JPH0645236A - 荷電粒子ビーム描画方法 - Google Patents
荷電粒子ビーム描画方法Info
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- JPH0645236A JPH0645236A JP19525492A JP19525492A JPH0645236A JP H0645236 A JPH0645236 A JP H0645236A JP 19525492 A JP19525492 A JP 19525492A JP 19525492 A JP19525492 A JP 19525492A JP H0645236 A JPH0645236 A JP H0645236A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 最小データ単位の１／２のリサイズや、最小
データ単位の奇数倍のデータを偶数倍のデータとした
り、逆に、偶数倍のデータを奇数倍のデータにリサイズ
することができる荷電粒子ビーム描画方法を実現する。 【構成】 図４（ａ）の元パターンＰ0 に対しＬ／２の
リサイズを実行する場合、上下，左右の一方の辺のみ最
小データ単位Ｌによって拡大処理が行われる。図４
（ｂ）は拡大されたパターンを示しており、実線が拡大
リサイズされたパターンＰ1 、点線が元パターンＰ0 で
ある。この実線の拡大されたパターンＰ1 の中心はＣ1
であり、点線の元パターンＰ0 の中心はＣ0 であるが、
拡大パターンの中心位置Ｃ1 をＣ0 に移動させれば、一
点鎖線で示すパターンＰ2 となり、点線の元パターンに
対しＬ／２リサイズされたパターンが得られることにな
る。なお、中心位置の移動は、Ｘ方向Ｙ方向共にＬ／２
の距離の移動となる。
データ単位の奇数倍のデータを偶数倍のデータとした
り、逆に、偶数倍のデータを奇数倍のデータにリサイズ
することができる荷電粒子ビーム描画方法を実現する。 【構成】 図４（ａ）の元パターンＰ0 に対しＬ／２の
リサイズを実行する場合、上下，左右の一方の辺のみ最
小データ単位Ｌによって拡大処理が行われる。図４
（ｂ）は拡大されたパターンを示しており、実線が拡大
リサイズされたパターンＰ1 、点線が元パターンＰ0 で
ある。この実線の拡大されたパターンＰ1 の中心はＣ1
であり、点線の元パターンＰ0 の中心はＣ0 であるが、
拡大パターンの中心位置Ｃ1 をＣ0 に移動させれば、一
点鎖線で示すパターンＰ2 となり、点線の元パターンに
対しＬ／２リサイズされたパターンが得られることにな
る。なお、中心位置の移動は、Ｘ方向Ｙ方向共にＬ／２
の距離の移動となる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電子ビームやイオンビ
ームを用いて微細なパターンの描画を行うようにした荷
電粒子ビーム描画方法に関し、特に、描画パターンデー
タのリサイズ処理を行うようにした荷電粒子ビーム描画
方法に関する。
ームを用いて微細なパターンの描画を行うようにした荷
電粒子ビーム描画方法に関し、特に、描画パターンデー
タのリサイズ処理を行うようにした荷電粒子ビーム描画
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】電子ビームやイオンビームを用いたパタ
ーン描画においては、予め用意されたパターンデータそ
のままのサイズでの描画のみならず、パターンサイズを
大きくしたり小さくしたりして描画を実行することが行
われている。このパターンサイズを変更する処理をリサ
イズ処理と称している。リサイズ処理を図１を用いて説
明する。図１（ａ）は元パターンであり、元パターンは
縦横の長さが最小データ単位Ｌの整数倍となっている。
この元パターンに対し、拡大のリサイズを行う場合に
は、元パターンの各４つの辺に対して最小データ単位Ｌ
が追加され、図１（ｂ）の実線のようなパターンデータ
が作成される。なお、図中点線は元パターンを示す。ま
た、図１（ａ）の元パターンに対し、縮小のリサイズの
場合には、元パターンの各４つの辺に対して最小データ
単位Ｌが減らされ、図１（ｃ）の実線のようなパターン
が作成される。図１の説明は、リサイズの単位が最小デ
ータ単位Ｌであったが、Ｌの整数倍によってリサイズを
行うこともできる。
ーン描画においては、予め用意されたパターンデータそ
のままのサイズでの描画のみならず、パターンサイズを
大きくしたり小さくしたりして描画を実行することが行
われている。このパターンサイズを変更する処理をリサ
イズ処理と称している。リサイズ処理を図１を用いて説
明する。図１（ａ）は元パターンであり、元パターンは
縦横の長さが最小データ単位Ｌの整数倍となっている。
この元パターンに対し、拡大のリサイズを行う場合に
は、元パターンの各４つの辺に対して最小データ単位Ｌ
が追加され、図１（ｂ）の実線のようなパターンデータ
が作成される。なお、図中点線は元パターンを示す。ま
た、図１（ａ）の元パターンに対し、縮小のリサイズの
場合には、元パターンの各４つの辺に対して最小データ
単位Ｌが減らされ、図１（ｃ）の実線のようなパターン
が作成される。図１の説明は、リサイズの単位が最小デ
ータ単位Ｌであったが、Ｌの整数倍によってリサイズを
行うこともできる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記したリサイズは、
最小データ単位であるＬで行ったが、リサイズパターン
の上下，左右の各辺ごとに行われるため、指定したリサ
イズの値（Ｌ）の２倍のパターンサイズの拡大，縮小が
実行されることになる。リサイズの指定量は最小データ
単位の整数倍で行うことから、元パターンが最小データ
単位の奇数倍のデータはリサイズ後も奇数倍にしか変更
できず、また、偶数倍のデータは偶数倍にしか変更でき
ない。さらに、上下あるいは左右のトータルで最小デー
タ単位Ｌのリサイズ（Ｌ／２リサイズ処理）を行うこと
ができない。
最小データ単位であるＬで行ったが、リサイズパターン
の上下，左右の各辺ごとに行われるため、指定したリサ
イズの値（Ｌ）の２倍のパターンサイズの拡大，縮小が
実行されることになる。リサイズの指定量は最小データ
単位の整数倍で行うことから、元パターンが最小データ
単位の奇数倍のデータはリサイズ後も奇数倍にしか変更
できず、また、偶数倍のデータは偶数倍にしか変更でき
ない。さらに、上下あるいは左右のトータルで最小デー
タ単位Ｌのリサイズ（Ｌ／２リサイズ処理）を行うこと
ができない。
【０００４】本発明は、このような点に鑑みてなされた
もので、その目的は、最小データ単位の１／２のリサイ
ズや、最小データ単位の奇数倍のデータを偶数倍のデー
タとしたり、逆に、偶数倍のデータを奇数倍のデータに
リサイズすることができる荷電粒子ビーム描画方法を実
現するにある。
もので、その目的は、最小データ単位の１／２のリサイ
ズや、最小データ単位の奇数倍のデータを偶数倍のデー
タとしたり、逆に、偶数倍のデータを奇数倍のデータに
リサイズすることができる荷電粒子ビーム描画方法を実
現するにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明に基づく荷電粒子
ビーム描画方法は、描画パターンデータに対してリサイ
ズ処理を行い、リサイズされたパターンデータに基づい
て荷電粒子ビームにより被描画材料への描画を行うよう
にした荷電粒子ビーム描画方法において、矩形パターン
データの最小データ単位の１／２単位のリサイズを行う
に際し、上下，左右のそれぞれの一方の辺について最小
データ単位分のリサイズを行い、リサイズされたパター
ンの中心座標を最小データ単位の１／２の距離移動させ
るようにしたことを特徴としている。
ビーム描画方法は、描画パターンデータに対してリサイ
ズ処理を行い、リサイズされたパターンデータに基づい
て荷電粒子ビームにより被描画材料への描画を行うよう
にした荷電粒子ビーム描画方法において、矩形パターン
データの最小データ単位の１／２単位のリサイズを行う
に際し、上下，左右のそれぞれの一方の辺について最小
データ単位分のリサイズを行い、リサイズされたパター
ンの中心座標を最小データ単位の１／２の距離移動させ
るようにしたことを特徴としている。
【０００６】
【作用】本発明に基づく荷電粒子ビーム描画方法は、矩
形パターンデータの最小データ単位の１／２単位のリサ
イズを行うに際し、上下，左右のそれぞれの一方の辺に
ついて最小データ単位分のリサイズを行い、リサイズさ
れたパターンの中心座標を最小データ単位の１／２の距
離移動させる。
形パターンデータの最小データ単位の１／２単位のリサ
イズを行うに際し、上下，左右のそれぞれの一方の辺に
ついて最小データ単位分のリサイズを行い、リサイズさ
れたパターンの中心座標を最小データ単位の１／２の距
離移動させる。
【０００７】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の一実施例を詳
細に説明する。図２は本発明に基づく方法を実施するた
めの電子ビーム描画システムの一例を示している。電子
銃１からの電子ビームは、電子レンズ２によってシリコ
ンウエハなどの被描画材料３上に集束される。材料３上
の電子ビームの照射位置は、偏向器４への偏向信号に応
じて変えられる。５は制御コンピュータであり、磁気テ
ープなどのメモリー６に記憶された元データを読みだ
し、任意のデータ変換を行い、変換後のデータをディス
クメモリー７に格納したり、描画システムの各構成要素
の制御を行う。ディスクメモリー７の描画パターンデー
タは、制御コンピュータ５によって読み出され、パター
ンジェネレータ８に転送される。パターンジェネレータ
８は転送されたパターンデータに基づいて電子ビームの
偏向信号を作成し、この偏向信号をＤＡ変換器９，加算
器１０，偏向増幅器１１を介して偏向器４に供給する。
また、パターンジェネレータ８は、シフト信号発生回路
１２にも信号を供給する。シフト信号発生回路１２から
のシフト信号は、加算器１０に供給される。このような
構成の動作を図３のフローチャートも参照して次に説明
する。
細に説明する。図２は本発明に基づく方法を実施するた
めの電子ビーム描画システムの一例を示している。電子
銃１からの電子ビームは、電子レンズ２によってシリコ
ンウエハなどの被描画材料３上に集束される。材料３上
の電子ビームの照射位置は、偏向器４への偏向信号に応
じて変えられる。５は制御コンピュータであり、磁気テ
ープなどのメモリー６に記憶された元データを読みだ
し、任意のデータ変換を行い、変換後のデータをディス
クメモリー７に格納したり、描画システムの各構成要素
の制御を行う。ディスクメモリー７の描画パターンデー
タは、制御コンピュータ５によって読み出され、パター
ンジェネレータ８に転送される。パターンジェネレータ
８は転送されたパターンデータに基づいて電子ビームの
偏向信号を作成し、この偏向信号をＤＡ変換器９，加算
器１０，偏向増幅器１１を介して偏向器４に供給する。
また、パターンジェネレータ８は、シフト信号発生回路
１２にも信号を供給する。シフト信号発生回路１２から
のシフト信号は、加算器１０に供給される。このような
構成の動作を図３のフローチャートも参照して次に説明
する。
【０００８】メモリー６に記憶されたパターンデータに
対し、必要なデータ変換が制御コンピュータ５によって
実行される。各データに対し、まず最小データ単位Ｌの
１／２単位でのパターンリサイズを行うか否かの判断が
実行される。ＮＯの場合には従来からのＬ単位でのリサ
イズが実行される。このＬ単位のリサイズにおいては、
パターンの上下，左右の各辺に対しＬの整数倍の拡大，
縮小が行われる。Ｌ／２単位でのリサイズを行うパター
ンデータについては、このリサイズが縮小リサイズか拡
大リサイズかを判別し、拡大リサイズに対しては＋符号
をデータに付け、縮小リサイズについては−符号を付与
する。その後、パターンデータについてＬ／２単位での
リサイズが行われる。図４は拡大リサイズの場合を示し
ており、図４（ａ）は元パターンＰ0 である。図４
（ａ）の元パターンＰ0 に対しＬ／２のリサイズを実行
する場合、上下，左右の一方の辺のみ最小データ単位Ｌ
によって拡大処理が行われる。図４（ｂ）は拡大された
パターンを示しており、実線が拡大リサイズされたパタ
ーンＰ1 、点線が元パターンＰ0 である。この実線の拡
大されたパターンＰ1 の中心はＣ1 であり、点線の元パ
ターンの中心はＣ0 であるが、拡大パターンの中心位置
Ｃ1 をＣ0 に移動させれば、一点鎖線で示すパターンＰ
2 となり、点線の元パターンに対しＬ／２リサイズされ
たパターンが得られることになる。なお、中心位置の移
動は、Ｘ方向Ｙ方向共にＬ／２の距離の移動となる。ま
た、この中心座標の移動は、後述するステップで実行さ
れる。
対し、必要なデータ変換が制御コンピュータ５によって
実行される。各データに対し、まず最小データ単位Ｌの
１／２単位でのパターンリサイズを行うか否かの判断が
実行される。ＮＯの場合には従来からのＬ単位でのリサ
イズが実行される。このＬ単位のリサイズにおいては、
パターンの上下，左右の各辺に対しＬの整数倍の拡大，
縮小が行われる。Ｌ／２単位でのリサイズを行うパター
ンデータについては、このリサイズが縮小リサイズか拡
大リサイズかを判別し、拡大リサイズに対しては＋符号
をデータに付け、縮小リサイズについては−符号を付与
する。その後、パターンデータについてＬ／２単位での
リサイズが行われる。図４は拡大リサイズの場合を示し
ており、図４（ａ）は元パターンＰ0 である。図４
（ａ）の元パターンＰ0 に対しＬ／２のリサイズを実行
する場合、上下，左右の一方の辺のみ最小データ単位Ｌ
によって拡大処理が行われる。図４（ｂ）は拡大された
パターンを示しており、実線が拡大リサイズされたパタ
ーンＰ1 、点線が元パターンＰ0 である。この実線の拡
大されたパターンＰ1 の中心はＣ1 であり、点線の元パ
ターンの中心はＣ0 であるが、拡大パターンの中心位置
Ｃ1 をＣ0 に移動させれば、一点鎖線で示すパターンＰ
2 となり、点線の元パターンに対しＬ／２リサイズされ
たパターンが得られることになる。なお、中心位置の移
動は、Ｘ方向Ｙ方向共にＬ／２の距離の移動となる。ま
た、この中心座標の移動は、後述するステップで実行さ
れる。
【０００９】図５は最小データ単位のＬ／２単位での拡
大リサイズの他の例を示しており、この例では（３／
２）・Ｌの拡大リサイズが行われる。図５（ａ）は元パ
ターンＰ0 であり、この元パターンに対し、４つの辺
ａ，ｂ，ｃ，ｄのａとｂについては最小データ単位Ｌに
よる拡大リサイズが施され、ｃとｄについては最小デー
タ単位Ｌの２倍２Ｌによる拡大リサイズが施される。こ
のリサイズによるパターンは図５（ｂ）の実線パターン
Ｐ1 となる。なお、点線は元パターンＰ0 である。この
実線の拡大されたパターンＰ1 の中心はＣ1 であり、点
線の元パターンの中心はＣ0 であるが、拡大パターンＰ
1 の中心位置Ｃ1 をＣ0 に移動させれば、一点鎖線で示
すパターンＰ2 となり、点線の元パターンに対し（３／
２）・Ｌの拡大リサイズされたパターンが得られること
になる。
大リサイズの他の例を示しており、この例では（３／
２）・Ｌの拡大リサイズが行われる。図５（ａ）は元パ
ターンＰ0 であり、この元パターンに対し、４つの辺
ａ，ｂ，ｃ，ｄのａとｂについては最小データ単位Ｌに
よる拡大リサイズが施され、ｃとｄについては最小デー
タ単位Ｌの２倍２Ｌによる拡大リサイズが施される。こ
のリサイズによるパターンは図５（ｂ）の実線パターン
Ｐ1 となる。なお、点線は元パターンＰ0 である。この
実線の拡大されたパターンＰ1 の中心はＣ1 であり、点
線の元パターンの中心はＣ0 であるが、拡大パターンＰ
1 の中心位置Ｃ1 をＣ0 に移動させれば、一点鎖線で示
すパターンＰ2 となり、点線の元パターンに対し（３／
２）・Ｌの拡大リサイズされたパターンが得られること
になる。
【００１０】図６はＬ／２の縮小リサイズの場合を示し
ており、図６（ａ）は元パターンである。図６（ａ）の
元パターンＰ0 に対しＬ／２の縮小リサイズを実行する
場合、上下，左右の一方の辺のみ最小データ単位Ｌによ
って縮小処理が行われる。図６（ｂ）は縮小されたパタ
ーンを示しており、実線が縮小リサイズされたパターン
Ｐ1 、点線が元パターンＰ0 である。この実線の縮小さ
れたパターンＰ1 の中心はＣ1 であり、点線の元パター
ンＰ0 の中心はＣ0 であるが、拡大パターンの中心位置
Ｃ1 をＣ0 に移動させれば、一点鎖線で示すパターンＰ
2 となり、点線の元パターンに対しＬ／２の縮小リサイ
ズされたパターンが得られることになる。
ており、図６（ａ）は元パターンである。図６（ａ）の
元パターンＰ0 に対しＬ／２の縮小リサイズを実行する
場合、上下，左右の一方の辺のみ最小データ単位Ｌによ
って縮小処理が行われる。図６（ｂ）は縮小されたパタ
ーンを示しており、実線が縮小リサイズされたパターン
Ｐ1 、点線が元パターンＰ0 である。この実線の縮小さ
れたパターンＰ1 の中心はＣ1 であり、点線の元パター
ンＰ0 の中心はＣ0 であるが、拡大パターンの中心位置
Ｃ1 をＣ0 に移動させれば、一点鎖線で示すパターンＰ
2 となり、点線の元パターンに対しＬ／２の縮小リサイ
ズされたパターンが得られることになる。
【００１１】図７は（３／２）・Ｌの縮小リサイズの場
合を示しており、図７（ａ）は元パターンＰ0 である。
この元パターンに対し、４つの辺ａ，ｂ，ｃ，ｄのａと
ｂについては最小データ単位Ｌによる縮小リサイズが施
され、ｃとｄについては最小データ単位Ｌの２倍２Ｌに
よる縮小リサイズが施される。このリサイズによるパタ
ーンは図７（ｂ）の実線パターンＰ1 となる。なお、点
線は元パターンＰ0 である。この実線の縮小されたパタ
ーンＰ1 の中心はＣ1 であり、点線の元パターンＰ0 の
中心はＣ0 であるが、縮小パターンＰ1 の中心位置Ｃ1
をＣ0 に移動させれば、一点鎖線で示すパターンＰ2 と
なり、点線の元パターンＰ0 に対し（３／２）・Ｌの縮
小リサイズされたパターンが得られることになる。
合を示しており、図７（ａ）は元パターンＰ0 である。
この元パターンに対し、４つの辺ａ，ｂ，ｃ，ｄのａと
ｂについては最小データ単位Ｌによる縮小リサイズが施
され、ｃとｄについては最小データ単位Ｌの２倍２Ｌに
よる縮小リサイズが施される。このリサイズによるパタ
ーンは図７（ｂ）の実線パターンＰ1 となる。なお、点
線は元パターンＰ0 である。この実線の縮小されたパタ
ーンＰ1 の中心はＣ1 であり、点線の元パターンＰ0 の
中心はＣ0 であるが、縮小パターンＰ1 の中心位置Ｃ1
をＣ0 に移動させれば、一点鎖線で示すパターンＰ2 と
なり、点線の元パターンＰ0 に対し（３／２）・Ｌの縮
小リサイズされたパターンが得られることになる。
【００１２】通常のＬ単位でのリサイズ処理かＬ／２単
位でのリサイズ処理が行われた後、制御コンピュータ５
はリサイズ以外のデータ変換処理を実行する。データ変
換されたデータは、ディスクメモリ７に書き込まれる。
次に実際の描画動作が開始されると、制御コンピュータ
５はディスクメモリー７内のパターンデータを読みだ
し、パターンジェネレータ８に転送する。パターンジェ
ネレータ８ではパターンデータに応じて電子ビームの偏
向信号などを作成するが、さらに、各パターンデータに
ついてＬ／２単位でのリサイズ処理が行われたかどうか
の判断を行う。そのため、事前にＬ／２単位のリサイズ
処理を行うパターンデータについては、Ｌ／２単位リサ
イズのマークを付与しておくことが必要である。Ｌ／２
単位でのリサイズ処理が行われたパターンデータについ
ては、そのリサイズが＋（拡大）リサイズか−（縮小）
リサイズかの判別を行う。＋リサイズ処理が実行されて
いる場合には、パターンジェネレータ８は電子ビームを
＋方向にシフトするシフト信号をシフト信号発生回路１
２から発生させる。また、−リサイズが実行されている
場合には、パターンジェネレータ８は電子ビームを−方
向にシフトするシフト信号をシフト信号発生回路１２か
ら発生させる。ＤＡ変換器９によってアナログ信号に変
換された偏向信号とシフト信号とは、加算器１０によっ
て加算され、その後、偏向器４に供給される。その結
果、電子ビームによってリサイズ処理に基づくパターン
描画が実行される。
位でのリサイズ処理が行われた後、制御コンピュータ５
はリサイズ以外のデータ変換処理を実行する。データ変
換されたデータは、ディスクメモリ７に書き込まれる。
次に実際の描画動作が開始されると、制御コンピュータ
５はディスクメモリー７内のパターンデータを読みだ
し、パターンジェネレータ８に転送する。パターンジェ
ネレータ８ではパターンデータに応じて電子ビームの偏
向信号などを作成するが、さらに、各パターンデータに
ついてＬ／２単位でのリサイズ処理が行われたかどうか
の判断を行う。そのため、事前にＬ／２単位のリサイズ
処理を行うパターンデータについては、Ｌ／２単位リサ
イズのマークを付与しておくことが必要である。Ｌ／２
単位でのリサイズ処理が行われたパターンデータについ
ては、そのリサイズが＋（拡大）リサイズか−（縮小）
リサイズかの判別を行う。＋リサイズ処理が実行されて
いる場合には、パターンジェネレータ８は電子ビームを
＋方向にシフトするシフト信号をシフト信号発生回路１
２から発生させる。また、−リサイズが実行されている
場合には、パターンジェネレータ８は電子ビームを−方
向にシフトするシフト信号をシフト信号発生回路１２か
ら発生させる。ＤＡ変換器９によってアナログ信号に変
換された偏向信号とシフト信号とは、加算器１０によっ
て加算され、その後、偏向器４に供給される。その結
果、電子ビームによってリサイズ処理に基づくパターン
描画が実行される。
【００１３】以上本発明の実施例を説明したが、本発明
はこの実施例に限定されない。例えば、電子ビーム描画
装置のみならず、イオンビーム描画装置にも本発明を用
いることができる。また、リサイズの例として、最小デ
ータ単位Ｌの１／２，３／２リサイズを取り上げたが、
ｎを整数とした場合、ｎ・Ｌ＋（１／２）・Ｌのリサイ
ズ処理を行う場合にも本発明を適用することができる。
はこの実施例に限定されない。例えば、電子ビーム描画
装置のみならず、イオンビーム描画装置にも本発明を用
いることができる。また、リサイズの例として、最小デ
ータ単位Ｌの１／２，３／２リサイズを取り上げたが、
ｎを整数とした場合、ｎ・Ｌ＋（１／２）・Ｌのリサイ
ズ処理を行う場合にも本発明を適用することができる。
【００１４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に基づく荷
電粒子ビーム描画方法は、矩形パターンデータの最小デ
ータ単位の１／２単位のリサイズを行うに際し、上下，
左右のそれぞれの一方の辺について最小データ単位分の
リサイズを行い、リサイズされたパターンの中心座標を
最小データ単位の１／２の距離移動させる最小データ単
位の１／２のリサイズや、最小データ単位の奇数倍のデ
ータを偶数倍のデータとしたり、逆に、偶数倍のデータ
を奇数倍のデータにリサイズすることができる。
電粒子ビーム描画方法は、矩形パターンデータの最小デ
ータ単位の１／２単位のリサイズを行うに際し、上下，
左右のそれぞれの一方の辺について最小データ単位分の
リサイズを行い、リサイズされたパターンの中心座標を
最小データ単位の１／２の距離移動させる最小データ単
位の１／２のリサイズや、最小データ単位の奇数倍のデ
ータを偶数倍のデータとしたり、逆に、偶数倍のデータ
を奇数倍のデータにリサイズすることができる。
【図１】従来方式のリサイズを説明するための図であ
る。
る。
【図２】本発明を実施するための電子ビーム描画システ
ムを示す図である。
ムを示す図である。
【図３】本発明の一実施例のフローチャートを示す図で
ある。
ある。
【図４】最小データ単位の１／２の拡大リサイズ処理を
説明するための図である。
説明するための図である。
【図５】最小データ単位の３／２の拡大リサイズ処理を
説明するための図である。
説明するための図である。
【図６】最小データ単位の１／２の縮小リサイズ処理を
説明するための図である。
説明するための図である。
【図７】最小データ単位の３／２の縮小リサイズ処理を
説明するための図である。
説明するための図である。
１ 電子銃 ２ 電子レンズ ３ 材料 ４ 偏向器 ５ 制御コンピュータ ６ メモリー ７ ディスクメモリー ８ パターンジェネレータ ９ ＤＡ変換器 １０ 加算器 １１ 偏向増幅器 １２ シフト信号発生回路
Claims (1)
- 【請求項１】 描画パターンデータに対してリサイズ処
理を行い、リサイズされたパターンデータに基づいて荷
電粒子ビームにより被描画材料への描画を行うようにし
た荷電粒子ビーム描画方法において、矩形パターンデー
タの最小データ単位の１／２単位のリサイズを行うに際
し、上下，左右のそれぞれの一方の辺について最小デー
タ単位分のリサイズを行い、リサイズされたパターンの
中心座標を最小データ単位の１／２の距離移動させるよ
うにした荷電粒子ビーム描画方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19525492A JPH0645236A (ja) | 1992-07-22 | 1992-07-22 | 荷電粒子ビーム描画方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19525492A JPH0645236A (ja) | 1992-07-22 | 1992-07-22 | 荷電粒子ビーム描画方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0645236A true JPH0645236A (ja) | 1994-02-18 |
Family
ID=16338079
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19525492A Withdrawn JPH0645236A (ja) | 1992-07-22 | 1992-07-22 | 荷電粒子ビーム描画方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0645236A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7966006B2 (en) | 2003-10-03 | 2011-06-21 | Kyocera Corporation | Mobile phone having a non-telephone function and timing reset unit |
-
1992
- 1992-07-22 JP JP19525492A patent/JPH0645236A/ja not_active Withdrawn
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7966006B2 (en) | 2003-10-03 | 2011-06-21 | Kyocera Corporation | Mobile phone having a non-telephone function and timing reset unit |
| US8249576B2 (en) | 2003-10-03 | 2012-08-21 | Kyocera Corporation | Mobile phone having a camera function and timing reset unit |
| US8818452B2 (en) | 2003-10-03 | 2014-08-26 | Kyocera Corporation | Mobile phone having a non-telephone function and timing reset unit |
| US9031549B2 (en) | 2003-10-03 | 2015-05-12 | Kyocera Corporation | Mobile phone having a non-telephone function and timing reset unit |
| US9210244B2 (en) | 2003-10-03 | 2015-12-08 | Kyocera Corporation | Mobile phone having a non-telephone function and timing reset unit |
| US9445369B2 (en) | 2003-10-03 | 2016-09-13 | Kyocera Corporation | Mobile phone having a non-telephone function and timing reset unit |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19991005 |