JPS60119719A - 図形発生装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は図形発生装置に係り、特に、半導体集積回路の
製造峙に荷電粒子ビームや光ビームを走査して液加」−
物表面に塗布したレジストに微細／６ターンを描画する
パターン描画装置の、′ラスタ走査方式を用いた図形発
生装置に関するもので、走査の無駄時間を低減して図形
発生の高速化を図ったものである。

〔発明の背景〕

この種の図形発生装置における荷電粒子ビームや光ヒー
トの走査方式としては９画面全域を一定の走査方法で走
査しながら、パターンの露光すべき部分のみにビームを
照射（オン）させるラスタ走査方式と、パターンに応じ
て露光すべき部分にビームを直接導き９図形に応して縦
横いろいろの方向に走査、露光を行うベクトル走査方式
がある。

本発明は上記のうちのラスタ走査方式の図形発生装置に
関するもので、第１図により従来技術とその問題点につ
いて述べる。［”　Ｅ　Ｂ　Ｅ　Ｓ　：　Ａ　ｐｒａ、
ｃｔｉｃａｌｅｌｅｃｔｒｏｎ　ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈ
ｉｃ　ｓｙｓｔｅｍ”、　ＩＥＥＥ　Ｔｒａｎｓ、　Ｅ
ｌｅｃｔｒｏｎＤｅｖｉｃｅｓ、　ＥＤ−２２，７，ｐ
、　３８５　（１９７５）参照〕第１図において、１は
外部記憶装置内に格納されている圧縮データであり、そ
のデータ内容は９通常２図形の種類ＩＤ、ラスク走査開
始座標値Ｘ、　Ｙ、図形のｌラスク走査方向寸法Ｗ、ラ
スク走査方向と直角な方向での寸法Ｈ２等よりなる。３
は描画装置で。

コンピュータ４と、制御回路５と鏡体部６とから成る。

７は制御回路５内のパターンメモリであり、２はこのパ
ターンメモリ７内に、圧縮データ１を点分解した電気イ
メージとして格納されるビットパターンであり、パター
ンメモリ７内の拡大部分パターンである。鏡体部６は、
試料８．ビーム源９、記録ビーム１０．ビーム変調器月
、偏向器１２゜試料移動機構部１３より成る。

第１図装置での図形発生は、まず、外部記憶装置に格納
されている圧縮データ１を図形ごとにコンピュータ４内
でドツト情報に変換して制御回路５内のパターンメモリ
７に転送し、このメモリを構成しているメモリセルを転
送されてきた位置情報に応して′０″から１″に変換し
、°ヒツトパターン２を形成する。この変換作業を、ラ
スク走査を行うフィールド内に存在する圧縮データ全て
について行う。これにより、パターンメモリ７に、予め
１フイールドのデータかドツト分解されて格納される。

分解完了後、ヒツトパターン２は、記録ビーム１０のラ
スク走査と同期して試料８上にラスク描画される。１フ
ィールド描画完了により、ヒツトパターン２は完全に試
料８上に転写される。

転写完了後５次のフィールドの圧縮データ１を。

、］−記と同様に、ドツト分解し、そしてラスク走査描
画する。このようにして、全ての描画パターンを試料８
に転写する。

以］−説明のように、従来のラスタ走査方式の図形発生
装置では（１）圧縮データをドツト分解し、　＋；：＋
分解して得たビットパターンをラスク走査に同期して試
料」二に転写する。という２段階方式を採用している。

このため、データ変換等に膨大な時間を要し、高速化か
困難であった。これに対して。

現状では、コンピュータ及び外部記憶装置に高速かつ大
容量メモリを備えたものを使用している。

このために高価な描画装置となっていた。しかしこのよ
うな対策手段を用いても、高速化には不十分であり、フ
ィールドが太き（なるに伴ってパターンメモリが更に大
容量化することになり、まずます生産性が低下するとい
う問題点があった。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、従来技術での上記した問題点を解決し
、走査時の無駄時間を減少させて高速図形発生を可能と
すると共に制御回路の軽装化、装置の低価格化を実現す
ることのできるラスタ走査方式の図形発生装置を提供す
ることにある。

〔発明の概要〕

従来の描画装置の対象パターンは縮小投影露光用原画（
レティクル）パターンからウェハー１−のチツブパター
ンまでてあった。しかし、描画対象ノ々クーンは、最近
の縮小投影露光法の著しい発展により、レティクルパタ
ーンの重要度が増していることから、レティクルパター
ンの高速高精度描画へ移行しつつある。

一方、一般にラスク走査方式に比較してベクトル走査方
式かデータ圧縮あるいはデータの流れにおいて優れてい
る。即ち、前゛考方式では、描画ノ々ターンを点の集合
で表現し、更に、描画フィールド内の全てのパターンに
わたってドツト（点）データをべｆ；備する必要がある
のに対し、後者のベクトル走査方式では、線もしくは矩
形の集合で表現した図形データを図形ごとに準備するの
みで良い。

これはラスク走査方式に比べてベクトル走査方式で取り
扱うデータ量が少なく、無駄なデータ変換か大幅に避け
られるためである。従って、ラスク走査方式においても
、ベクトル走査方式と同様な線走査的な図形発生方法が
使用できるならば、ラスク走査方式での問題点を解決で
きることになる。

以」二の背景より９本発明では、パターン発生対象をレ
ティクルパターンに着目した。これは、レティクルパタ
ーンがチップ上でのパターン寸法より数倍〜１０倍の寸
法で描画されれば良く、１ラスタ走査内には有限個の図
形が存在することを意味する。即ち、ラスク走査に伴っ
て有限個の図形の描画均相６１時に進行するので、制御
装置内に有限個の図形発生器を設置すればベクトル走査
方式と同じデータ処理ができることを意味している。ま
た。

図形発生器には原理的にラスク走査方向の始点及び終点
を表わすスイッチを設置すれば良い。

〔発明の実施例〕

以下９本発明の一実施例を第２図〜第４図により説明す
る。第２図は２個以」二の図形発生器を自する図形発生
回路のブロック図、第３図は第２図中の図形発生器の詳
細ブロック図、第４図は第２図及び第３図の動作説明用
の各部付＞６−のタイムチャートである。第２図におい
て、２０及び２１は図形発生器、２２は描画装置内の入
力データを格納し必要に応じて図形発生器２０．２１に
データを転送するデータプロセッサ、２４はラスク走査
方向（ここてはＸ方向と呼ぶ）の座標をアドレ・ソシン
グするＸカウンタ、２３はラスク走査方向と直角方向（
Ｙ方向と呼ぶ）の座標をアドレ、ノシングするＹカウン
タ、３５は各図形発生器２０．２１から出力される変調
信号（ブランキング信号）の論理和をとるＯＲ回路であ
る。また、第３図において、　４０．４１はデータプロ
セッサ２２より転送されるＸ方向のブランキンク信号の
始点及び終点位置データ２９．３０を格納するレジスタ
あるいはカウンタ、　４２．４３はＸカウンタ２４から
出力される記録ビーム位置情報２７とレジスタ４０．４
］の内容とをそれぞれ比較して、線情報である変調信号
を発生する比較器、４４はＡＮＤ回路である。

図形発生器２０．２］の必要数は、描画装置の記録ヒー
ｌ、の走査範囲及び最小パターン寸法により決定される
。＋ｉｉｆ者の走査範囲は、テスク走査型電子線描画装
置で約２５０μｍ、レーザパターン発生装置の場合で約
３００μｍと狭い範囲である。一方、レティクルの最小
パターン寸法は、Ｉ／１ｏ縮小投影露光用レティクルで
、かつ、チップ」二数小寸法を１μｍとすると、１０μ
ｍで良いことになる。本実施例では、走査範囲を３００
μｍ、最小描画寸法を１０μ！ｎとすると、走査範囲の
中に存在する最密パターンハ１０μｍう４ン・アンド・
スペースパターンテする。これは、線情報を考えた場合
、走査内の必要線データが走査両端部のパターンも含め
て１６個あれば必要十分であることを示している。即ち
９図形発生器２０．２１は１６個あれば良い。ここでは
、各図形発生器２０．２１の出力信号３３．３４をＢＬ
Ｋ＃０〜ＢＬＫ＃１５　（全部で１６個）とする。

以下９図形発生器の動作について第１図〜第４図を用い
て説明する。第１図の制御回路５内にノ（ターンメモリ
７の替りに第２図の図形発生回路を設けると、ラスク走
査フィールド内の・ぐターンメモリは第１図のコンピュ
ータ４を経てテークブＩＪＩセッサ２２のバッファメモ
リ内に転送、格納されるこのデータは、Ｙ方向アトし・
ノンング、ｏルス２０によりＹ方向カウンタ２３を駆動
し、これに伴いＹ方向位置情報２８をデータプロセ、７
す２２にＬｊえ、Ｙ方向位置情報２８に応じたＸ方向始
点２９．３］及び終点３０、３２位置情報を各図形発生
器２０．２１に入力する。

信号２９．３０は第３図のレジスタ４０．４１にラッチ
さ。

れる。一方、記録ビームの走査に伴ってＸ方向位置情報
２７は、第４図に示す走査方向（Ｘ方向）アトレッシン
グパルス２５をＸカウンタ２４に入力しＸカウンタ２４
から出力されるディジタル値で与えられる。なお、第４
図に示すビーム走査用鋸歯状波信号はＹ方向アトレッシ
ングパルス２６によりトリガーされ、これと共に、Ｘ方
向アドレッシングパルス２５が発生する。第３図におい
て、Ｘ方向位置１情報２７と、始点位置情報２９及び終
点位置情報３０とをそれぞれ比較器４２．４３で比較す
ることにより。

始点コンパレータ信号４５．終点コンパレータ信号４６
が第４図のように得られる。これらの信号４５゜４６の
論理積をＡＮＤ回路４４てとって第４図のＢＬＫ＃０信
号３３を発生し、ビーム走査に同期した変調信シバ即ち
、線情報を形成する。図形発生器２０以外の別の図形発
生器２１等においても」−記ＢＬＫ＃０信号３３に相当
する信号を、　ＢＬＫ＃１〜ＢＬＫ＃１５として発生し
、第２図のＯＲ回路３５にてこれらの信〜報（ＢＬＫ信
号）３６として描画装置の変調回路に転送される。この
信号３６はＹ方向位置情報２８によりデータプロセッサ
２２内において始点・終点位置情報が制御され、ラスク
走査に同期して圧縮データ１で表現された矩形パターン
を描画していくものである。なお、データプロセッサ２
２内の位置情報制御は、ハードウェアあるいはソフトウ
ェアのいずれでも構わない。

本発明の他の実施例を第５図、第６図に示す。

これは、データプロセッサのＹ方向位置情報２８に同期
した始点・終点位置情報の発生を行う専用回路を設ける
ことにより、更に高速化を実現した例で、第５図はブロ
ック図、第６図はその各部付号タイムチャートである。

図形発生器２０’は、第３図に示した図形発生器２０以
外に、描画パターンのＹ方向の開始座標を指定するレジ
スタ５２．比較器５４Ｙ方向の描画寸法を示しＹ方向寸
法を規定するタウンカウンタ５３及びフリップ７０ツブ
５７を備えている。図形発生器２０’にはデータプロセ
ッサ２２′がら図形情報〔Ｘ方向始点座標Ｘ５（２９）
、Ｘ方向終点座標ＸＩ弓（３０）、　Ｙ方向描画開始座
標Ｙｓ（５０）、Ｙ方向図形寸法Ｈ（５１））を各々、
し／スタあるＬ＋Ａｆ；！カウンタ（４，０，４１（第
３図）、　５２．５３）　に転送、格納する。第６図の
タイムチャートに示すように。

Ｙ　方向アドレッシングパルス２６に同期して鋸歯状波
が発生すると共にＸ方向ＢＬＫ＃　０信号３３が発生さ
れる。またこのパルス２６はＹカウンタ２３に人力して
Ｙ方向位置情報２８を形成する。このＹ方向位置情報２
８かＹ方向描画開始座標値具」−になると比較器５４の
レベルが反転してＹ方向コン、ｏレータ出力５１〕を発
生する。さらに、描画寸法を規定するカウンタ　（以下
、Ｈカウンタと呼ぶ）５３はフリ・ンプフロツプ５７へ
の制御信号となるボロー信号（５３としてアップカウン
タを用いる場合はキャリア信号１）５８を出力している
。これにより９図形発生終了信号（フリップフロップ反
転出力信号）６１か、第６図のように、形成される。い
ま、Ｙ方向描画開始座標５０よりＹ方向位置情報２８の
方が大きいか等しイ”ＪＡ　合＋　Ｙ　方向コン、（レ
ーク出力５９（よ”Ｈｉｇｈ”レベルとなり、Ｘ方向Ｂ
ＬＫ＃０信号３３とフリップフロップ反転出力信号６１
との論理積がＡＮＤ回路５５てとられ、　ＢＬＫ＃０信
号３３′が作られる。０の信号３３が単安定マルチバイ
ブレータ６２を起動し、遅延されたパルスがＨカウンタ
ダウン信号６０として出力され、Ｈカウンタ５３の内容
を減算してい（。例えば、Ｈカウンタ５３の内容か（Ｈ
−１）であるとするとＨ個のＨカウンタダウン信号６０
がＨカウンタ５３に人力するとボロー信号５８が発生し
、フリップフロップ５７は”Ｈｉｇｈ”から”Ｌｏｗ”
に反転し、Ｘ方向ＢＬＫ＃Ｏ信号３３の出力が禁止され
る３、このようにＸ方向の線情報がＹ方向においても図
形発生器の中で制御され、　ＢＬＫ＃０信号３３′が発
生される。なお、フリップフロップ５７のノーマル出力
信号をデータリクエスト信号５Ｇとして２図形発生か終
了と同時にデータプロセッサ２２′に転送し、新らたな
パターンデータが図形発生器２０′に人力する。第３図
実施例の場合と同様に１図形発生器の個数は、ビームの
走査範囲及び最小描画寸法により決定され各図形発生器
２０’からの出力信号の論理和によりうメタ走査用変調
信号か形成され、高速図形発生か容易となる。

本発明のさらに他の実施例を第７図に示す。これは９台
形図形を描画６丁能とする図形発生器とした場合である
。第７図では、データプロセッサ２２から出力されるテ
ークは、第５図に示したＸｓ信号２９、　Ｘ＋＋信号３
０．　Ｙｓ信号５０．Ｈ信号５１の他にＸ方向始点位置
ノット量ΔＸ５（８２）及びＸ方向終点位置ンフト量Δ
Ｘ、う（８３）か追加されている。７０．７１は上記の
シフト量を格納するレジスタ、７６〜７９はＹ方向制御
専用回路６３で発生されるＨカウンタタウ／信壮６０を
アップダウンカウンタ８０．８１に転送するか否かを制
御するゲート回路である。即ち。

本実施例では、シンスタフ０．フ］、ゲート回路７６〜
７０か追加され、そして第３図実施例のＸ方向始点１・
終点位置を表わすレジスタあるいはカウンタ４０４１の
替りにアップダウンカウンタ８０．８１が設けられる。

第８図は描画フィールド８８内に第７図の図形発生器２
０″を用いて台形図形を描画したさいの試料８」−の記
録ビーム１０の軌跡８４〜８７を示したものである。第
７図及び第８図において、データプロセッサ２２′から
Ｘｓ信号２９．　ＸＥ信号３０．　Ｙｓ信号５０、Ｈ信
号５１．ΔＸｓ信号８２及びΔＸＥ信号８３が各々のレ
ジスタあるいはカウンタに転送される。例えば、ΔＸｓ
信号８２．ΔＸＥ信号８３が（１０）２　、（０１）２
情報であるとすると、レジスタ７０の上位ヒント。

７１の下位ビットが“’Ｈｉｇｈ’”レベルとなり、出
力信壮７２、７５がそれぞれゲート回路７６、７９に入
力され。

Ｈカウンタダウン信号６０発生の際に、アップダウンカ
ウンタ８０．８１に入力する。Ｙ方向アドレッシングパ
ルスが発生し、Ｘ方向位置情報２７か比較器４２、４３
に入力すると、アップダウンカウンタ８０゜８１の値と
比較され、ＡＮＤ回路４４を経て、Ｘ方向ＢＬＫ＃　０
信号３３が出力される。しかし、この信号３３は、Ｙ方
向位置情報２８がＹｓ信号５０より小さいＩ場合はＢＬ
Ｋ＃Ｏ信号３３′として出力されない。いまＹ方向位置
情報２８がｙｓ信号５０と一致すると、」１記の信号３
３はＢＬＫ＃０信号３３′として出力される。この信号
３３′を基に記録ビーム１０を変調することにより、第
８図の８４に示すビームの軌跡が試料８上に描かれる。

描画終了後、Ｙ方向制御専用回路６３からＩ−１ノＪウ
ンタタウノ信号６０が出力される。この信１；、　６Ｑ
はケート回路７６〜７９で制御されてア、７プタウンｈ
ウンク８０．８］に転送される。本実施例ではＸＳ用ノ
Ｊ・ンンタ８０においてＨカウンタダウン信号６０が□
ア、プ部に入力し、これによりカウンタ８０の内容か（
Ｘｓ＋１）となる。一方、　Ｘ、つ用カウンタ８１にお
いて、Ｈカウンタダウン信号６０がダウン部に入力する
のてカウンタ８１の内容は（ＸＥ−１）となる。以４−
のように、カウンタの内容か変化した後、Ｙ方向アドレ
ッシングパルス発生により、ラスク走査方向の描画領域
か（ＸＳ＋　１　）から（ＸＥ−１）　までと更新され
、線情報３３′を出力し、第８図の８５の軌跡が描かれ
る。同様にして１次のラスク走査の際には（Ｘｓ　＋　
２　）から（Ｘｇ−２）の間を描画し、ラスク走査に伴
って線情報をＨ本だけ出力する。最後の線情報は（Ｘｓ
＋Ｈ刊）から（ＸＥ−Ｈ＋　１　）の描画領域となり、
第８図の８７のような軌跡を描いて図形発生を終了する
。終了後９図示発生器２０″はデータプロセッサ２２′
にデータリクエスト信号５６を転送し、新らたな図形デ
ータを取り込み、上述と同様な同動作を繰り返して図形
発生を行う。以上のように、±４５度の傾斜角をもった
台形が本実施例により描画可能となる。なお、他の角度
をもつ台形においても、Ｘ方向始点・終点位置情報を新
らたな演算回路あるいはソフト制御を用いて次々と更新
することにより台形表現の図形発生が可能であることは
容易に類推でき２本発明を逸脱するものではない。

以上説明したように５本発明は、圧縮データを１図形発
生装置の制御回路の中で線情報に変換し。

ラスク走査と同期した実時間でデータ処理をｉｒ能とす
るもので、これにより９図形発生に関する無駄時間が９
周辺記憶装置からデータプロセッサ内のバッファメモリ
への転送時間のみになるという１効果を生じ、また、制
御回路内のメモリ容量も少なくなり、制御回路及び計算
機の軽装化かｉｒ能となり、高速化が実現される。

なお９以上の実施例ではレーサパターン発生の場合につ
いて述べたが、電子線あるいはイオン線等の荷電ビーム
を用いる図形発生あるいは描画装置においても、同じ効
果を生し得る。また、ラスク走査方式には、試料移動に
伴ってラスク走査する方式、あるいは試料停止状態でビ
ームを２次元走査する方式かあるが９本発明はこれらの
場合にも適用でき、同様の効果を生しることは云うまで
もない。また、第５図実施例の動作説明では、Ｈカウン
タの内容か所望のパターン寸法Ｈより１だけ少ない値で
あるとしたが、これはＨカウンタの使い方によるもので
あり、基本的には、Ｈ本の疋査を行って１１本の走査線
を発生させると云うことであり、制御方法の如何には関
係な（本発明と同一、５′である。また、１４カウンタ
の替りに比較器を用いて、Ｙ方向描画終了座標値との比
較によってパターン描画終ｒを行う構成としても本発明
を逸脱１しない。さらに、Ｙ方向制御部分を１チツプマ
イクロコンピユータ等の計算機を用いてソフト制御する
方式とすることも可能である。

〔発明の効果〕

以１−説明してきたように１本発明によれば、データ圧
縮された入力データを点情報に変換することなく、デー
タ圧縮情報のままで、描画装置の制御回路でラスク走査
に同期してパターン情報を発生することができ、高速図
形発生が１丁能となり。

さらに、従来の図形発生に関する無駄時間が約１／１５
〜ＭＩＯに減少し、描画装置の生産性を高めることがで
き、また、制御回路内のメモリ容量においても、従来の
パターンメモリ容量は約１００　Ｋ語必要であったが９
本発明では１０に語ですむことになり、計算機もミニコ
ンピユータからマイクロコンピュータに変更でき、制御
回路の軽装化及び装置の低価格化を実現することができ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来装置のブロック図、第２図は本発明である
複数個の図形発生器を備えた図形発生回路のブロック図
、第３図は第２図中の図形発生器の動作説明用のフロッ
ク図、第４図は第２図及第３図の各部付号のクイムチャ
−１・、第５図は走イｒ方向と直角方向の座標制御を回
路化した本発明実施例のブロック図、第６図は第５図中
の各部付シ；のクイムチャ−１・、第７図は台形図形を
描画する本発明実施例のフロック図、第８図は第７図の
動作説明用のビーム軌跡を示す図である。 く杓号の説明〉 １・・ＩＣＥ　縮データ　２・・・ビ、ノド−パターン
３・描画装置　４・・コンピュータ ５・・・制御回路　６・・・鏡体部 ７　パターンメモリ　８・・・試料 用・・ビーム変調器　１２・・偏向器 ２０、２０’、　２０”、　２１・・図形発生器２２、
２２’・・データプロセッサ ２；３　Ｙカウンタ　２４・Ｘカウンタ；うＦ）・ＯＲ
回路 ／Ｉ（１，／１１　走査方向始点及び終点位置を格納す
るレジスタあるいはカウンタ ４２．４３−比較器 ５２・Ｙ方向描画開始座標を指定するレジスタ５．３・
Ｙ方向描画寸法設定カウンタ ５６・データリクエスト信号 ６０・・・Ｉ」カウンタダウン信号 ６３・・・Ｙ方向制御専用回路 ７０・・・ΔＸｓ用レンしタ　７１・　ΔＸＩ（用レジ
スタ８０．８１・・・アップダウンカウンタ８４〜８７
・記録ビームの軌跡 ８８・・描画フィールド 代理人弁理士　中村純之助 １７−１　図 −ＪＰ２図 １’４　図 ３３　ヨー　ＢＬＫ＃０ ３４　“　ＢＬＫ　＄１”； ３６−−−コーーｔヨ、Ｊ□　ＢＬＫ倍号〜Ｙ　Ｙ命伺 ２６　７ドしッシンクぐ）Ｌス 才５図 第１頁の続き ＠発明者　今月　文夫　国峙市競ケ窪 央研究所内 ０発　明　者　市　野　−夫　国分寺市東恋ケ窪央研究
所内

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）荷電粒子ビームあるいは光ビ゛−ムをラスク走査
   して試料面」二に微細パターンを描画するラスク走査方
   式の図形発生装置において、ビームを変調制御する制御
   装置内に２個以」二の図形発生器を設け、各図形発生器
   ごとにそれぞれ、ツマターン位置人力信弓とラスク走査
   方向アドレ・ンシンク゛信号とを比較して」−記ラスタ
   走査中に線情報信号を作成する比較器を少なくとも２個
   以上設け、上記図形発生器の全出力信号の論理和をとり
   ビーム変調信弓の基本信号とすることを特徴とする図形
   発生装置。 ｔ２）　′Ｊｌ’、）イ１請求の範囲第１項記載の装置
   にお０て、。 ＋ｉｉｒ記各図形発生器はそれぞれ、ラスク走査方向の
   線情報を作成している前記制御手段の他＋Ｃ，ｉ３Ｅ査
   方向と直角方向にビーム変調信号を制御する手段をｔｌ
   ｉｉｉえ、ラスク走査に同期して線情報の集合として２
   次元描画する図形発生器であることを特徴とする図形発
   生装置。 （３）　特許請求の範囲第１項記載の装置において前記
   各図形発生器はそれぞれ、入力されるデータとして、走
   査方向（Ｘ方向）の描画始点位置情報Ｘｓと終点位置情
   報ｘＥの２種類、あるいは始点位置情報ＸＳと描画線幅
   Ｗの２種類のデータを用いる図形発生器であることを特
   徴とする図形発生装置。 （４）特許請求の範囲第２項記載の装置において。 前記各図形発生器はそれぞれ９人力されるデータとして
   、走査方向（Ｘ方向）の描画始点位置情報Ｘトと終点位
   置情報の２種類、あるいは始点位置情報ｘｓと描画線幅
   Ｗの２種類のデータに、走査方向と直角方向（Ｙ方向）
   の描画開始位置情報ＹＳとＹ方向図形寸法Ｈの２種類、
   あるいは描画開始位１．’７＋１情報Ｙｓと描画終了位
   置情報Ｙ、、、の２種ＪＪｉを追加した４種類のデータ
   を用いる図形発生器であることを特徴とする図形発生装
   置。 （５）特許請求の範囲第４項記載の装置において前記各
   図形発生器はそれぞれ、前記Ｘ方向位ｉ＋’ｌ”ｂ’ｊ
   報を前記Ｙ方向位置情報に同期して加減算を行うことに
   より台形図形とするＸ方向始点位置／フト量ΔＸ、及び
   終点位置シフト量ΔＸ、を前記４種類のデータに追加し
   て用いる図形発生器であることを９−Ｙ徴とする図形発
   生装置。