JP5813379B2 - マスク製造用装置 - Google Patents
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Description
図1は、第1実施形態として、マスク製造用装置の代表的な電子ビーム描画装置101の構成を示す概略的な機器構成図である。
A = (ΣP'Vn×Wn)/ΣP'Wn ・・・(1)
次に、図4を参照し、面積Wnの算出方法について説明する。図4は、面積Wnの算出方法について説明するための図である。
次に、再び図3を参照し、第1実施形態におけるマップデータ表示処理の手順について説明する。以下の説明中で登場するブロック221〜225に関しては、図1を参照されたい。
図5は、第2実施形態におけるマップデータ表示方法を説明するための図である。
次に、引き続き図5を参照し、第2実施形態におけるマップデータ表示処理の手順について説明する。以下の説明中で登場するブロック221〜225に関しては、図1を参照されたい。
次に、図6〜図9を参照し、第2実施形態における読み込みメッシュ群の選択方法について説明する。図6〜図9は、読み込みメッシュ群の選択方法の例を示した図である。
図10は、第3実施形態におけるマップデータ表示方法を説明するための図である。
Ai = (ΣiVi×Wi)/ΣiWi ・・・(2)
|Ai−Ai-1| < δ ・・・(3)
次に、引き続き図10を参照し、第3実施形態におけるマップデータ表示処理の手順について説明する。以下の説明中で登場するブロック221〜225に関しては、図1を参照されたい。
δ = β×Ai ・・・(4)
次に、図11を参照し、第3実施形態におけるメッシュMの読み込み順序の設定方法について説明する。図11は、読み込み順序の設定方法の例を示した図である。
次に、図12を参照し、第3実施形態の効果について説明する。図12は、第3実施形態の効果について説明するための図である。
第1から第3実施形態におけるマップデータ表示処理は、図1の電子ビーム描画装置101だけでなく、図13のマスク検査装置21にも適用可能である。図13は、第4実施形態のマスク検査装置21の構成を示す概略的な機器構成図である。このマスク検査装置21は、電子ビーム描画装置101と同様にマスク製造用装置の代表的なものである。
6:反射照明光学系、7:対物レンズ、8:結像レンズ、9:TDIセンサ、
11:制御計算機、12:バス、13:記憶装置、14:ステージ制御部、
15:展開部、16:参照部、17:比較部、18:位置検出部、19:表示部、
21:マスク検査装置、51:ビームスプリッタ、52:ミラー、
53:コンデンサレンズ、61:ミラー、62:ビームスプリッタ、
101:電子ビーム描画装置、111:描画部、112:制御部、
121:試料、122:XYステージ、123:描画室、124:電子鏡筒、
131:電子ビーム、141:電子銃、142:照明レンズ、
143:第1のアパーチャ、144:投影レンズ、145:第1の偏向器、
146:第2のアパーチャ、147:対物レンズ、148:第2の偏向器、
201:制御計算機、202:描画データ格納部、
203:擬似ピクセル表示データ格納部、204:表示部、
211:偏向制御回路、212:DACアンプ、
221:マップデータ取得部、222:設定部、223:グループ化部、
224:平均値算出部、225:表示処理部、226:メモリ、
301:電子ビーム描画装置、311:電子ビーム源、312:電子ビーム、
313:第1のアパーチャ、314:第1の開口、315:第2のアパーチャ、
316:第2の開口、317:試料、318:ステージ
Claims (3)
- メッシュ値を有する複数のメッシュからなるマップデータを取得するマップデータ取得部と、
前記マップデータを表示するための表示画面を有する表示部と、
前記表示画面のピクセルサイズよりも大きい擬似ピクセルサイズを設定する設定部と、
前記表示画面上のピクセルを擬似ピクセルにグループ化するグループ化部と、
前記表示画面上における前記メッシュのメッシュサイズが、前記擬似ピクセルサイズのα倍(αは正の定数)よりも小さい場合に、各擬似ピクセル内のメッシュのメッシュ値の平均値を算出する平均値算出部と、
前記擬似ピクセル内の各ピクセルを、前記平均値に対応する表示色で表示することにより、前記表示画面上に前記マップデータを表示する表示処理部とを備え、
前記平均値算出部は、
各擬似ピクセル内のメッシュのメッシュ値を順番に読み込み、
前記読み込みの際に、N回目(Nは2以上の整数)のメッシュ値の読み込み以降は、各メッシュ値を読み込むごとに、1回目に読み込んだメッシュ値から、現在のi回目(iはN以上の整数)に読み込んだメッシュ値までの平均値を算出し、
i回目の平均値とi−1回目の平均値との差分が閾値よりも小さいか否かを判断し、
前記差分がi回目までm回(mは2以上の整数)連続して前記閾値よりも小さい場合、i回目の平均値を、前記表示画面上に表示するための前記平均値として採用する、
ことを特徴とするマスク製造用装置。 - i回目の平均値とi−1回目の平均値との差分と比較するための前記閾値は、i回目の平均値に依存する値であることを特徴とする請求項1に記載のマスク製造用装置。
- 前記平均値算出部は、前記平均値を、各メッシュのメッシュ値と、各擬似ピクセル内に含まれる各メッシュの面積とに基づいて算出することを特徴とする請求項1に記載のマスク製造用装置。
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JP2011124996A JP5813379B2 (ja) | 2011-06-03 | 2011-06-03 | マスク製造用装置 |
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JP2012253211A JP2012253211A (ja) | 2012-12-20 |
JP5813379B2 true JP5813379B2 (ja) | 2015-11-17 |
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ID=47525756
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JP2011124996A Active JP5813379B2 (ja) | 2011-06-03 | 2011-06-03 | マスク製造用装置 |
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