JP2823418B2 - 荷電粒子描画装置の図形分解装置 - Google Patents
荷電粒子描画装置の図形分解装置Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、荷電粒子描画装置の図
形分解装置に係り、特に、電子線描画装置等の荷電粒子
描画装置の描画図形発生装置に関するものである。
形分解装置に係り、特に、電子線描画装置等の荷電粒子
描画装置の描画図形発生装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来から電子線描画装置により描画する
ＬＳＩ等の図形パターンは一般的にＣＡＤ装置を使用し
て作成されている。このＣＡＤ装置が出力する図形パタ
ーンデータは専用のソフトウエアにより大型計算機、ミ
ニコンピュータ、ワークステーション等のうえで描画装
置に入力可能な専用フォマットに変換され、通信媒体を
介して描画装置に入力され描画されていた。
ＬＳＩ等の図形パターンは一般的にＣＡＤ装置を使用し
て作成されている。このＣＡＤ装置が出力する図形パタ
ーンデータは専用のソフトウエアにより大型計算機、ミ
ニコンピュータ、ワークステーション等のうえで描画装
置に入力可能な専用フォマットに変換され、通信媒体を
介して描画装置に入力され描画されていた。
【０００３】上記電子線描画装置における描画単位は、
一般的に矩形、スポット等に成形した電子ビームの形状
である。すなわち、図形パターンを上記矩形、あるいは
スポットの集合として表現して試料を順次露光してい
る。
一般的に矩形、スポット等に成形した電子ビームの形状
である。すなわち、図形パターンを上記矩形、あるいは
スポットの集合として表現して試料を順次露光してい
る。
【０００４】しかし、図形パターンを直接的に矩形、ま
たはスポットの集合に分解すると、 （１）図形の分解／フォマット変換処理に多大の時間を
要する （２）図形データ数が増大し、その転送時間が長くなる
等の問題点が発生するので、ＣＡＤ装置の専用ソフトウ
エアにより原図形を例えば４５度の倍数で表現される底
角を持つ台形の基本図形の集合に分解し、各基本図形を
描画装置により矩形、またはスポットに分解して高速に
描画するようにしている。なお、上記台形の基本図形は
ＬＳＩの斜め配線パターンが４５度に制限されている場
合が多いに関連している。
たはスポットの集合に分解すると、 （１）図形の分解／フォマット変換処理に多大の時間を
要する （２）図形データ数が増大し、その転送時間が長くなる
等の問題点が発生するので、ＣＡＤ装置の専用ソフトウ
エアにより原図形を例えば４５度の倍数で表現される底
角を持つ台形の基本図形の集合に分解し、各基本図形を
描画装置により矩形、またはスポットに分解して高速に
描画するようにしている。なお、上記台形の基本図形は
ＬＳＩの斜め配線パターンが４５度に制限されている場
合が多いに関連している。
【０００５】しかし最近では、ＬＳＩが複雑化して４５
度以外の角度の斜め配線パターンが増え、さらに、電子
線描画装置により円／楕円を始めとする複雑な曲線を使
用するフレネルレンズや量子デバイスのパターンを描画
する場合も増えており、この様な図形を上記基本図形の
集合で表現すると基本図形数が極端に増加して上記
（１）、（２）の問題が再びクロ−ズアップされつつあ
る。このため例えば実験的には、上記フレネルレンズや
量子デバイスの描画において、ＣＡＤによる図形データ
作成、専用ソフトウエアによるデータ変換等を省略し、
円等の図形パラメータのみを描画装置へ入力して簡便に
描画するようにすることが見直されている。
度以外の角度の斜め配線パターンが増え、さらに、電子
線描画装置により円／楕円を始めとする複雑な曲線を使
用するフレネルレンズや量子デバイスのパターンを描画
する場合も増えており、この様な図形を上記基本図形の
集合で表現すると基本図形数が極端に増加して上記
（１）、（２）の問題が再びクロ−ズアップされつつあ
る。このため例えば実験的には、上記フレネルレンズや
量子デバイスの描画において、ＣＡＤによる図形データ
作成、専用ソフトウエアによるデータ変換等を省略し、
円等の図形パラメータのみを描画装置へ入力して簡便に
描画するようにすることが見直されている。
【０００６】なお、特開昭５５−９４３３号公報には、
上記原図形を基本図形の集合に分解し、各基本図形をド
ットデ−タに分解して描画することが開示されている。
また、特開昭６３−３２９２０号公報には、四辺形図形
をＸ軸、あるいはＹ軸に並行になるように座標変換した
のち描画することが開示されている。
上記原図形を基本図形の集合に分解し、各基本図形をド
ットデ−タに分解して描画することが開示されている。
また、特開昭６３−３２９２０号公報には、四辺形図形
をＸ軸、あるいはＹ軸に並行になるように座標変換した
のち描画することが開示されている。
【０００７】また特開平１−１７５７３７号公報には、
描画パタ−ンを矩形と台形の基本図形に分割し、Ｘ軸、
あるいはＹ軸と傾斜する部分を有する基本図形に対して
はこれをＸ軸、あるいはＹ軸に並行な線分により矩形と
直角三角形の集合に分割し、２等辺でない直角三角形は
さらに長辺に並行な線分により台形図形の集合に分割
し、さらに上記各台形図形を矩形と直角三角形の集合に
分割して、上記矩形と直角三角形のすべてを矩形と直角
三角形に成形した電子ビ−ムにより描画することが開示
されている。
描画パタ−ンを矩形と台形の基本図形に分割し、Ｘ軸、
あるいはＹ軸と傾斜する部分を有する基本図形に対して
はこれをＸ軸、あるいはＹ軸に並行な線分により矩形と
直角三角形の集合に分割し、２等辺でない直角三角形は
さらに長辺に並行な線分により台形図形の集合に分割
し、さらに上記各台形図形を矩形と直角三角形の集合に
分割して、上記矩形と直角三角形のすべてを矩形と直角
三角形に成形した電子ビ−ムにより描画することが開示
されている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】上述のように、従来技
術において電子線描画装置の外部装置であるＣＡＤ装置
が行なう円／楕円等の曲線図形、任意角を持つ斜め配線
パターン等の図形分解／フォマット変換の処理時間が長
くなり、また、上記分解図形データを電子線描画装置に
転送する時間が長くなるという問題があった。本発明の
目的は、上記ＣＡＤ装置が処理するデータ量を減少して
そのデータ変換時間とデータの転送時間等を短縮し、さ
らに、簡単なパラメータ入力により円図形データ等を発
生して描画することのできる荷電粒子描画装置の図形分
解装置を提供することにある。
術において電子線描画装置の外部装置であるＣＡＤ装置
が行なう円／楕円等の曲線図形、任意角を持つ斜め配線
パターン等の図形分解／フォマット変換の処理時間が長
くなり、また、上記分解図形データを電子線描画装置に
転送する時間が長くなるという問題があった。本発明の
目的は、上記ＣＡＤ装置が処理するデータ量を減少して
そのデータ変換時間とデータの転送時間等を短縮し、さ
らに、簡単なパラメータ入力により円図形データ等を発
生して描画することのできる荷電粒子描画装置の図形分
解装置を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明に係る荷電粒子描画装置の図形分解装置の構
成は、ＬＳＩパタ−ンの図形デ−タを、底角が４５度の
倍数の基本図形の集合デ−タと、底角が任意角を含んだ
台形図形データとに分解し、且つ曲線図形データを底角
が任意角を含んだ台形図形の集合に近似させるデータ変
換装置と、該データ変換装置のデータを入力させ、一時
格納するバッファメモリと、該バッファメモリに格納さ
れたデータを読みだし、前記底角が４５度の倍数の基本
図形デ−タの集合と、それ以外のデ−タの集合とに分け
て、それぞれ第一のメモリ、第二のメモリに並列設定す
る図形読み出し回路と、該第二のメモリ内の前記デ−タ
集合から底角が任意角を含んだ台形図形に分解し、さら
に底角が４５度の倍数の基本図形デ−タに分解し、該分
解した基本図形デ−タを第三のメモリに設定する高速変
換回路部と、該第一のメモリ内から該底角が４５度の倍
数の基本図形デ−タを読み出し、且つ前記第三のメモリ
内の分解デ−タも読み出して矩形図形デ−タに分解する
図形分解回路と、これらを制御する制御計算機とからな
ることを特徴とするものである。
に、本発明に係る荷電粒子描画装置の図形分解装置の構
成は、ＬＳＩパタ−ンの図形デ−タを、底角が４５度の
倍数の基本図形の集合デ−タと、底角が任意角を含んだ
台形図形データとに分解し、且つ曲線図形データを底角
が任意角を含んだ台形図形の集合に近似させるデータ変
換装置と、該データ変換装置のデータを入力させ、一時
格納するバッファメモリと、該バッファメモリに格納さ
れたデータを読みだし、前記底角が４５度の倍数の基本
図形デ−タの集合と、それ以外のデ−タの集合とに分け
て、それぞれ第一のメモリ、第二のメモリに並列設定す
る図形読み出し回路と、該第二のメモリ内の前記デ−タ
集合から底角が任意角を含んだ台形図形に分解し、さら
に底角が４５度の倍数の基本図形デ−タに分解し、該分
解した基本図形デ−タを第三のメモリに設定する高速変
換回路部と、該第一のメモリ内から該底角が４５度の倍
数の基本図形デ−タを読み出し、且つ前記第三のメモリ
内の分解デ−タも読み出して矩形図形デ−タに分解する
図形分解回路と、これらを制御する制御計算機とからな
ることを特徴とするものである。
【００１０】前項記載の荷電粒子描画装置の図形分解装
置において、該高速変換回路部の出力を選択する切り換
え手段を備えたことを特徴とするものである。
置において、該高速変換回路部の出力を選択する切り換
え手段を備えたことを特徴とするものである。
【００１１】前項記載の荷電粒子描画装置の図形分解装
置において、該高速変換回路部を、高速ＲＩＳＣ型プロ
セッサもしくはデジタルシグナルプロセッサのいずれか
により構成するようにしたことを特徴とするものであ
る。
置において、該高速変換回路部を、高速ＲＩＳＣ型プロ
セッサもしくはデジタルシグナルプロセッサのいずれか
により構成するようにしたことを特徴とするものであ
る。
【００１２】前項記載の荷電粒子描画装置の図形分解装
置において、該高速プロセッサに、 特殊図形処理用プロ
グラムを該制御計算機からダウンロードできるようにし
たことを特徴とするものである。
置において、該高速プロセッサに、 特殊図形処理用プロ
グラムを該制御計算機からダウンロードできるようにし
たことを特徴とするものである。
【００１３】前記記載のいずれかの荷電粒子描画装置の
図形分解装置において、該高速プロセッサに該第一、第
二、第三のメモリのデータ格納状態を監視する監視手段
と、該データ格納状態に応じ前記第一、第三のメモリの
該図形分解回路への前記データの転送を切り換える切換
手段を具備させたことを特徴とするものである。
図形分解装置において、該高速プロセッサに該第一、第
二、第三のメモリのデータ格納状態を監視する監視手段
と、該データ格納状態に応じ前記第一、第三のメモリの
該図形分解回路への前記データの転送を切り換える切換
手段を具備させたことを特徴とするものである。
【００１４】
【作用】上記データ変換装置は、従来のデータ変換装置
が底角が４５°の整数倍の基本台形図形に分解すること
ができるが、分解できない複雑な入力図形を底角が任意
角の台形図形に分解することができるようにしたもので
ある。上記データ変換装置を図形分解回路側に設けても
差し支えない。
が底角が４５°の整数倍の基本台形図形に分解すること
ができるが、分解できない複雑な入力図形を底角が任意
角の台形図形に分解することができるようにしたもので
ある。上記データ変換装置を図形分解回路側に設けても
差し支えない。
【００１５】上記高速変換回路部を構成するＲＩＳＣ型
プロセッサ、デジタルシグナルプロセッサ等、すなわち
任意角処理プロセッサは、上記入力図形データを底角が
任意角の台形図形デ−タに分解すると同時に、上記底角
の値をパラメ−タとして出力し、上記パラメ−タにより
上記底角が任意角の台形図形を、上記底角が４５°の整
数倍の基本台形図形に高速に分解する。また、上記切替
え手段は上記データ変換装置が出力する底角が４５°の
整数倍の基本台形図形デ−タと上記任意角処理プロセッ
サが出力する４５°の整数倍の基本台形図形デ−タとを
切り替えて図形分解回路に送付する。
プロセッサ、デジタルシグナルプロセッサ等、すなわち
任意角処理プロセッサは、上記入力図形データを底角が
任意角の台形図形デ−タに分解すると同時に、上記底角
の値をパラメ−タとして出力し、上記パラメ−タにより
上記底角が任意角の台形図形を、上記底角が４５°の整
数倍の基本台形図形に高速に分解する。また、上記切替
え手段は上記データ変換装置が出力する底角が４５°の
整数倍の基本台形図形デ−タと上記任意角処理プロセッ
サが出力する４５°の整数倍の基本台形図形デ−タとを
切り替えて図形分解回路に送付する。
【００１６】
【実施例】図１は本発明に係る電子線描画装置の図形分
解装置の実施例のブロック図であり、点線で囲まれた部
分が本発明により追加された部分である。まず、上記従
来部分によりＣＡＤフォマットのＬＳＩパターンデータ
を矩形データに変換して描画する方法につき説明する。
ＣＡＤ装置１は描画すべきＬＳＩパターンをＣＡＤフォ
マット化し、得られたＣＡＤ図形データ２を出力する。
解装置の実施例のブロック図であり、点線で囲まれた部
分が本発明により追加された部分である。まず、上記従
来部分によりＣＡＤフォマットのＬＳＩパターンデータ
を矩形データに変換して描画する方法につき説明する。
ＣＡＤ装置１は描画すべきＬＳＩパターンをＣＡＤフォ
マット化し、得られたＣＡＤ図形データ２を出力する。
【００１７】このＣＡＤ図形データ２は大型計算機、ミ
ニコンピュータ、ワークステーション等の専用のソフト
ウエアを使用するデータ変換装置３により底角が４５度
の倍数の基本台形図形の集合に分解され、さらに描画装
置に入力可能な専用フォマットに変換され、通信路、磁
気テープ等の媒体４を介して電子線描画装置５へ転送さ
れる。
ニコンピュータ、ワークステーション等の専用のソフト
ウエアを使用するデータ変換装置３により底角が４５度
の倍数の基本台形図形の集合に分解され、さらに描画装
置に入力可能な専用フォマットに変換され、通信路、磁
気テープ等の媒体４を介して電子線描画装置５へ転送さ
れる。
【００１８】電子線描画装置５は、上記転送された図形
データをバッファメモリ６に一時保管し、図形読出し回
路７はバッファメモリ６より図形データを読みだして復
元し、ファストインファストアウト形メモリ（ＦＩＦ
Ｏ）８に設定する。なお、上記図形デ−タには繰り返し
データ等に対する圧縮処理が施されている。
データをバッファメモリ６に一時保管し、図形読出し回
路７はバッファメモリ６より図形データを読みだして復
元し、ファストインファストアウト形メモリ（ＦＩＦ
Ｏ）８に設定する。なお、上記図形デ−タには繰り返し
データ等に対する圧縮処理が施されている。
【００１９】図形分解回路９は上記ＦＩＦＯ８に設定さ
れたデ−タから底角が４５度の倍数の基本台形図形を順
次読出して矩形図形１０に分解し偏向制御部１１へ転送
する。なお、この矩形図形１０のデータは図形原点
（ｘ，ｙ）と高さＨ、幅Ｗで構成される。偏向制御部１
１は矩形図形１０のデータをアナログ信号１２に変換し
て偏向器１３に送り、矩形の電子ビーム１４を偏向して
試料（ウエハ）１５上に電子ビーム露光を行なう。
れたデ−タから底角が４５度の倍数の基本台形図形を順
次読出して矩形図形１０に分解し偏向制御部１１へ転送
する。なお、この矩形図形１０のデータは図形原点
（ｘ，ｙ）と高さＨ、幅Ｗで構成される。偏向制御部１
１は矩形図形１０のデータをアナログ信号１２に変換し
て偏向器１３に送り、矩形の電子ビーム１４を偏向して
試料（ウエハ）１５上に電子ビーム露光を行なう。
【００２０】本発明では上記従来型の電子線描画装置に
図１の点線で囲んだ部分を追加し、底角が任意角の台形
図形を底角が４５度の倍数の基本台形図形に変換できる
ようにする。この場合、データ変換装置３は任意角を含
む台形図形をそのまま出力でき、また円等の曲線図形を
任意角台形図形の集合に近似して出力できるので、媒体
４に転送するデータ量を減少することができる。
図１の点線で囲んだ部分を追加し、底角が任意角の台形
図形を底角が４５度の倍数の基本台形図形に変換できる
ようにする。この場合、データ変換装置３は任意角を含
む台形図形をそのまま出力でき、また円等の曲線図形を
任意角台形図形の集合に近似して出力できるので、媒体
４に転送するデータ量を減少することができる。
【００２１】図２は上記任意角台形図形を４５度の倍数
の基本台形図形に変換する方法の説明図である。図２
（ａ）は任意角台形図形１８であり、これを例えば同図
（ｂ）に示すように矩形１８１、１８２と二つの直角三
角形１８３、１８４に分解し、さらに直角三角形のそれ
ぞれを微小な矩形１８５の集合に分解する。この微小な
矩形１８５が上記底角が４５度の倍数の基本台形図形に
該当する。もちろん、上記矩形１８５を底角が４５度の
台形図形にすることもできる。
の基本台形図形に変換する方法の説明図である。図２
（ａ）は任意角台形図形１８であり、これを例えば同図
（ｂ）に示すように矩形１８１、１８２と二つの直角三
角形１８３、１８４に分解し、さらに直角三角形のそれ
ぞれを微小な矩形１８５の集合に分解する。この微小な
矩形１８５が上記底角が４５度の倍数の基本台形図形に
該当する。もちろん、上記矩形１８５を底角が４５度の
台形図形にすることもできる。
【００２２】フレネルレンズや量子デバイスのパターン
のように円、楕円、あるいは複雑な曲線を含む図形は上
記任意角台形図形１８の集合に分解できるので、同様に
同図（ｂ）のように分解することができる。上記微小な
矩形１８５のそれぞれの横方向の長さは底角の大きさに
応じて変化する。したがってＣＡＤ装置１あるいはデ−
タ変換装置３は、上記底角より算出した微小な矩形１８
５の長さの低減率をパラメ−タとして出力すれば、媒体
４を介して電子線描画装置５が受け取るデータ量を著し
く低減することができる。また、上記図２の（ａ）から
同図（ｂ）への変換処理は任意角処理プロセッサ１６が
行なう。
のように円、楕円、あるいは複雑な曲線を含む図形は上
記任意角台形図形１８の集合に分解できるので、同様に
同図（ｂ）のように分解することができる。上記微小な
矩形１８５のそれぞれの横方向の長さは底角の大きさに
応じて変化する。したがってＣＡＤ装置１あるいはデ−
タ変換装置３は、上記底角より算出した微小な矩形１８
５の長さの低減率をパラメ−タとして出力すれば、媒体
４を介して電子線描画装置５が受け取るデータ量を著し
く低減することができる。また、上記図２の（ａ）から
同図（ｂ）への変換処理は任意角処理プロセッサ１６が
行なう。
【００２３】この変換処理では比較的単純な処理を高速
に繰り返すことが要求されるので、任意角処理プロセッ
サ１６には高速のＲＩＳＣ形プロセッサ、デジタルシグ
ナルプロセッサ（ＤＳＰ）等が好適である。また、ＲＩ
ＳＣ形プロセッサ、ＤＳＰ等のマイクロプログラム変更
により、極座標パラメータにより指定される円、その他
の特殊図形を電子線描画装置５に入力でき、同様に出転
送時間、デ−タ変換装置３のデ−タ変換時間等を減少す
ることができる。
に繰り返すことが要求されるので、任意角処理プロセッ
サ１６には高速のＲＩＳＣ形プロセッサ、デジタルシグ
ナルプロセッサ（ＤＳＰ）等が好適である。また、ＲＩ
ＳＣ形プロセッサ、ＤＳＰ等のマイクロプログラム変更
により、極座標パラメータにより指定される円、その他
の特殊図形を電子線描画装置５に入力でき、同様に出転
送時間、デ−タ変換装置３のデ−タ変換時間等を減少す
ることができる。
【００２４】また、これらのマイクロプログラムを電子
線描画装置全体を制御する制御計算機２３に保存して任
意角処理プロセッサ１６にダウンロ−ドすることによ
り、特殊図形を同様に処理して高速描画することができ
る。図形読出し回路７は、読みだしデータが任意角台形
図形の場合には、これをＦＩＦＯ１７に設定し、任意角
処理プロセッサ１６はＦＩＦＯ１７のデータを順次読み
出して基本図形データに分解しＦＩＦＯ２０に順次設定
する。
線描画装置全体を制御する制御計算機２３に保存して任
意角処理プロセッサ１６にダウンロ−ドすることによ
り、特殊図形を同様に処理して高速描画することができ
る。図形読出し回路７は、読みだしデータが任意角台形
図形の場合には、これをＦＩＦＯ１７に設定し、任意角
処理プロセッサ１６はＦＩＦＯ１７のデータを順次読み
出して基本図形データに分解しＦＩＦＯ２０に順次設定
する。
【００２５】図３は本発明による円弧図形の発生例であ
る。制御用計算機２３はプロセッサ１６へ円弧処理用の
プログラムをダウンロ−ドし、プロセッサ１６を円弧処
理用の専用プロセッサとする。プロセッサ１６は制御用
計算機２３の起動命令によりＦＩＦＯ１７よりデ−タを
読みだし、円弧図形を４５度の倍数を底角にもつ基本台
形図形の集合として出力する。このとき、ＦＩＦＯ１７
が読み出すデ−タは円弧の中心位置（ｘ，ｙ）と円弧の
半径ｒと円弧の幅ｈのみである。
る。制御用計算機２３はプロセッサ１６へ円弧処理用の
プログラムをダウンロ−ドし、プロセッサ１６を円弧処
理用の専用プロセッサとする。プロセッサ１６は制御用
計算機２３の起動命令によりＦＩＦＯ１７よりデ−タを
読みだし、円弧図形を４５度の倍数を底角にもつ基本台
形図形の集合として出力する。このとき、ＦＩＦＯ１７
が読み出すデ−タは円弧の中心位置（ｘ，ｙ）と円弧の
半径ｒと円弧の幅ｈのみである。
【００２６】プロセッサ１６は制御用計算機２３がパラ
メ−タとして予め指定した値ｄと図示のｄ１が等しくな
るように図形幅Ｗを計算し、その図形の原点（ｘ，ｙ＋
ｒ）と図形幅Ｗと図形高さｈの基本図形２４をＦＩＦＯ
２０に出力する。同様にしてプロセッサ１６は図形が原
点（ｘ＋ｗ，ｙ＋ｒ−ｄ１）の基本図形２５を発生し、
以下順次次の基本図形２６、２７等を発生して円弧図形
を生成する。さらに、制御用計算機２３はプロセッサ１
６に対してｗの上限、加減をパラメ−タとして設定し、
上記ｄ＝ｄ１の処理より上記ｗの上下限判定を優先させ
れば、どのような図形でも上記基本図形に分解すること
ができる。
メ−タとして予め指定した値ｄと図示のｄ１が等しくな
るように図形幅Ｗを計算し、その図形の原点（ｘ，ｙ＋
ｒ）と図形幅Ｗと図形高さｈの基本図形２４をＦＩＦＯ
２０に出力する。同様にしてプロセッサ１６は図形が原
点（ｘ＋ｗ，ｙ＋ｒ−ｄ１）の基本図形２５を発生し、
以下順次次の基本図形２６、２７等を発生して円弧図形
を生成する。さらに、制御用計算機２３はプロセッサ１
６に対してｗの上限、加減をパラメ−タとして設定し、
上記ｄ＝ｄ１の処理より上記ｗの上下限判定を優先させ
れば、どのような図形でも上記基本図形に分解すること
ができる。
【００２７】又、任意角処理プロセッサ１６は、描画の
進行状況、ＦＩＦＯ８、ＦＩＦＯ１７、ＦＩＦＯ２０の
空／フル状況等を監視し、デコーダ２１を介してマルチ
プレクサ２２を切り換え、図形分解回路９にＦＩＦＯ８
またはＦＩＦＯ２０のデータを効率良く転送する。
進行状況、ＦＩＦＯ８、ＦＩＦＯ１７、ＦＩＦＯ２０の
空／フル状況等を監視し、デコーダ２１を介してマルチ
プレクサ２２を切り換え、図形分解回路９にＦＩＦＯ８
またはＦＩＦＯ２０のデータを効率良く転送する。
【００２８】
【発明の効果】本発明の構成によれば、底角が任意角の
台形図形や極座標パラメータにより指定される円等の曲
線図形等を比較的少ないデ−タ量で電子線描画装置に入
力できるので、電子線描画装置へのデータ転送時間を短
縮し、同時に従来は困難であった上記複雑な曲線図形を
描画することができる。
台形図形や極座標パラメータにより指定される円等の曲
線図形等を比較的少ないデ−タ量で電子線描画装置に入
力できるので、電子線描画装置へのデータ転送時間を短
縮し、同時に従来は困難であった上記複雑な曲線図形を
描画することができる。
【００２９】また、電子線描画装置内に設けたＲＩＳＣ
形プロセッサ、ＤＳＰ等により上記各入力データを底角
が４５度の倍数の台形図形の集合に高速変換するので、
描画時間を短縮することができる。また、上記底角が４
５度の倍数の台形図形の入力デ−タと、上記ＲＩＳＣ形
プロセッサ、ＤＳＰ等により底角が任意角の台形から底
角が４５度の倍数の台形に変換された図形デ−タを、そ
れぞれのＦＩＦＯのデ−タ蓄積量に応じて選択するので
描画手順を効果化することができる。さらに、上記底角
が４５度の倍数の台形図形の入力デ−タと、それ以外デ
−タとに分けて転送，設定するようにしたので、該底角
が４５度の倍数の台形図形の入力デ−タに基づき描画中
において、前記それ以外デ−タは、任意角処理プロセッ
サで矩形分解されるので描画時間を短縮することができ
る。
形プロセッサ、ＤＳＰ等により上記各入力データを底角
が４５度の倍数の台形図形の集合に高速変換するので、
描画時間を短縮することができる。また、上記底角が４
５度の倍数の台形図形の入力デ−タと、上記ＲＩＳＣ形
プロセッサ、ＤＳＰ等により底角が任意角の台形から底
角が４５度の倍数の台形に変換された図形デ−タを、そ
れぞれのＦＩＦＯのデ−タ蓄積量に応じて選択するので
描画手順を効果化することができる。さらに、上記底角
が４５度の倍数の台形図形の入力デ−タと、それ以外デ
−タとに分けて転送，設定するようにしたので、該底角
が４５度の倍数の台形図形の入力デ−タに基づき描画中
において、前記それ以外デ−タは、任意角処理プロセッ
サで矩形分解されるので描画時間を短縮することができ
る。
【図１】本発明による荷電粒子描画装置の図形分解装置
の実施例のブロック図である。
の実施例のブロック図である。
【図２】本発明における底角が任意角の台形図形を底角
が４５度の倍数の台形図形の集合に分解する概念の一例
を示す図形図である。
が４５度の倍数の台形図形の集合に分解する概念の一例
を示す図形図である。
【図３】本発明における本発明により発生する円弧図形
例である。
例である。
１…ＣＡＤ装置、３…デ−タ変換装置、４…媒体、５…
電子線描画装置、６……バッファメモリ、７…図形読出
し回路、８、１７、２０…ファーストインファーストア
ウト形メモリ（ＦＩＦＯ）、９…図形分解回路、１１…
偏向制御部、１３…偏向器、１５…試料、１６…任意角
処理プロセッサ、１８…任意角台形図形、２２…マルチ
プレクサ、２３…制御計算機、１８１、１８２…矩形、
１８３、１８４…直角三角形、１８５…底角が４５度の
倍数の台形図形
電子線描画装置、６……バッファメモリ、７…図形読出
し回路、８、１７、２０…ファーストインファーストア
ウト形メモリ（ＦＩＦＯ）、９…図形分解回路、１１…
偏向制御部、１３…偏向器、１５…試料、１６…任意角
処理プロセッサ、１８…任意角台形図形、２２…マルチ
プレクサ、２３…制御計算機、１８１、１８２…矩形、
１８３、１８４…直角三角形、１８５…底角が４５度の
倍数の台形図形
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) H01L 21/027 G03F 7/20 504 G03F 7/20 521
Claims (5)
- 【請求項１】 ＬＳＩパタ−ンの図形デ−タを、底角が
４５度の倍数の基本図形の集合デ−タと、底角が任意角
を含んだ台形図形データとに分解し、且つ曲線図形デー
タを底角が任意角を含んだ台形図形の集合に近似させる
データ変換装置と、該データ変換装置のデータを入力
し、一時格納するバッファメモリと、該バッファメモリ
に格納されたデータを読みだし、前記底角が４５度の倍
数の基本図形デ−タの集合と、それ以外のデ−タの集合
とに分けて、それぞれ第一のメモリ、第二のメモリに並
列設定する図形読み出し回路と、該第二のメモリ内の前
記デ−タ集合から底角が任意角を含んだ台形図形データ
に分解し、さらに底角が４５度の倍数の基本図形デ−タ
に分解し、該分解した基本図形デ−タを第三のメモリに
設定する高速変換回路部と、該第一のメモリ内から該底
角が４５度の倍数の基本図形デ−タを読み出し、且つ前
記第三のメモリ内の分解デ−タも読み出して矩形図形デ
−タに分解する図形分解回路と、これらを制御する制御
計算機とからなることを特徴とする荷電粒子描画装置の
図形分解装置 。 - 【請求項２】 請求項１記載の荷電粒子描画装置の図形
分解装置において、 該高速変換回路部の出力を選択する切り換え手段を備え
たことを特徴とする荷電粒子描画装置の図形分解装置。 - 【請求項３】 請求項１記載の荷電粒子描画装置の図形
分解装置において 、該高速変換回路部を、高速ＲＩＳＣ
型プロセッサもしくはデジタルシグナルプロセッサのい
ずれかにより構成するようにしたことを特徴とする荷電
粒子描画装置の図形分解装置。 - 【請求項４】 請求項３記載の荷電粒子描画装置の図形
分解装置において、該高速プロセッサに、特殊図形処理
用プログラムを該制御計算機からダウンロードできるよ
うにしたことを特徴とする荷電粒子描画装置の図形分解
装置。 - 【請求項５】 請求項３または４記載のいずれかの荷電
粒子描画装置の図形分解装置において、該高速プロセッ
サに該第一、第二、第三のメモリのデータ格納状態を監
視する監視手段と、該データ格納状態に応じ前記第一、
第三のメモリ の該図形分解回路への前記データの転送を
切り換える切換手段を具備させたことを特徴とする荷電
粒子描画装置の図形分解装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4065512A JP2823418B2 (ja) | 1992-03-24 | 1992-03-24 | 荷電粒子描画装置の図形分解装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4065512A JP2823418B2 (ja) | 1992-03-24 | 1992-03-24 | 荷電粒子描画装置の図形分解装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05267132A JPH05267132A (ja) | 1993-10-15 |
| JP2823418B2 true JP2823418B2 (ja) | 1998-11-11 |
Family
ID=13289179
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4065512A Expired - Fee Related JP2823418B2 (ja) | 1992-03-24 | 1992-03-24 | 荷電粒子描画装置の図形分解装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2823418B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2009141306A (ja) * | 2007-11-16 | 2009-06-25 | Jeol Ltd | 荷電粒子ビーム描画におけるパターン分割方法 |
| US7901850B2 (en) | 2008-09-01 | 2011-03-08 | D2S, Inc. | Method and system for design of a reticle to be manufactured using variable shaped beam lithography |
| TWI506672B (zh) * | 2008-09-01 | 2015-11-01 | D2S Inc | 用於在表面碎化及形成圓形圖案與用於製造半導體裝置之方法 |
| US9323140B2 (en) | 2008-09-01 | 2016-04-26 | D2S, Inc. | Method and system for forming a pattern on a reticle using charged particle beam lithography |
| US20120219886A1 (en) | 2011-02-28 | 2012-08-30 | D2S, Inc. | Method and system for forming patterns using charged particle beam lithography with variable pattern dosage |
| US9341936B2 (en) | 2008-09-01 | 2016-05-17 | D2S, Inc. | Method and system for forming a pattern on a reticle using charged particle beam lithography |
| US8057970B2 (en) | 2008-09-01 | 2011-11-15 | D2S, Inc. | Method and system for forming circular patterns on a surface |
| US8669023B2 (en) | 2008-09-01 | 2014-03-11 | D2S, Inc. | Method for optical proximity correction of a reticle to be manufactured using shaped beam lithography |
| US9164372B2 (en) | 2009-08-26 | 2015-10-20 | D2S, Inc. | Method and system for forming non-manhattan patterns using variable shaped beam lithography |
| US9612530B2 (en) | 2011-02-28 | 2017-04-04 | D2S, Inc. | Method and system for design of enhanced edge slope patterns for charged particle beam lithography |
| US9057956B2 (en) | 2011-02-28 | 2015-06-16 | D2S, Inc. | Method and system for design of enhanced edge slope patterns for charged particle beam lithography |
| JP6756320B2 (ja) | 2017-09-20 | 2020-09-16 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 描画データ生成方法、プログラム、マルチ荷電粒子ビーム描画装置、及びパターン検査装置 |
-
1992
- 1992-03-24 JP JP4065512A patent/JP2823418B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05267132A (ja) | 1993-10-15 |
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