JP2013211320A - 荷電粒子ビーム描画装置、パターン検査装置及びレイアウト表示方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】荷電粒子ビーム描画装置1は、階層ごとに要素を有する階層構造の描画データにおける階層内の要素サイズと、拡大率により決まる表示対象サイズとを比較し、並列処理の単位となる階層を決定する階層決定部4aと、その階層決定部4aにより決定された並列処理の単位となる階層内の要素ごとに、その要素を表示するための一連の処理を並列に行う並列処理部4bとを備える。
【選択図】図1
Description
第1の実施形態について図1ないし図6を参照して説明する。
第2の実施形態について図7及び図8を参照して説明する。
第3の実施形態について図9を参照して説明する。
2 描画部
2a 描画室
2b 光学鏡筒
3 制御部
3a データ変換部
3b データ記憶部
3c 描画制御部
4 レイアウト表示装置
4a 階層決定部
4b 並列処理
4c 表示部
11 ステージ
21 電子銃
22 照明レンズ
23 第1のアパーチャ
24 投影レンズ
25 第1の偏向器
26 第2のアパーチャ
27 対物レンズ
28 第2の偏向器
41 データ読込部
42 データ処理部
43 オブジェクト生成部
44 オブジェクト表示処理部
B 電子ビーム
W 試料
Claims (5)
- 階層ごとに要素を有する階層構造の描画データにおける階層内の要素サイズと、拡大率により決まる表示対象サイズとを比較し、並列処理の単位となる階層を決定する階層決定部と、
前記階層決定部により決定された前記並列処理の単位となる階層内の要素ごとに、その要素を表示するための一連の処理を並列に行う並列処理部と、
を備えることを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置。 - 前記階層決定部は、nが正の整数である第n階層の要素の最大サイズが、前記拡大率により決まる表示対象サイズ以上となる関係式を満たす最大のnを求め、第n階層の下階層である第n+1階層を前記並列処理の単位とすることを特徴とする請求項1記載の荷電粒子ビーム描画装置。
- 前記階層決定部は、前記並列処理の単位とした第n+1階層の要素に対して一括高速化処理が適用可能であるか否かを判断し、その一括高速化処理が非適用であると判断した場合、第n+1階層を前記並列処理の単位とし、その一括高速化処理が適用可能であると判断した場合、第n+1階層の下階層である第n+2階層を前記並列処理の単位とすることを特徴とする請求項2記載の荷電粒子ビーム描画装置。
- 階層ごとに要素を有する階層構造の描画データにおける階層内の要素サイズと、拡大率により決まる表示対象サイズとを比較し、並列処理の単位となる階層を決定する階層決定部と、
前記階層決定部により決定された前記並列処理の単位となる階層内の要素ごとに、その要素を表示するための一連の処理を並列に行う並列処理部と、
を備えることを特徴とするパターン検査装置。 - 階層ごとに要素を有する階層構造の描画データにおける階層内の要素サイズと、拡大率により決まる表示対象サイズとを比較し、並列処理の単位となる階層を階層決定部により決定する工程と、
決定した前記並列処理の単位となる階層内の要素ごとに、その要素を表示するための一連の処理を並列処理部により並列に行う工程と、
を有することを特徴とするレイアウト表示方法。
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