JP2002512702A - 感光性被覆を有する基板上に集束レーザ放射により構造物を製作する方法と装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明は、少なくとも１つの変調レーザビームを平行な走査線で走査する一方、該走査線に対して直角方向に走査ストライプに沿って移動することにより、入力データ内に記載されたパターンを感光性表面に描画する方法に関するものである。前記方法は次の段階を含んで居る。すなわち、前記入力データを、ストライプ重複区域を有する走査ストライプに対応する、部分的に重複するストライプパターンデータに分割する段階と、予め定められた露光混成機能、それも０％の値でスタートしかつ終了し、更に走査線の中央近くで１００％の値を有する機能を、走査線に沿って得る段階と、レーザビームを露光混成機能とストライプパターンデータとの積で変調する段階とである。本発明は、また前記方法にしたがってパターンを描画するための装置に関するものである。

Description

【発明の詳細な説明】 感光性被覆を有する基板上に集束レーザ放射により 構造物を製作する方法と装置 発明の背景 １．発明の分野 本発明は、感光性被覆を有する基板上に集束レーザビームにより製作される表 面パターンと、該パターンを製作する方法および装置とに関するものである。特 に、本発明は、半導体製造時にフォトリソグラフィ用のマスクまたはレチクルと して使用するのに適した、ガラス上にクロム構造物を製作する方法と装置に関す るものである。 ２．従来の問題点 マスクと、ガラス上の極めて精密なクロム構造物を有するレチクルとして知ら れているものとは、半導体製造時にフォトリソグラフィによる構造物、すなわち パターンの製作に使用される。５倍寸法のレチクル、すなわち、５分の１に半導 体ウェーハ上に写真で縮小され、かつ近い将来に最も普及する型式のマスクをな すパターンまたは構造物は、不透明なクロム構造物を有する１５０ｍｍ×１５０ ｍｍの水晶板を含んでいる。この構造物は、クロム膜上の感光性または電子感応 性の被覆を露光または電子ビームに暴露することで形成される。感光性または電 子ビーム感応性の被覆は、次いで化学的に現像され、その露光部分が除去される 。続くエッチング処理時に、クロムは、被覆が除去された箇所から削除され、残 るクロム膜がパターンまたは構造物を形成する。 公知の５倍寸法のレチクルの最小線幅は約２マイクロメートルである。しかし 、要求精度水準は、これよりかなり高い。許容可能なオーバレイ誤差、すなわち ２つの連続的なステップで製作された同一レチクルのクロムエッジ位置の許容可 能な差は、０．０５マイクロメートル程度である。 レチクルは、半導体工業で精密な構造物またはパターンの製作に主として使用 される。しかし、また他に多くの用途があり、例えば光集積回路、回折光学、コ ンピュータによるホログラフ、ミニチュア化されたセンサの微細機械加工、光学 的な情報記憶、超伝導デバイスの分野等である。このほかの重要な用途は、半導 体ウェーハのパターンの直接露光や大型ディスプレー用のパターン発生である。 十分な程度の精度を有する表面パターンまたは構造物を製作する従来の装置、特 に電子ビーム式レチクル・ライターを使用する装置は高価であるため、特に大学 や小企業での、これらのほとんど確立していない領域の新装置の開発が阻害され ている。 あらゆる公知のパターン発生器の一般的な態様では、マスクまたはレチクルが ディジタル式のデータバンクに記載されており、このデータバンクに、すべての 構造物またはパターンのリストが、それらの幾何的データを含めて内蔵されてい る。構造物の描画前に、幾何的データは、描画ハードウェアにより使用されるフ ォーマットに変換される。この変換操作の間に、幾何座標の切り捨てが行われ、 ハードウェア、すなわち描画アドレスグリッドの、アドレスを指定する解像度が 得られる。 最新のパターン発生器は、走査ビームによるラスタ走査原理を利用している。 走査ビームは、電子ビームまたはレーザビームであり、ビームは放射線感応性被 覆を施された基板上の平行線に沿って偏向させられる。ビームは、また制御シス テムに記憶された構造物用のビットマップに応じてオン・オフが切り換えられる 。別の選択肢は、ビームが、中間圧縮フォーマットに記憶されたデータから得ら れる描画時間の間に造出される。 ０．５マイクロメートルのアドレス格子またはラスタを有するパターンまたは 表面構造物の場合、各格子点用のビット、すなわち各画素用のディジタルビット 、つまり各個別制御可能なエリア素子を有するビットマップを製作できる。 原則として、０．０５マイクロメートルのアドレス能を有するパターンは、ま た０．０５マイクロメートルの間隔の走査線で、また走査線に沿って０．０５マ イクロメートルの間隔の画素で描画されることが可能だろう。しかし、前記のよ うな０．０５マイクロメートルの格子および表面カバー速度を有するビットマッ プは、毎秒２〜４ギガビットのデータ速度に対応する。この速度で単一の描画ビ ームを変調させることはできない。加えて、データ量は、０．５マイクロメート ルの格子の場合より１００倍も大であり、事実上処理不能である。圧縮データフ ォーマットからのリアルタイムでの拡張さえ、データの流れが大部分のプロッセ ッサのデータバスを絞るだろうから、実行不可能である。変調速度やデータの流 れに関する技術上の制限のため、描画速度は著しく制限され、０．０５マイクロ メートルのアドレス格子を有する全画素マップを備えたレチクル・ライターを使 用することができない。 ３．従来の問題点と先行技術の説明 前記の問題を解決する方法および装置が本発明の発明者によりＤＥ−Ｐ４０２ ２７３２．４に提示されている。この方法および装置を、以下で説明する。この 装置は、レーザビームの走査中に、前記変調器の入力を制御するデータデリバリ 手段を含んでいる。一般に、データデリバリ手段は、規則的なクロックパルス・ トレーンを生じさせるように、クロックパルスの間に予め定めたクロック期間を 有するクロックを含んでいる。また入力データを受取り、かつビーム強度データ とパターンエッジ位置データとを計算または確定するために、データ処理ユニッ トが備えられている。ビーム強度データとビーム位置データの双方は、ディジタ ルフォーマット形式で確定される。また装置は、データデリバリ手段の一部とし て、ビーム位置データを、走査中に走査線に沿ってレーザビームを位置決めする 等価時間に変換する信号処理ユニットが含んでいる。特に、この等価時間は、整 数のクロックパルスに余りの端数をプラスした値として変換される。等価時間に 対応するタイムパルスを発生させるために、ディジタル式の計算手段が備えられ 、これにより整数のクロックパルスに対応する時間にタイミングパルスが発生せ しめられ、かつまた時間遅れ回路が備えられ、それにより余りの端数に等しい時 間遅れがタイミングパルスに与えられる。対応時間パルスが発生するさい、回路 は、タイミングパルス到着時に変調器入力信号をディジタルビーム強度データに セットするために使用できる。 次に、図１に示した好適実施例について説明する。ランレングス符号化（ＲＬ Ｅ）データ項目の、変調器ドライバ論理手段６への反復ローディングは、画素速 度より通常は遅い速度で行われる。データローディングは、標準ＩＣ族、例えば ＦＡＳＴ−ＴＴＬと適合するクロック速度を有するデータデリバリクロックの速 度で行われる。２つのデータ項目を組合わせて、利用可能なビットを効果的に使 用するためのデータワードを得ることができる。変調器ドライバ論理手段６は、 入力部でパワーと変更位置フィールド（ｃｈａｎｇｅ ｐｏｓｉｔｉｏｎ ｆｉ ｅｌｄｓ）とを分離し、最後の位置フィールドの一方または双方から得られる時 間後に、変調手段５に変調器制御信号を送る。データデリバリクロックが画素速 度より低い周波数を有する場合、それが普通の場合だが、変調器制御信号の遅れ は、カウンタにより発生せしめられるのではなく、信号間に時間遅れのある異な るクロック信号から選択されるのが好ましい。 ビームパワーは、光源の変調によって、または連続光源を有する変調器の使用 によって変調できる。また、構造物の一要素のエッジの最も外側の画素の露光と 該エッジの変位との間の非線形の関係は、テーブル索引、読出し手続き、その他 の修正処理のいずれかを用いて得ることができる。また、エッジに沿って１列以 上の画素の露光を修正することで、走査線に関係する位置とは無関係の露出勾配 を造出できる。 本発明による装置および方法は、連続する画素が、パワーを変更せずに、１つ 以上の制御ワードを発生することなく描画されるように使用することができる。 次に、図１に示した、装置の一好適実施例については説明する。この装置は、 感光性被覆を施した支持体または基板の表面に、パターンまたは構造物を造出す る装置である。図示の実施例では、符号３で示した基板は、感光性被覆、例えば フォトレジストで覆われたガラス板の形式を有している。ガラス板３は、Ｘ方向 およびＹ方向に可動の客体テーブル１９上に配置されている。集束レンズ１５と 、好ましくは視聴覚偏向装置形式の偏向装置１４とを有する描画ヘッドが、Ｘ方 向とＹ方向とに不動に配置されている。しかし、集束レンズ１５は、垂直方向（ Ｚ方向）に自由に可動である。また集束レンズ１５は、ガラス板３の上方数マイ クロメートルのところに、それもエアクッション上に配置されている。エアクッ ションは集束レンズ１５の重量を負荷されるだけなので、エアクッション高さは 、Ｚ座標戸は無関係のため、一定に維持でき、この結果、ガラス板３の表面は、 該表面に凹凸があっても、常時、焦点平面内に保持される。 レーザビーム源１３が発生させるレーザビームは、そのパワーが変調され、特 にその強度が、変調装置５、特に視聴覚変調装置により変調される。集束レンズ １５は、レーザビームを焦点に集束し、符号１で示した集束レーザビームを形成 する。この集束レーザビームが、ガラス板基板３の表面に向けられる。 客体テーブル１９の位置決めをモニタするために、この装置には、位置モニタ 装置１８ｘ、１８ｙが備えられ、描画ヘッド（偏向装置１４と集束レンズ１５） に対し、Ｘ方向とＹ方向での客体テーブル１９の位置決めがモニタされる。電動 モータ１７ｘ，１７ｙと共に、位置モニタ装置１８ｘ、１８ｙは、客体テーブル １９の運動を精密制御するサーボ機構を形成する。 Ｘ方向に操作可能なこのサーボ機構は、好ましくはリニアモータ形式の電動モ ータ１７ｘを介して客体テーブル１９をＸ方向に一定速度で移動させることで、 レーザビームが走査線２に沿って走査するさい、所定幅のストライプ３０を造出 する。各ストライプ３０が完了すると、Ｘ方向に操作可能なサーボ機構は、出発 位置への戻り行程運動を行い、客体テーブル１９は、その場合、Ｙ方向にストラ イプ幅だけ電動モータ１７ｙにより移動させられる。電動モータ１７ｙは、ステ ッピングモータ形式であるのが好ましい。 走査回路２６は、直線ランプ機能を有する高周波偏向信号を発生させる。走査 回路２６は偏向装置１４に接続されている。この構成によって、レーザビーム１ が各ストライプ３０の幅で線形に偏向させられる。集束レーザビーム１の焦点は 、走査線２に沿ってガラス板３の表面に偏向される。走査線２は、ストライプ３ ０の長手方向の延びに対し直角に延在する。図１の符号８は、走査線２内の画素 の位置を示したものだが、単なる略示であり、言い換えると一定尺度で示したも のではない。 例えばＨｅＣｄレーザであるレーザビーム源１３は、４４２ｎｍの好適波長で レーザビーム１を発生させる。レーザビームは、高周波変調ドライブ信号４によ って起動される音響光学式の変調器５を通過する。変調ドライブ信号４は、変調 器ドライバ論理手段６によって供給される。変調ドライブ信号４の強度またはパ ワーは、ディジタル/アナログ変換器のアナログ変調ドライブ信号によって制御 される。図３に示したように、変調器ドライバステージまたは論理手段６内に配 置されたディジタル/アナログ変換器は、記憶装置を介しパワー制御信号７によ って制御される。記憶装置は、好ましくはレジスタ形式で、制御効果を得るのに 必要なディジタルパワー制御ワードを記憶するためのものである。 この点を、図１に関連して既に説明した変換器ドライバ論理手段６の一好適実 施例を示す図３について説明する。この論理手段６は、レジスタ６０５、６０８ の形式の２つのビットワード用記憶装置を有している。レジスタ６０５は、図１ に示したデータデリバリ装置２４から得られる強度またはパワーデータ７をロー ドされる。レジスタ６０５は、また同じくデータデリバリ装置２４から得られる 位置データ又は遅延データ２５をロードされる。これは、クロック信号３１によ って生じる遷移を基礎として行われる。この構成では、ディジタル/アナログ変 換器６０６も、記憶装置６０７に前もって記憶されたパワーデータによって操作 される。この記憶装置もレジスタ形式にすることができる。ディジタル制御遅延 回路６０９は、クロック信号３１を、レジスタ６０８に記憶されたデータに応じ た遅れで回路の出力部へ伝送する。この遅れの後、クロック信号のアクティブ・ エッジが、遅延回路６０９の出力部６１０に供給される。レジスタ６０５に記憶 された値は、レジスタ６０７にロードされ、ディジタル/アナログ変換器６０６ の入力側へ伝えられる。デジタル/アナログ変換器６０６内での遅延後、新たな アナログパワー制御信号７が変調装置５の変調器ドライバステージの出力部に発 生する。 図１に戻って特に言及しておく点は、太い矢印線は構造物に関連するデータの 流れを示し、細い線は制御信号用のラインを示している点であり、図１の実施例 は、更に描画制御ユニット２９を含んでいる。該ユニットはプロセッサ形式にす ることができる。制御ユニット２９は、記憶装置２３からのデータの読込み操作 を開始させ、客体テーブル１９の運動を制御するＸＹ方向サーボ制御ユニット２ ７への指示信号または命令信号を送る。クロック発生器２８は、クロック信号３ １を発信する。クロック信号３１は、データデリバリ論理手段または装置２４、 変調器ドライバ論理手段６、偏向回路２６の操作を同期させる。サーボ制御ユニ ット２７は、更に偏向回路２６へ別個のレディネス信号３２を送る。このレディ ネス信号３２は、客体テーブル１９がその正しいＸ位置に達するまで、確実に偏 向装置１４の操作が行われないようにする。これによって、客体テーブル１９が 偏向装置１４に対し正確に位置決めされる。変調装置５と偏向装置１４とが無慣 性式に操作され、同じクロック信号３１で駆動されるので、この構成によって高 い程度の位置精度が得られる。 ＸＹ方向のサーボ制御ユニット２７は、このように、サーボシステム１７ｘ， １７ｙ，１８ｘ，１８ｙおよび偏向装置２６と調時された関係で協働し、これに よって、偏向装置１４による各ストライプ幅での走査と、変調装置５による変調 とが同期に行われることで、走査線ストライプ３０が確実に形成される。 この装置は、また単一の描画ビームの代わりに複数の描画ビームを使用するこ ともできる。その場合には、適当な数の変調器、レンズ、平行なデータ・パス等 等が必要とされる。 位置フィールドは、パワー変更のための絶対位置を計算する十分なデータを含 んでいるが、位置フィールドは必ずしも絶対位置として符号化されていない。特 に対にされたパワーおよびランレングス・データを用いる場合、ランレングス符 号化は、次の変更前に電流値を保持するためのスペース設定、次の電流値を保持 するためのスペース設定、次の値が始まる絶対位置、次の値が終わる絶対位置、 他の何らかの適当な符号化のいずれかとして行うことができる。加えて、位置フ ィールドは２つのサブフィールド、すなわち一方の絶対位置サブフィールドと、 他方の相対位置サブフィールドとを含むことができる。変調装置５の代わりに、 被変調光源、例えば単数または複数の半導体レーザの使用も可能である。更に、 図１に示した装置の説明を続けると、データ入力装置２０は、基板３上に描かれ るはずの、符号９で示した構造物の入力データを含んでいる。このデータは、構 造物またはパターン要素１２、１６のリストの形式か、正規の構造公式または構 造定数の形式で与えられ、構造要素が計算できるようにされている。露光の仕様 は、最大露光値に標準化されるか、または単一の露光値の場合には、すべてのパ ターン用であることが暗に仮定できる。あらゆる場合に、Ｘ長さおよびＹ長さの 尺度、軸間の角度、絶対露光量は、オペレータが修正でき、それにより入力デー タに具体化される。また、他のデータ処理作業、例えば鏡映（ｍｉｒｒｏｒｉｎ ｇ）、反転（ｉｎｖｅｒｓｉｏｎ）、中間調修正、アンダーエッチングまたは近 接効果の前補償作業等を行うこともできる。デリバリ・クロ ックは、単相または多相クロックでよく、ランレングス符号化データ項目のロー ディングは、１つのレジスタまたは２つ以上のレジスタで行うことができる。デ コード論理は、プレリコール操作または他のバッファを含むことで、操作速度を 増すことができる。 操作速度を増す目的では、またデータパスの一部を多重化することができる。 例えば、１つだけのレーザビームが使用される場合でも、複数の変調器ドライバ 論理手段を用いることができる。 描画ヘッドと基板との間の相対運動は、定置基板に対して描画ヘッドが移動す るか、またはその逆に行われる。また描画ヘッドを一方向に移動させ、この方向 に対し基板を直角に移動させることも可能である。 更に図２ａについて説明する。図２ａには、各画素の回折制限範囲を示す小円 を有するグリッドが示されている。これらの画素は、画素グリッド５０４上に定 心され、走査線ストライプ５０３が、符号５０２で示された継起する複数走査線 によって形成されている。画素は、走査線５０２上に定心され、互いに等間隔に 配置されている。画素の間隔と継起する走査線５０６の間隔とは等しい。図２ａ は、露光された走査線５０２と、画素に満たされ、３つのストライプ５０３にわ たって延在する区域とを示している。この区域は、垂直線に対し傾斜して延びる エッジ５０５と、水平線に対して傾斜して延びるエッジ５０６とを有している。 図示の構造物の場合、エッジは、画素の断片箇所に設けることはできないため、 傾斜したエッジ形状は、不揃いの、または凹凸のある形状になっている。 これに対し、図２ｂに示した画素配置では、走査線５０２に沿った画素密度が 、ストライプ５０３の長手の延び方向、つまり走査線５０２に対し直角方向でよ りも高い。より詳しく言えば少なくとも４倍高い。このことは、図２ａに間隔Ａ １、Ａ２によっても示されている。Ａ１は、走査線５０２にアドレスする各画素 の間隔に等しい一方、Ａ２は、各走査線５０２の相互間隔に等しい。図２ｂから 明らかなように、垂直のエッジに極めて微細なアドレスが可能になる。したがっ て、垂直線に対し傾斜して延びるエッジ５０８の場合にも、比較的滑らかな形状 が可能になる。 パワー変調効果により、図２ｂからはっきり分かるように、水平線に対して傾 斜して延びるエッジ５０９も改善される。 図１については説明すると、作業時、製作されるべき構造物９または構造物要 素１２、１６の幾何的特性は、その露光量と共に、データ入力手段２０内でフォ ーマットに具体化され、このフォーマットがデータ処理装置２１へ伝送される。 データ処理装置２１は、幾何的データを中間圧縮フォーマット２２に変換する。 圧縮フォーマット２２は、ディジタル記憶装置２３に入力される。圧縮フォーマ ットは、またデータデリバリ装置２４へ送られ、そこで記憶されたデータが処理 され、内部データフォーマットが得られる。内部データフォーマットは、１対の データ内容７、２５、すなわちビームパワーに関係するデータ内容７と、位置に 関係するデータ内容２５とを含んでいる。データ内容２５は、既に図３に関連し て説明した遅延データを含むことができる。ビームパワーに関係するデータ内容 ７は、パワー制御信号７の形式で変調器ドライバステージ６に送られる一方、位 置に関係するデータ内容２５は、位置信号２５の形式で変調器ドライバステージ ６へ送られる。論理回路形式の変調器ドライバステージ６は、これらのデータを データデリバリ装置２４から呼び出す。変調器ドライバステージ６は、変調ドラ イブ信号４を発生させ、この信号４は、ストライプ３０に対し直角に延在する走 査線２に沿って規則的な間隔で配置された画素箇所８のところで可変である。 ４．先行技術に関する問題点 走査パターン発生器の１つの重要な性能識別基準は、隣接走査ストライプ間の 境界を横切って小さいパターン要素を、誤差なしに印刷する能力である。通常、 各ストライプは、隣接ストライプに対し僅かにずれている。なぜなら、ストライ プは、正確に等しい時間には描画されず、どんなシステムも、いくらかのドリフ トと位置ノイズとを有しているからである。ストライプ境界の両側でのパターン の不整合は、ここでは突合わせ誤差と呼ぶ。したがって、小さいパターン要素が ストライプ境界を横切って配置された場合、パターン要素の寸法誤差は、普通、 突合わせ誤差のために生じる。 この寸法誤差の一例は、説明目的のために挙げるのであり、本発明を制限する ために挙げるものではない。０．５μｍ ＶＬＳＩ装置用の５倍寸法フォトマス クでは、トランジスタゲートは２．５μｍ長さである。マスク内での絶対位置精 度は、１００ｎｍ（３シグマ値）であることが必要である。しかし、ストライプ が、ランダムに±１００ｎｍだけ変位した場合、マスク内のどこかで、２つの隣 接ストライプ間に恐らく１７０ｎｍの相対変位が生じる可能性がある。トランジ スタゲートが、このストライプ境界を横切って配置されると、該ゲートは、１７ ０ｎｍだけ、または２．５μｍの７％だけ広げられる。この寸法誤差は、トラン ジスタの特性に影響を与え、回路全体が機能不全に陥るか、もしくは他のプロセ ス誤差に対する許容度が減少し、したがって作業出来高が減少する恐れがある。 突合わせ誤差を低減するための公知の一方法によれば、パス間でストライプが 変位した数パスが描画される。それによって突合わせ誤差は平均化されるが、こ の方法は、事実上同じパターンを数回描画せねばならないので、無駄が多い。 発明の要約 走査線が各走査ストライプを横切って延びるように、平行な走査線が基板に沿 って走査ストライプを形成するようにすることで、本発明によれば、ストライプ の端部境界、特に隣接ストライプ間の端部境界の可視度を抑制する方法と装置と が得られる。こうしたことは、他の場合には、基板の感光性表面に構造物を描画 するのに使用される装置によって行われる。本発明によれば、ストライプは互い に重複するように製作される。 本発明の一態様によれば、一つのストライプから次のストライプへの移行は、 データ内の造作（ｆｅａｔｕｒｅ）のエッジ位置に同期される。 本発明の別の態様によれば、ストライプは、予め定めた段階状に変化する機能 に応じた重複により混成される。この方法によって、本発明の利点は、あらゆる 妥当な入力データの場合に事実上不可視になるストライプ境界を横切って維持さ れる。このことは、複雑性、データ量、データ処理量が増しても極めて安価な出 費で可能である。 以上の一般的説明と以下の詳細な説明は、説明目的の例示に過ぎず、請求とし て本発明を制限するものではない。本発明のその他の目的、特徴、利点は以下の 説明から明らかになろう。 図面の簡単な説明 添付図面は、明細書に組込まれ明細書の一部をなしており、本発明の好適実施 例を示し、説明と共に、本発明の原理の理解に役立つものである。 図１は、先行技術の方法による表面パターンまたは構造物を製作する装置を示 している。 図２ａは、固定された画素グリッドを示す図。 図２ｂは、先行技術による画素の配列を示す図。 図３は、図１の装置に使用可能な変調器ドライバ論理の一実施例の図。 図４は、目標最小パターン寸法より小さいストライプ境界を僅かに超えて延び る区域を有するパターンを示す図。 図５は、本発明の一態様を示したもので、隣接ストライプ間の境界が、各走査 線ごとに移動せしめられ、そうでなければ目標最小寸法より小さくなるであろう パターン区域が除かれている。 図６は、本発明の別の態様を示す図で、この場合、パターンは部分的に重複す るストライプに分割され、露光が、露光混成機能によって重複部で混成されてい る。 図７は、図６の重複ストライプの混成用に使用可能な、本発明の変調器ドライ バ論理の一実施例を示す図。 図８は、図７の実施例の機能を説明する位置および時間のチャートである。 好適実施例の詳細な説明 既述の方法および装置を用いて、精確かつ効果的に、任意のパターンを描画で きる。しかし、好ましくは次の２つの条件が満たされることが望ましい。第１は 変調器ドライブ信号は、値の変更をデータクロック周期当たり１度だけとすべき である。第２は、変調器ドライブ信号の２つの継起する変更の間の時間は、以下 で最小造作寸法と呼ぶ固有値より小さい値であってはならない。第１の条件によ り、常時、１クロック周期より長い造作が、グリッドに対する位置に関係なく描 画され得る。第２条件の最小造作寸法は、したがって、概して１クロック周期と 考えられる。 実際には、パターンの一部は、パターンがカットまたは分割されて走査ストラ イプにされると、最小造作寸法より小さくなることがある。例えば、説明目的用 の図４について説明すれば、２組の平行な走査線７０１、７０２が、２つの隣接 走査ストライプを形成し、１つのストライプ境界７０３を分け持っている。クロ ックパルスに対応する走査線に沿った位置は、線７０４として示され、最小造作 寸法は、１つのクロック周期７０５と等しい。長い造作７０６は問題なくストラ イプ境界で分けられるが、僅かだけ隣接ストライプ内へ突入している造作は、分 けられた場合には最低造作寸法条件に違反する小さいパターン要素７０７を生じ させる。 本出願の譲受人により使用される、第２条件違反を避ける一方法は、最低の造 作要求仕様を満足させ、かつ走査ストライプの外側へ延びる造作を発生させるこ とである。その場合、ストライプ境界で造作をカットするために、独立のゲート 信号またはウインド信号が使用される。こうすることで、必要なときに、極めて 短いパルスを発生させることができる。しかしながら、変調器のローパス特性お よび非線形特性により、短いパルスにひずみが発生し、図４に示したようなパタ ーンは、可視的な形成物（ａｒｔｉｆａｃｔｓ）なしには、描画が依然として困 難である。 本発明の付加的な態様による方法と装置では、したがって最小造作寸法より小 さいパターン要素の描画が防止される。特に、本発明の方法および装置では、走 査線から走査線までのストライプの境界位置が、描画されるパターンに応じて変 更される。図５には、いくつかの事例について、境界の配置が示されており、そ の場合、露出済みの要素と未露出の要素８０１、８０２間の移行が、変調器のオ ン・オフ過程とは異なるパワーレベルを用いて行われる。各事例で、境界は、露 出済み要素および未露光要素が最小造作寸法８０６と少なくとも等しい大きさと なるように設けられ、これにより既述の第２条件に違反することがなくなる。図 ５は、更に走査線８０４、８０５の重複部８０３が、最小造作寸法８０６の少な くとも２倍にできることが示されている。この重複部８０３では、変調器ドライ ブ信号内で移行が行われるか、またはパターンの造作が、最小造作寸法条件を満 足させるため、２部分にカットされても十分に長くなるようにされている。 本発明の重要な一態様によれば、突合わせ誤差の影響が低減され、処理量の損 失が最低減にされる方法と装置が得られる。本発明では、連続する走査ストライ プ間の重複が控えめにされ、複数ストライプが、重複区域で混成される。一方の ストライプから次のストライプへの移行は急激ではなく、突合わせ誤差は、通常 はストライプ幅の約５％〜１０％である重複区域にわたって効果的に分配される 。したがって、既出の図面について言えば、突合わせ誤差は１０μｍの重複部に わたって広げることができる。このようにして、２．５μｍの造作では、全突合 わせ誤差の４分の１、すなわち４２ｎｍの誤差、または２％未満の寸法誤差が見 られるに過ぎない。 図６には、本発明の重複および混成形式が略示されている。パターンデータ９ ０１は、データストライプ９０２、９０３にカットまたは分割され、しかもデー タストライプ９０２、９０３は部分的に互いに重複している。露光混成機能９０ ４は、走査線に沿った露光エネルギーを決定する。混成機能９０４は、データス トライプが、互いに混成された場合、パターンの均一な露光を生じさせる。特に 、混成機能は、各データストライプのパターンデータの露光レベルを控えめにす るのに使用され、この結果、露光は、パターンデータと混成機能との積となる。 混成機能を実施して、突合わせ誤差の影響を低減するために、光ビームは、２ つの直列変調器を通過することができる。一方の変調器はデータ用、他方の変調 器は混成機能用である。しかし、より好ましいのは、データと混成機能とを組合 わせて単一の電子信号を発生させ、この信号を単一の変調器へ送るようにするこ とである。このように、２つの変調器を用いるより単一の変調器を用いる方が光 の効率を高めることができる。なぜなら、各変調器が約２０％のそう入損を有す るからである。加えて、単一の変調器を有する光学トレーンは、２つの直列変調 器を有するものより、かなり複雑度も出費も低減され、調節も容易となる。 この組合わせ式変調用の装置の好適実施例が、図７に示されている。この変調 器ドライブ論理６には、図３の素子と等しい素子（等しい符号で示す）に加えて 、露光混成機能を実施する付加的な素子とが含まれている。 前述のように、変調器ドライブ信号４は、時間遅れデータ２５とパワーデータ ７の双方を用いて発生せしめられる。露光混成機能は、プロセッサ・インタフェ ース１００２を介してロードできるルックアップメモリ１００１に記億される。 強度データ７と走査線内のクロックカウント１００３とは、ルックアップメモリ １００１内の１つのセルに同時にアドレスするさいに用いられる。また、ルック アップメモリ１００１は、各クロック周期ごとに強度値１００４を出力する。こ の強度値は、パワー混成機能とパワーデータとの積に相応し、かつ変調器の非線 形度に合わせて修正される。加えて、時間遅れ回路６０８、６０９、６０７は、 図３の回路と事実上等しく動作する。異なる点は、ラッチ６０７が、パワー入力 データ７の変更時のみでなく、各クロック周期に刻時されることで、ディジタル アナログ変換器が露光混成機能の新しい値で更新される点である。 周期カウントはカウンタ１００６から得られる。カウンタ１００６は、データ クロック３１で周期を計算し、各走査線の開始時に走査開始パルス１００７によ ってリセットされる。ふくそう検出器１００５が付加されることで、最小造作寸 法条件が違反されないように保証され、違反された場合には、１つのクロックパ ルスが除去される。除去されたクロックパルスは、パワーデータ７内で移行に関 係しないパルスである。このプロセスは、予め予測の難しい機能変化を生じさせ るが、入力データによって完全に決定されている。ストライプ内のパターンは重 複部では等しく、回路は、双方のストライプ内で精確に等しい動作を行う。この 原理は、露光混成動作のタイミングをパターンデータに確定的に同期させて、精 確に等しいパターンを両ストライプ内に形成することにある。 図８は、２つのストライプが重複区域で混成される状況を示す位置・時間チャ ートである。描画されるパターン１１０１は、２つの異なる露光レベルを有する 要素１１０２、１１０３から成っている。グラフ１１０４は、パターン１１０１ に対応して描画される露光Ｅを示している。水平軸は、したがって位置軸と時間 軸双方を表している。なぜなら走査は左から右へ線形に行われるからである。２ つのストライプが、それぞれ矢印１１０５、１１０６によって示され、重複部は 符号１１０７で示されている。位置・時間チャートの垂直線１１０８はクロック パルスを示している。 露光混成機能の左右の端部はグラフ１１０９、１１１０によって示されている 。同じように、２つのストライプのそれぞれに対する変換器ドライブ信号の値は 、それぞれグラフ１１１１、１１１２によって示されている。またグラフ１１１ １は、グラフ１１０４とグラフ１１０９との積であり、グラフ１１１２は、グラ フ１１０４とグラフ１１１０との積であることが示されている。加えて、説明目 的 のため、グラフ１１０９のステップは、１クロック周期内でデータ内のステップ と同期されるが、込み合う（ｃｏｎｇｅｓｔｉｏｎ）検出器により更に１周期遅 延せしめられたステップ１１１３は除外される。なぜなら同ステップ自体のクロ ック周期で生じることが可能だった場合には、最小造作条件に違反したはずだか らである。 組合わせた場合、グラフ１１１１とグラフ１１１２との合計はグラフ１１０４ になる。データ１１０４に対応するパターン１１０１は、したがってストライプ １１０５、１１０６の間の重複部で混成機能１１０９、１１１０によって混成さ れ、混成機能タイミングは、変調器ドライブ信号１１１１、１１１２を発生させ るデータに同期される。加えて、ストライプは、混成機能が双方ともゼロでない 区域の外に２クロック周期だけ延びるのが好ましい。これにより、確実に両スト ライプ内のパターンは等しくなり、かつ最終効果により、両ストライプ内で露光 を行うデータとの混成機能の同期化が変更されることはない。 露光混成機能の形状、重複部の長さ、０％〜１００％のステップ数は、システ ムのソフトウェアによって決定され、パターン発生器の使用者により入力される パラメータにすることができる。極めて臨界的なパターンの場合、重複部は、１ ／２までストライプ幅を増加でき、またステップの数も増すことができる一方、 より臨界的でないジョブの場合、重複部は、より高い処理量を得るために、減少 させることができる。ルックアップメモリの内容は、実ビームパワーの測定によ り校正され、真の露光が理論混成機能に従うようにされる。 本発明の別の実施例では、また露光混成信号が、重複部での混成についての情 報に加えて、走査線に沿った露光変化に関する情報をも含んでいる。走査線に沿 った真の露光を測定し、露光混成機能に適切な修正を加えることにより、不必要 な露光変更をすべて除去できる。修正の大きさは極めて小さく、通常は約２％で あり、込み合い（ｃｏｎｇｅｓｔｉｏｎ）検出器によるタイミングの予測不能度 は、概して重要ではない。 同期化と混成機能とを有する前述の複数の方法は、別個に用いても組合わせて 用いてもよい。同期化は、このため、露光された表面上の境界か、または露光前 にビームを制御する入力データ内で検出される境界に依存することができる。 本発明の以上の説明は、本発明の原理を、もっぱら実施例と図面について行っ たものに過ぎず、このほか種々の変更態様や代替形式が、本発明の精神と範囲を 逸脱することなしに可能であると理解されたい。

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Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 1. 平行な走査線で少なくとも１つの変調レーザビームを走査する一方、該走 査線に対して直角方向に走査ストライプに沿って移動することにより、入力デー タ内に記載されたパターンを感光性表面に描画する方法において、前記方法が次 の段階、すなわち 前記入力データを、ストライプ重複区域を有する走査ストライプに対応する、 部分的に重複するストライプパターンデータに分割する段階と、 予め定められた露光混成機能、それも０％の値で開始かつ終了し、更に走査線 中央近くで１００％の値を有する機能を、走査線に沿って得る段階と、 レーザビームを露光混成機能とストライプパターンデータとの積で変調する段 階とを含む方法。 2. 前記露光混成機能が、重複区域で中間値、好ましくは２つ以上の中間値を 有している、請求項１に記載された方法。 3. 前記露光混成機能の形状が、ソフトウェア制御式であり、操作員により変 更可能である、請求項２に記載された方法。 4. 前記ストライプ重複区域の幅が、ソフトウェア制御式であり、操作員によ り変更可能である、請求項１に記載された方法。 5. 各レーザビームに対し、露光混成機能とストライプパターンデータとを組 合わせて単一の変調信号が形成され、この変調信号が単一の変調器に送られる、 請求項１に記載された方法。 6. 変調器に送られたデータが、パターンに依存する時間遅れで適用され、更 にストライプパターンデータ内の移行に時間的に近接して生じる露光混成信号内 の異なる値間の移行が、ストライプパターンデータのタイミングに同期される、 請求項５に記載された方法。 7. 前記ストライプパターンデータが、露光混成機能がゼロでない区域より、 少なくとも１クロック周期だけ広げられる、請求項６に記載された方法。 8. 込み合い検出器が、時間遅れデータをモニタすることで、変調器信号内の ２つの移行が１クロック周期未満だけ離れて何時生じるか指示し、かつ複数移行 のうちの１つ移行のタイミングを変更する、請求項６に記載された方法。 9. テーブルルックアップによって組合わせがなされ、該テーブルルックアッ プがレーザビームパワーの測定により校正される、請求項５に記載された方法。 10．ストライプ重複区域の混成機能内の中間値間の境界が、重複区域内のパタ ーンに対する入力データに応じて同期される、請求項２から請求項９までのいず れか１項に記載された方法。 11．同期化が、露光前に入力データ内の境界に応じて制御される、請求項１０ に記載された方法。 12．同期化が、ビーム用に入力データ内で具体化された変調器ドライブ信号に よる移行に対し、露光された区域のエッジに応じて制御される、請求項１０に記 載された方法。 13．描画が１つのストライプ内で終了し、かつ隣接ストライプ内の走査線内で 開始される、走査線内のストライプ境界が、ビーム用に入力データ内で具体化さ れた変調器ドライブ信号による移行に同期化される、請求項１に記載された方法 。 14．２つのストライプの重複区域内のビームデータが等しく、かつビームデー タ内のストライプ境界と移行との間の走査線ごとの同期が、描画時に同期回路に よって行われる、請求項１３に記載された方法。 15．少なくとも１つの変調レーザビームを平行な走査線で走査する一方、該走 査線に対して直角方向に走査ストライプに沿って移動することにより、入力デー タ内に記載されたパターンを感光性表面に描画する装置において、前記装置が、 入力データを、部分的に重複するストライプ内のパターンに対応するパターン 変調データに変換するためのデータ前処理システムを含み、しかも走査ストライ プがストライプ重複区域を有しており、前記装置が、更に、 走査線の端部では０％値、走査線の中央近くでは１００％値を有するディジタ ル式に記憶された露光混成機能と、 パターン変調データと露光混成機能との積によりレーザビームを変調するため の変調手段とを含む、入力データ内に記載されたパターンを感光性表面に描画す る装置。 16．露光混成機能が、ストライプ重複区域に対応する位置用の中間値を含む、 請求項１５に記憶された装置。 17．更に、データクロックパルスに対応するより高いアドレス解像度用の変調 データ内での移行を遅延させる時間遅れ回路と、 パターン変調データ内で遅延された移行に、露光混成機能内での移行を同期さ せる同期回路とを含む、請求項１５に記憶された装置。