ｘ１、現
像装置５ｘ３、アッシング装置５ｘ４、マスク検査装置
５ｘ５等の複数の装置であってもよい。更に、描画デー
タを作成する設計装置（ＣＡＤ）５ｘ２は、光近接効果
補正を行うＣＡＤシステム、データ変換をを行うＣＡＤ
システム、マスクレイアウトを作成するＣＡＤシステム
等の個々の機能を有するＣＡＤシステムからなるもので
あってもよい。
【００７０】受注手段２０は、顧客端末３から通信ネッ
トワークを介してマスクの製造依頼を受信する。データ
受信手段２１は、顧客端末３からマスクの製造に必要な
データと予約条件を受信する。時間予測手段２２は、予
約条件に基づき、指定された装置の仕様時間を予測す
る。例えば、ＣＡＤ５ｘ２における設計時間と、描画装
置５ｘ１における描画時間とを時間予測手段２２を用い
てそれぞれ予測する。マスク製造装置検索手段２３は、
予約条件に基づき、マスク製造装置記憶装置９６から予
約条件に合致する装置を検索し、候補となる装置のリス
トを作成し、顧客端末３へ送信する。即ち、予約条件に
おいてマスクの現像工程までの予約が指定されている場
合は、その他の予約条件とも合致する描画装置５ｘ１、
ＣＡＤ５ｘ ２、現像装置５ｘ３を検索し、リストを作成
して顧客端末３へ送信する。
【００７１】マスク製造装置予約手段２４は、顧客端末
３において指定された装置の指定情報を顧客端末３から
受信し、指定された装置にマスクの製造工程の少なくと
も一部の工程を実施する依頼を送信する。例えば、顧客
端末３から、指定された装置が、ＣＡＤ５ｅ２と、描画
装置５ｂ１と、現像装置５ｄ４と、アッシング装置５ｄ
３と、マスク検査装置５ｄ６とである場合、ＣＡＤ５ｅ
２にはマスクパターンの設計依頼、描画装置５ｂ１には
マスクの描画依頼、現像装置５ｄ４には現像依頼、アッ
シング装置５ｄ３にはアッシング依頼、マスク検査装置
５ｄ６ には検査依頼をそれぞれ送信し、各々の装置を
予約する。尚、装置を複数指定する場合は、同じホスト
端末に接続されている装置に限らず、他のホスト端末に
接続されている装置を選択してもよい。また、ホスト端
末４ａ〜４ｆは、全て国内においてネットワークに接続
されている必要はなく、外国に存在するホスト端末に接
続されていてもよい。
【００７２】条件設定手段２５は、顧客端末３で指定さ
れた各装置において設定することができる詳細な条件を
設定する。例えば、顧客端末３でＣＡＤ５ｘ２と描画装
置５ｘ１とが指定された場合、各々の装置において詳細
な設定を行うことができる。モニタ手段２６は、顧客端
末３で指定された装置から、対応する工程の進行状況を
受信し、前記顧客端末３へ送信する。たとえば、顧客端
末３でＣＡＤ５ｘ２と描画装置５ｘ１とが指定された場
合、まず、ＣＡＤ５ｘ２においてマスクパターンを設計
しているときは、ＣＡＤ５ｘ２から設計状況を受信し、
顧客端末３へ送信する。また、描画装置５ｘ１でマスク
パターンを描画しているときは、描画装置５ｘ１から描
画状況を受信する。
【００７３】データ削除手段２７は、マスク製造用デー
タ記憶装置９６に格納されているデータを削除する。ま
た、データ削除手段２７は、使用した各装置に格納され
ているデータも削除することができる。課金手段２８
は、顧客端末３で指定された装置を実際に使用した時間
に基づき、請求金額を計算し、顧客端末３へ請求する。
たとえば、顧客端末３でＣＡＤ５ｘ２と描画装置５ｘ１
とが指定された場合、まず、ＣＡＤ５ｘ２を実際に使用
した時間と、描画装置５ｘ１を実際に使用した時間とに
基づき、それぞれ請求金額を計算し、顧客端末３へ請求
する。そして、徴収した請求金は、各々の装置（ＣＡＤ
５ｘ２及び描画装置５ｘ１）へ支払われる。受注範囲認
識手段２９は、顧客端末３から送信され受信した予約条
件に基づき、受注範囲を認識し判断する。
【００７４】マスク製造用データ記憶装置９５は、ポー
タルサイトサーバ１に接続され、マスクの製造に必要な
データを格納する記憶装置である。なお、ここでいう
「マスクの製造に必要なデータ」とは、受注範囲認識手
段２９で認識された受注範囲の開始工程（一番始めの工
程）において必要とされるデータのことである。従っ
て、マスクの描画データを生成する設計工程から始まる
場合は、設計仕様データが「マスクの製造に必要なデー
タ」となり、マスクの描画工程から始まる場合は、ＣＡ
Ｄによって得られたマスクの描画データが「マスクの製
造に必要なデータ」となる。マスク製造装置記憶装置９
６は、通信ネットワーク６に接続された複数のマスク製
造装置（描画装置５ａ１〜５ａ３、５ｂ１〜５ｂ３、５
ｃ１〜５ｃ３、５ｄ１〜５ｄ３、ＣＡＤ５ａ４、５
ａ５、５ｄ７、５ｅ１〜５ｅ３、５ｆ１〜５ｆ３、現像
装置５ｃ４、５ｄ４、アッシング装置５ｃ５、５ｄ５、
マスク検査装置５ｃ６、５ｄ６、エッチング装置５
ｃ７、５ｄ８、修正装置５ｄ９）の各々の性能情報を格
納する。
【００７５】（第２の実施形態のフロー）図１７、１８
に本発明の第２の実施形態に係るマスクの製造方法のフ
ロー図を示す。
【００７６】図４、６、１０、１３のステップＳ１０１
からステップＳ１０３までの処理と同様に、まず、ステ
ップＳ２０１において、ポータルサイトサーバ１は、顧
客端末３からの接続を受け付ける。そして、ステップＳ
２０２において、ポータルサイトサーバ１は顧客端末３
へサービス選択画面４７を送信する。図１８に、サービ
ス選択画面４７を示す。このサービス選択画面４７上に
おいて、 顧客は第１の実施形態で説明したマスクの描
画支援方法に加え、その前後のマスク製造に必要な工程
まで拡張した複数のサービスを選択することができる。
この複数のサービスとは、画面４７ａに示すように、主
に、設計工程（Ｓ２１０）、描画工程（Ｓ２１１）、現
像工程（Ｓ２１２）、エッチング工程（Ｓ２１３）、ア
ッシング工程（Ｓ２１４）、マスク検査工程（Ｓ２１
５）、マスク修正工程（Ｓ２１６）等である。また、設
計工程では画面４７ｂに示すように、更に、ＯＰＣ（Ｓ
２２０）、データ変換（Ｓ２２１）、マスクレイアウト
作成（Ｓ２２２）の３つの工程を選択することができ
る。そして、サービス選択画面４７の一番上には、ユー
ザ識別子５１が表示され、その下に表示されている「複
数サービスの範囲」という項目９０ａに開始する工程
を、項目９０ｂに終了する工程をそれぞれ選択して入れ
る。このサービス範囲の指定用項目９０ａ、ｂは、顧客
が自由に設定範囲を記入する形であってもよく、ドロッ
プダウン・メニューとして顧客が選択する形であっても
よい。顧客によりサービスが選択されると、ステップＳ
２０３において顧客端末において選択されたサービス選
択情報を受信する。
【００７７】ステップＳ２０４において、受注範囲認識
手段２９を用いて、選択されたサービス範囲の解析を行
う。即ち、顧客が選択したサービスにおいて、顧客から
どのようなデータを得なければならないのかを分析し認
識する。そして、準備が整ったら、ステップＳ２０５に
おいて、ポータルサイトサーバ１は画面送信手段９を用
いて画面用記憶装置３３から選択されたサービス用の画
面を抽出し、顧客端末３へ送信する等選択されたサービ
スの提供を開始する。
【００７８】ここで、例えば、図１８に示す「ＩＮ４」
から「ＯＵＴ３」までの範囲が選択された場合につい
て、図１８，１９のステップＳ２０５からＳ２２４まで
の工程について説明する。
【００７９】まず、ステップＳ２０５において、ポータ
ルサイトサーバ１は選択されたサービス範囲に合わせて
画面を生成し、顧客端末３へ送信する。そして、ステッ
プＳ２０６において、顧客端末３より依頼データを受信
する。
【００８０】ステップＳ２０７において、選択されたサ
ービス範囲に合わせて予約サービス画面を送信する。そ
して、ステップＳ２０８においてデータ受信手段２１を
用いて、詳細な予約データを顧客端末３から受信する。
ステップＳ２０９において、時間予測サービスが指定さ
れたか否かを判断し、時間予測サービスが指定されてい
る場合は、ステップＳ２１０において、顧客端末３より
受信した依頼データと予約データとから時間予測手段２
２を用いて依頼されたサービスを提供するために必要な
時間を予測する。ここで、依頼されたサービスが複数の
装置を用いた複数の工程にまたがるものである場合は、
各装置において必要とされるそれぞれの工程の所用時間
とそれぞれの装置間においてデータ等のやりとりに必要
な時間を予測する。例えば、本発明の第２の実施形態で
は、「ＩＮ４」から「ＯＵＴ３」までの範囲が選択され
ていることから、使用する装置は、描画装置、現像装
置、及びエッチング装置である。従って、時間予測手段
２２は、描画装置、現像装置、エッチング装置の各々に
おいて必要とされる描画工程、現像工程、エッチング工
程のそれぞれの所用時間を予測し、更に、各装置間にお
いてデータ等をやりとりするために必要とされる時間に
ついても予測する。そして、予測結果を顧客端末３へ送
信する。ステップＳ２０９において、時間予測サービス
が指定されていない場合は、ステップＳ２１１の処理へ
進む。
【００８１】次に、ステップＳ２１１において、マスク
製造装置検索手段２３を用いてマスク製造装置記憶装置
９６を参照し、依頼データと予約データとに基づき、候
補となる装置を検索する。たとえば、本発明の第２の実
施形態では、上述したように、描画装置、現像装置、及
びエッチング装置が必要となる。そこで、予約条件等を
踏まえて、マスク製造装置検索手段２３は、様々な組合
せを検索する。例えば、図１５に示すホスト端末４ｃ及
びホスト端末４ｄの場合、描画装置も現像装置もエッチ
ング装置も備えているため、マスク製造装置検索手段２
３は、「描画装置５ｃ１、現像装置５ｃ４、エッチング
装置５ｃ７」や、「描画装置５ｄ２、現像装置５ｄ３、
エッチング装置５ｄ８」という組合せのリストを生成し
てもよい。また、依頼されたマスクパターンの描画は、
描画装置５ａ１にしかできないものである場合には、描
画装置５ａ１と、その他の現像装置及びエッチング装置
を組み合わせたリストを生成してもよい。このように、
マスク製造装置検索手段２３により、候補となるマスク
製造装置が検索されると、ステップＳ２１２において、
検索結果を顧客端末３へ送信する。
【００８２】次に、図１７のステップＳ２１３におい
て、選択データを受信する。そして、この選択データに
基づき、ステップＳ２１４において、マスク製造装置予
約手段２４を用いて、顧客端末３から指定された装置に
予約を入れ、必要なデータを対応する装置へ送信する。
たとえば、本発明の第２の実施形態では、上述したよう
に、描画装置、現像装置、及びエッチング装置が必要と
なる。ステップＳ２１３において顧客端末３から受信し
た選択データが、「描画装置５ａ１、現像装置５ｄ３、
エッチング装置５ｄ８」の組合せである場合、マスク製
造装置予約手段２４は、描画装置５ａ１、現像装置５ｄ
３、エッチング装置５ｄ８の各々に予約を入れ、描画装
置５ａ１、現像装置５ｄ３、エッチング装置５ｄ８の各
々に必要なデータ等を送信する。
【００８３】次に、ステップＳ２１５において条件設定
手段２５を用いて、顧客端末３が自前操作を要求してい
るか否かを判断する。自前操作を要求していない場合
は、ステップＳ２１９において、自動設定を行い、ステ
ップＳ２２０の処理へ進む。自前操作が要求されている
場合は、ステップＳ２１６において、顧客端末３へ設定
画面を送信する。そして、ステップＳ２１７において、
顧客端末３から設定情報を受信し、ステップＳ２２０に
おいて、設定情報を各マスク製造装置へ送信する。本発
明の第２の実施形態では、描画装置５ａ１、現像装置５
ｄ３、エッチング装置５ｄ８の各々に設定情報を送信す
る。従って、顧客端末３からは、描画装置５ａ１、現像
装置５ｄ３、エッチング装置５ｄ８のそれぞれに対応す
る設定情報を受信する。
【００８４】次に、ステップＳ２２１において、モニタ
手段２６を用いて、各装置（描画装置５ａ１、現像装置
５ｄ３、エッチング装置５ｄ８）における対応する工程
の進行状況を受信し、ステップＳ２２２において、進行
状況を顧客端末３へ送信する。そして、ステップＳ２２
３において、各装置における所定の工程が終了したか否
かを判断する。たとえば、図１８に示すサービス選択画
面４７において、「ＩＮ４」から「ＯＵＴ３」までの範
囲が依頼された場合、一番始めは、ステップＳ２２３に
おいて、描画工程（Ｓ２１１）における製造工程が終了
したか否かが判断される。
【００８５】描画工程（Ｓ２１１）が終了した場合は、
ステップＳ２２４の処理へ進み、次の工程があるか否か
が判断される。次の工程がある場合は、ステップＳ２２
１の処理へ戻り、次の工程における進行状況をマスク製
造装置から受信し、顧客端末３へ送信する。即ち、描画
工程（Ｓ２１１）が終了した後は、現像工程（Ｓ２１
２）、エッチング工程（Ｓ２１３）について、ステップ
Ｓ２２１〜Ｓ２２４の処理が行われる。そして、指定さ
れた範囲の最後までくると、処理は終了する。ここで
は、マスク現像（Ｓ２１２）、エッチング工程（Ｓ２１
３）における製造が終了すると、ステップＳ２２４にお
いて、次の工程がないため処理を終了する。
【００８６】このように、本発明の第２の実施形態に係
るマスクの製造システム及び方法を用いれば、マスクの
製造スケジュールや必要な各装置の選択を顧客が制御す
ることができ、顧客にとって利便性の良いマスク製造支
援システムを提供することができる。更に、機密情報に
関わるマスク製造用データや処理条件等を第三者に開示
することなく、必要なマスクを製造することができ、匿
名性及び機密性の高いマスクの製造システムを提供する
ことができる。更に、ネットワークを経由した受注製造
システムを導入することにより、マスク製造サービスを
提供する側における人件費を削減できる。また、稼働率
の低い特殊用途に対応したマスク製造装置や超先端技術
に対応したマスク製造装置を自前で所有する必要がな
く、マスクの製造コストを削減することができる。更
に、小口ユーザから大口ユーザまで幅広い顧客層に対し
てマスクの製造サービスを提供することができる。
【００８７】（その他の実施の形態）上記のように、本
発明は第１及び第２の実施の形態によって記載したが、
この開示の一部をなす論述及び図面は、この発明を限定
するものであると理解すべきではない。この開示から、
当業者には様々な代替実施の形態、実施例、及び製造工
程技術が明らかとなろう。
【００８８】描画装置５ａ１〜５ａ３、ＣＡＤ（設計装
置）５ａ４、５ａ５、描画装置５ｂ １〜５ｂ３、描画装
置５ｃ１〜５ｃ３、現像装置５ｃ４、アッシング装置５
ｃ５、マスク検査装置５ｃ６、エッチング装置５ｃ７、
描画装置５ｄ１〜５ｄ３、現像装置５ｄ４、アッシング
装置５ｄ５、マスク検査装置５ｄ６、ＣＡＤ５ｄ７、エ
ッチング装置５ｄ８、修正装置５ｄ９、ＣＡＤ５ｅ１〜
５ｅ３、ＣＡＤ５ｆ１〜５ｆ３等のマスク製造装置は、
図１５に示すようにネットワーク６に接続されたホスト
端末４ａ〜４ｆに接続されてもよく、図１６のＣＡＤ５
ｘ２、描画装置５ｘ１、現像装置５ｘ３、アッシング装
置５ｘ４、マスク検査装置５ｘ５等のように、直接ネッ
トワーク６に接続されてもよい。
【００８９】また、ホスト端末４ａ〜４ｆは、同一国内
においてネットワーク６に接続されていてもよく、いく
つかのホスト端末４ａ〜４ｆが外国においてネットワー
ク６に接続されていてもよい。
【００９０】本発明はここでは記載していない様々な実
施の形態等を含むことは勿論である。従って、本発明の
技術的な範囲は上記説明から妥当な特許請求の範囲に係
る発明特定事項によってのみ定められるものである。
【００９１】
【発明の効果】本発明によれば、マスクの描画スケジュ
ールやマスクの描画装置の種類や性能を顧客が選択し制
御することができるため、顧客にとって利便性の良い描
画支援システム及び描画支援方法を提供することができ
る。
【００９２】本発明によれば、機密情報に関わるマスク
描画データや描画条件等を第三者に開示することなく、
必要なマスクを製造し、製造後はデータを顧客自らが削
除することができるため、匿名性及び機密性の高いマス
クの描画支援システム及び描画支援方法を提供すること
ができる。
【００９３】本発明によれば、ネットワークを経由した
受注システム及び受注方法を導入することにより、マス
クの描画装置を提供する側における人件費を削除するこ
ともできるほか、稼働率の低い特殊用途に対応した描画
装置や超先端技術に対応した高額な描画装置を自前で所
有する必要がなく、マスクの描画コストを削減すること
ができる。
【００９４】本発明によれば、小口の顧客から大口の顧
客までの幅広い顧客層に対してマスクの描画支援システ
ム及び描画支援方法を提供することができる。
【００９５】本発明によれば、マスクの製造スケジュー
ルやマスク製造装置の種類や性能を顧客が選択し制御す
ることができるため、顧客にとって利便性の良いマスク
製造支援システム及びマスク製造支援方法を提供するこ
とができる。
【００９６】本発明によれば、機密情報に関わるマスク
製造用データやマスク製造工程における処理条件等を第
三者に開示することなく、必要なマスクを製造すること
ができ、マスク製造後に自らが使用したデータを削除す
ることができるため、匿名性及び機密性の高いマスク製
造支援システム及びマスク製造支援方法を提供すること
ができる。
【００９７】本発明によれば、ネットワークを経由した
受注システム及び受注方法を導入することにより、マス
ク製造装置を提供する側における人件費を削減できる。
【００９８】本発明によれば、稼働率の低い特殊用途に
対応した装置や超先端技術に対応した高額な装置を自前
で所有する必要がなく、マスクの製造コストを削減する
ことができる。
【００９９】本発明によれば、小口の顧客から大口の顧
客まで幅広い顧客層に対してマスク製造支援システム及
び方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施形態に係るマスクの製造シ
ステムの概念図である。
【図２】本発明の第１の実施形態に係るマスクの製造シ
ステムのシステム構成図である。
【図３】本発明の第１の実施形態に係るマスクの製造方
法のフロー図である。
【図４】本発明の第１の実施形態のマスクの製造方法に
係る描画データ転送処理を示したフロー図である。
【図５】本発明の第１の実施形態に係る転送サービス画
面の一例を示した図である。
【図６】本発明の第１の実施形態のマスクの製造方法に
係る描画予約処理を示したフロー図である。
【図７】本発明の第１の実施形態に係る描画装置予約サ
ービス画面の一例を示した図である。
【図８】本発明の第１の実施形態に係る時間予測サービ
ス画面の一例を示した図である。
【図９】本発明の第１の実施形態に係る候補描画装置検
索結果表示画面の一例を示した図である。
【図１０】本発明の第１の実施形態のマスクの製造方法
に係る描画実行処理を示したフロー図である。
【図１１】本発明の第１の実施形態に係る描画起動メニ
ューの一例を示した図である。
【図１２】本発明の第１の実施形態に係る描画状態モニ
ター画面の一例を示した図である。
【図１３】本発明の第１の実施形態のマスクの製造方法
に係るデータ削除処理を示したフロー図である。
【図１４】本発明の第１の実施形態に係る予約時間と課
金時間との関係を示した図である。
【図１５】本発明の第２の実施形態に係るマスクの製造
システムの概念図である。
【図１６】本発明の第２の実施形態に係るマスクの製造
システムのシステム構成図である。
【図１７】本発明の第２の実施形態に係るマスクの製造
方法のフロー図である。
【図１８】本発明の第２の実施形態に係るマスクの製造
方法のフロー図である。
【図１９】本発明の第２の実施形態に係るサービス選択
画面の一例を示した図である。
【符号の説明】
１ ポータルサイトサーバ ２ ＣＰＵ ３、３ａ〜３ｃ 顧客端末 ４、４ａ〜４ｆ ホスト端末 ５、５ａ１〜３、５ｂ１〜３、５ｃ１〜３、５
ｄ１〜３、５ｘ１ 描画装置 ５ａ４、５ａ５、５ｄ７、５ｅ１〜５ｅ３、５ｆ１〜５
ｆ３、５ｘ２ ＣＡＤ（設計装置） ５ｃ４、５ｄ４、５ｘ３ 現像装置 ５ｃ５、５ｄ５、５ｘ４ アッシング装置 ５ｃ６、５ｄ６、５ｘ５ マスク検査装置 ５ｃ７、５ｄ８ エッチング装置 ５ｄ９ 修正装置 ６ ネットワーク ９ 画面送信手段 １０ 描画受注手段 １１ 描画データ受信手段 １２ 描画時間予測手段 １３ 描画装置検索手段 １４ 描画装置予約手段 １５ 描画条件設定手段 １６ 描画装置モニタ手段 １７ 描画データ削除手段 １８ 描画装置課金手段 ２０ 受注手段 ２１ データ受信手段 ２２ 時間予測手段 ２３ マスク製造装置検索手段 ２４ マスク製造装置予約手段 ２５ 条件設定手段 ２６ モニタ手段 ２７ データ削除手段 ２８ 課金手段 ２９ 受注範囲認識手段 ３０ 顧客識別番号記憶装置 ３１ 描画データ記憶装置 ３２ 描画装置記憶装置 ３３ 画面用記憶装置 ３５ 入力装置 ３６ 出力装置 ３７ 主記憶装置 ３８ 入出力制御装置 ３９ 通信制御装置 ４１ 転送サービス画面 ４２ 描画装置予約サービス画面 ４３ 時間予測サービス画面 ４４ 候補描画装置検索結果表示画面 ４５ 描画起動メニュー ４６ 描画状態モニター画面 ４７ サービス選択画面 ４７ａ、４７ｂ 画面 ５１ ユーザ識別子 ５２ サーバディレクトリ ５３ 描画データ ５４ レイアウトデータ ５５ マークライブラリ ５６ 描画レシピ ５７ 暗号化 ５８ 希望サイト ５８ａ、６５ａ サイト名 ５８ｂ、５９、５９ａ、６０ａ、６０ｂ、６３ａ、６３
ｂ、６４ａ、６４ｂ、７０ａ、７１ａ、７１ｂ、９０
ａ、９０ｂ 項目 ５９ タイプ ５９ｃ 描画分解能 ６０ａ マスクサイズ ６０ｂ 枚数 ６１ 希望開始時間 ６２ 希望終了時間 ６３ 予約時間 ６５ｂ 装置名 ６５ｃ タイプ名 ６５ｄ 分解能 ６５ｅ、６８ 開始時刻 ６５ｆ 予測時間 ６５ｇ 描画費用 ６６ 予約候補番号 ６６ａ 予約装置番号 ６６ｂ 装置操作モード ６７ 描画開始予定時間 ６９ 予想終了時刻 ７０ｂ 描画マスク数 ７２ グラフィックモニター ７３ ビーム偏向系 ７４ レーザ測長系 ７５ ビーム発生系 ７６ ステージ駆動系 ７７ 真空排気系 ７８ 電気制御系 ７９ 制御計算機 ８２ 描画予測時間 ８３ マージン ８４ 超過時間 ８５ 予約時間 ８６、８８ 終了時間 ８７ 課金ライン ９１ 設計データ ９５ マスク製造用データ記憶装置 ９６ マスク製造装置記憶装置

Claims (17)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 顧客端末からマスクの描画に必要な描画
    データと描画予約条件を受信する描画データ受信手段
    と、 前記描画データを格納する描画データ記憶装置と、 複数の描画装置の性能情報を格納する描画装置記憶装置
    と、 前記描画予約条件に基づき前記描画装置記憶装置から前
    記描画予約条件に合致する描画装置を検索し、候補とな
    る描画装置のリストを作成し、前記顧客端末へ送信する
    描画装置検索手段と、 前記顧客端末において指定された描画装置の指定情報を
    前記顧客端末から受信し、前記指定された描画装置にマ
    スクの描画依頼を送信する描画装置予約手段とからなる
    ことを特徴とする描画支援システム。
  2. 【請求項２】 更に、前記指定された描画装置を実際に
    使用した時間に基づき請求金額を計算し、前記顧客端末
    へ請求する描画装置課金手段と、 前記描画データ記憶装置から前記描画データを削除する
    描画データ削除手段の少なくともいずれか一方を更に有
    することを特徴とする請求項１記載の描画支援システ
    ム。
  3. 【請求項３】 前記描画予約条件に基づき、描画時間を
    予測する描画時間予測手段と、 前記指定された描画装置においてマスクを描画するため
    の描画条件の詳細を設定する描画条件設定手段と、 前記指定された描画装置からマスクの描画状況を受信
    し、前記顧客端末へ送信する描画モニタ手段とを更に有
    することを特徴とする請求項１又は２記載の描画支援シ
    ステム。
  4. 【請求項４】 顧客端末からマスクの製造に必要なデー
    タと予約条件を受信するデータ受信手段と、 前記データを格納するマスク製造用データ記憶装置と、 マスク製造関連装置群を構成する各装置の性能情報を格
    納するマスク製造装置記憶装置と、 前記予約条件に基づき前記マスク製造装置記憶装置から
    前記予約条件に合致する装置を検索し、候補となる装置
    のリストを作成し、前記顧客端末へ送信するマスク製造
    装置検索手段と、 前記顧客端末において指定された装置の指定情報を前記
    顧客端末から受信し、前記指定された装置に前記マスク
    の製造工程の少なくとも一部の工程を実施する依頼を送
    信するマスク製造装置予約手段と、 とからなることを特徴とするマスク製造支援システム。
  5. 【請求項５】 前記指定された装置を実際に使用した時
    間に基づき請求金額を計算し、前記顧客端末へ請求する
    課金手段と、 前記マスク製造用データ記憶装置から前記データを削除
    するデータ削除手段の少なくともいずれか一方を更に有
    することを特徴とする請求項４記載のマスク製造支援シ
    ステム。
  6. 【請求項６】 前記予約条件に基づき、前記指定された
    装置の使用時間を予測する時間予測手段と、 前記指定された製造装置においてマスクを製造するため
    の製造条件の詳細を設定する条件設定手段と、 前記指定された装置から対応する工程の進行状況を受信
    し、前記顧客端末へ送信するモニタ手段とからなること
    を特徴とする請求項４又は５記載のマスク製造支援シス
    テム。
  7. 【請求項７】 前記予約条件に基づき、受注範囲を認識
    し判断する受注範囲認識手段を更に有することを特徴と
    する請求項４乃至６記載のマスク製造支援システム。
  8. 【請求項８】 前記マスク製造関連装置群は、 設計データに基づきマスクパターンを設計しマスクの描
    画データを生成するＣＡＤと、 前記描画データに基づき前記マスクパターンをマスク基
    板上の遮光膜の上部に塗布されたレジスト膜を露光し描
    画する描画装置と、 露光された前記レジスト膜を現像する現像装置と、 現像された前記レジスト膜を用いて遮光層を選択的にエ
    ッチングするエッチング装置と、 前記レジスト膜を除去するアッシング装置と、 エッチングされた前記マスクパターンにおける欠陥の有
    無を検出するマスク検査装置と、 前記マスク検査装置において検出された前記マスクパタ
    ーンにおける欠陥を修正するマスク修正装置の１又は２
    以上の装置を含むことを特徴とする請求項４乃至７記載
    のマスク製造支援システム。
  9. 【請求項９】 前記受注範囲は、前記設計装置、前記描
    画装置、前記現像装置、前記エッチング装置、前記アッ
    シング装置、前記マスク検査装置、前記マスク修正装置
    の１又は２以上の装置を指定し定めることを特徴とする
    請求項４乃至８記載のマスク製造支援システム。
  10. 【請求項１０】 顧客端末からマスクの描画に必要な描
    画データと描画予約条件を受信するステップと、 前記描画データを描画データ記憶装置に格納するステッ
    プと、 複数の描画装置の性能情報を描画装置記憶装置に格納す
    るステップと、 前記予約条件に基づき、前記描画装置記憶装置から該予
    約条件に合致する描画装置を検索し、候補となる描画装
    置のリストを作成し、前記顧客端末へ送信するステップ
    と、 前記顧客端末において指定された描画装置の指定情報を
    前記顧客端末から受信し、前記指定された描画装置に前
    記描画依頼を送信するステップと、 とからなることを特徴とする描画支援方法。
  11. 【請求項１１】 前記指定された描画装置を実際に使用
    した時間に基づき請求金額を計算し、前記顧客端末へ請
    求するステップと、 前記描画データ記憶装置から前記描画データを削除する
    ステップの少なくともいずれか一方を更に有することを
    特徴とする請求項１０記載の描画支援方法。
  12. 【請求項１２】 前記描画予約条件に基づき、描画時間
    を予測するステップと、 前記指定された描画装置においてマスクを描画するため
    の描画条件の詳細を設定するステップと、 前記指定された描画装置からマスクの描画状況を受信
    し、前記顧客端末へ送信するステップとを更に有するこ
    とを特徴とする請求項１０又は１１記載の描画支援方
    法。
  13. 【請求項１３】 顧客端末からマスクの製造に必要なデ
    ータと予約条件を受信するステップと、 前記データをマスク製造用データ記憶装置に格納するス
    テップと、 複数のマスク製造関連装置群を構成する各装置の性能情
    報をマスク製造装置記憶装置に格納するステップと、 前記予約条件に基づき前記マスク製造装置記憶装置から
    予約条件に合致する装置を検索し、候補となる装置のリ
    ストを作成し、前記顧客端末へ送信するステップと、 前記顧客端末において指定された装置の指定情報を前記
    顧客端末から受信し、前記指定された装置に前記マスク
    の製造依頼を送信するステップと、 とからなることを特徴とするマスク製造支援方法。
  14. 【請求項１４】 前記指定された装置を実際に使用した
    時間に基づき請求金額を計算し、前記顧客端末へ請求す
    るステップと、 前記マスク製造用データ記憶装置から前記マスク製造用
    データを削除するステップの少なくともいずれか一方を
    更に有することを特徴とする請求項１３記載のマスク製
    造支援方法。
  15. 【請求項１５】 前記予約条件に基づき、前記指定され
    た装置の使用時間を予測するステップと、 前記指定された装置においてマスクを製造するための製
    造条件の詳細を設定するステップと、 前記指定された装置から対応する工程の進行状況を受信
    し、前記顧客端末へ送信するステップとからなることを
    特徴とする請求項１３又は１４記載のマスク製造支援方
    法。
  16. 【請求項１６】 前記マスクの製造依頼に基づき、受注
    範囲を認識し判断するステップを更に有することを特徴
    とする請求項１３乃至１５記載のマスク製造支援方法。
  17. 【請求項１７】 前記マスク製造関連装置群は、 設計データに基づきマスクパターンを設計しマスクの描
    画データを生成する設計工程と、 前記描画データに基づき前記マスクパターンをマスク基
    板上の遮光膜の上部に塗布されたレジスト膜を露光し描
    画する描画工程と、 露光された前記レジスト膜を現像する現像工程と、 現像された前記レジスト膜を用いて遮光層を選択的にエ
    ッチングするエッチング工程と、 前記レジスト膜を除去するアッシング工程と、 エッチングされた前記マスクパターンにおける欠陥の有
    無を検出するマスク検査工程と、 前記マスク検査装置において検出された前記マスクパタ
    ーンにおける欠陥を修正するマスク修正工程の１又は２
    以上の工程を含むことを特徴とする請求項１３乃至１６
    記載のマスク製造支援方法。
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